氧碳含量测试SOP
镇江荣德新能源科技有限公司
序号图片演示描述关键点与解释序号图片演示描述关键点与解释
1.1配液
准备工作:将瓶装
HF、HNO3、
CH3COOH液体放置
滴定台旁,使用洁
净的量杯进行配液
抛光液配比:
CH3COOH(冰醋
酸):HF(47%):HNO3
(70%):醋酸
=1:1:3(体积比)
抛光液可按照配
比100*放大进行
配液;配液顺序
依次为HF—HNO3
—纯水;配液时
员工需佩戴好手
套、口罩在抽风
较好的滴定台进
行。
1.2
取样
取不同类型锭-中
心晶砖。如R2/R3
中心锭的底部、顶
部各1片,插好放
置在承载盒中。
(或者将头尾样片
破碎成小块进行测
试)
样片最好是小锭
的头尾厚片,一
次取样4片(如取
小样块进行测试-
最小样品尺寸在
3*5cm以上)
1.3抛光腐蚀
将1.1配好的液体
倒入左图的反应箱
中,要求液体高度
淹没1.2中承载盒
水平放置硅片的高
度;将反应箱放在
抽风较好的滴定台
上
注意:在向清洁
的反应箱中倾倒
液体时,要缓慢
有序-防止液体溅
出。
1.4
腐蚀反应
将有承载盒的硅片
(或样块)浸泡在
1.3中的反应箱
中,硅片会与抛光
液快速反应,并随
着有大量的NO-NO2
棕红色烟雾产生;
反应时间在3~5min
反应过程中:为
保证硅片表面充
分和腐蚀液反
应,需要手不断
晃动反应箱
1.5腐蚀后处理
将左侧的洁净反应
箱中盛满纯水,待
1.4反应结束后,
迅速将硅片取出放
入纯水中进行清
洗;待侵泡3min
后,将硅片在流动
纯水下冲淋硅片
2min
硅片使用纯水清
洗时需要将正方
免的残留酸和反
应物冲洗干净,
然后将硅片放入
另1个洁净的承载
盒中
1.6
硅片处理
将清洗好的硅片
(或者样块)进行
烘干或者吹干
样片抛光后表面
如镜面效果硅锭氧碳含量测试
1、
Doc#:1/1Rev#:
相关主题