药物合成反应模拟试卷5

浙江中医药大学滨江学院2012—2013学年第一学期

2010级《药物合成反应》

考生姓名学号专业年级班级

一.选择题:(2分×15)

1、酰化反应中常用的酰化剂为羧酸、酰卤、酸酐、酯、酰胺等,其酰化能力的大小顺序正确的是( ) A羧酸、酯> 酰卤> 酸酐> 酰胺

B酰卤> 酸酐> 羧酸、酯> 酰胺

C酰胺> 羧酸、酯> 酸酐> 酰卤

D酰卤> 羧酸、酯> 酸酐> 酰胺

2、在药物合成反应中,下列哪个反应不能用于制备伯胺()

A Hofmann降解反应

B Beckmann重排

C Curtius重排

D Délépine反应

3、下列氧化试剂中,不属于Cr试剂的是()

A Prevost试剂

B Etard试剂

C Collins试剂

D Jones试剂

4、下列哪个反应是Oppenauer氧化反应的逆反应()

A Clemmensen还原反应

B Meerwein-ponndorf-V erley反应

C Didls-Alder反应

D Mannich反应

5、在Pinacol重排中,当迁移基团为芳烃时,下列芳烃迁移能力顺序正确的是()A 对甲氧基苯基> 苯基> 对甲基苯基> 对溴苯基

B 对溴苯基> 苯基> 对甲基苯基> 对甲氧基苯基

C 对甲氧基苯基> 对甲基苯基> 苯基> 对溴苯基

D 苯基> 对溴苯基> 对甲氧基苯基> 对甲基苯基

6、在卤化氢对烯烃的加成反应中,以离子对过渡态机理推断,加成产物应符合下列哪个原则()A Hoffmann规则B W oodward规则

C 马氏规则D反马氏规则

7、在F-C烷基化反应中,下面哪种表述是不正确()

A 烃基容易发生异构化

B 反应可停留在单烃基化阶段

C 可以使用Lewis酸和质子酸作催化剂

D 在剧烈的反应条件下,会生成不正常的定位产物

8、关于Pictet-Spengler反应表述不正确的是()

A Pictet-Spengler反应是Mannich反应的特例

B Pictet-Spengler反应是芳乙胺与羰基化合物在酸性条件下的缩合反应

C Pictet-Spengler反应可用于合成四氢异喹啉和咔啉衍生物

D芳环上取代基的类型和位置对Pictet-Spengler反应没有影响

9、下列反应属于

A Reimer-Tiemann反应

B F-C酰化反应

C Vilsmeier-Hacck反应

D Hoesch反应

10、下列反应中,所使用的PTC不能为哪一种()A18-冠-6 B TBAF C15-冠-5 D TEBA

11.亲核反应、亲电反应最主要的区别是( )

A.反应的立体化学不同

B.反应的动力学不同

C.反应要进攻的活性中心的电荷不同

D.反应的热力学不同

12药物合成中卤化反应的目的()A制备具有不同生理活性的含卤素有机药物

B建立碳碳-键以及碳-杂键

C脱去简单小分子D发生自身缩合

13在反应中亲电试剂存在几种形式?()A 1 B 2 C 3 D 4

14可用来踢到羧酸反应活性的催化剂包括()A质子酸 B EDTA

C金属钠D金属钾

15具有活性氢的化合物与甲醛,胺进行缩合,生成胺甲基衍生物的反应称为()A Mannich 反应 B F-C酰化反应

C Vilsmeier-Hacck反应

D Hoesch反应

二.判断题:(1分×10)

1.在药物合成反应中,可以用Beckmann重排反应来制备伯胺

()

2.

NO 2

NO 2OH NO 2OH

NO 2

OH

OH

相比较酸性最大的是NO 2

NO 2OH ( )

3. 在卤化氢对烯烃的加成反应中,以离子对过渡态机理推断, 加成产物应符合马氏规则。 ( ) 4.我们可以用KMnO 4/H +来区别环己醇和苯酚

( )

5.判断以下反应式是否正确

( )

+

H

H

O

+

HCL

+H2O

6.下列卤化反应时的反应速率比较是否正确

( )

CH 3

CL

NO 2

>>>

7. 常见有机反应类型有取代反应、加成反应、氧化反应、缩聚反应、还原反应 ( ) 8.醇是氧原子的酰化反应中常用的酰化试剂 ( ) 9.下列碳正离子稳定性比较是否正确

( )

>

>>

10.硼烷对烯烃的硼氢化反应为硼烷的亲核加成机理 ( )

三.名词解释(2分×5)

1. 自由基:

2.官能团保护:

3.重排反应:

4卤化反应:

5.缩合反应:

四.简答题(6分×4)

1.卤化反应在有机合成中的应用?为什么常用一些卤代物作为反应中间体?

2.烃化剂的种类有哪些?进行甲基化和乙基化反应时,应选用那些烃化剂?引入较大烃基时选用那些烃化剂为好?

3. 常见的酰化剂有哪些?他们的酰化能力、应用范围、以及使用条件上有何异同点?

4.比较LiAlH4与NaBH4在应用范围反应条件及产物后处理方面的异同?

五.问答题(12+14)

1.试述DCC缩合法的特性

2.Pinacol重排的影响因素

浙江中医药大学滨江学院2012—2013学年第一学期

2010级《药物合成反应》

答题卷

考生姓名学号专业年级班级

一.选择题答案:(2分×15)

二.判断题答案:(1分×10)

三.名词解释(2分×5)

1.自由基:

2.官能团保护:

3.重排反应:

4卤化反应:

5.缩合反应:

四.简答题(6分×4)

1.卤化反应在有机合成中的应用?为什么常用一些卤代物作为反应中间体?

2.烃化剂的种类有哪些?进行甲基化和乙基化反应时,应选用那些烃化剂?引入较大烃基时选用那些烃化剂为好?

3. 常见的酰化剂有哪些?他们的酰化能力、应用范围、以及使用条件上有何异同点?

4. 比较LiAlH4与NaBH4在应用范围反应条件及产物后处理方面的异同?

五.问答题(12+14)

1.试述DCC缩合法的特性

2.Pinacol重排的影响因素

浙江中医药大学滨江学院2012—2013学年第一学期

2010级《药物合成反应》

答案卷

一.选择题答案:(2分×15)

二.判断题答案:(1分×10)

三.名词解释(2分×5)

1.自由基:

化学上也称为“游离基”,是含有一个不成对电子的原子团。由于原子形成分子时,化学键中电子必须成对出现,因此自由基就到处夺取其它物质的一个电子,使自己形成稳定的物质。

2.官能团保护:

当分子中有多个官能团,想在某一官能团进行转换反应,为了不使其他官能团影响反应,需对这些官能团进行衍生化,这就是官能团的保护。达到反应目的后再还原这些官能团。

3.重排反应:

重排反应是指在同一分子内,某一原子或基团从一个原子迁移至另一原子而形成新分子的反应。按反应机理可分为亲电重排、亲核重排、自由基重排和协同重排。

4卤化反应:

在有机化合物分子中建立C-X ,得到含卤化合物的反应称为卤化反应

5.缩合反应:两个分子作用,失去一个小分子,形成较大的分子。四.简答题(6分×4)

1 卤化反应在有机合成中的应用?为什么常用一些卤代物作为反应中间体?

答:卤化反应在有机合成中主要有如下应用:①制备具不同生理活性的含卤素有机药物②在官能团转化中,卤化物常常是一类重要的中间体。③为了提高反应选择性,卤素原子可作为保护基、阻断基等。卤代物常作为反应中间体是因为卤素原子的引入可以是使有机分子的理化性质、生理活性发生一定变化,同时它也容易转化成其他官能团,或者被还原除去。

2.烃化剂的种类有哪些?进行甲基化和乙基化反应时,应选用那些烃化剂?引入较大烃基时选用那些烃化剂为好?

答:烃化剂种类主要有:卤代烷类;硫酸酯、磺酸酯类;醇、醚类;烯烃类;环氧烷类;重氮甲烷;甲基化和乙基化时选用的烃

化剂为:卤代烃RX(R为甲基或乙基,);硫酸二甲酯或硫酸二乙酯,重氮甲烷。引入较大的烃基时选用芳基磺酸酯。

3. 常见的酰化剂有哪些?他们的酰化能力、应用范围、以及使用条件上有何异同点?

答:常见的酰化剂有:羧酸、羧酸酯、酸酐、酰氯、酰胺等。羧酸的酰化能力较弱,可用于C-酰化、N-酰化和O-酰化,一般需设法活化羧酸以增强羰基的亲电能力。羧酸酯的酰化能力比羧酸弱,可用于N-酰化和O-酰化反应,一般应在高温下进行反应,且以质子酸、Lewis酸或醇钠进行催化。酸酐是强酰化剂,可用于C-酰化、N-酰化和O-酰化,多在酸或碱催化下进行。酰氯是一个活泼的酰化剂,活性比酸酐大,反应能力强,可用于C-酰化、N-酰化和O-酰化,通常在有机碱或碳酸钠等无机弱碱存在下进行。酰胺的酰化能力最弱,可用于N-酰化和O-酰化,适用于对酸、碱不稳定的化合物,在与醇作用时需加乙醇钠氢化钠等有机碱以加速反应速度。

4. 比较LiAlH4与NaBH4在应用范围反应条件及产物后处理方面的异同?

答:LiAlH4还原能力强,可广泛应用于许多试剂的还原,但选择性差。NaBH4由于其选择性好,操作手续简便、安全,已成为某些羰基还原成醇的首选试剂。

由于反应活性和稳定性不同,使用时反应条件也不同。LiAlH4需在无水条件下进行且不能使用含有羟基或锍基的化合物作溶剂。

NaBH4常用醇类作为溶剂,在反应液中常加入少量的碱以促进反应的进行。

用LiAlH4反应结束后可加入乙醇、无水乙醚或10%氯化胺水溶液以分解未反应的LiAlH4和还原物;NaBH4反应结束后可加稀酸分解还原物并使剩余的NaBH4生成硼酸,便于分离

五.问答题(12+14)

1.试述DCC缩合法的特性

答案:1脱水剂,吸水剂,应用范围广,尤其用于多肽合成等;

2反应条件温和室温下进行;

3反应过程缓慢,时间长。

2.Pinacol重排的影响因素

答案:1碳正离子的稳定性;

2立体化学因数影响;

3反应条件的影响;

4迁移基团的迁移能力。

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