1 二硫化钼纳米结构

1 二硫化钼纳米结构
1 二硫化钼纳米结构

石墨烯-二硫化钼二维复合材料在光电子

器件上的应用研究进展

1.石墨烯介绍

石墨烯是由单层碳原子紧密堆积成二维蜂窝状晶格结构的一种碳质新材料,具有独特的零带隙能带结构,是一种半金属薄膜材料。石墨烯不仅有特殊的二维平面结构,还有着优良的力学、热学、电学、光学性质。其机械强度很大,断裂强度比优质的钢材还要高,同时又具备良好的弹性、高效的导热性以及超强的导电性。石墨烯又是一种禁带宽度几乎为零的特殊材料,其电子迁移速率达到了1/300光速。由于石墨烯几乎是透明的,因此光的透过率可高97.7%。此外,石墨烯的加工制备可与现有的半导体CMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor transistor)工艺兼容,器件的构筑、加工、集成简单易行,在新型光电器件的应用方面具有得天独厚的优势。目前,人们已利用石墨烯开发出一系列新型光电器件,并显示出优异的性能和良好的应用前景。

石墨烯具有独特的二维结构,并且能分解为零维富勒烯,也可以卷曲成一维碳纳米管,或堆积成为三维石墨。石墨烯力学性质高度稳定,碳原子连接比较柔韧,当施加外力时,碳原子面就会发生弯曲形变。在理想的自由状态下,单层石墨烯并非完美的平面结构,表面不完全平整,在薄膜边缘处出现明显的波纹状褶皱,而在薄膜内部褶皱并不显,多层石墨烯边缘处的起伏幅度要比单层石墨烯稍小。这也说明了石墨烯在受到拉伸、弯曲等外力作用时仍能保持高效的力学稳定性。在一定能量范围内,石墨烯中的电子能量与动量呈线性关系,所以电子可视为无质量的相对论粒子即狄拉克费米子。通过化学掺杂或电学调控的手段,可以有效地调节石墨烯的化学势,使得石墨烯的光学透过性由“介质态”向“金属态”转变。石墨烯的功函数与铝的功函数相近,约为4.3eV,因此在有机光电器件中有望取代铝来做透明电极。近年来所观测到的显著的量子霍尔效应和分数量子霍尔效应,证实了石墨烯是未来纳米光电器件领域极有前景的材料。

2.二硫化钼的认识

过渡金属层状二元化合物(MX2)因具有良好的光、电、润、滑、催化等性

能一直备受关注,二硫化钼便是其中的典型代表之一[1]。二硫化钼是具有银灰色光泽的黑色粉末,与石墨烯相似,属于六方晶系,不溶于水、稀酸和浓硫酸,但溶于热硫酸,在其他酸、碱、溶剂、石油、合成润滑剂中不溶解[2]。MoS2的晶体结构有三种:1T 形、2H 形、3R 形,1T-MoS2和 3R-MoS2属于亚稳态,常态下

存在的是 2H-MoS

2,天然的 2H-MoS

2

晶体是典型的层状结构[1]。

二硫化钼三种晶体结构

二硫化钼屮单层二硫化钼由三层原子层构成,上下两层均为硫原子层,中间一层为钼原子层,钼原子层被两层硫原子层所夹形成类“三明治”结构。这种结构使得层内存在较强的共价键,层间则存在较弱的范德力。S原子暴露在MoS2晶体表面,对金属表面产生较强的吸附作用。多层二硫化钼由若干单层二硫化钼组成,层间距大约为0.65 nm。

二硫化钼的晶体结构(a)侧视图(b)和俯视图(c)

2.1 二硫化钼的性质

二硫化钼是一种典型的二维层状材料,层状二硫化钼是辉钼矿的主要成分,是一种灰黑色的固体粉末,无特殊气味,呈金属光泽莫氏硬度为1.0-1.5,熔点为1185 ℃,1600 ℃开始分解,产物为硫和金属钼。常温下二硫化钼性质较为

稳定,不溶于水、酸、碱和有机溶剂,具有良好的化学和热稳定性,因此,常被用来做为固体润滑剂。

纳米的MoS2性能优良,与普通MoS2相比,纳米MoS2在性能和应用上更胜一筹,克服了普通粒度与比表面积的限制。随着粒径的变小,比表面积增大,吸附力增强,反应活性提高,随之使其在润滑添加剂、催化、光电、各种复合材料等方面的性能有很大的提高。

a) 各向异性:由于二硫化钼。有类似于石墨的层状结构,所以展现出来高度各项异性。其作为半导体材料时,垂直于片层方向比平行片层方向的电阻率高1000 倍。当在它层间插入有机化合物时,它的各向异性表现的更为明显。

b) 光电性能:二硫化钼特殊的三明治夹层结构和能带结构,决定了其特殊的光电性质,如光吸收、荧光发射、高的电子迁移率等。二硫化钼存在 1.29~1.90 eV 的能带隙,克服了石墨烯零带隙的缺陷,因而在光电器件领域有更广阔的应用前景。Du等人用重堆积法成功制备的MoS2材料,将其用作锂离子电池正极材料,研究了其电化学性能,结果显示二硫化钼材料具有较大的比容量及良好的循环性能,且其容量高达800mAhg-1,这表明二硫化钼是一种很好的锂离子电池正极材料,能在实际中得到广泛应用。单层纳米二硫化钼表现出良好的发光性,被广泛用于光电子器件。

3.类石墨烯二硫化钼的发展及制备

类石墨烯二硫化钼在热、电、光、力学等方面的性质及其在光电子器件领域的潜在应用引起了科研人员的广泛关注。然而,一般的化学、物理法难以制备出具有层状结构的类石墨烯二硫化钼,高质量材料的可控制备是影响和制约类石墨烯二硫化钼长远发展的关键所在。目前可以采用的方法主要有:微机械力剥离法、锂离子插层法、液相超声法等“自上而下”的剥离法(如图2所示),以及高温热分解、气相沉积、水热法等“自下而上”的合成法。在“自上而下”的制备方法中,微机械力剥离法以其操作相对简便且剥离程度高是目前应用最为成熟的方法,它能到单层二硫化钼且剥离产物具有较高的载流子迁移率,一般多用于制作场效应晶体管;缺点是制备规模小和可重复性较差。锂离子插层法是目前剥离效率最高的方法,它适用范围广,多用于二次电池和发光二极管;缺点是耗时、制备条件严格,且去除锂离子极易导致类石墨烯二硫化钼的聚集。液相超声法则是最新发展出来的方法,它以操作简单、制备条件相对宽松而正被广泛应用于光电子器件;然而它的剥离程度和剥离效率均低于前两种方法,且产物中单层二硫化钼的含量较低。“自下而上”的合成法,可能是由于二硫化钼材料结构的高热和化学稳定性,其研究还处在初级阶段,尚存在制备成本高、工艺控制复杂等问题,而且通过合成法获得类石墨烯二硫化钼的纯度和光、电性质等仍逊色于剥离法。但是“自下而上”合成法具有方法、手段、底物等各方面的可控性及多样性,很具发展潜力,通过不断创新和优化制备条件,有望实现大面积、高质量类石墨烯二硫化钼的规模化制备。

4.类石墨烯二硫化钼的表征和光物理性质

4.1 结构表征

结构表征类石墨烯二硫化钼特殊的二维层状结构是其特殊性能的根本原因,因此其研究的首要问题是找到能够准确、高效地表征二维层状结构的方法,这不仅可以判断类石墨烯二硫化钼的制备成功与否,而且有助于更好地探索类石墨烯二硫化钼的性质与材料结构的关系,促进其实际应用。

二维层状结构最直观的表征方法是各类显微手段,包括原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)等.AFM 是鉴别类石墨烯二硫化钼层数最直接的方法,它通过扫描测量样品表面得到的高度差即可判断剥离的程度(见图3a,74若扫描得到的高度差为1.0nm左右,即可判断是单层二硫化钼)。通过SEM和TEM测量边缘褶皱也能粗略判断类石墨烯二硫化钼的剥离程度(见图3(b,c),65,67单层褶皱表明剥离得到的是单层二硫化钼).此外,广泛用于石墨烯结构表征的拉曼(Raman)光谱法也是表征类石墨烯二硫化钼的有力工具,拉曼光谱法不仅表征快速、准确,而且不会破坏样品的晶体结构,通过直接测量面内振动模式E12g和面外振动模式A1g的拉曼位移便可判断类石墨烯二硫化钼的剥离程度和效果:75例如单层二硫化钼的E12g和A1g间的位移差为16-18cm-1 ;双层二硫化钼的E12g 和A1g间的位移差为21cm-1 ;三层二硫化钼的E12g和A1g间的位移差为23cm-1 (如图3d所示)。

4.2光物理性质

类石墨烯二硫化钼具有特殊的“三明治”夹心二维层状结构和特殊的能带结构,因此拥有特殊的光物理性质,如光吸收、荧光(PL)发射等.研究这些特殊的光物理性质,对于制作基于类石墨烯二硫化钼的光电器件非常重要。

4.2.1光吸收

二硫化钼的光吸收性质与其自身的厚度密切相关:块状二硫化钼是间接带隙半导体,没有特征吸收峰;而类石墨烯二硫化钼是直接带隙半导体,其特征吸收峰在紫外吸收光谱上位于620和670nm附近,对应于能带图1b中A、B两种从导带到价带的竖直跃迁方式(见图4a)。

3.2.2 荧光

类石墨烯二硫化钼的荧光现象最早于2010年由Wang等76发现.当块状二硫化钼被剥离至薄层时,会出现荧光且荧光强度与二硫化钼的层数成反比。他们采用微机械力法剥离二硫化钼并选取532nm 波长的激光激发类石墨烯二硫化钼,结果成功采光现,如2011年Eda 等用锂离子插层法剥离二硫化钼,退火处理之后也成功采集到类似的荧光发射光。

5.类石墨烯二硫化钼在光电子器件上的应用

二硫化钼常温下为黑色固体粉末,有金属光泽,熔点1185°C,密度为4.8g·cm-3,莫氏硬度1.0-1.5,具有抗磁性和半导体性质。二硫化钼晶体属于六方晶系,晶体结构主要为八面体结构和三棱柱结构。二硫化钼具有优异的润滑性能,常用于润滑机械轴承以减小摩擦和磨损,拥有“高级固体润滑油王”的美誉。78-80然而,当二硫化钼的厚度薄到

一定程度形成类石墨烯二硫化钼时,却表现出独特的光电半导体性质,和石墨烯一样在光电器件领域有着广泛的应用前景。

5.1场效应晶体管

场效应晶体管(FET)是现代微电子技术中重要的一类器件,它主要靠改变电场来影响半导体材料的导电性能。类石墨烯二硫化钼是直接带隙半导体,22故可用来制作大开关电流比、高载流子迁移率和低耗能的FET.51,85 Kis等16先用微机械剥离法得到单层二硫化钼,随后转移单层二硫化钼到具有270nm厚SiO2的硅基片上,再利用电子束刻蚀法制作50nm厚的金电极,接着让器件于200°C下退火以减小电阻,最后用原子层积法(atomiclayerdeposition,ALD)制作30nm厚的二氧化铪(HfO2)作为栅极介电层(见图6),发现器件的阈值电压在-4V,开/关电流比达到108,电子迁移率达到217cm2·V-1 ·s-1. Iwasa等53先采用微机械力法剥离得到类石墨烯二硫化钼,之后转移二硫化钼到透明的氧化铝基底上,再利用电子束刻蚀法制作Ti/Au电极,并选用离子液体作为栅极从而最终形成电双层双极性场效应晶体管。与二氧化铪作为栅极介电层的晶体管显示n型半导体性质不同,电双层晶体管既显示p型又显示n型性质。这种晶体管的开/关电流比达到200,其中空穴载流子迁移率高达86cm2·V-1·s-1,是电子载流子迁移率的两倍.。Wang等86报道了以双层二硫化钼作为导电通道的场效应晶体管的制作过程。具体制作步骤如下:首先用微机械力剥离法得到双层二硫化钼,随后转移双层二硫化钼至掺有285nmSiO2的硅基片上,再利用电子束刻蚀法制作Ti/Au电极并选取Al和Pd作为两个栅极从而最终整

合成含正(增加模式)、负(衰减模式)阈值电压的晶体管。结果,器件的开/关电流比达到107,开态电流密度达到23μA·μm-1.最近,Im等87报道了掺杂聚(偏二氟乙烯-三氟乙烯)(P(VDF-TrFE))的类石墨烯二硫化钼(1-3层)作为场效应晶体管的导电通道,阴极Al作为场效应晶体管的栅极,结果器件的开/关电流比达到105,电子迁移率达到220cm2·V-1 ·s-1。

5.2传感器

类石墨烯二硫化钼由于其独特的电子性质、较大的比表面积和二维层状结构等原因有利于气体分子的吸附,从而在气体传感器方面拥有应用前景。传统的金属氧化物传感器不仅对氧化、还原性气体敏感,而且工作温度高(350°C以上).88Colbow等89通过从单层二硫化钼悬浊液中沉积二硫化钼到铝基底而成功制作出高敏感的氢气传感器.Zhang等55利用微机械力剥离法成功制备出1-4层的类石墨烯二硫化钼并分别制作场效应晶体管器件来检测一氧化氮(NO)气体的浓度。检测浓度范围为0.3×10-6-2×10-6(体积分数),检测效果稳定性好、灵敏度高(如图7所示);并且发现2层的二硫化钼效果最好。最近,Zhang等90又用锂离子插层法制备出的类石墨烯二硫化钼作为活性通道、还原氧化石墨烯(rGO)作为源、漏极,制成柔性薄膜晶体管阵列来检测毒性气体NO2的浓度:该器件结构简单、柔性可旋涂,而且可重复性好、气体敏感度高;晶体管的气体敏感度随二硫化钼厚度的增加而降低,这是因为二硫化钼薄膜厚度的增加会降低二硫化钼通道的比表面积,从而最终降低气体的敏感性。他们发现二硫化钼薄膜的最

优厚度是4nm,NO2的浓度检测范围为0.5×10-6-5×10-6(体积分数)。

类石墨烯二硫化钼除可用作气体传感器之外,还能用作光传感器.Salardenne等91曾用Ni基底得到类石墨烯二硫化钼薄膜,经沉积、退火后发现具有良好的光敏感性。Zhang等92用单层二硫化钼制作光晶体管并用于光检测,发现器件中光电流的产生只取决于入射光的强度且光电流的产生和湮灭在50ms内便可完成转换过程,且光检测的波长范围可通过使用不同厚度的类石墨烯二硫化钼来调控。93Im 等94分别用单层和双层二硫化钼制作成光晶体管来作光检测器,发现单层和双层二硫化钼光晶体管能有效检测绿光,而三层二硫化钼制作的光晶体管则适合检测红光.Kim等95通过制作类石墨烯二硫化钼的薄膜晶体管的光检测器,发现多层二硫化钼因相对更窄的能隙(1.3eV)和更宽的光谱反应范围而比单层二硫化钼的光检测性能更佳,其光谱探测范围横跨紫外区-近红外区。

5.3有机发光二极管、存储器等方面

有机发光二极管(OLED)具有自发光、广视角、低耗能、全彩色等优点,在平板显示、固态照明等领域具有广阔的应用前景。96和被广泛应用于OLED空穴注入材料的三氧化钼一样,类石墨烯二硫化钼也可以作为OLED的空穴注入层和主体材料.Friend等60,62,100报道了将类石墨烯二硫化钼用作OLED阳极的空穴注入层(见图8(a,b)),在结构为ITO/MoS2/MoO3/PFO/Ca/Al(PFO:polyfluorene)的器件中,经过二硫化钼修饰的阳极导致器件具有较好的性能:启亮电压为 2.4V;3V 时亮度达到1000cd·m-2.Frey等63报道了类石墨烯二硫化钼用作

OLED中的主体材料:在蓝光磷光器件ITO/HIL/(MoS2/PFO)/Ca/Ag 中,PFO作为客体材料,类石墨烯二硫化钼则作为器件的主体材料,100°C退火后器件能在空气中稳定7h。

类石墨烯二硫化钼还因独特的能带结构和量子限域效应而成为一种适用于存储器件的电荷俘获材料.Zhang等101通过将二硫化钼粉末置于聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)和乙醇的混合溶液中超声,结果得到MoS2-PVP的纳米复合物并成功制作闪存型(flash)存储器件,其中开/关电流比达到100(见图8(c,d))。

6总结

类石墨烯二硫化钼因其独特的微观结构和理、化性质,在克服零带隙石墨烯的缺点同时依然具有石墨烯的很多优点,从而在二次电池、场效应晶体管、传感器、电致发光、电存储等众多领域拥有广阔的应用前景。但是具有二维层状纳米结构类石墨烯二硫化钼的研究还有很多理论和应用的基本科学问题需要解决:首先就其制备方法来看,不论常用的微机械力剥离法、离子插层、液相超声法等为主的“自上而下”的剥离法,还是以高温热分解等为代表的“自下而上”的合成法都有待完善,如何改进类石墨烯二硫化钼的制备方法以期实现制备工艺简单、制备效率高、可重复性好及批量化生产仍然是当前的研究重点;就结构表征和光物理性质研究方面来看,找到一种快速、准确且不破坏样品结构的表征手段具有重要意义,有关类石墨烯二硫化钼吸收、荧光发射等现象的深层原因仍有待进一步探究和完善;就在光电子器件方面的应用来看,类石墨烯二硫化钼不仅可应用于二次电池、

场效应晶体管、传感器等领域,而且在有机发光二极管、电存储等领域前景光明,然而相应的器件结构和性能仍有待优化和提高。由于目前基于硅半导体微纳电子器件的制作已接近理论极限,而类石墨烯二硫化钼却由于自身优势极有可能在未来取代硅半导体材料,因此这一领域的研究方兴未艾。

1 二硫化钼纳米结构

石墨烯-二硫化钼二维复合材料在光电子 器件上的应用研究进展 1.石墨烯介绍 石墨烯是由单层碳原子紧密堆积成二维蜂窝状晶格结构的一种碳质新材料,具有独特的零带隙能带结构,是一种半金属薄膜材料。石墨烯不仅有特殊的二维平面结构,还有着优良的力学、热学、电学、光学性质。其机械强度很大,断裂强度比优质的钢材还要高,同时又具备良好的弹性、高效的导热性以及超强的导电性。石墨烯又是一种禁带宽度几乎为零的特殊材料,其电子迁移速率达到了1/300光速。由于石墨烯几乎是透明的,因此光的透过率可高97.7%。此外,石墨烯的加工制备可与现有的半导体CMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor transistor)工艺兼容,器件的构筑、加工、集成简单易行,在新型光电器件的应用方面具有得天独厚的优势。目前,人们已利用石墨烯开发出一系列新型光电器件,并显示出优异的性能和良好的应用前景。 石墨烯具有独特的二维结构,并且能分解为零维富勒烯,也可以卷曲成一维碳纳米管,或堆积成为三维石墨。石墨烯力学性质高度稳定,碳原子连接比较柔韧,当施加外力时,碳原子面就会发生弯曲形变。在理想的自由状态下,单层石墨烯并非完美的平面结构,表面不完全平整,在薄膜边缘处出现明显的波纹状褶皱,而在薄膜内部褶皱并不显,多层石墨烯边缘处的起伏幅度要比单层石墨烯稍小。这也说明了石墨烯在受到拉伸、弯曲等外力作用时仍能保持高效的力学稳定性。在一定能量范围内,石墨烯中的电子能量与动量呈线性关系,所以电子可视为无质量的相对论粒子即狄拉克费米子。通过化学掺杂或电学调控的手段,可以有效地调节石墨烯的化学势,使得石墨烯的光学透过性由“介质态”向“金属态”转变。石墨烯的功函数与铝的功函数相近,约为4.3eV,因此在有机光电器件中有望取代铝来做透明电极。近年来所观测到的显著的量子霍尔效应和分数量子霍尔效应,证实了石墨烯是未来纳米光电器件领域极有前景的材料。 2.二硫化钼的认识 过渡金属层状二元化合物(MX2)因具有良好的光、电、润、滑、催化等性

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纳米二硫化钼(MoS2)在润滑材料中的研究进展 摘要:本文介绍了MoS2的润滑性状、纳米MoS2的性能。对纳米MoS2在轧制液、机械油、铜合金拉拔润滑脂和空间润滑材料中的摩擦学应用与研究现状进行了综述,并对比了微米级与纳米级MoS2在使用中的效果。对未来纳米MoS2在润滑材料中的应用与研究进行了展望。关键词:纳米MoS2;润滑材料;摩擦 The research progress of molybdenum disulfide nanoparticles(MoS2) in lubrication materials Abstract: This paper describes the lubricating properties of MoS2and the performance of nano-MoS2. Nano-MoS2on the rolling fluid, mechanical oil, copper alloy drawing grease and space lubrication materials’ tribology applications and research status are reviewed. The micron and nano-level effect of MoS2 in use is compared. Nano-MoS2 lubricating materials application and research in the future are discussed. Key words: nano-MoS2; lubrication materials; friction 0 引言 二硫化钼(MoS2)用作固体润滑剂已有50多年的历史,是应用最广泛的固体润滑剂。在相同条件下,含MoS2的粘结固体润滑膜在真空中的摩擦系数约为大气中的1/3,而耐磨寿命比在大气中高几倍甚至几十倍。故MoS2粘结固体润滑膜是真空机械润滑的首选润滑材料[1]。从MoS2基固体润滑涂层的发展来看,自1946年美国的NASA路易斯宇航中心开发出第一种含MoS2的有机粘结固体润滑膜以后,20世纪60年代初期,美国就制定了航空飞行器使用的热固化二硫化钼基固体润滑涂层军用标准[2]。我国研制的耐辐射性较好的PI、PPS、EM-1、EMR[3]等二硫化钼基固体润滑涂层,因其性能独特,在航空航天领域的极端工况下及某些民用机械设备上获得了成功的应用[4,5]。近年来研究发现,纳米MoS2比微米MoS2具有更优异的润滑性能[6]。研究纳米MoS2润滑材料对航空及工业生产等具有重要的实际意义。 1 MoS2的润滑性状 如图1[7],MoS2具有层状结构,其晶体为六方晶系。MoS2的润滑作用取决于其晶体结构,层与层间的S原子结合力(范德华力)较弱,故易于滑动而表现出很好的减摩作用。另一方面,Mo原子与S原子间的离子键赋于MoS2润滑膜较

一维纳米材料的制备概述

学年论文 ` 题目:一维纳米材料的制备方法概述 学院:化学学院 专业年级:材料化学2011级 学生姓名:龚佩斯学号:20110513457 指导教师:周晴职称:助教

2015年3月26日 成绩 一维纳米材料制备方法概述 --气相法、液相法、模板法制备一维纳米材料 材料化学专业2011级龚佩斯 指导教师周晴 摘要:一维纳米材料碳纳米棒、碳纳米线等因其独特的用途成为国内外材料科学家的研究热点。然而关于如何制备出高性能的一维纳米材料正是各国科学家所探究的问题。本文概述了一维纳米材料的制备方法:气相法、液相法、模板法等。 关键词:一维纳米材料;制备方法;气相法;液相法;模板法 Abstract: the nanoscale materials such as carbon nanorods and carbon nanowires have become the focus of intensive research owing to their unique applications. but the question that how to make up highqulity one-dimentional nanostructure is discussing by Scientists all around the world. This parper has reviewed the preparation of one dimention nanomaterials ,such as vapor-state method, liqulid -state method ,template method and so on. Key words: one-dimention nanomaterials ; preparatinal method ; vapor-state method liqulid-state method ; template method 纳米材料是基本结构单元在1nm ~100nm之间的材料,按其尺度分类包括零维、一维、二维纳米材料。自80年代以来,零维纳米材料不论在理论上和实践中均取得了很大的进展;二维纳米材料在微型传感器中也早有应用。[1]一维纳米材料因其特殊的结构效应在介观物理、纳米级结构方面具有广阔的应用前景,它的制备研究为器件的微型化提供了材料基础。本文主要概述了近年来文献关于一维纳米材料的制备方法。 1 一维纳米材料的制备方法 近几年来,文献报导了制备一维纳米材料的多种方法,如溶胶-凝胶法、气相-溶液-固相法、声波降解法、溶剂热法、模板法、化学气相沉积法等。然而不同制备方法的纳米晶体生长机制各异。本文按不同生长机制分类概述,主要介绍气相法、液相法、模板法三大类制备方法。 1.1 气相法 在合成一维纳米结构时,气相合成可能是用得最多的方法。气相法中的主要机

纳米材料与纳米结构21个题目+完整答案

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1-二硫化钼纳米结构

1-二硫化钼纳米结构

石墨烯-二硫化钼二维复合材料在光电子 器件上的应用研究进展 1.石墨烯介绍 石墨烯是由单层碳原子紧密堆积成二维蜂窝状晶格结构的一种碳质新材料,具有独特的零带隙能带结构,是一种半金属薄膜材料。石墨烯不仅有特殊的二维平面结构,还有着优良的力学、热学、电学、光学性质。其机械强度很大,断裂强度比优质的钢材还要高,同时又具备良好的弹性、高效的导热性以及超强的导电性。石墨烯又是一种禁带宽度几乎为零的特殊材料,其电子迁移速率达到了1/300光速。由于石墨烯几乎是透明的,因此光的透过率可高97.7%。此外,石墨烯的加工制备可与现有的半导体CMOS(Complementary metal-oxide-semiconductor transistor)工艺兼容,器件的构筑、加工、集成简单易行,在新型光电器件的应用方面具有得天独厚的优势。目前,人们已利用石墨烯开发出一系列新型光电器件,并显示出优异的性能和良好的应用前景。 石墨烯具有独特的二维结构,并且能分解为零维富勒烯,也可以卷曲成一维碳纳米管,或堆积成为三维石墨。石墨烯力学性质高度稳定,碳原子连接比较柔韧,当施加外力时,碳原子面就会发生弯曲形变。在理想的自由状态下,单层石墨烯并非完美的平面结构,表面不完全平整,在薄膜边缘处出现明显的波纹状褶皱,而在薄膜内部褶皱并不显,多层石墨烯边缘处的起伏幅度要比单层石墨烯稍小。这也说明了石墨烯在受到拉伸、弯曲等外力作用时仍能保持高效的力学稳定性。在一定能量范围内,石墨烯中的电子能量与动量呈线性关系,所以电子可视为无质量的相对论粒子即狄拉克费米子。通过化学掺杂或电学调控的手段,可以有效地调节石墨烯的化学势,使得石墨烯的光学透过性由“介质态”向“金属态”转变。石墨烯的功函数与铝的功函数相近,约为4.3eV,因此在有机光电器件中有望取代铝来做透明电极。近年来所观测到的显著的量子霍尔效应和分数量子霍尔效应,证实了石墨烯是未来纳米光电器件领域极有前景的材料。 2.二硫化钼的认识

【CN110070920A】一种含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法【专利】

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910308935.9 (22)申请日 2019.04.17 (71)申请人 南京邮电大学 地址 210000 江苏省南京市鼓楼区新模范 马路66号 (72)发明人 江斌 渠开放 吉娜 李桂华  王伟  (74)专利代理机构 南京苏高专利商标事务所 (普通合伙) 32204 代理人 柏尚春 (51)Int.Cl. G16C 10/00(2019.01) (54)发明名称一种含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法(57)摘要本发明公开了一种含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法,包括以下步骤:(1)从原子层面对单层二硫化钼进行二维材料结构建模;(2)计算单层二硫化钼材料的材料特性;(3)计算单层二硫化钼材料的哈密顿量导入紧束缚模型,得到带有紧束缚哈密顿参数的矩阵;(4)建立半导体器件模型,将含有紧束缚哈密顿参数的矩阵导入半导体器件模型来计算含单层二硫化钼结构的半导体器件的电学特性和输运特性。该仿真系统从二硫化钼的原子层面开始计算,将二维二硫化钼材料使用紧束缚哈密顿矩阵来表示,从而带入进行器件层面的计算,得到含有单层二硫化 钼结构的半导体器件的电学特性和输运特性。权利要求书2页 说明书5页 附图3页CN 110070920 A 2019.07.30 C N 110070920 A

1.一种含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法,其特征在于,包括以下步骤: (1)从原子层面对单层二硫化钼进行二维材料结构建模; (2)计算单层二硫化钼材料的材料特性,所述材料特性包括材料的能带和态密度; (3)计算单层二硫化钼材料的紧束缚哈密顿量,根据二硫化钼材料中各原子轨道的能带贡献得到原子间的紧束缚参数,计算带有紧束缚哈密顿参数的矩阵; (4)建立半导体器件模型,将含有紧束缚哈密顿参数的矩阵导入该模型来计算含单层二硫化钼结构的半导体器件的电学特性和输运特性。 2.根据权利要求1所述的含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法,其特征在于:步骤(1)中所述的单层二硫化钼结构模型,具体包括三个原子平面,中间的Mo原子平面将两个六角边平面的S原子隔开,相邻层与层之间依靠微弱的范德华力结合。 3.根据权利要求1所述的含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法,其特征在于:步骤(2)包括以下过程: (1)构建二硫化钼原胞; (2)对原胞进行弛豫求解使得结构优化至原子最低能量体系; (3)原子最低能量体系进行自洽迭代求解薛定谔方程; (4)在自洽求解基础上固定K点,利用非自洽算法对价电子波函数进行调制,通过调制后的波函数对应的能量得到能带结构和态密度。 4.根据权利要求1所述的含单层二硫化钼结构的半导体器件仿真方法,其特征在于:步骤(3)包括以下过程: (1)将单层二硫化钼材料的紧束缚哈密顿量表示为: 其中[H 0]表示单位原胞的哈密顿量,[H m ]表示单元格与其第m个相邻单元格之间的相互作用所产生的哈密顿量,表示从一个单元格指向其第m个相邻单元格的向量, n表示单层二硫化钼材料的轨道数,表示波矢; (2)将二硫化钼材料单位原胞的紧束缚哈密顿矩阵表示为:其中,和h Mo/Mo 分别表示S原子和S原子、Mo原子和Mo原子之间的相互作用所对应的哈密顿量,而h S/Mo 或者h Mo/S 表示S原子和Mo原子之间的相互作用所对应的哈密顿量; (3)将单层二硫化钼材料的各原子轨道的能带贡献代入紧束缚哈密顿矩阵计算得到对应原子与原子之间的紧束缚参数,设置二硫化钼材料的高对称点附近有较大的权重,则含 有紧束缚哈密顿[H]参数的矩阵S(p)为: 权 利 要 求 书1/2页2CN 110070920 A

单层二硫化钼的相调控及其应用

单层二硫化钼的相调控及其应用 单层二硫化钼是一种典型的过渡金属硫属化物二维材料,因其特殊的晶格结构和能带结构等,在电子学、光学、能源催化等诸多领域具有十分广阔的应用前景。单层的二硫化钼由三个原子层(硫-钼-硫)堆叠而成,不同的堆叠方式使其具有两种性质完全不同的相,即2H和1T相。2H相的堆垛方式为AbA,金属原子为三棱柱配位,是带隙为2.2 eV的半导体。而1T相对应的堆垛方式为AbC,呈八面体配位。 控制一定结构或电子态上的变化可以使2H相与1T相之间发生相转变。而利用相的调控,实现对单层二硫化钼的性能进行剪裁,可以使其更好的利用于纳米电子学器件、光学、催化等等领域中。本文围绕化学气相沉积制备的单层二硫化钼相的调控及其在场效应晶体管和析氢催化方面的应用进行了系统的研究工作。本论文的主体内容主要包括以下三个部分:⒈氩等离子体诱导的单层二硫化钼的相变及其电子学应用。 我们报道了一种可控、洁净、高效地使单层二硫化钼发生相变的方法。利用非常弱的氩等离子体可以使单层二硫化钼发生局域性的2H到1T相的转变。得到的相变后二硫化钼为2H/1T相共存的马赛克结构,1T相畴区都仅有几纳米大小,而极少量的硫原子空位是使得这种相变稳定的原因。利用图形化微加工技术,我们将这种方法用于场效应晶体管中,使与金属电极接触区域部分转变为1T相,从而减小接触电阻,晶体管性能得以提高。 这种基于氩等离子体诱导相变的方法为二硫化钼性能调控提供了新的可能。 ⒉单层混相二硫化钼的催化活性。单层二硫化钼的基面不具有催化活性而其催化反应主要发生在其边缘上。如何激活和提高二硫化钼的基面催化活性对这种新型二维催化剂的实用化有着重要的意义。 我们发展了一种全新的激活和优化单层二硫化钼基面催化活性的方法。通过对基面不同区域的电催化局域测量,我们发现,在混相单层多晶二硫化钼 中,2H-2H畴区边界和2H-1T相边界都可作为基面上有效的催化活性位点。并且相较之下,2H-1T相边界比2H-2H畴区边界更具催化活性。而进一步的扫描隧道显微镜表征和第一性原理计算,分别从实验和理论上都证实了2H-1T相边界为氢的吸附和释放提供了优越的平台。

一维纳米结构阵列的生长及其研究发展

一维纳米结构阵列的生长及其研究发展 摘要:随着纳米材料研究的不断深入,对性能的研究愈来愈迫切。但研究无序随机排列的纳米材料性能却非常困难,既便能获得一些结果,却由于试样之间的不统一与不均匀,使不同研究者获得的同类实验结果没有对比性。为此,我们发展了基于有序多孔氧化铝模板的纳米线有序阵列制备技术,实现了纳米线直径可控、密度可调。为纳米材料性能的研究提供了保障,为纳米材料的应用奠定了基础。 关键词:纳米阵列纳米材料纳米线纳米管纳米纤维等 正文部分: 1. 引言:一维纳米阵列是指在一定范围内具有一定排布规律,有序稳定的纳米结构。近十几年来, 一维硅纳米结构(纳米线、纳米管、纳米纤维等)因其与现代半导体技术的兼容性及独特的光学、电学性质引起了人们的广泛研究兴趣。一维硅纳米结构在纳米电子器件(如生物传感器、太阳能电池、红外可见发光、场效应晶体管、热电冷却器、光电探测器及其它光电器件等领域)有着广泛的应用前景。目前,我们的研究主要集中在单晶硅基体上利用化学腐蚀和气相沉积技术原位合成一维硅纳米结构,并探索其在光电器件、传感器和电子发射器件等领域的应用。 1.1 纳米线 1.1.1 纳米线的概念 纳米线是一种纳米尺度(10?9 米)的线。换一种说法,纳米线可以被定义为一种具有在横向上被限制在100纳米以下(纵向没有限制)的一维结构。这种尺度上,量子力学效应很重要,因此也被称作" 量子线"。根据组成材料的不同,纳米线可分为不同的类型,包括金属纳米线(如:Ni,Pt,Au等),半导体纳米线(如:InP,Si,GaN 等)和绝缘体纳米线(如:SiO2,TiO2等)。分子纳米线由重复的分子元组成,可以是有机的(如:DNA)或者是无机的(如:Mo6S9-xIx)。 作为纳米技术的一个重要组成部分,纳米线可以被用来制作超小电路。 典型的纳米线的纵横比在1000以上,因此它们通常被称为一维材料。纳米线具有许多在大块或三维物体中没有发现的有趣的性质。这是因为电子在纳米线中在横向受到量子束缚,能级不连续。 这种量子束缚的特性在一些纳米线中(比如碳纳米管)表现为非连续的电阻值。这种分立值是由纳米尺度下量子效应对通过纳米线电子数的限制引起的。这些孤立值通常被称为电阻的量子化.在电子,光电子和纳电子机械器械中,纳米线有可能起到很重要的作用。它同时还可以作为合成物中的

纳米材料与纳米结构复习内容-答案

纳米材料与纳米结构复习题 1.简单论述纳米材料的定义与分类。 答:最初纳米材料是指纳米颗粒和由它们构成的纳米薄膜和固体。 现在广义: 纳米材料是指在三维空间中至少有一维处在纳米尺度范围,或由他们作为基本单元构成的材料。 如果按维数,纳米材料可分为三大类: 零维:指在空间三维尺度均在纳米尺度,如:纳米颗粒,原子团簇等。 一维:指在空间有两处处于纳米尺度,如:纳米丝,纳米棒,纳米管等。 二维:指在三维空间中有一维处在纳米尺度,如:超薄膜,多层膜等。 因为这些单元最具有量子的性质,所以对零维,一维,二维的基本单元,分别又具有量子点,量子线和量子阱之称。 2.通过Raman光谱中如何鉴别单壁和多壁碳纳米管?如何计算单壁碳纳米管的直径? 答:利用微束拉曼光谱仪能有效地观察到单臂纳米管特有的谱线,这是鉴定单臂纳米管非常灵敏的方法。 100-400cm-1范围内出现单臂纳米管的特征峰,单臂纳米管特有的环呼吸振动模式;1609cm-1,这是定向多壁纳米管的拉曼特征峰。 单臂管的直径d与特征拉曼峰的波数成反比,即d = 224/w d:单壁管的直径,nm;w:为特征拉曼峰的波数cm-1 3.论述碳纳米管的生长机理。 答: 采用化学气相沉积(CVD)在衬底上控制生长多壁碳纳米管。原理:首先,过镀金属(Fe ,Co, Ni)催化剂颗粒吸收和分解碳化合物,碳与金属形成碳-金属体,随后碳原子从过饱和的催化剂颗粒中析出,为了便于碳纳米管的合成,金属纳米催化剂通常由具有较大的表面积的材料承载。 各种生长模型:1、五元环-七元环缺陷沉积生长 2、层-层相互作用(lip-lip interaction)生长3、层流生长(step flow)4、顶端生长(tip growth)5、根部生长(base growth)6、喷塑模式生长(extrusion mode) 7、范守善院士:13C 同位素标记,多壁碳纳米管的所有层数同时从催化剂中生长出来的,证明了“帽”式生长(yarmulke)的合理性;“帽”式生长机理:不是生长一内单壁管,然后生长外单壁管;而是在从固熔体相处时,开始就形成多层管。 4.论述气相和溶液法生长纳米线的基本原理。 答: 5.解释纳米颗粒红外吸收宽化和蓝移的原因。 答:红外吸收带的宽化原因: 纳米氮化硅、SiC、及Al2O3粉对红外有一个宽频带强吸收谱,这是由于纳米粒子大的比表面导致了平均配位数下降,不饱和键和悬键增多,与常规大块材料不同,没有一个单一的,择优的键振动模,而存在一个较宽的键振动模的分布,在红外光场作用下,它们对红外吸收的频率也就存在一个较宽的分布。这就导致了纳米粒子红外吸收带的宽化。 蓝移原因: 与大块材料相比,纳米微粒的吸收带普遍存在“蓝移”现象,即吸收带移向短波长方向。 表面效应:由于纳米微粒尺寸小,大的表面张力使晶格畸变,晶格常数变小。对纳米氧化物和氮化物小粒子研究表明:第一近邻和第二近邻的距离变短。键长的缩短导致纳米微粒的键本征振动频率增大,结果使红外光吸收带移向了高波数。(化学键的振动)

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