Development of the laser alignment system with PSD used for shaft calibration

Development of the laser alignment system with PSD used for shaft calibration
Development of the laser alignment system with PSD used for shaft calibration

Development of the Laser Alignment System with PSD used for Shaft

Calibration

Jiao Guohua ab Li Yulin a Hu Baowen a

a Xian Institute of Optics and Precision Mechanics of CAS, Xian, China, 710068;

b Graduate School of the Chinese Academy of Sciences, Beijing, China, 100039

ABSTRACT

Shaft calibration is an important technique during installation and maintenance of a rotating machine. It requires unique and high-precision measurement instruments with calculation capability, and relies on experience on heavy, high-speed, or high-temperature machines. A high-precision laser alignment system has been designed using PSD (Position Sensing Detector) to change traditional manual way of shaft calibration and to make the measurement easier and more accurate. The system is comprised of two small measuring units (Laser transmitter and detector) and a hand operated control unit or a PC. Such a laser alignment system has been used in some actual shaft alignment with offset resolution 1.5μm and angular resolution 0.1o.

Keywords: Laser micro-displacement measurement, Laser alignment, Shaft calibration, PSD, Signal processing

1.INTRODUCTION

Shaft calibration is used for correction of relative position of two machines that are connected each other, such as a motor and a pump, so that the centre lines of the shafts form a straight line when the machines are working at normal operating conditions. Shaft calibration means moving the front and the rear pairs of feet of a machine, vertically and horizontally, until the shafts are aligned within given tolerances.

The measurement method is based upon the principle of a reverse indicator alignment system. Instead of steel bars with dials it uses laser beam. Unlike steel bars the laser beams do not have the disadvantage of sagging which contributes to high degree of accuracy.

With standard dial measurement techniques the results need to be graphed out manually and calculations are needed to establish the corrections required. With the laser alignment system all this is done automatically. Real time alignment values are displayed as the machine moves. Operators can observe the effect of tightening a bolt as soon as it happens.

2.OPERATING PRINCIPLE

2.1.Operating Principle of the Shaft Calibration

Shaft calibration is used for the positioning of rotational centers of 2 or more shafts such that they are co-linear when the machines are under normal operating conditions [1]. As Fig.1 shows, there are actually two components of misalignment, angular and offset. Offset misalignment, (sometimes referred to Parallel Misalignment) is the distance between the shafts centers of rotation measured at the plane of power transmission from the driving unit to the driven unit. This is typically measured at the coupling center. Angular misalignment, (sometimes referred to as “gap” or “face”), is actually the difference in the slope of one shaft, usually the moveable machine, as compared to slope of the shaft of the other machine, usually the stationary machine.

2nd International Symp. on Adv. Optical Manufac. and Testing Tech.: Optical Test and

Measurement Tech. and Equip., X. Hou, J. Yuan, J. C. Wyant, H. Wang, S. Han, Eds.,

Proc. of SPIE Vol. 6150, 61500H, (2006) · 0277-786X/06/$15 · doi: 10.1117/12.676890

Figure 1: Two components of the shaft misalignment As stated above, there are two separate alignment conditions that require correction. There are also two planes of potential misalignment, horizontal plane (the side to side) and the vertical plane (the up and down). Each alignment plane has offset and angular components, so there are actually 4 alignment parameters to be measured and corrected. They are Horizontal Angularity (HA), Horizontal Offset (HO), Vertical Angularity (VA) and Vertical Offset (VO).

2.2. Operating Principle of the Position Sensing Detector (PSD)

Position-sensing detector (PSD) is a photoelectric device that converts an incident light spot into continuous position data. Many industrial manufacturers and laboratories around the world use PSDs in their daily work. When used in conjunction with lasers they can be used for industrial alignment, calibration, and analysis of machinery. It provides outstanding resolution, fast response, excellent linearity for a wide range of light intensities and simple operating circuits. PSDs come in two types: quadrant detectors or the dual-axis lateral effect detectors [2]. Their purpose is to sense the position of the beam centroid in the X-Y plane orthogonal to the optical axis. In order to measure the X and Y positions from the PSD, four electrodes are attached to the detector and an algorithm then processes the four currents generated by photo-absorption. Fig.2 shows a duo-lateral PSD has been adopted in the laser alignment system.

Figure 2: Duo-lateral PSD

The duo-lateral PSD is able to detect a light spot moving over its surface in two dimensions. The duo-lateral PSD, which has four terminals, two on the back side and two on the front side, where the terminals on the back side are placed perpendicular to the terminals on the front side. The photoelectric current generated by the incident light flows through the device and can be seen as two input currents, X1 and X2, and two output currents, Y1 and Y2, respectively. The relationship between the currents gives the light spot position through the formulas:

21212 X Position X X X X L x +??= 2

1212 Y Position Y Y Y Y L y +??=

Where Lx and Ly are equal to the length of the PSD in the X and Y dimensions, respectively. With these equations the intensity of the incident light spot does not affect the calculation of the light spot position.

3.SYSTEM DESIGN

The designed laser alignment system is comprised of two small measuring units (laser transmitter and detector) and a hand operated control unit or a PC. A schematic overview of the laser alignment system is given in Figure 3 below.

Figure 3: The schematic overview of the laser alignment system

https://www.360docs.net/doc/0f3942291.html,ser Transmitter Unit

The laser transmitter unit is made up of diode laser and the mechanism with built-in micrometer screws for adjustment of the laser beam in horizontal and vertical level. The spectral response of PSD (S5991-01, made by HAMAMATSU) has adopted in the laser detector unit is illuminated in Fig. 4. The recommended sensitive wavelength of this PSD is the peak sensitive wavelength 960 nm, but it is necessary that the light must be visible when operator adjusts the angle of incidence at the beginning of shaft calibration. So the 635 nm diode laser was selected in the visible wavelength region.

Figure 4: The spectral response of the PSD

https://www.360docs.net/doc/0f3942291.html,ser Detector Unit

The laser detector unit is assembled by PSD and PSD signal processing circuit. In the PSD signal processing, a new method has adopted, i.e., use a software arithmetic to calculate the value the laser spots position on PSD to substitute the pure circuit method in which usually contained many components between detector and CPU, such as ACU (Analog Computational Units), ADC (Analog-to-Digital Converter), etc. These components will bring some additional noises to the system, and it’s difficult to reduce such noises. A SCM (Single Chip Micyoco), MSC1210, which involves 8

differential/single-ended channels 24-bits ADC, has been selected as the key chip of the detectors. The PSD sensor and CPU have been connected directly. It’s proved in the later test that this method can efficiently remove those noises and improve the accuracy and the stability of system.

The photoelectric currents generated by PSD flow through the amplifier circuit and convert into voltage signals. Then MSC1210 converts those voltage signals into digital value, and transports to the handheld controller or PC through RSC232. The software of the handheld controller or PC calculates the position of the light spot when the data received. Mount the laser transmitter/detector unit on the stationary and the movable machine. Start the measurement software, renter the distances between the measuring units and feet. The program asks for every necessary distance. The whole measurement is carried out step-by-step on the display. Turn shafts with measuring units to position 9 o’clock, and then 12 o’clock, and finally 3 o’clock. After the above step is finished, offset, angular values and shim adjustment values are clearly displayed on the handheld controller or PC. Both horizontal and vertical values are shown in “live”, so that it makes easy to adjust the machine.

4.SYSTEM TEST

Before the laser alignment system is applied to actual shaft calibration, it is needed to carry out an accuracy test in laboratory. The test is designed that mount the laser transmitter on a plane with built-in micrometer screwing for indicate the movement of laser transmitter in horizontal and vertical level, and fix the plane and the laser detector on a steady workbench. First step of the test is to adjust the laser beam to be centered perpendicular to the surface of the PSD chip. Subsequently, we rotated the micrometer one micrometer in horizontal and vertical level each time. Simultaneously, we record the position value of the light spot. After the test is finished, we list the values in Fig. 5 .

Figure 5: The position values of the light spot on the PSD

As Fig. 5 shows, except two end of the line, the test values calculated with the laser alignment system are linear. The exceptional test values were generated because the light spot is fallen into the nonlinear area of PSD. If those invalid data are excluded, the largest error in the test is 16μm, and the variance is 3.030μm. The typical shaft alignment tolerance is 25.4μm [1]. So the laser alignment system is accurate enough in the most shaft calibration.

5.CONCLUSION

As stated above, the laser alignment system is a good unit for improving the traditional shaft calibration technique. With the position values calculated by the software arithmetic, the circuit noise of system have been reduced, so the system error is smaller. Calibrating the shaft with laser alignment system is easy to carry out and the calibration precision is high enough.

ACKNOWLEDGEMENT

This work is partial supported by the National Natural Science Foundation of China under the project No. 60337030.

REFERENCES

1.VibrAlign, Inc., Dynamic Movement White Paper, VibrAlign, Inc., Richmond, US, 200

2.

2.Hamamatsu Photonics, Operating Principle and Features of PSD, Hamamatsu Photonics, Hamamatsu, Japan, 2001.

3.Jin Guofan, Li Jingzhen, Method of Laser Measurement, Beijing, China, 1998, 697~700.

4.Tang Jiuyao, Huang Meizhen, Chen Yuqing, Analysis of the Structure and Performance of the two Dimensional

PSD, Journal of Functional Materials and Devices, Shanghai, 2003, 3: 301~305.

几种视频文件的插入方法

几种视频文件的插入方法: 一、avi、asf、asx、mlv、mpg、wmv等视频文件的插入方法: 1、使用PoerPoint“插入”菜单中的“插入影片”命令法方法简单常用,在这里不再赘述; 2、使用PoerPoint“插入”菜单中的“插入对象”命令法; 3、使用插入控件法 使用这种方法必须保证系统中安装有Windows MediaPlayer或者RealPlayer播放器,首先将视频文件作为一个控件插入到幻灯片中,然后通过修改控件属性,达到播放视频的目的。 步骤如下: (1)运行PowerPoint程序,打开需要插入视频文件的幻灯片; (2)打开“视图”菜单,通过“工具栏”子项调出“控件工具箱”面板,从中选择“其他控件” 按钮单击; (3)在打开的控件选项界面中,选择“Windows Media Player”选项,再将鼠标移动到PowerPoint的幻灯片编辑区域中,画出一个合适大小的矩形区域,这个矩形区域会自动转变 为Windows Media Player播放器的界面; (4)用鼠标选中该播放界面,然后单击鼠标右键,从弹出的快捷菜单中选择“属性”命令, 打开该媒体播放界面的“属性”窗口; (5)在“属性”窗口中,在“URL”设置项处正确输入需要插入到幻灯片中视频文件的详细路径(绝对路径和相对路径都可以)和完整文件名,其他选项默认即可; (6)在幻灯片播放时,可以通过媒体播放器中的“播放”、“停止”、“暂停”和“调节音量” 以及“进度条”等按钮对视频进行自如的控制。 二、rm、ra、rmvb等视频文件的插入方法 使用Windows Media Player控件可以实现mpg、asf、avi、wmv等视频文件的播放,但它不支持RM视频文件的播放,那么如何在PowerPoint中实现RM视频文件的播放呢? 如果通过其他的视频转换软件把RM视频文件转换成A VI或MPG格式的文件再插入,速度慢且转换后的文件体积也大,我们同样可以通过利用PowerPoint中的“控件工具箱”来插 入RM格式的视频文件,方法如下: 1、打开PowerPoint幻灯片文件,打开需要插入视频文件的幻灯片;

提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率的途径

提高多晶S i薄膜太阳电池转换效率的途径 Prepared on 22 November 2020

本文由【】搜集整理。免费提供海量教学资料、行业资料、范文模板、应用文书、考试学习和社会经济等w o r d文档“微纳电子技术”2008年第4期 专家论坛 187-提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率的途径 纳米器件与技术 193-小尺寸超高频双极晶体管工艺及特性模拟 198-单电子晶体管的蒙特卡罗模拟及宏观建模 纳米材料与结构 205-腐蚀法制备绒面ZnO透明导电薄膜 209-Bi2O3/TiO2纳米复合物的微波合成及光催化性质MEMS器件与技术 214-基于MEMS技术的微波滤波器研究进展 219-新型三轴MEMS热对流加速度传感器的研究 显微、测量、微细加工技术与设备 222-纳米光刻对准方法及其原理 231-变温腐蚀法制备纳米光纤探针 235-一维纳米结构的拉伸力学测试 240-Si 基GaN薄膜的制备方法及结构表征 ======================================= 专家论坛 187-提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率的途径 彭英才1,2,姚国晓3,马蕾1,王侠1 (1. 河北大学电子信息工程学院,河北保定071002; 2. 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京 100083; 3. 中国天威英利新能源有限公司,河北保定071051)

摘要:多晶Si薄膜对可见光进行有效地吸收、光照稳定性好、制作成本低,被公认为是高效率和低成本的光伏器件材料。以提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率为主线,介绍了增大晶粒尺寸以增加载流子迁移率、进行表面和体内钝化以减少复合中心、设计p-I-n结构以增加光收集效率、制作绒面结构以提高对入射光的吸收效果、改进电池结构以谋求最大效率等工艺措施;综述了近5年来多晶Si薄膜电池在材料生长、结构制备和性能参数方面取得的最新进展,并对其发展前景做了预测。 关键词:多晶Si薄膜;大晶粒;氢钝化;p-I-n结构;太阳电池;转换效率纳米器件与技术 193-小尺寸超高频双极晶体管工艺及特性模拟 赵守磊,李惠军,吴胜龙,刘岩 (山东大学孟尧微电子研发中心,济南250100) 摘要:基于通信系统中射频电路设计的特殊要求,对小尺寸(基区宽度低于100 nm)、超高频(特征频率高于15 GHz)双极晶体管工艺制程和器件的物理特性进行了模拟,为工艺线流片进行可行性研究。该器件采用BiCMOS制程结构实现,在对小尺寸、超高频双极性器件物理模型进行详尽分析的基础上,实现了该器件工艺级(Sentaurus Process)及器件物理特性级(Sentaurus Device)的仿真,提出TCAD工艺及器件的一体化设计方案。模拟结果表明,在高频指标参数 17GHz下,所得β值接近于80,满足设计要求。 关键词:小尺寸;双极器件;频率特性;工艺仿真;特性模拟 198-单电子晶体管的蒙特卡罗模拟及宏观建模 孙海定,江建军 (华中科技大学电子科学与技术系,武汉430074) 摘要:以单电子晶体管为研究对象,系统阐述了库仑阻塞、库仑台阶、单电子隧穿等物理现象的产生机理。微观模拟与宏观建模相结合,着重介绍了如何用蒙特卡罗方法和Matlab相结合对上述各种物理现象进行数值模拟,同时对单电子晶体管进行宏观电路等效,用一些常用元器件进行宏观建模。采用强大的模拟集成电路软件Hspice进行分析模拟,大大减少了计算及仿真时间。通过分析比较,两者曲线得到了较好的吻合,直观地反映了单电子晶体管的电学特性,为进一步研究复杂系统提供了理论依据。

监控系统安装流程(视频监控安装教程)

监控安装指导与注意事项 A、线路安装与选材 1、电源线:要选“阻燃”电缆,皮结实,在省成本前提下,尽量用粗点的,以减少电源的衰减。 2、视频线:SYV75-3线传输在300米内,75-5线传输500米内,75-7的线可传输800米;超过500米距离,就要考虑采用“光缆”。另外,要注意“同轴电缆”的质量。 3、控制线:一般选用“带屏蔽”2*1.0的线缆,RVVP2*1.0。 4、穿线管:一般用“PVC管”即可,要“埋地、防爆”的工程,要选“镀锌”钢管。 B、控制设备安装 1、控制台与机柜:安装应平稳牢固,高度适当,便于操作维护。机柜架的背面、侧面,离墙距离,考虑到便于维修。 2、控制显示设备:安装应便于操作、牢靠,监视器应避免“外来光”直射,设备应有“通风散热”措施。 3、设置线槽线孔:机柜内所有线缆,依位置,设备电缆槽和进线孔,捆扎整齐、编号、标志。

4、设备散热通风:控制设备的工作环境,要在空调室内,并要清洁,设备间要留的空间,可加装风扇通风。 5、检测对地电压:监控室内,电源的火线、零线、地线,按照规范连接。检测量各设备“外壳”和“视频电缆”对地电压,电压越高,越易造成“摄像机”的损坏,避免“带电拔插”视频线。 C、摄像机的安装 1、监控安装高度:室内摄像机的安装高度以2.5~5米,为宜,室外以3.5~10米为宜;电梯内安装在其顶部。 2. 防雷绝缘:强电磁干扰下,摄像机安装,应与地绝缘;室外安装,要采取防雷措施。 3、选好BNC:BNC头非常关键,差的BNC头,会让你生不如死,一点都不夸张。 4、红外高度:红外线灯安装高度,不超过4米,上下俯角20度为佳,太高或太过,会使反射率低。 5、红外注意:红外灯避免直射光源、避免照射“全黑物、空旷处、水”等,容易吸收红外光,使红外效果大大减弱。 6、云台安装:要牢固,转动时无晃动,检查“云台的转动范围”,是否正常,解码器安装在云台附近。

光刻技术新进展

光刻技术新进展 刘泽文李志坚 一、引言 目前,集成电路已经从60年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包含约10亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3年提高4倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30年中以平均每年约15%的速度增长,而且对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响。集成电路之所以能飞速发展,光刻技术的支持起到了极为关键的作用。因为它直接决定了单个器件的物理尺寸。每个新一代集成电路的出现,总是以光刻所获得的线宽为主要技术标志。光刻技术的不断发展从三个方面为集成电路技术的进步提供了保证:其一是大面积均匀曝光,在同一块硅片上同时作出大量器件和芯片,保证了批量化的生产水平;其二是图形线宽不断缩小,使用权集成度不断提高,生产成本持续下降;其三,由于线宽的缩小,器件的运行速度越来越快,使用权集成电路的性能不断提高。随着集成度的提高,光刻技术所面临的困难也越来越多。 二、当前光刻技术的主要研究领域及进展 1999年初,0.18微米工艺的深紫外线(DUV)光刻机已相继投放市场,用于 1G位DRAM生产。根据当前的技术发展情况,光学光刻用于2003年前后的0.13微米将没有问题。而在2006年用到的0.1微米特征线宽则有可能是光学光刻的一个技术极限,被称为0.1微米难关。如何在光源、材料、物理方法等方面取得突破,攻克这一难关并为0.07,0.05微米工艺开辟道路是光刻技术和相应基础研究领域的共同课题。

在0.1微米之后用于替代光学光刻的所谓下一代光刻技术(NGL)主要有极紫外、X射线、电子束的离子束光刻。由于光学光刻的不断突破,它们一直处于"候选者"的地位,并形成竞争态势。这些技术能否在生产中取得应用,取决于它们的技术成熟程度、设备成本、生产效率等。下面我们就各种光刻技术进展情况作进一步介绍。 1.光学光刻 光学光刻是通过光学系统以投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结 构图形"刻"在涂有光刻胶的硅片上,限制光刻所能获得的最小特征尺寸直接与光刻系统所能获得的分辨率直接相关,而减小光源的波长是提高分辨率的最有效途径。因此,开发新型短波长光源光刻机一直是国际上的研究热点。目前,商品化光刻机的光源波长已经从过去的汞灯光源紫外光波段进入到深紫外波段(DUV),如用于0.25微米技术的KrF准分子激光(波长为248纳米)和用于0.18微米技术的ArF准分子激光(波长为193纳米)。 除此之外,利用光的干涉特性,采用各种波前技术优化工艺参数也是提高光刻分辨率的重要手段。这些技术是运用电磁理论结合光刻实际对曝光成像进行深入的分析所取得的突破。其中有移相掩膜、离轴照明技术、邻近效应校正等。运用这些技术,可在目前的技术水平上获得更高分辨率的光刻图形。如1999年初Canon公司推出的FPA-1000ASI扫描步进机,该机的光源为193纳米ArF,通过采用波前技术,可在300毫米硅片上实现0.13微米光刻线宽。 光刻技术包括光刻机、掩模、光刻胶等一系列技术,涉及光、机、电、物理、化学、材料等多个研究领域。目前科学家正在探索更短波长的F2激光(波长为157纳米)光刻技术。由于大量的光吸收,获得用于光刻系统的新型光学及掩模衬底材料是该波段技术的主要困 难。

软光刻技术的研究现状

大连理工大学研究生试卷 系别:机械工程学院 课程名称:微制造与微机械电子系统 学号: 姓名: 考试时间:2015年1 月15日

PDMS软光刻技术的研究现状 摘要:软光刻技术作为一种新型的微图形复制技术,和传统的光刻技术相比,软光刻技术更加灵活,而且 有许多技术方面的优势。软光刻技术已经广泛应用于光学、生物技术、微电子、传感器以及微全分析系统 的加工诸领域,并且取得了一定的进展。本文,从软光刻技术的原理、分类、国内外以及我们实验室的应 用上来说明软光刻技术的研究现状,是一种很有发展的重要光刻技术。 关键词:软光刻技术研究现状应用 Research Status of PDMS Soft Lithography Abstract:Soft lithography technology as a new type of micro-replication technology graphics, and compared to conventional lithographic techniques, soft lithography technology is more flexible and has many technical advantages. Soft lithography technology has been widely used in optical processing areas such as biotechnology, microelectronics, sensors and micro total analysis system, and has made some progress. In this paper, the principle soft lithography techniques, classification, abroad and in our lab up on the status of the application of soft lithography, photolithography technique is a very important development. Keywords:Soft lithography technologyResearch StatusApplication 1. 软光刻技术概况 20世纪90年代末,一种新的微图形复制技术脱颖而出。该技术用弹性模(大多为PDMS 材料制作)替代传统光刻技术中使用的硬模来产生微结构或者微模具,被称作软光刻技术[1]。软光刻技术作为一种新型的微图形复制技术,和传统的光刻技术相比,软光刻技术更加灵活,而且有许多技术方面的优势,主要有:能制造复杂的多层结构或者三维结构,甚至能在不规则曲面上来制作模具,而且不受材料和化学表面的限制;能突破光刻技术100nm 的限制,实现更为精细的微加工等。此外,它所需设备比较简单,进而在制作成本上也比以前的光刻技术更经济使用。在普通的实验室环境下就能应用,因此软光刻是一种便宜、方便、适于实验室使用的技术。 目前,软光刻技术已经广泛应用于光学、生物技术、微电子、传感器以及微全分析系统的加工诸领域,并且取得了一定的进展。 1.1 软光刻技术的分类 软光刻的核心技术是制作弹性模印章(elastomeric stamp)。通过光刻蚀和模塑的方法,可以快速、高效的获得这种印章。PDMS,即聚二甲基硅氧烷,是软光刻中最常用的弹性模印章制作材料,在设计过程中应该注意防止在PDMS弹性模上产生缺陷,此外,由于PDMS 材料的弹性,过大的深宽比也会导致弹性模结构的倒塌。软光刻的关键技术包括:毛细管成模(micromolding in capillaries,MIMIC)、再铸模(replica molding,REM)、微接触印刷(microcontact printing,uCP)、溶剂辅助成模(solventassistedmicromolding,SAMIM)、

光刻机的技术原理和发展趋势

光刻机的技术原理和发展趋势 王平0930******* 摘要: 本文首先简要介绍了光刻技术的基本原理。现代科技瞬息万变,传统的光刻技术已经无法满足集成电路生产的要求。本文又介绍了提高光刻机性能的关键技术和下一代光刻技术的研究进展情况。 关键字:光刻;原理;提高性能;浸没式光刻;下一代光刻 引言: 光刻工艺直接决定了大规模集成电路的特征尺寸,是大规模集成电路制造的关键工艺。作为光刻工艺中最重要设备之一,光刻机一次次革命性的突破,使大模集成电路制造技术飞速向前发展。因此,了解光刻技术的基本原理,了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。本文就以上几点进行了简要的介绍。 光刻技术的基本原理: 光刻工艺通过曝光的方法将掩模上的图形转移到涂覆于硅片表面的光刻胶上,然后通过显影、刻蚀等工艺将图形转移到硅片上。 1、涂胶 要制备光刻图形,首先就得在芯片表面制备一层均匀的光刻胶。截止至2000年5月23日,已经申请的涂胶方面的美国专利就达118项。在涂胶之前,对芯片表面进行清洗和干燥是必不可少的。目前涂胶的主要方法有:甩胶、喷胶和气相沉积,但应用最广泛的还是甩胶。甩胶是利用芯片的高速旋转,将多余的胶甩出去,而在芯片上留下一层均匀的胶层,通常这种方法可以获得优于+2%的均匀性(边缘除外)。胶层的厚度由下式决定: 式中:F T为胶层厚度,ω为角速度,η为平衡时的粘度,ρ为胶的密度,t为时间。由该式可见,胶层厚度和转速、时间、胶的特性都有关系,此外旋转时产生的气流也会有一定的影响。甩胶的主要缺陷有:气泡、彗星(胶层上存在的一些颗粒)、条纹、边缘效应等,其中边缘效应对于小片和不规则片尤为明显。

视频监控系统控件安装(从IE访问)

使用IE访问监控设备的时候,会自动从设备上下载控件并自动注册。当控件HCNetVideoActiveX.cab没有下载或注册成功的时候,则不能正常访问设备。 安装HCNetVideoActiveX.cab控件的方法如下: 1.使用IE访问前的注意事项: 降低IE的安全级别,选择IE“工具”->“Internet选项”->“安全”->“自定义级别”,将涉及到控件下载运行和脚本运行的选项都设置成“启用”和“提示”。然后再打开监控的IP地址,会自动安装控件。 2.使用IE访问的时候提示“网页上有错误”或者有“×”的显示 出现该情况,很有可能是控件没有下载成功或则有残余的控件相关内容没有删除。可参考3.清除控件的方法进行清除处理后,在设置安全级别后进行访问。 3.清除控件的方法: 1.关闭IE,进入Windows系统目录下,找到Downloaded ProgramFiles文件夹中的相关控件信息是否还在,若在,将其删除。(HCNetVideoActiveX.cab对应HCNetVideoActiveX Control,NewHCNetActiveX.cab对应NewHCNetActiveX Control) 2.进入system32文件夹下,确认是否还有残留的相关文件,若存在将其删除。如果是XP 的操作系统,还需要将Windows下LastGood文件夹中的相关文件删除。 HCNetVideoActiveX.cab的相关文件是 HCNetVideoActiveX.ocx,HCNetSDK.dll,playm4.dllShowHCRemCfgWnd.dll RemoteCfgRes_CHI.dll,RemoteCfgRes_ENG.dll,RemoteCfgRes_TRAD.dll. NewHCNetActiveX.cab的相关文件是 newocx.ocx,HCNetSDK.dll, playm4.dll,langchg.dll,ShowHCRemCfgWnd.dll,RemoteCfgRes_CHI.dll, RemoteCfgRes_ENG.dll,RemoteCfgRes_TRAD.dll. 3.在“开始”的“运行”中输入:regedit进入注册表,在“我的电脑”下的第一个文件夹“HKE_CLASSES_ROOT”下查找相关内容,如果存在,则是控件手动注册后,没有手动注销掉,需要用手动注销控件方法将其销毁。 说明:该情况一般适用于有我们提供的控件包,并使用其进行手动注册的情况。具体方法见4.手动注册的方法。 4.如果完成上述步骤后,还是无法下载控件,建议重启下电脑或换台电脑测试。IE浏览涉及到的内容较多,系统其他的插件有可能造成OCX控件下载不成功。 4.手动注册的方法:

提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率的途径

本文由【中文word文档库】搜集整理。中文word文档库免费提供海量教学资料、行业资料、范文模板、应用文书、考试学习和社会经济等word文档 “微纳电子技术”2008年第4期 专家论坛 187-提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率的途径 纳米器件与技术 193-小尺寸超高频双极晶体管工艺及特性模拟 198-单电子晶体管的蒙特卡罗模拟及宏观建模 纳米材料与结构 205-腐蚀法制备绒面ZnO透明导电薄膜 209-Bi2O3/TiO2纳米复合物的微波合成及光催化性质MEMS器件与技术 214-基于MEMS技术的微波滤波器研究进展 219-新型三轴MEMS热对流加速度传感器的研究 显微、测量、微细加工技术与设备 222-纳米光刻对准方法及其原理 231-变温腐蚀法制备纳米光纤探针 235-一维纳米结构的拉伸力学测试 240-Si 基GaN薄膜的制备方法及结构表征 ======================================= 专家论坛 187-提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率的途径 彭英才1,2,姚国晓3,马蕾1,王侠1 (1. 河北大学电子信息工程学院,河北保定071002; 2. 中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京 100083; 3. 中国天威英利新能源有限公司,河北保定071051) 摘要:多晶Si薄膜对可见光进行有效地吸收、光照稳定性好、制作成本低,被公认为是高效率和低成本的光伏器件材料。以提高多晶Si薄膜太阳电池转换效率为主线,介绍了增大晶粒尺寸以增加载流子迁移率、进行表面和体内钝化以减少复合中心、设计p-I-n结构以增加光收集效率、制作绒面结构以

电子束光刻技术研究

电子束光刻技术研究 摘要:介绍了纳米加工领域的关键技术——电子束光刻技术及其最新进展。简要介绍了电子束光刻技术和目前这种技术所存在的技术缺陷和最新的研究成果和解决办法,如:关于邻近效应的解决,关于电子束高精度扫描成像曝光效率很低的问题,如电子束与其他光学曝光系统的匹配和混合光刻等问题,以及关于抗蚀剂工艺的最新进展等。 关键词:电子束光刻技术邻近效应电子束高精度扫描成像电子束与其他光学曝光系统的匹配混合光刻抗蚀剂工艺 Abstract: This paper introduces the key technology——electron beam lithography technology and the latest developments in the field of nanofabrication. A brief introduction and electron beam lithography technology currently exists drawback of this technology and the latest research results and solutions, such as: the effect on neighboring settlement, on the low-precision electron beam exposure scanning imaging efficiency issues, such as electron beam mixing and matching and other optical lithography exposure system and other issues, as well as the latest developments on the resist process and the like. 一:概述 电子束光刻与传统意义的光刻(区域曝光)加工不同,其设备如图1所示,它是利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的技术。电子束光刻机与SEM(扫描电子显微镜)的原理基本相同,电子束被电磁场聚焦成微细束照到电子抗蚀剂(感光胶) 上,由于电子束可以方便地 由电磁场进行偏转扫描,复 杂的图形可以直接写到感 光胶上而无需使用掩模版。 与其他光刻技术相比,电子 束光刻的优点非常明显:首 先,电子束光刻分辨率高, 可达0.1 m,如直接进行刻 蚀可达到几个纳米。用电子图1

Cinestyle(佳能插件)简介和前期安装详解

Cinestyle简介和前期安装详解 Cinestyle是由Technicolor公司发布的一个针对Canon单反视频用户开发的颜色分级工具。通过使用Cinestyle加上后期的LUT,可以让佳能单反相机拍摄的视频获得更大的动态范围,更平滑的明暗过渡,更多的画面细节,以及更少的噪点。Cinestyle是针对5D Mark II开发的,但同样适用7D,550D,60D等其它Canon单反,它可以明显有效的提升单反视频的画质,就像是Red 的HDRx,或Sony的S-Log。 自从几个月前Cinestyle发布以来,着实在单反视频的世界里引起了一场不小的轰动。现在再来讲Cinestyle似乎晚了点,网上到处都是相关的信息,很多朋友也已经熟知Cinestyle的使用了。不过最近还是连续有人来问我相关的问题,很多入门级的朋友希望能有更加简明的操作指南。为了节省这些朋友和我自己的时间,我现在把Cinestyle前后期的使用方法写在这里。 这个工具的使用方法是:先将Cinestyle文件作为一个画面风格档导入相机之中,前期使用该风格档拍摄,会得到一个非常“平”的画面,保留更多的细节,保留更大的动态范围。进入后期制作时,可以在编辑软件或调色软件中调用LUT文件或直接使用调色软件来进行调整,达到理想的画面效果。 前期安装详解: 1、免费下载的Cinestyle工具。先到 https://www.360docs.net/doc/0f3942291.html,/en/hi/theatrical/visual-post-production/digit al-printer-lights/cinestyle,填写一些信息后会进入下载页面。

光刻工艺 光刻对准资料

NIKON工艺 一、对位 概述 对光刻而言,其最重要的工艺控制项有两个,其一是条宽控制,其二是对位控制。随着产品特征尺寸的越来越小,条宽和对位控制的要求也越来越高。目前0.5um的产品,条宽的要求一般是不超过中心值的10%,即条宽在0.5±0.05um之间变化;对位则根据不同的层次有不同的要求,一般而言,在多晶和孔光刻时对位的要求最高,特别是在孔光刻时,由于孔分为有源区和多晶上的孔,对位的要求更高,部分产品多晶上孔的对位偏差甚至要求小于0.14um。 在现在的IC电路制造过程中,一个完整的芯片一般都要经过十几到二十几次的光刻,在这么多次光刻中,除了第一次光刻以外,其余层次的光刻在曝光前都要将该层次的图形与以前层次留下的图形对准。对位的过程存在于上版和圆片曝光的过程中,其目的是将光刻版上的图形最大精度的覆盖到圆片上已存在的图形上。它包括了以下几部分:光刻版对位系统、圆片对位系统(又包括LSA、FIA等)。对于NIKON的步进重复曝光机(Step & Repeat)而言,对位其实也就是定位,它实际上不是用圆片上的图形与掩膜版上的图形直接对准来对位的,而是彼此独立的,即,确定掩膜版的位臵是一个独立的过程,确定圆片的位臵又是另一个独立的过程。它的对位原理是,在曝光台上有一基准标记,可以把它看作是定位用坐标系的原点,所有其它的位臵都相对该点来确定的。分别将掩膜版和圆片与该基准标记对准就可确定它们的位臵。在确定了两者的位臵后,掩膜版上的图形转移到圆片上就是对准的。 光刻版对位系统 略。 圆片对位系统 圆片对位系统中,根据特定的应用或为解决依赖于圆片工艺(如铝层)而产生的对位错误,发展了各种各样对位系统:LSA、LIA、FIA。这里先作一个比较:这三种方式的最大差异是处理对位过程中遇到问题的侧重点不同,特别是在铝上,高温溅射的铝在

光刻对准

Course No. 04813190 MEMS DEVICES AND DESIGN , Spring 2004
Lecture17: MEMS Layout Design
Haixia Zhang Institute of Microelectronics, PKU
MEMS DEVICES AND DESIGN , Spring 2004, Lecture17-Layout Design, Haixia Zhang, PKU

OUTLINE
●版图设计内容与方法 ●光刻原理 ●对准标记 ●注意事项
MEMS DEVICES AND DESIGN , Spring 2004, Lecture17-Layout Design, Haixia Zhang, PKU

Layout Design 版图设计
器件设计
工艺设计
结构的几何尺寸
制造的工艺流程
版图设计
结构尺寸的参 数化/图形化 对准标记 质 量监控图形等
光刻掩膜板 工艺加工
MEMS DEVICES AND DESIGN , Spring 2004, Lecture17-Layout Design, Haixia Zhang, PKU

版图设计的主要内容
● 结构尺寸 ● 工艺要求 ● 检测图形
来自器件设计的结果 来自工艺设计的结果 加工过程的质量监控
细节
MEMS DEVICES AND DESIGN , Spring 2004, Lecture17-Layout Design, Haixia Zhang, PKU

PR插件安装说明

Premiere Pro 2.0/CS4等外挂插件:到PR安装文件夹下的Plug-ins\en_US\中 将Boris;Knoll Light Factory v1.0 for ae;Tinderbox;Trapcode;Cycore FX 1.0.1;3dassistants;new文件包直接复制粘贴即可,文件包的形式是方便管理。 说明: Boris:为Boris公司部分插件,其中有三维空间效果插件。本次新增加了Boris DisplacementMap,注意看看效果哦^_^ Knoll Light Factory v1.0 for ae:为AE中的镜头光斑工厂插件,也可以在Premiere Pro中使用。 Tinderbox:为Tinderbox系列插件中的部分视频和图案效果插件。 Trapcode:为Trapcode公司的系列插件,其中有Shine体积光插件。 3dassistants:本次新增,在pr特效中显示名称为3rd Party~值得试试哦! new:本次新增,在pr特效中显示名称为FE 最终的效果~值得试试哦! 或者,也可以直接粘贴在Plug-ins\en_US\中 如AgedFilm和FauxFilm这两个,他们在PR中会自动生成上一级目录,分别在DigiEffects Aurorix 2和DFT 55mm下。 这是本次新增,非常好用的两个特效O(∩_∩)O Hollywood5:为好莱坞转场特技插件。 步骤: 1、用注册机算号 2、点击Hollywood5 Setup安装(安装到你想安装的任意分区下,不必非要安装到Premiere 目录下。安装时输入序例号,完成安装,然后注册激活。) 3、在你安装的分区找到Hollywood FX5文件,并在文件包下找到Host Plugins目录,打开Edition和EditionFilter两个文件夹,分别找到HfxEdt5.vfx 和Fl-HfxEdt5.vfx两个文件,并将这两个文件拷贝到PR下面的plug-ins\en_US之下即可,并将HfxEdt5.vfx Fl-HfxEdt5.vfx两个文件的后缀名改成prm,即HfxEdt5.prm和Fl-HfxEdt5.prm就可! 大家还安装好莱坞婚庆特技(本次新增) 安装办法:将下载的压缩包解压后,分别将Effects、Images、Objects文件夹里的文件分别拷贝到Hollywood FX 5文件Effects,Images,Objects文件夹里就行了!!(注意,这时候不是在Plug-ins\en_US\下了哈!) 好来坞其他特技拓展也同理安装。 4、建议把QuickTime给安装了,会方便你们之后的一些操作。

会声会影好莱坞特效插件安装方法

首先,我来说说什么是好莱坞插件(Hollywood FX) 如果说好莱坞是电影的代名词,那么Hollywood FX差不多就是会声会影视频转场特效的代名词,相信多数会声会影爱好者都有过接触,用过Hollywood FX的人无不被其丰富的转场特效、强大的特效控制功能所折服。Hollywood FX是品尼高公司(Pinnacle)的产品,它实际上是一种专做3D转场特效的软件,可以作为很多其他视频编辑软件的插件来使用。 1.安装好莱坞二合一插件,双击HFX.exe 。安装是全自动的所以不需要管!安装会自动保存在D:\Program Files\Pinnacle文件夹里面 2.把Hfx4GLD.vfx 拷贝到会声会影安装目录中的Vfx_plug目录下(比如D:\Program Files\Ulead Systems\Ulead VideoStudio 11\vfx_plug),这样就能保证会声会影能够调用Hollywood FX Gold v4.58特技。 3.打开会声会影点击效果会看到在转场效果中多了个“Hollywood FX”选项

4.然后将Gold拖拽到两个视频素材之间,然后点击“自定义”按纽(如下图)

5.这个时候我们会看到它的中文版界面,下来我们需要注册这个插件了,单击现在注册按纽(如下图) 6.打开注册页面的时候我们会看到一组序列号和一组ID号(在插件里面可以查找到)

7.我们运行注册机KEYGEN.EXE,按照顺序输入好莱坞插件的序列号和ID号,(请自己在好莱坞插件上查找序列号,因为不同的电脑给出的序列号都不一样,照着图上的输入密码肯定是错的)算出注册码!

光刻技术新进展

《光刻技术新进展》 作者: luoandzhou 发布日期: 2006-3-23 查看数: 115 出自: https://www.360docs.net/doc/0f3942291.html,/sup 一、引言 目前,集成电路已经从60 年代的每个芯片上仅几十个器件发展到现在的每个芯片上可包 含约10 亿个器件,其增长过程遵从一个我们称之为摩尔定律的规律,即集成度每3 年提高4 倍。这一增长速度不仅导致了半导体市场在过去30 年中以平均每年约15%的速度增长,而且对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响。集成电路之所以能飞速发展, 光刻技术的支持起到了极为关键的作用。因为它直接决定了单个器件的物理尺寸。每个 新一代集成电路的出现,总是以光刻所获得的线宽为主要技术标志。光刻技术的不断发 展从三个方面为集成电路技术的进步提供了保证:其一是大面积均匀曝光,在同一块硅 片上同时作出大量器件和芯片,保证了批量化的生产水平;其二是图形线宽不断缩小, 使用权集成度不断提高,生产成本持续下降;其三,由于线宽的缩小,器件的运行速度 越来越快,使用权集成电路的性能不断提高。随着集成度的提高,光刻技术所面临的困 难也越来越多。 二、当前光刻技术的主要研究领域及进展 1999 年初,0.18 微米工艺的深紫外线(DUV)光刻机已相继投放市场,用于1G 位DRAM 生产。根据当前的技术发展情况,光学光刻用于2003 年前后的0.13 微米将没有问题。而 在2006 年用到的0.1 微米特征线宽则有可能是光学光刻的一个技术极限,被称为0.1 微 米难关。如何在光源、材料、物理方法等方面取得突破,攻克这一难关并为0.07,0.05 微米工艺开辟道路是光刻技术和相应基础研究领域的共同课题。 在0.1 微米之后用于替代光学光刻的所谓下一代光刻技术(NGL)主要有极紫外、X 射线、电子束的离子束光刻。由于光学光刻的不断突破,它们一直处于“候选者”的地位,并形成竞争态势。这些技术能否在生产中取得应用,取决于它们的技术成熟程度、设备 成本、生产效率等。下面我们就各种光刻技术进展情况作进一步介绍。 1.光学光刻 光学光刻是通过光学系统以投影方法将掩模上的大规模集成电路器件的结构图形“刻”在涂有光刻胶的硅片上,限制光刻所能获得的最小特征尺寸直接与光刻系统所能获得的分 辨率直接相关,而减小光源的波长是提高分辨率的最有效途径。因此,开发新型短波长 光源光刻机一直是国际上的研究热点。目前,商品化光刻机的光源波长已经从过去的汞 灯光源紫外光波段进入到深紫外波段(DUV),如用于0.25 微米技术的KrF 准分子激光(波长为248 纳米)和用于0.18 微米技术的ArF 准分子激光(波长为193 纳米)。 除此之外,利用光的干涉特性,采用各种波前技术优化工艺参数也是提高光刻分辨率的 重要手段。这些技术是运用电磁理论结合光刻实际对曝光成像进行深入的分析所取得的 突破。其中有移相掩膜、离轴照明技术、邻近效应校正等。运用这些技术,可在目前的 技术水平上获得更高分辨率的光刻图形。如1999 年初Canon 公司推出的FPA-1000ASI 扫描步进机,该机的光源为193 纳米ArF,通过采用波前技术,可在300 毫米硅片上实 现0.13 微米光刻线宽。 光刻技术包括光刻机、掩模、光刻胶等一系列技术,涉及光、机、电、物理、化学、材 料等多个研究领域。目前科学家正在探索更短波长的F2 激光(波长为157 纳米)光刻技术。由于大量的光吸收,获得用于光刻系统的新型光学及掩模衬底材料是该波段技术的

玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究

1 引言 在微电子机械系统(MEMS)设计制造领域,双面镀膜光刻是针对硅及其它半导体基片发展起来的加工技术。在基片两面制作光刻图样并且实现映射对准曝光,如果图样不是轴向对称的,往往需要事先设计图样成镜像关系的两块掩模板,每块掩模板用于基片一个表面的曝光,加工设备的高精度掩模-基片对准技术是其关键技术。对于玻璃基片,设计对准标记(alignment key)并充分利用其透明属性,可以方便对准操作,提高对准精度。 2 双面对准技术的实现原理 市场上可以提供双面对准技术(double-sid ed alignment)曝光设备的几家公司主要有Süss MicroTec,EV Group,OAI和Ultratech Inc.等,Karl Süss MA-150双面对准专利技术的基本过程如图1所示。图中1(a) 刻有十字丝对准标记的掩模板固定在设备夹具上,下方一对数字显微镜拍摄十字标记图像,存贮并同时定位在显示屏上,然后将已加工完一面的晶圆放置在承片台中,包含对准标记的图样面朝下,装入掩模板的下方,并且调平;图1(b) 显微镜调焦,拍摄晶圆的十字图样标记实时图像,与掩模标记静态图像同时叠加在显示屏上;图1(c) 转动或在X和Y方向平移晶圆承片台调整晶圆位置,直到晶圆十字图样和已存储的掩模板十字图样重合对准,右侧图显示了对准后的效果。接下来以接近或接触方式进行晶圆上表面的曝光[1]。

但这里存在一个问题,存储的掩模十字标记的图像位置是以显微镜物镜为参照系的图 1 (b) 中的调焦过程不可避免会导致物镜的抖动,而且两个目镜都需要重新调焦,如果物镜侧移则必然会带来对准误差,如图 2所示。因此EVG公司的设备调整了对准工艺流程,极力避免物镜的重新调焦。其做法是把焦平面固定在晶圆承片台的表面,首先安置掩模板,接触到承片台的表面,拍摄并存储对准标记的数字图像,然后平稳地垂直提升掩模板,接下来在承片台上放置晶圆,晶圆的已加工面朝下,由于标记仍然在承片台表面,不需重新调焦,因此避免了可能导致的目镜侧移带来的对准误差 [2],这也是EVG最新的NanoAlign对准技术的主要保证措施之一。 3 光学玻璃基片双面光刻的对准流程 光学玻璃基片,表面光洁度不如晶圆,需要事先经过光学抛光的工艺处理。玻璃基片的透光性是个可利用的属性,物镜可以直接透过基片看到掩模板的对准标记。基于其透光性,我们设计了一个十字加方框的对准标记,如图3所示。和图1的对准标记相比,虽然都有十字形,但这里的十字仅仅是作为辅助对准,真正起到精对准作用的是方框的四个边角。如果采用如图 1所示的对准工艺流程,则显微镜视场的对准情形如图4所示。

RTX视频会议插件安装步骤

目录 RTX视频会议插件安装步骤 (2) 一、服务器端安装 (2) 二、客户端安装 (4) 三、会议管理 (6)

RTX视频会议插件安装步骤 一、服务器端安装 1.在安装RTX视频会议插件服务器之前,确保腾讯通RTX服务器已经安装了服 务器SDK。 2.安装视频会议的服务器,安装程序为RTXMeeting Server.exe.将RTX和视频 会议服务器安装在同一台服务器上。确保RTX服务器和视频服务器地址是动态域名或是固定IP 3.接着打开视频会议服务器,单击新增服务器—>简单配置向导—>输入视频服 务器地址,确定。(服务器支持双IP,映射,和域名模式) 4.按照默认设置,依次启动服务器:中心服务器、文档、登陆、会议、转发服 务器即可.

注意:中心服务器必须第一个启动 在RTX管理器添加一个“admin”的账户,用客户端登录之后,召集和会议权限按钮可用。 点击“会议权限”管理按钮,即可给其他人授权,如下图

二、客户端安装 1、先安装RTX客户端,再安装会议客户端Rtxmeeting-client.exe,安装Rtxmeeting-client.exe前需要把RTX客户端关闭。 2、安装到最后时,客户端需要指向视频服务器,在以下对话框 3、登陆RTX客户端,即可使用视频会议插件:

4、自动登陆会议系统,就可以正常使用RTX会议系统了。 5、双击会议列表进入会议,即可进行网络视频会议。

三、会议管理 具有会议权限的用户通过RTX客户端进入视频会议列表后,可以召集、删除会议。 一、召集会议 二、进入会议 点击进入会议或双击会议名称进入会议 也可以通过点击鼠标右键进行会议修改、进入会议等操作。

PR2.0插件安装说明

PR的插件分为四类 (1)转场的插件,比如好莱坞,spice master等 (2)特效插件,比如FE,Panopticum公司的插件系列,大家常说的扫光插件,一些为AE开发并能用在PR中的基本也属于这一类 (3)字幕插件,比如TitleExpress,TM(TitleMotion),titledeko,小灰熊卡拉OK,小精灵字幕等 (4)扩展功能插件,比如videoserver,CCE,CanonpusProcoder2video for pr等 这个分类是个人为了方便管理而分的,所以不是很严格。比如有的插件在安装后会为PR同时添加转场和特效。 强调一点,许多PR6.5以前常用的插件不支持PR PRO,或者要更换新版本才能支持PR PRO,这是由于PR PRO引进AE内核的原因,在PR PRO中很多AE的插件都是可以用的。 下面我把自己用过的插件,并且觉得非常好的插件作一简单介绍。 (1)视频特效: FE:大名鼎鼎的雨雪粒子效果插件。Final Effects是MetaTools公司开发的Premiere的插件。MetaTools公司在图像界久享盛誉,著名的PhotoShop滤镜—KPT 就是该公司的旗舰产品。如果你的Final Effects版本较低,不能直接支持Premiere的话,那你在它安装好之后,把Plugins目录下的prm文件拷贝到Premiere的Plug-ins目录下,再将几个文件DELSLLISU、FERESOURCES.DLL、COMMON.DLL拷贝到Premiere目录就可以了。FE有专门用于AE版本的,可以在PR下特别是PR PRO中直接使用。 常见的为PR6.5下使用的FE汉化版在实际使用时会有一点点小问题,在加入FE的效果后自动弹出的FE对话框中,鼠标会变成手形,并且常见的为PR6.5下使用的FE汉化版在实际使用时会有一点点小问题,在加入FE的效果后自动弹出的FE对话框中,鼠标会变成手形,并且法调节参数。不知道英文版有没这个毛病。解决的方法很简单,加了特效跳出参数设置框后,把PR最小化再最大化,就可以正常设置参数了。(没见别人提过这个问题,也许是我个人自己遇到的怪毛病。) eyecandy据说也不错。用过Photoshop外挂滤镜的可能都知道这个,但它的PR版本似乎不是很好用,本人没用过。 扫光效果插件:很多人喜欢做出扫光字的效果,但又不会3D软件。于是就找这类插件,据我所知,可以做扫光的插件有三种,Genarts sapphire,Shine,此外FE中也带有一个扫光效果FE Light Burst。(其实PR自带的效果也可以做出类似效果)真正做扫光用的比较多的当然是sapphire,效果比较丰富,而且是上百种插件集合,里面有个sapphire lighting中的S_Rays 就可以做扫光,注意这个扫光效果生成渲染是非常慢的。常有人说sapphire怎么解密了还是

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