ICP-MS主要技术指标

ICP-MS主要技术指标

性能指标：

1 仪器应用要求

本仪器要求能适用于应用领域广泛的各种样品的元素分析和同位素分析任务。

仪器要求符合美国环保署标准方法 EPA200.8 ， EPA6020, 英国 NS30 等国际标准要求

2. 仪器工作环境

2.1工作环境温度：15-30 C .

2.2 工作环境湿度：< 80% （无冷凝）

电源 :power supply 单相 200-240V ，50 Hz

3. 仪器规格 :

3.1 仪器硬件 ;

3.1.1 雾化器：高耐盐，高精度，高效率同心雾化器，

3.1.2 雾化室：小死体积，低记忆效应，配置 Peltier 半导体制冷装置对雾化室制冷控温，

雾化室制冷温度控制要求可以达到<-10 0C

3.1.3 接口： Ni 材料锥口，口径要求足够大，以便耐样品溶液所含的基体。样品锥口口径 1.1 mm, 截取锥口径 0.75 mm 。

3.1.4 质量流量计：等离子体气，辅助气，雾化气三路质量流量计

3.1.4 ICP 源： 27.12 MHz 固体晶体稳频 RF 发生器 ,频率稳定性 < ±0.01%

3.1.6 RF 功率稳定性 < 0.01%

3.1.7 真空系统：

3.1.7.1 快速三级高真空系统：工作时真空度<2 X 10- 6 乇，

3.1.7.2 从大气压开始抽至可工作的真空度的时间小于 20分钟。

3.1.8. 离子光学：低背景的离轴四极杆质谱仪系统

3.1.9 四极杆：Mo质四极杆,RF频率2.0 MHz

3.1.10 四极杆质谱仪是可靠的免拆洗系统

3.1.11 脉冲模拟双模式同时型电子倍增器，

3.1.12 可以在一次样品测试中同时完成扫描和跳峰分析

3.1.13 等离子体炬位调整 : 由计算机三维（X,Y, Z 方向）控制

3.1.14 数据采集：拥有 60000道以上的多通道数据分析系统，以适应瞬间信号分析要求

3.1.1

4. 质谱范围： 2-255amu

3.1.16 仪器分辨率在一次样品分析中可变，以便通过变化分辨率降低干扰，扩大分析元素的浓度分析范围

3.2 软件：

3.2.1 操作系统： Windows 2000 , 多任务,多用户系统软件

3.2.2 全自动分析功能（启动关闭仪器 , 炬位调整 , 等离子体参数 , 离子透镜 , 其它技术模式切换等）

3.2.3 瞬间信号分析软件以便与色谱或激光进样系统等连用。

3.2.4 实时数据显示 , 和实时报告显示

3.2.4拥有智能化软件包括：智能进样时间和智能冲洗时间，QAQC软件，智能谱图解释软

件,

4 仪器功能要求

4.1 定性分析

4.1.1 带智能谱图解释

4.2 半定量分析

4.2.1 要求半定量分析的内存工作曲线可以校正

*4.2.2 要求样品分析时能一次同时完成半定量和全定量分析

4.3 全定量分析

4.3.1 全定量分析要求符合美国 EPA200.8,EPA6020,NS30 等国际标准要求 ,

4.4 等离子体炬焰屏蔽技术分析

*4.4.1 等离子体炬焰屏蔽技术要求包括冷焰屏蔽技术，和热焰屏蔽高灵敏度模式技术

*4.4.2 屏蔽技术能自动切换，并保持稳定

*4.4.3 在一次样品分析中能自动切换冷焰模式和标准模式，并保证样品中所有分析元素 (在二种不同模式中)一次完成分析

4.5 碰撞池技术分析

*4.5.1 碰撞池条件和标准条件的切换为全自动化 .

*4.5.2 碰撞池技术配置二个质量流量计，并能够快速切换，切换时间小于 30 秒钟。

*4.5.3 可以使用简单碰撞气体，反应性气体，及混合气体 (NH3/He,H2/He) ，并可以在一次样品分析中自动切换，拥有更广泛的应用范围。

5. 仪器通用技术指标 :

*5.1 灵敏度 sensitivity

5.1.1 低质量数 low mass: >40 M cps/ppm

*5.1.2 中质量数 middle mass: > 100 M cps/ppm

*5.1.3 高质量数 high mass: > 100 M cps/ppm

*5.2 随机背景 radon background: < 0.5 cps (220amu)

*5.3 仪器信噪比 instrument signal/noise ratio:>200,000,000 (>200M )( 信噪比 =灵敏

度 / 随机背景 ,1ppm In 溶液计算 )

5.4 氧化物离子 oxide ion lever 5.5 短期稳定性 short stability (MO+/M+) < 2 % (RSD): < 2 % ( 不用内标)