!2013版icfb的使用说明

icfb的使用说明

实验室上机

如果选择到微电子所开放实验室上机，用自己的用户名和密码进入Linux操作系统后，在桌面上点击鼠标右键，选择New Terminal启动一个命令行窗口，如图1所示。

图1

1.1远程登录

如果选择远程登录方式，可以参考下面的步骤。

1安装远程登录软件

例如Xmanager 1.3.9。

2配置远程登录软件

在[开始]菜单中，运行Xmanager菜单中的Xconfig；设置Window模式为Multiple Window Mode，Background选则X window background(transparent), Window Manager选则Local Only；设置XDM为Do not Use XDM(Passive). 点击[确定]，如图2。

3运行远程登录软件

在[开始]菜单中，运行Xmanager菜单中的Xstart；Name选择xterm，Host输入166.111.77.10，Protocol选择SSH，点击Run，即可用自己的用户名和密码登录服务器，登录成功后也会打开一个命令行窗口，如图3。

图2

图3

1.2文件上传或下载

可以用自己的用户名和密码访问ftp://166.111.77.10，用于上传或下载自己的数据和文档。

注意，对于上传的网表（例如inv.sp）等文件，最好都运行一下dos2unix命令以确保文件转换为Unix格式，方法是在命令行窗口中输入命令dos2unix inv.sp，如图4。

图4

2创建工作环境

如果是第一次使用，需要按以下步骤创建工作环境。如果是继续以前的工作，则直接按2.2节的步骤进入工作目录，启动设计软件即可。

2.1创建工作目录

创建工作目录：在命令行窗口中输入命令mkdir project 。

创建验证目录：在命令行窗口中输入命令mkdir project/verify 。

注意，所有设计工作、软件启动都在目录~/project下进行，所有版图验证工作都在目录~/project/verify下进行，不要在其它目录下进行。

设置SMIC工艺库环境：输入命令cp ~chby1/project/cds.lib ~/project，如图5。

图5

2.2启动设计软件

进入工作目录：输入命令cd project 。

启动设计软件icfb：输入命令icfb & ，弹出如图6所示的CIW窗口。

点击菜单File→Exit可以退出icfb软件。

图6

2.3创建设计库

创建自己的设计库：在CIW窗口中点击菜单File→New→Library；在弹出的对话框中，Library

Name输入库的名字（例如pa），Technology File选择Attach to an existing techfile，点击OK；在新弹出的对话框中，Technology Library选择工艺库smic18mm，点击OK，如图7。

图7

至此工作环境和设计库创建完毕，接下来可以在自己的库pa下面创建、编辑各个电路单元。

注意，一个设计项目里的所有电路单元(cell)都在同一个库(library)下面创建，建议不要再创建其它的设计库。

2.4查看设计软件帮助

查看Cadence的帮助文档可以输入命令cdsdoc & ，弹出如图8所示的窗口。

图8

3设计流程实例

本节结合一个反相器的实例来简单说明整个设计流程。如果电路设计与仿真采用Hspice软件，则可以跳过3.1和3.2节，但要注意在3.5节LVS设置中的差异。

3.1电路设计

1创建或打开电路原理图

新建电路原理图(schematic)单元：在CIW窗口中点击菜单File→New→Cellview；在弹出的对话框中，Library Name选择自己的设计库pa，Cell Name输入电路单元的名字（例如inv），Tool选择Composer-Schematic，点击OK，如图9。弹出如图11所示的编辑窗口。

如果之前已经创建过，则直接打开电路原理图单元：点击菜单File→Open；在弹出的对话框中，Library Name选择pa，Cell Names选中inv，View Name选择schematic，点击OK，如图10。

点击菜单Window→Close可以退出编辑窗口，如图11。

图9

图10

2编辑电路原理图

调入单元：点击菜单Add→Instance；在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的小对话框中选择要添加的单元，点击Close；然后输入合适的器件参数，点击Hide，如图12。器件在工艺库smic18mm 中；global电源/地、激励源、一些理想元件等在库analogLib中。

添加互连线：点击菜单Add→Wire(narrow)。

添加端口：点击菜单Add→Pin；在弹出的对话框中，Pin Name输入端口结点名（例如A），Direction 选择合适的类型，点击Hide，如图12。

在编辑过程中注意随时保存：点击菜单Design→Check and Save。

图11

图12

编辑完成后的电路原理图如图13所示。

3创建或打开电路符号图

创建电路符号图(symbol)单元：在编辑窗口中点击菜单Design→Create Cellview→From Cellview；在弹出的对话框中点击OK；在新弹出的对话框中选择各个端口的摆放位置（例如A在左、Y在右），点击OK，如图14。

图13

图14

如果之前已经创建过，则可直接打开电路符号图单元：点击菜单Design→Open，在弹出的对话框中，Library Name选择pa，Cell Names选中inv，View Name选择Symbol，点击OK，如图15。

4编辑电路符号图

在弹出的编辑窗口中自动生成一个简单电路符号图，可以编辑修改它，如图16。在编辑过程中注意随时保存，点击菜单Design→Check and Save。

注意，创建电路符号图之后，在编辑其它电路原理图单元时就可以调用该电路单元，如图18。

图15

图16

3.2电路仿真

1创建或打开仿真原理图

新建或打开一个用作仿真平台(testbench)的电路原理图(schematic)单元，另取一个单元名字（例如inv_tb），方法同3.1节，如图17。

图17

2编辑仿真原理图

调入要仿真的电路单元inv，添加激励及负载等外围元件，方法同3.1节，如图18，注意保存。编辑完成后如图20所示。

图18

3启动仿真软件

在图20所示的编辑窗口中点击菜单Tools→Analog Environment，启动电路仿真软件Spectre。

软件会自动创建一个目录simulation作为仿真目录。注意，所有电路仿真工作都在自动创建的目录~/simulation下进行，不要在其它目录下进行。

点击菜单Session→Quit可以退出Spectre软件，如图19。

图19

图20

4设置仿真条件

如果之前已经设置并保存过仿真条件，可以直接调出：点击菜单Session→Load State，选择合适

的存档（例如state1），点击OK，如图21所示。然后可以在此基础上修改仿真条件。

图21

如果是第一次仿真，或者要修改仿真条件，则按以下步骤进行。

设置工艺库及工艺角：点击菜单Setup→Model Libraries；在弹出的对话框中点击Browse，在新

弹出的对话框中选中工艺库文件ms018_v14p_spe.lib，点击OK；Section输入工艺角（例如tt），点

击Add/Delete可以添加/移除工艺库，点击Enable/Disable可以启用/禁用已添加的各个工艺库（例如

把ms018_rf_v1p1_spe.lib禁用掉），点击Change，最后点击OK，如图22。

设置激励源：点击菜单Setup→Stimuli；在弹出的对话框中，对Inputs及Global Sources中的每

个激励源进行设置，每设置完一个激励源后选中Enabled并点击Change，最后点击OK，如图22。

设置仿真类型：点击菜单Analyses→Choose；在弹出的对话框中，Analysis选择tran，Stop Time

输入5n，选中Enabled，点击OK，如图22。

设置输出变量：点击菜单Outputs→To Be Plotted→Select On Schematic；在弹出的编辑窗口中，点击要输出的结点或元件（例如结点in和out），如图23。

图22

图23

可以保存仿真条件设置：点击菜单Session→Save State；在弹出的对话框中，Save As输入名字（例如state1），点击OK，如图21所示，以便以后可以直接调出该设置。

5查看仿真结果

点击菜单Simulation→Netlist and Run运行仿真，弹出仿真进度显示窗口，仿真结束后弹出如图24所示的结果查看窗口，可以查看仿真结果。

点击菜单File→Exit可以关闭结果查看窗口。

图24

3.3版图设计

1创建或打开版图

新建版图(layout)单元：在CIW窗口中点击菜单File→New→Cellview；在弹出的对话框中，Library Name选择设计库pa，Cell Name输入版图单元的名字inv，Tool选择Virtuoso，点击OK，如图25。弹出如图26所示的编辑窗口和一个图层窗口。

如果之前已经创建过，则直接打开版图单元：点击菜单File→Open；在弹出的对话框中，Library Name选择pa，Cell Names选中inv，View Name选择layout，点击OK，如图25。

点击菜单Window→Close可以退出编辑窗口。注意，图层窗口无法单独关闭，不必管它，在退出CIW窗口时它会自动关闭。

图25

2编辑版图

设置显示：在编辑窗口中点击菜单Options→Display；在弹出的对话框中，选中File输入文件名，点击Save To/Load From可以保存/调出显示设置；建议在X Snap Spacing和Y Snap Spacing输入0.01，Display Levels在Stop输入5，最后点击OK，如图27。在图层窗口中，点击A V/NV可以显示/隐藏所有图层，点击AS/NS可以允许/禁止select所有图层，鼠标左键用于选中某一图层，鼠标中键用于显示/隐藏某一图层，鼠标右键用于允许/禁止select某一图层，如图26。

图26

图27

调入单元：点击菜单Create→Instance，在弹出的对话框中点击Browse，在新弹出的小对话框中选择要添加的单元，点击Close；然后输入合适的器件参数，点击Hide，方法与3.1节相同。所有Pcell单元都在工艺库smic18mm中。

添加图形：选中相应的图层，点击菜单Create→Rectangle或Path等。

添加端口：选中相应的金属层，点击菜单Create→Label；在弹出的对话框中，Pin Name输入端

口结点名（例如gndd!），Height输入合适的尺寸，点击Hide，如图27。

在编辑过程中注意随时保存：点击菜单Design→Save。

编辑完成后的版图如图28所示。

注意，创建一个版图之后，在编辑其它版图单元时就可以调用该版图单元。

图28

3.4版图DRC验证

1启动DRC软件

在编辑窗口中点击菜单Calibre→Run DRC，启动版图验证软件Calibre做DRC，如图28。

假如菜单中没有Calibre，也可以在命令行窗口中输入命令calibre -gui & ，启动Calibre软件，如图29，然后点击DRC。

图29

弹出如图30所示的DRC窗口和一个调入规则设置存档的对话框。

在DRC窗口中点击File→Exit可以退出Calibre软件。

2设置DRC规则

如果之前已经设置并保存过DRC规则，可以直接调出：在图30的对话框中直接点击OK即可。然后可以在此基础上修改DRC规则设置。

图30

如果是第一次做DRC，或者要修改DRC规则，则按以下步骤进行。

设置DRC规则：在DRC窗口中点击Rules；在Calibre-DRC Run Directory输入验证目录verify，在Calibre-DRC Rules File点击[…]，在弹出的对话框中找到目录~chby1/ /rules/drc/calibre，选中规则文件SmicDRL2TM5P_cal018_mixlog_p1mt6_Sali.drc，点击Open，如图31。

图31

点击Inputs；在Top Cell输入要做DRC的版图单元名字inv，选中Export from layout viewer，Files输入要导出的gds文件名，如图32。

图32

可以保存DRC规则设置：点击菜单File Save Runset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如drc_runset），点击OK，如图33。以便以后可以直接调出该设置，如图30。

图33

3查看DRC结果

点击Run DRC运行DRC，弹出验证进度显示窗口，验证结束后弹出如图34所示的RVE窗口。

在弹出的RVE窗口中，点击菜单View→Show Empty Checks，使这一项不要被选中，然后可以点击鼠标左键查看错误说明，或点击鼠标右键选择Highlight Result，在编辑窗口中会高亮显示错误区域，点击菜单Highlight→Clear Highlights可以清除高亮显示，如图34。

点击菜单File→Exit可以关闭RVE窗口。

图34

3.5版图LVS验证

1启动LVS软件

版图DRC通过之后，在图28的编辑窗口中点击菜单Calibre→Run LVS，启动版图验证软件Calibre做LVS。或者在如图29中点击LVS。

弹出如图35所示的LVS窗口和一个调入规则设置存档的对话框。

在LVS窗口中点击File→Exit可以退出Calibre软件。

2设置LVS规则

如果之前已经设置并保存过LVS规则，可以直接调出：在图35的对话框中直接点击OK即可。然后可以在此基础上修改LVS规则设置。

如果是第一次做LVS，或者要修改LVS规则，则按以下步骤进行。

设置LVS规则：在LVS窗口中点击Rules；在Calibre-LVS Run Directory输入验证目录verify，在Calibre-LVS Rules File点击[…]，在弹出的对话框中找到目录~chby1/rules /lvs/calibre/SmicSP6_cal018_log_p1mtx_sali，选中规则文件SmicSP6.1P_cal018_log_p1mtx_sali.lvs，点击Open，如图36。

图35

图36

点击Inputs；Layout设置参见图32；Netlist设置如图37，在Top Cell输入要做LVS的电路单元名字inv，选中Export from layout viewer，Files输入要导出的spice网表文件名。

注意，如果电路设计采用Hspice软件，则在Top Cell输入要做LVS的子电路(subckt)名字inv，

不要选中Export from schematic viewer，Files输入自己编写的spice网表路径及文件名（例如inv.sp）。

可以保存LVS规则设置：点击菜单File Save Runset，在弹出的对话框中输入存档路径和文件名（例如lvs_runset），点击OK，如图38。以便以后可以直接调出该设置，如图35。

图37

图38

3查看LVS结果

点击Run LVS运行LVS，弹出验证进度显示窗口，验证结束后弹出如图39所示的RVE窗口。

在弹出的RVE窗口中，可以点击鼠标左键查看错误说明，或点击鼠标右键选择Highlight Result，在编辑窗口中会高亮显示错误区域，如果没有错误则显示绿色图标?，点击Source Netlist可以弹出窗口查看电路的spice网表，如果在网表中点击结点或元件，编辑窗口中会出现相应的高亮显示，如图40，在编辑窗口中点击菜单Calibre→Clear Highlights可以清除所有高亮显示。

点击菜单File→Exit可以关闭RVE窗口。

图39

图40