光催化Mixed oxide sulfide systems for photocatalysis

光催化Mixed oxide sulfide systems for photocatalysis
光催化Mixed oxide sulfide systems for photocatalysis

Res.Chem.Intermed.,V ol.29,No.5,pp.467–475(2003)

óVSP2003.

Also available https://www.360docs.net/doc/4111645964.html,

Mixed oxide/sul de systems for photocatalysis

AGA TINO DI PAOLA¤,MAURIZIO ADDAMO and LEONARDO PALMISANO Dipartimento di Ingegneria Chimica dei Processi e dei Materiali,Universitàdi Palermo,

Viale delle Scienze,90128Palermo,Italy

Received8April2003;accepted23April2003

Abstract—Mixed WO3/WS2and ZnO/ZnS powders have been prepared by sul dation of H2WO4 or ZnO.Photocatalytic degradation of phenol has been employed to test the photoactivity of the samples.The resultsindicated that the coupling of the two tungsten chalcogenidesenhanced the rate of disappearanceof the organic substrate.Unlikely,the ZnO/ZnS systems exhibited lower photocatalytic activitiy than pure ZnO.The different photocatalytic behaviour of the two mixed oxide/sul de systems can be explained by a simultaneous displacement of electrons and holes between two different semiconductors.

Keywords:Photocatalysis;electron displacement;mixed oxide/sul de systems. INTRODUCTION

Heterogeneous photocatalysis is a promising and alternative method for the treat-ment of gaseous and liquid wastes[1–4].Many different semiconductor particu-lates have been used for the degradation of environmental pollutants and TiO2and ZnO have been proven to be very ef cient catalysts for the photodegradation of several organic substrates[5–10].

One of the limiting factors that control the ef ciency of a photocatalyst is the quick recombination between photogenerated electrons and holes as it impedes the charge transfer at the semiconductor surface.An interesting approach for achiev-ing an ef cient charge separation involves coupling two separate semiconductors possessing different energy levels for their corresponding conduction and valence bands[10].The improvement of photocatalytic activity has been attributed to the transfer of electrons and holes from a semiconductor to another.

To date,a large variety of coupled semiconductors has been investigated[10–20]. Recently,polycrystalline WO3/WS2systems[21–23]have shown signi cantly higher activities than pure WO3and WS2.An improved charge separation has

¤To whom correspondence should be addressed.E-mail:dipaola@dicpm.unipa.it

468 A.Di Paola et al.

been also observed in ZnO/ZnS colloids[15,19].In view of the interesting features of such oxide/sul de systems we have prepared and characterized mixed WO3/WS2and ZnO/ZnS powders.The photocatalytic activity of the samples has been determined by photooxidation of phenol in aqueous suspensions and compared with that of the pure semiconductors.

EXPERIMENTAL

The chemicals used were all of analytical grade.Mixed WO3/WS2and ZnO/ZnS catalysts were prepared by sul dation of H2WO4and ZnO powders with gaseous H2S at different temperatures and for different times[21].

H2WO4(Fluka)was placed in a cylindrical Pyrex reactor and allowed to react with a ux of H2S(Matheson).ZnO(Fluka)was sul dized with pure H2S or with H2S/H2(20:80,v/v)mixture.Before use,the resulting powders were ground in an agate mortar until particles with a grain size<451m were obtained.The mixed samples were denoted by three numbers,e.g.6.5/0.5/523,where the rst number represents the amount of initial oxide powder(g),the second the time(h)and the third the temperature of sul dation(K).The samples denoted by mix were obtained with the mixture H2S/H2.

Powder composition was gravimetrically determined by calcining the samples in air at873K for3h.The sulfur content was calculated from the weight loss, assuming WO3or ZnO as the only products of calcination.The samples were characterized by X-ray diffraction and determination of BET speci c surface area. A0.5-l batch cylindrical Pyrex reactor was used for the photocatalytic experi-ments.The reaction mixture,containing2g powder/l and a2001M phenol solution (pH4.5),was magnetically stirred and oxygen was continuously bubbled through the solution before and during the irradiation.A125W medium-pressure Hg lamp (Helios Italquartz)was placed within the inner part of the photoreactor and cooling water was circulated through a Pyrex jacket surrounding the lamp.The Pyrex thim-ble,together with the water circulation,allowed to eliminate the IR component of the incident beam as well as any radiation below300nm.

The phenol concentration was determined spectrophotometrically by a standard colorimetric method[24].The mineralization of the substrate was followed by determining the total organic carbon(TOC)with a Carlo Erba TCM480analyzer. The concentration of Zn ions in solution was measured by atomic absorption spectroscopy using a Varian SpectrAA-20Plus spectrometer.

RESULTS

Different mixed oxide/sul de systems were prepared by sul dation of H2WO4or ZnO.In both cases the powder composition was tailored by varying the amount of starting powder,time,or the reaction temperature.

Mixed oxide/sul de systems for photocatalysis469 Table1.

Speci c surface area values,sul de molar fractions and photocatalyticactivity results of bare H2WO4, WS2and mixed WO3/WS2samples

0.£108/r 0

.£108/

(m2g?1)(molar fraction)(mol l?1s?1)(mol l?1s?1m?2) H2WO411.500.050.2

WS2 1.710.010.3

H2WO4/6.5/0.5/67313.00.44 2.959.6

H2WO4/6.5/1/62312.90.56 1.28 3.9

H2WO4/6.5/1/67313.10.670.260.4

Table2.

Speci c surface area values,sul de molar fractions and photocatalytic activity results of bare ZnO, ZnS and mixed ZnO/ZnS samples

0.108/r 00.108/

(m2g?1)(molar fraction)(mol l?1s?1)(mol l?1s?1m?2)

ZnS8.11 1.30.2

ZnO/6.5/0.5/47311.10.47 3.80.5

ZnO/6.5/1/47313.20.50 2.50.3

ZnO/6.5/0.5/52312.10.58 1.50.2

ZnO/6.5/1/52310.90.68 3.20.4

ZnO/6.5/1/6739.10.74 1.40.2

ZnO/6.5/2/6738.90.970.30.1

ZnO mix/6.5/1/673 6.70.1014.0 3.0

ZnO mix/6.5/1/723 6.60.1611.7 2.5

ZnO mix/6.5/1/773 6.10.1810.3 2.4

X-ray diffraction patterns of the powders revealed the contemporary presence of WO3and WS2or ZnO and ZnS.The speci c surface areas(SSA)of the various samples are reported in Tables1and2together with the molar fraction of WS2 or ZnS determined by chemical analysis.The amount of sul de increased with increasing temperature or duration of sul dation,in agreement with the results obtained by X-ray diffraction.

The photoreactivity experiments revealed different behaviours of the samples, depending on the amounts of oxide and sul de found in the powders.Figure1 shows the kinetics of disappearance of phenol for different samples obtained by sul dation of H2WO4.Both H2WO4and WS2exhibited a low photoreactivity.The mixed powders were more photoactive than the pure tungsten chalcogenides and their ef ciency depended on the relative amounts of WO3and WS2in the various samples.In particular,as already reported in previous works[21,22],the best results were obtained when the surface WS2molar fraction was near to0.5.It is worth noting that mixed WO3/WS2systems obtained by sul dation of WO3[21] or by oxidation of WS2[23]were generally more active.The photoactivity results

470 A.Di Paola et al.

Figure1.Photocatalyzed conversion of phenol.(e)H2WO4,(E)WS2,(f)H2WO4/6.5/0.5/673, (u)H2WO4/6.5/1/623,(F)H2WO4/6.5/1/673.

are summarized in Tables1and2in the form of initial reaction rates(r0)and initial reaction rates per square meter of photocatalyst(r00).

As shown in Fig.2,only a small fraction of the phenol was mineralized to CO2and H2O in the presence of the tungsten chalcogenide powders.In particular,although phenol completely disappeared after6h of irradiation,only50%mineralization was reached with the sample6.5/0.5/673containing44%of WS2.The largest extents of mineralization were obtained by using the samples that were photocatalytically more ef cient.

Figure3shows the results of phenol oxidation in the presence of zinc chalco-genide powders.ZnO is very ef cient for phenol degradation[9,10],whilst ZnS is a poorer photocatalyst.The presence of ZnS quenches the degradation of phenol on ZnO and the mixed ZnO/ZnS systems are less active than ZnO(see Table2). Mixed systems with a high molar fraction of ZnS revealed rates of phenol oxidation even smaller than that observed with pure ZnS.In order to reduce the content of ZnS in the powders,some samples were obtained by sul dizing ZnO with a mixture H2S/H2.These powders containing high amounts of ZnO were signi cantly more ef cient than those obtained by sul dizing with only H2S. Figure4shows the total organic carbon as a function of the irradiation time for the zinc chalcogenide systems.Very low mineralization percentages were obtained both with pure ZnS or with the mixed powders whilst ZnO mineralized the substrate after only2h.

Mixed oxide/sul de systems for photocatalysis471

Figure2.Variation of total organic carbon.(e)H2WO4,(E)WS2,(f)H2WO4/6.5/0.5/673, (u)H2WO4/6.5/1/623,(F)H2WO4/6.5/1/673.

Figure3.Photocatalyzed conversion of phenol.(e)ZnO,(E)ZnS,( )ZnO mix/6.5/1/673, (f)ZnO mix/6.5/1/773,(s)ZnO/6.5/1/473,(F)ZnO/6.5/1/523,(u)ZnO/6.5/1/673.

472 A.Di Paola et al.

The stability of the various samples under UV illumination was also studied. No appreciable release of HS?was found in solution after8h of irradiation of the suspensions containing WS2or mixed WO3/WS2powders.Conversely,the suspensions of zinc chalcogenides showed a certain degree of instability,as shown by the molar percentages of zinc dissolved after2h of irradiation(Table3).

Figure4.Variation of the total organic carbon.(e)ZnO,(E)ZnS,(s)ZnO/6.5/1/473, (F)ZnO/6.5/1/523,(u)ZnO/6.5/0.5/523.

Table3.

Photocorrosion of the zinc chalcogenide samples after2h of irradiation

Sample ZnS Molar percentage of dissolved zinc

(molar fraction)

ZnO 1.8

ZnS1 1.5

ZnO/6.5/0.5/4730.4715.0

ZnO/6.5/1/4730.508.5

ZnO/6.5/0.5/5230.5811.8

ZnO/6.5/1/5230.68 4.8

ZnO mix/6.5/1/6730.10 3.7

ZnO mix/6.5/1/7730.18 3.4

ZnO mix/6.5/2/7730.21 4.9

Mixed oxide/sul de systems for photocatalysis473 DISCUSSION

Previous studies have shown that mixed WO3/WS2systems prepared by sul dation of WO3[21,23]or by oxidation of WS2[22]exhibit an enhanced photoactivity

compared with that of the pure tungsten chalcogenides.

As schematized in Fig.5a,the conduction band of WS2[25,26]lies at a potential more negative than the conduction band of WO3[27],whilst the valence band

of WO3is located at a potential more positive than the valence band of WS2. Under UV irradiation,electrons pass from the conduction band of WS2to the conduction band of WO3and hole transfer occurs from the valence band of WO3to

the corresponding band of WS2.The simultaneous transfer of electrons and holes on different semiconductors increases the lifetime of the charge carriers improving the ef ciency of the interfacial charge-transfer processes.The charge separation is

very ef cient because in these systems WS2and WO3are adjoined to each other. Unfortunately the speci c surface areas of the powders are rather low[21,22]and not much different from those of WO3or WS2(2.4and1.7m2g?1,respectively). The results of this work con rm the increased photoef ciency of the mixed WO3/WS2systems.The sul dation of H2WO4allows to obtain powders with higher surface areas but less ef cient than those obtained by sul dation of WO3

or by oxidation of WS2.

The differences in photoactivity may be related to morphological and structural differences between the WO3phases present in the different mixed particles.As shown in Table1,the SSA values of the sul dized powders are not much different from that of H2WO4,indicating that the volume of the solid changes very little during the sul dation.This means that the substitution of the atoms of oxygen with those of sulfur does not cause a signi cant distortion of the lattice and consequently both WO3obtained by dehydration of H2WO4,namely WO3?H2O,and WS2 formed by sul dation of WO3or WO3?H2O substantially keep the same crystalline

(a)(b)

Figure5.Schematic diagrams representing the charge transfer processes between(a)WO3/WS2and (b)ZnO/ZnS-coupled particles.

474 A.Di Paola et al.

structure of H2WO4[28],rather different from that of WO3[29].Obviously other

physico-chemical factors as geometry of the particles,surface texture or particle

size distribution can play a signi cant role.

The photoreactivity results have revealed that the mixed ZnO/ZnS systems

obtained by sul dation of ZnO are less ef cient photocatalysts than ZnO.Figure5b shows the position of the valence and conduction bands of ZnO and ZnS.Since

the valence band of ZnO[27]is more anodic than that of ZnS[30,31],ZnO acts

as a sink for the photogenerated holes that are quickly transferred into the valence band of ZnS.Contemporaneously,electron transfer occurs from the more cathodic

conduction band of ZnS to the corresponding band of ZnO.The photoinduced charge separation in the ZnO/ZnS system should enhance the ef ciency of phenol

degradation.Kamat and Patrick[19]found an increase of the quantum yield for

the oxidation of SCN?to(SCN)?2in ZnO/ZnSe and ZnO/ZnS systems obtained by exposing a ZnO colloidal suspension to an atmosphere of H2Se or H2S,respectively.

The increased oxidation of SCN?was explained by the simultaneous migration of electrons toward ZnO and holes toward ZnS.

Rabani[15]investigated the photocatalytic behaviour of colloid particles,com-

posed of ZnO and ZnS particles in contact or ZnO colloid particles coated with ZnS.ZnS quenched the ZnO visible emission by hole transfer from ZnO to ZnS, but the yield of reduction of methyl viologen was lower than that obtained in the presence of only ZnO.This effect was attributed to a relatively ef cient electron-hole recombination that takes place at the interface between ZnO and ZnS before localization of the holes occurs.

As shown in Table3,both bare ZnO and ZnS undergo photocorrosion.This

means that,if the photogenerated holes are not consumed rapidly by phenol, photoanodic corrosion ensues,leading to the release of Zn2C ions in solution.When the mixed ZnO/ZnS powders are activated by irradiation,electron transfer from ZnS to ZnO and hole transfer from ZnO to ZnS may occur,in competition with the electron–hole pair recombination in the different semiconductors.The excess holes on ZnS ultimately oxidize phenol but also anodically autocorrode the ZnS particulates.The larger quantity of Zn2C ions measured for the mixed ZnO/ZnS powders indicates that the photocorrosion of ZnS is increased,con rming the displacement of both electrons and holes from one semiconductor to another[10]. The coupling of ZnO and ZnS inhibits the photocatalytic activity of ZnO,since ZnS is a poorer photocatalyst than ZnO and the migration of electrons and holes between the two different semiconductors decreases the concentration of holes on ZnO.Obviously,the activity of the mixed ZnO/ZnS powders becomes less signi cant with increasing the amount of ZnS.

Acknowledgements

This work was nancially supported by the Ministero dell’Istruzione,dell’Universitàe della Ricerca(Roma).

Mixed oxide/sul de systems for photocatalysis475 REFERENCES

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光氧催化使用说明书(1)

光氧催化有机废气净化器 使 用 说 明 书

一、产品概述 本产品采用高能高臭氧UV紫外线光束、氧化反应催化板、高能离子发生器的工艺来降解恶臭气体(有机废气),改变恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,通过高能紫外线光束照射、催化剂的氧化反应、正氧离子的氧化反应,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。 二、产品用途 本系列有机废气净化器产品主要适用于:各类工业喷涂、印刷、印花、丝印挥发性有机废气;各类恶臭气体的除臭净化处理。 各种工厂、废水处理站、医院、垃圾中转站等场所的有机废气除臭、杀菌的净化处理; 三、工作原理 1、利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。 2、催化板(二氧化钛)在受到紫外线光照射时生成化学活泼性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,攻击有机物,达到降解有机物的作用。二氧化钛属于非溶出型材料,在彻底分解有机污染物和杀灭菌的同时,自身不分解、不溶出,光催化作用持久,并具有持久的杀菌、降解污染物效果。

UV光氧催化废气处理设施使用说明书

光氧催化废气净化器使用说明书 目录 1. 设备说明 1.1、技术原理 1.2、性能参数 1.3、技术特点 1.4、技术优势 1.5、适用范围 2. 操作使用说明 2.1注意事项 3. 电气系统维护 4. 安全、操作、维护保养注意事项 5. 常见故障与排除方法 6. 安装说明 1. 设备说明 1.1技术原理 本产品利用特制的高能高臭氧 UV 紫外线光束照射废气,裂解工业废气如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物 H2S 、 VOC 类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如 CO2 、 H2O 等。利用高能高臭氧 UV 紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。 UV + O2→O-+O * ( 活性氧 )O+O2→ O3( 臭氧 ), 众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。工业废气利用排风设备

输入到本净化设备后,净化设备运用高能 UV 紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应,使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。利用高能 UV 光束裂解工业废气中细菌的分子键,破坏细菌的核酸( DNA ),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到净化及杀灭细菌的目的.从净化空气效率考虑,我们选择了 -C 波段紫外线和臭氧发结合电晕电流较高化装置采用脉冲电晕放吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除,其中-C 波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、树脂、等气体的分解和裂变,是有机物变为无机化合物。 净化装置由初滤单元、 -C 波段紫外线装置,降解收集,臭氧发生器及过滤单元等设备和部件组成。 该装置采用五级净化方式,装置的工艺流程如图 1 所示。 1.2性能参数 1、处理风量:2000-100000 m3 /h 2、有机废气净化效率:≥95%; 3、设备阻力:≤300Pa; 4、电源电压: 220 V 50HZ 5、电功率:1200w-60000w 6、备噪声:≤45Db 1.3技术特点 1 .无毒无任何副作用。完全超越了传统的臭氧等空气净化器,能在有人在场的环境中持续灭菌、除尘,对人体无毒副作用。能广譜地截获杀灭空气中的各类细菌,测试证明对军团菌、金黄色葡萄球菌、枯草杆菌、黑色变种芽孢及自然菌杀灭率达 99.9 %以上,有效去除可吸入颗粒,达到 1-10 万级洁净度。 2 .消除污染有害气体异味,初级电子在电场中获得加速,撞击空气中的氧分子。当能量超过氧分子的电离电位时氧分子迅速离子化。失去电子的氧分子变成正极性氧离子( O2+ ),而释放的电子又与

日本二氧化钛光催化剂技术的应用现状和前景-可见光下的应用

日本二氧化钛光催化剂技术的应用现状和前景 【新华社东京1999年12月19日电】(记者张可喜)综述:日本二氧化钛光催化剂技术的应用现状和前景 二氧化钛(锐钛矿型二氧化钛),作为一种新的光催化剂,以其神奇的功能,近来在日本备受垂青,应用它制造的种种新产品相继问世,作为一种新的工业技术,正在日本兴起。 偶然发现的神奇功能 最初发现二氧化钛的催化剂效应的是日本的两位学者本多健一和藤岛昭。1969年,东京大学研究生院2年级研究生藤岛昭在导师本多健一副教授的指导下进行一项实验:用二氧化钛和白金作电极,放在水中,用光一照射,即使不通电,也能够把水分解为氧气和氢气。 二氧化钛的这种氧化分解功能被称为“本多—藤岛效应”。但是,随着实验、研究的加深,他们又发现,这种方法生产氢效率太低,难以成为大量生产氢能的技术。于是,这项研究成果就被搁置起来。4年前,藤岛教授有机会同来自东陶公司的客座研究员渡部俊也在另外一个科研项目中进行合作研究氧化钛的功能。一次,在交换意见时,渡部提出:“如果大量生产氢能不行,那么,把它应用在分解微量的有害化学物质方面,如清除厕所便器上的黄色污垢怎么样?” 二氧化钛确有这种功能。它在受到太阳光或荧光灯的紫外线的照射后,内部的电子就会发生激励。其结果,就产生了带负电的电子和带正电的空穴。电子使空气或水中的氧还原,生成双氧水,而空穴则向氧化表面水分子的方向起作用,产生氢氧(羟)基原子团。这些都是活性氧,有着强大的氧化分解能力,从而能够分解、清除附着在氧化钛表面的各种有机物。二氧化钛不仅有强大的氧化分解能力,而且还有自身不分解、几乎可永久性地起作用以及可以利用阳光和荧光灯的光线等优点。 这就是二氧化钛作为光催化剂在工业上得到应用的起点。 极其广泛的用途 目前,日本的企业、大学和政府科研机关都在积极地对二氧化钛的光催化剂功能进行应用开发。它的用途集中在环境保护和卫生医疗等领域。 这一技术首先被应用在高楼大厦、高速公路两旁的隔音墙、街道路灯等装置上。阳光(紫外线)的照射就能够清除积落在上面的尘埃和污染物质,如氧化氮、硫化物、氯化物等,不仅节省用以清扫的人力和财力,而且自然地净化了环境。东陶公司于1998年首先应用二氧化钛光催化剂制成厨房和浴池用瓷砖、汽车的喷涂材料。它的氧化分解功能使瓷砖和车身得以经常保持清洁。 把含有二氧化钛光催化剂的喷涂材料喷涂在公路表面,沾在路面的氧化氮便被分解为硝酸离子,下雨时被雨水冲洗掉,从而消除了氧化氮对环境的污染。“光催化剂公路”目前已经在千叶县进入试验阶段。 还可以把光催化剂涂敷在无纺布、玻璃和陶瓷等上,使之具有防污、脱臭、杀菌等性能。 东京大学尖端科学技术研究中心把非晶质状的二氧化钛光催化剂事先混入氯乙烯等树脂材料中,燃烧时它就会吸附氯等有害物质,落在地面,遇到阳光,

光催化剂的发展前景与突破

光催化剂的发展前景与突破 一、解决人类生存的重大问题 光催化学科是催化化学、光电化学、半导体物理、材料科学和环境科学等多学科交叉的新兴研究领域。光催化剂的研究应用一旦获得突破,将可以使环境和能源这两个二十一世纪人类面临的重大生存问题得以解决。 利用太阳能光催化分解水制氢H2O →H2 + ?O2 彻底解决能源问题利用环境光催化C6H6 + 7 ? O2 → 6 CO2 + 3H2O 彻底解决污染问题光催化以其室温深度反应和可直接利用太阳光作为光源来驱动反应等独特性能而成为一种理想的环境污染治理技术和洁净能源生产技术。 二、光催化研究领域急需解决的重大科技问题 目前以二氧化钛为基础的半导体光催化存在一些关键科学技术难题,使其广泛的工业应用受到极大制约,而这些问题的解决有赖于深入系统的基础研究。 最突出的问题在于: (1)量子效率低(~4%) 难以处理量大且浓度高的废气和废水,难以实现光催化分解水制氢的产业化。 (2)太阳能利用率低 由于TiO2半导体的能带结构(Eg=3.2eV)决定了其只能吸收利用紫外光或太阳光中的紫外线部分(太阳光中紫外辐射仅占~5 %)。 (3)多相光催化反应机理尚不十分明确

以半导体能带理论为基础的光催化理论难以解释许多实验现象,使得改进和开发新型高效光催化剂的研究工作盲目性大。 (4)光催化应用中的技术难题 如在液相反应体系中光催化剂的负载技术和分离回收技术,在气相反应体系中光催化剂的成膜技术及光催化剂活性稳定性问题。 上述关键问题也是目前国内外光催化领域的研究焦点,围绕这些问题开展进一步的研究不仅可望在光催化基础理论方面获得较大的突破,而且有利于促进光催化技术真正能在上述众多领域得到大规模广泛工业应用。 三、光催化领域的最新研究进展 近年来,光催化的基础与应用研究发展非常迅速,特别是在可见光诱导的新型光催化剂的研究、提高光催化过程效率的研究和光催化功能材料的研究等方面都取得了重要进展。 1、可见光诱导的光催化剂研究方面取得重大突破 采用固相合成、过渡金属离子和非金属离子掺杂、金属-有机络合物、表面敏化、半导体复合等多种方法,制备出了一系列新型非二氧化钛系或二氧化钛基可见光光催化材料,这些材料在可见光的照射下,能将H2O分解为H2和O2,或能有效降解空气、水中的有机和无机污染物。 2、为解决多相光催化过程效率偏低的问题,近年从提高催化剂自身的量子效率和改进反应过来程条件两个方面开展了大量的研究工作,取得了重要进展。 采用离子掺杂、半导体复合、纳米晶粒制备、超强酸化等方法,提高光生载流子的分离效率和抑制电子-空穴的重新复合,在一定程度上改善了光催化剂的量子效率。 3、光催化材料超亲水性的发现,开辟了光催化研究和应用的新领域 利用光催化膜的超亲水性和强氧化性等特性,研制开发出一系列光催化功能材料,如光催化自清洁抗雾玻璃、光催化自清洁抗菌陶瓷和光催化环保涂料等。这些功能材料已开始在建筑材料领域应用。与之相应的光催化膜功能材料的基础研究也有大量的文献报道。 4、超分散性及可见光活性实现突破 河南工业大学李道荣教授开发出了超分散性及可见光活性纳米二氧化钛光

英语模拟国际会议讲稿

英语模拟国际会议讲稿 Company Document number:WUUT-WUUY-WBBGB-BWYTT-1982GT

英语模拟国际会议 主持人:王×会议出席人:朱××会议中提问者两人:董×、赵××休会中途与嘉宾交谈两人:张×、唐×× 会议结束提问者:余×、龚× 主持人王×:Ladies and Gentleman: May I have your attention please Our conference will begin in a few minutes. All the presenters are requested to be seated. Let me introduce myself,i am wang yuan from SCNU,it’s a privilege for me to chair this session. Once the ceremony has started,you are refrained from taking pictures, using flashbulbs or leaving your seats. guests, distinguished delegates, ladies and gentlemen, and all the friends:At this special time of wonderful June, in this grand hall of the beautiful city, our respectable guests are here getting together. Academic Seminars of CAS are organized by the Bureau of Personnel and Education of CAS, and held by the CAS research institutes. Now, first of all, please allow me to give our hearty welcome to all of you present, and thank you, for your friendly coming. We feel so proud, and appreciated as well to be the host of the event. For this conference, we are following the agenda here. The meeting is supposed to last for five days,it is the first congress which covers the true sense of psychological education、moral education,basic education

毕业论文(设计)--4s店废气处理项目设计方案uv光氧催化废气处理技术(简单.高效.经济.)

废气处理项目设计方案设计部档案编号:2016.407 喷漆废气处理项目 设 计 方 案 UV光氧催化废气处理技术(简单.高效.经济.) 2016年4月7号 中国盐城

公司简介 xxxx环境工程有限公司是一家集科研、设计、生产、维护和销售于一体的综合性高新技术环保设备生产厂家,解决方案涵盖:VOC有机废气处理、喷漆废气处理、焊烟处理、油雾处理、油烟处理和粉尘处理等,主要产品有:低温等离子废气处理设备、UV光氧催化氧化设备、活性炭吸附设备、活性碳吸附脱附催化燃烧、催化燃烧、焊接烟尘净化器、工业废气净化设备、油烟净化器等xxxx自创立以来,以独特的技术、先进的工艺,严谨的态度和不断创新的理念,坚持深入客户现场,不断了解客户的工况和需求,在工业喷涂车间、4S店、机械加工、装备制造、汽车制造、电子电气、食品加工、餐饮、家具制造、化工、造纸、印刷等领域的废气/粉尘治理方面积累丰富的理论和实践经验。坚持专业化、国际化发展的xxxx,以发展名族环保事业为己任,为了让二十一世纪的天空更加蔚蓝,我们将不断超越与完善 公司自创业以来,始终坚持以:“以人为本、利益均占、合作共赢”为经营宗旨,以“简单、速度、团队、超越”为企业灵魂,在日趋激烈的市场竞争中,不断吸取国外先进技术,秉着自身强大的技术研发力量,卓越的产品性能,颇具竞争力的价格,全方位的优质服务,制造客户最满意的各类设备,并根据用户需求设计与制造各类环保设备,您的满意是我们持之以恒的奋斗目标。公司销售经理徐中山先生恭候阁下的光临

xxxx环境文化: 愿景:致力于改善大气质量,美化人们的生活 目标:成为中国最优世界领先的环保设备制造商、服务商 核心价值观:合作专注诚信简单超越利益均沾 核心竞争力:高效的团队管理与协作能力; 用人理念:德能勤敏 质量理念:以市场为导向、以诚信为基础、实施全员闭环质量管理; 营销理念:以实现顾客价值为核心,以贴心服务为灵魂;与客户形成战略联盟;市场理念:为顾客提供技术适度领先高性价比的产品 管理理念:尊重人格,崇尚狼性,注重绩效

纳米光催化剂研究现状与展望

年月纳米光催化剂研究现状与展望 马成乡 太原学院山西太原030032 摘要:随着水污染环境问题的日益严重,纳米光催化剂的研究也逐渐的开展起来。本文在分析影响纳米光催化剂性能因素的基础上,探讨了纳米光催化剂的研究现状,并对该材料的发展进行了相关探讨。 关键词:纳米光催化剂;影响因素;研究现状 随着我们国家经济的不断发展,生态环境的污染呈现出不断恶化的趋势,各种环境污染事件开始被社会媒体广泛的暴露出来。在种类比较多的环境污染物中,有机物的比例占到了50%以上。其中天然有机物对环境水体的污染比较小,大多数人工有机物对水体环境的污染程度较大。光催化技术与其他治理环境污染的技术相比,并不需要进行二次净化处理,而且这种纳米光催化剂可以循环使用。 一、影响纳米光催化剂的因素研究 影响纳米光催化剂的性能的因素主要体现在以下几个方面:1.催化剂的晶体结构:通常用作光催化剂的TiO 2具有两种晶体结构,分别为锐钦矿型和金红石型。有的研究结构表明,如果在锐钦矿型的晶体上进行金红石型晶体的生产,能够有效的促进锐钦矿型晶体多污染物的吸收。2.纳米催化剂粒径的影响:催化剂粒径的大小对其催化性能具有着比较重要的影响。很多研究结果表明,随着催化剂粒径的降低,光谱能够响应的范围也就越来越广。尤其当光催化剂离子达到纳米级别时,将会具有更高的氧化还原能力。但是随着纳米粒径的进一步减小,光的载流子在表面符合的概率会进一步增加,也就意味着光催化剂性能的下降。3.比表面积的影响:在反应物质比较充足的情况下,表面积越大,催化剂的活性也就越高;另外催化剂表面的活性中心是并不稳定的。 在反应体系与催化剂的反应条件方面主要影响因素表现在以下几个方面:1.反应的温度:一般来说温度对于光子的表面迁移和吸附以及解吸并不会产生比较明显的影响,所以在某种程度上问对对光催化反应的影响比较小。光催化剂在光的作用下进行各类有机物的催化反应过程时,反应速率与温度比较符合阿伦尼乌斯方程的描述。2.溶液PH 值得影响:溶液的PH 值对半导体的能带分布和表面的性质具有较高的影响。徐成杰等人在研究TiO2在降解有机物的过程中发现,当溶液的PH 值为7时,其降解的效率达到最低。3.光强度的影响:当环境中光的强度较低时,降解速率与光照强度程线性关系;中等光照强度,两者呈现平方根线性关系;当进一步增加光照强度时,催化速率的增加并不明显。 二、纳米光催化的掺杂改性以及复合半导体纳米催化剂的研究 当前纳米的光催化性能研究主要集中在TiO 2的光催化剂掺杂改性研究。在很多学者的研究之中,为了进一步减少自由电子与空穴相互复合的概率,可以在二氧化钛中掺杂少量的稀土离子。非金属离子的掺杂可以使得辐射光谱的范围进一步增强,进而可以提高可见光的利用效率。最近十年以来,双组份甚至是多组分掺杂已经成为纳米光催化剂TiO 2改性研究的热点。美国华盛顿大学的S AKATania 等学者采用溶胶凝胶法制备了La-N-TiO 2光催化剂,ES R 实验研究表明,这种经过掺杂改性的催化剂在500-678nm 光源的照耀下,对于乙醛的降解具有优异的效果。 最近几年以来半导体复合光催化剂的研究引起了学者的广泛注意。从本质上来说,半导体复合就是指一种物质粒子对另外一种物质粒子的修饰。目前的研究结果表明复合半导体比单一半导体具有更好的光催化效果。Tang 等人制备了CaIn 2O 4复合半导体,在亚甲基蓝120min 的脱色实验内,其脱色率可以达到96%。T ony 等人研制除了Fe 2O 3-S nO 2、CuO-SnO 2等类型的复合纳米半导体光催化剂。 三、展望 纳米光催化剂对当前环境问题的解决提供了比较合理的方案,但是目前环境中的光催化剂研究还停留在实验室阶段,并没有得到广泛的应用。目前影响纳米光催化性能的因素主要包括了催化剂的晶体结构、比表面积、反应温度、PH 值等因素;其次对纳米光催化的掺杂改性以及复合半导体纳米催化剂的研究现状进行了一定的分析,指出在以后的污水处理方面,应该设计比较简单的工艺组合反应来处理废水中的污染物,使得纳米光催化剂能够真正的从实验室走向社会。 参考文献: [1]GuoX.,Yang J.,Deng Y.et.al Hydrothermal synthesis and photoluminescence of hierarchic al lead tungstate superstructures re f f ects of reaction temperature and surf actanats[J].European Journalof Inorganic Chemistry,2013,2010(11):1736-1742. [2]SeguraPA,Frane oisM,Ga gnonC,etal.Reviewof theoeeurreneeo f anti-inf eetivesin contaminatedwastew atersandnatUr alanddrinkingw a ters[J].EnvironHealthpersP,2012,117(5):675-684. 管理创新 2014129

国际会议作报告英语发言稿

国际会议作报告英语发言 稿 Prepared on 22 November 2020

Thankyou,prof.….Mynameis…..I’m from…..Iamverypleasedtobeheret ojointhisforum.Thetopic,themainpartsofmyresearchareaboutsoilpavement. Mypresentationwillincludethesefourparts: First,somebackgroundinformationaboutthisresearch;second,themainwork wehavedone;third,someconclusionswehavegotandthelast:innovationandpr esentationofourpublishedpapers. WhyIchoosethisitem,theexistingquantityofairfieldsisstillnotsufficientand theairfieldshavemanyshortcomingsespeciallyinwartime.Second,thecomple mentaryfacilities,suchashighwayrunwaysarefarlessthanairfields,however,, ,thefieldairfieldcanfillthevoidofairfieldandtheycanbecombinedtobeairfield network. ,convenientandvalidity,fastmeansthefieldairfieldmustbeconstructedasfasta spossible,convenientmeanstheconstructionshouldneedtheminimumequip ment,laborandmaterialsconsideringtheactualconstructioncondition,validit ymeanstheconstructedairfieldisabletosupporttheoperationofgivenaircraftin specificallytime. Justlikemanyotherterritories,

UV光氧催化设备保养使用规范标准[详]

UV光氧催化设备保养使用规范 紫外线灯须知: 1、设备使用中请勿开启正面紫外线检修门,本机集中装配90支185nm波长的紫外线灯,3m范围将对皮肤和眼睛造成伤害,发光时更不可以触摸,会直接烧伤皮肤。 2、镇流器启辉,输出的电压较高,运行时温度>60°,请勿触摸。 3、紫外线电离能力极强,运行中务必保证良好通风。 4、高温、潮湿导致空气绝缘性能下降,紫外线电离速度、能力提高,可能出现热击穿。 5、空气能见度下降,影响光通量,将导致处理效率下降 6、紫外线光管表面结垢,将直接导致净化效率。 7、镇流器、灯架配置若干冷却风机,风机必须良好工作,否则直接影响紫外线灯寿命。 过滤装置: 过滤材料采用活性炭纤维,厚度2mm,过滤装置应该根据运行的实际情况,制订清洗时间表,定期清洗,2-3个月后,采用开水浸洗,一般使用寿命1年。 安全、操作、维护保养注意事项: 1、用户应定期检查、保养设备。 2、每隔2个月或视用户现状而定,定期清理粉(灰)尘一次,打开设备电源箱对高压模块表面清洁粉尘,然后安装复原。 3、没个2个月或视用户现状而定,定期更换二氧化钛催化板一次。

4、在进行维护保养时,严禁带电操作;设备检修前必须断电检修,并在电控柜前挂警示牌“维修中请勿送电”。 5、设备的日常维护应由接受过培训并能胜任的维保人员进行日常维护保养。 6、设备的检修应由设备厂商专业的技术人员或授权的专业技术人员进行检修。 7、按设备运行时间定时更换UV灯管和光触媒板。(UV光触媒裂解型,UV灯管5000-8000小时、光触媒5000-8000小时),确保损坏部件及时更换。 8、应指定专人进行产品的维护保养,维护保养按本公司按本工地说明书进行; 9、光氧净化器里面的UV紫外线灯管开启时,不要直视,若要观察灯管使用情况请购买相关防护眼镜; 10、要确保传输的过程顺利。进入光解废气净化器的管段应该光滑,并且要有一段直管,确保废气进入设备的时候能够形成稳定的恒流,使用的传输管道最好是用金属软管连接,以确保产生最小的震动效果。 11、应该在风机的前段装设风量控制装置,采用风机变频器或者空气控制阀来调节风量,因为想让光氧废气净化器的处理优势发挥到最大,进入设备的风量应该是稳定的,而且风量要平稳过渡,如果风量时大时小,不仅废气处理效果不佳,而且对除臭设备也会造成一定的影响。 12、要确保留出设备的检修以及维护空间。设备应该在顶部装设防雨措施,设备长时间的运转肯定会有损坏,如果不留出检修的空间,到时候就得把设备全部拆开,而这个工作量还是比较大的。 13、净化器通过法兰与排风风管连接,所有连接应密封、防止漏风。

光氧催化废气净化器使用说明书(2).

使用说明书 河南超强环保科技有限公司是一家集科研、设计、生产、维修、和销售集成为一体的高新技术企业,、凭借在环保领域的专业水平和成熟的技术,正在迅速崛起。依靠科技求发展,不断为用户提供满意的高科技产品,是我们始终不变的追求。 在充分引进吸收国外先进技术的基础上,我公司已成功开发出环保净化设备、粉尘处理设备、废气处理设备、等系列产品,并已广泛应用于冶金、化工、焊接、制药、垃圾处理、喷涂等众多领域。以一流的产品质量和精湛的技术服务受到了用户的一致好评。 全体员工奉行“进取求实严谨团结”的方针,不断开拓创新,以技术为核心、视质量为生命、奉用户为上帝,竭诚为您提供性价比最高的环保产品、高质量的废气粉尘工程设计改造及无微不至的售后服务。 本公司拥有专业的设计团队、生产团队,可根据客户要求进行定做。欢迎前来咨询。

目录 1.设备说明 1.1、技术原理 1.2、性能参数 1.3、技术特点 1.4、技术优势 1.5、适用范围 2.操作使用说明 2.1注意事项 3.电气系统维护 4.安全、操作、维护保养注意事项 5.常见故障与排除方法 6.安装说明 1.设备说明 1.1技术原理 本产品利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气,裂解工业废气如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线

光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性 氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。工业废气利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对工业废气进行协同分解氧化反应,使工业废气物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。利用高能UV光束裂解工业废气中细菌的分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到净化及杀灭细菌的目的.从净化空气效率考虑,我们选择了-C波段紫外线和臭氧发结合电晕电流较高化装置采用脉冲电晕放吸附技术相结合的原理对有害气体进行消除,其中-C波段紫外线主要用来去除硫化氢、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、树脂、等气体的分解和裂变,是有机物变为无机化合物。 净化装置由初滤单元、-C波段紫外线装置,降解收集,臭氧发生器及过滤单元等设备和部件组成。

纳米光催化TIO2的应用领域及现状

自1972 年, a.fujishima和k. honda在n型半导体tio2电极上发现了水的光电催化分解作用之后,国内外的研究人员对tio2产生了深厚的兴趣。tio2氧化活性较高,化学稳定性好,对人体无毒害,成本低,无污染,应用范围广,因而最受重视,是目前应用最广泛的纳米光催化材料,也是最具有开发前途的绿色环保型催化剂。应用领域纳米tio2 能处理多种有毒化合物,包括工业有毒溶剂、化学杀虫剂、木材防腐剂、染料及燃料油等,迄今详细研究过的有机物达100种以上。此外,tio2光催化技术也被用于无机污染物的处理。利用光催化法在柠檬酸根离子存在下,可以使hg2+被还原成hg而沉积在tio2表面;此法同样适用于铅。tio2光催化可能降解的无机污染物还有氰化物,so2、h2s、no和no2等有害气体也能被吸附在tio2表面,在光的作用下转化成无毒无害物质。 1.空气净化当前解决空气污染主要有物理吸附法(活性炭)、臭氧净化法、静电除尘法、负氧离子净化法等,但是这些方法自身都有着难以克服的弊端,所以一直难以大范围地推广使用。与其相比,利用纳米光催化tio2净化空气则有如下优点:降解有机物的最终产物是co2和h2o,没有其它毒副产物出现,不会造成二次污染;纳米微粒的量子尺寸效应导致其吸收光谱的吸收边蓝移,促进半导体催化剂光催化活性的提高;纳米材料比表面积很大,增强了半导体光催化剂吸附有机污染物的能力。利用纳米光催化tio2治理空气污染已经得到广泛应用,国内外都出现了很多产品,例如纳米空气净化器、中央空调净化模块、光触媒涂料等,市场前景非常广阔。 2.水处理传统的水处理方法效率低、成本高、存在二次污染等问题,污水治理一直得不到好的解决。纳米技术的发展和应用很可能彻底解决这一难题。研究表明,纳米tio2能处理多种有毒化合物,可以将水中的烃类、卤代烃、酸、表面活性剂、染料、含氮有机物、有机磷杀虫剂、木材防腐剂和燃料油等很快地完全氧化为co2、h2o等无害物质。此外,纳米tio2在降解毛纺染料废水、有机溴(或磷)杀虫剂等到方面也有一定效果。无机物在tio2表面也具有光化学活性。例如,废水中的cr6+具有较强的致癌作用,在酸性条件下,tio2对cr6+具有明显的光催化还原作用。在ph 值为2.5的体系中,光照1h 后,cr6+被还原为cr3+。还原效率高达85% 。迄今为止,已经发现有3000多种难降解的有机化合物可以在紫外线的照射下通过纳米tio2或zno而迅速降解,特别是当水中有机污染物浓度很高或用其他方法很难降解时,这种技术有着明显的优势。德国开发出了利用阳光和光催化剂对污水进行净化的装置,每小时可净化100-150升水。虽然利用纳米光催化tio2进行水处理目前还未得到广泛应用,但我们可以看出它未来的应用前景必将非常广阔。 3.杀菌消毒纳米tio2的杀菌作用是利用光催化产生的空穴和形成于表面的活性氧类与细菌细胞或细胞内的组成成分进行生化反应,使细菌头单元失活而导致细胞死亡,并且能使细菌死亡后产生的内毒素分解。研究表明:将tio2涂覆在陶瓷、玻璃表面,经室内荧光灯照射1小时后可将其表面99%的大肠杆菌、绿脓杆菌、金黄色葡萄球菌等杀死。目前国外新型无机抗菌剂的开发与抗菌加工技术进展较快,已经形成系列化产品,其中tio2高催化活性纳米抗菌剂是市场前景最好的品种。日本在tio2光催化抗菌材料研究与应用起步较早,日本东陶等多家公司开发的光催化tio2抗菌瓷砖和卫生洁具已经大量投放市场。日本将今后发展的目光投向欧美国际抗菌产品市场,预计海外市场将是其国内市场的10倍,他们也极其关注中国抗菌塑料近年来的迅猛发展,纷纷抢滩中国市场。应用现状在当今世界性的环境污染问题越来越受到各国政府重视的情况下,利用纳米材料进行环境治理已经成为各国高科技竞争中的一个热点。在纳米光催化方面日本、美国等国家均投入巨资开展研究与开发工作,并大力推动其产业化,目前已有多种产品出现,其中所使用的纳米光催化材料绝大多数都是tio2。

光催化材料的研究与进展

光催化材料的研究与进展 洛阳理工学院吴华光B08010319 摘要: 光催化降解污染物是近年来发展起来的一种节能、高效的绿色环保新技术.它在去除空气中有害物质,废水中有机污染物的光催化降解,废水中重金属污染物的降解,饮用水的深度的处理,除臭,杀菌防霉等方面都有重要作用,但是作为新功能材料,它也面临着很多局限性:催化效率不高,催化剂产量不高,有些催化剂中含有有害重金属离子可能存在污染现象。但是我们也应当看到他巨大的发展潜力和市场利用价值,作为处理环境污染的一种方式,它以零二次污染,能源消耗为零,自发进行无需监控等优势必将居于污染控制的鳌头。本文介绍了一些关于光催化研究的制备与发展方向的思考,光催化正在以TiO 2 ,ZnO为主导多种非重金属离子掺杂,趋于多样化的制备方法方向发展。 关键字:光催化催化效率 正文: 光催化(Photocatalysis)是一种在催化剂存在下的光化学反应,是光化学与催化剂的有机结合,因此光和催化剂是光催化的必要条件。“光催化”定义为:通过催化剂对光的吸收而进行的催化反应(a catalytic reaction involving light absorption by a catalyst or a substrate)。氧化钛(TiO 2 )具有稳定的结构、优良的光催化性能及无毒等特点,是近年研究最多的光催化剂, 但是,TiO 2 具有大的禁带宽度,其值为3.2 eV,只能吸收波长A≤387 11111的紫外光,不能有效地利用太阳能,光催化或能量转换效率偏低,使它的应用受到限制。因此,研制新型光催化剂、提高光催化剂的催化活性仍是重要的研究课题]1[。复合掺杂不同半导体,利用不同半导体导带和价带能级的差异分离光生载流子,降低复合几率,提高量子效率,成为提高光催化材料性能的有效方法5]-[2。 与一元氧化物如TiO 2 和ZnO等光催化剂相比,复合氧化物光催化剂,如 ZnO- SnO 2TiO 2 -SnO 2 和WO3- TiO 2 等体系具有吸收波长更长和光催化效率更 高等特点因而成为研究热点. 一、常用的光催化剂的制备方法 (一)水热合成法。 热合成反应是在特制的密封容器中(能够产生一定的压力),以水溶液作为反应介质,通过对反应体系加热或接近其临界温度而产生高压,从而进行材料的合成与制备的一种有效方法。 (二)溶剂热合成法 溶剂热合成技术是在水热法的基础上,以有机溶剂代替水作为介质,采用类似水热合成的原理制备纳米材料,极大的扩展水热法的应用范围。 (三)溶胶-凝胶法

英文学术会议开场的演讲稿

英文学术会议开场的演讲 稿 Prepared on 22 November 2020

Good morning, ladies and gentleman. Welcome to Xian, a beautiful city of China. I’m Xinpei Zhang. It is a great pleasure to participate in the Mathematics Conference as the chairman. And I really enjoy staying here with you this morning. The Mathematics Conference has been held 4th times by Shaanxi Normal University since 2008. The purpose of the conference is to share our experiences and knowledge in regard to the theory, frontier developments and researches, as well as possible applications of them in solving practical problems. A lot of current issues have been d i s c u s s e d,a n d s o m e o f t h e m h a v e b e e n e f f e c t i v e l y s o l v e d. Today, as the first time of the conference debut in this city, we’ll have a unique session. The topic of prepared presentations is Mathematics. Today, speakers will share their thoughts on how to effectively run models in different issues and give a reasonable ,we’ll have a Q&A session,w hich allows the everyone to ask some questions you may be interested. I am sure that you will find some topics to be presented both interesting and informative. Now,Let me introduce the first speaker,who is very very rich,not in dollars,but in knowledges and experiences,He got his in financial economics at the UCB,followed by a series of teaching and research positions at MIT and Harvard. Please dont hesitate to join me in welcoming our first speaker, , whose topic is entitled threshold effect between the scale of shadow banking and the stability of the banking system. Welcome.

光氧催化使用说明书

光氧催化(除臭)有机废气净化器 使 用 说 明 书 永昌 环保 1367 3803 577

一、产品概述 本产品采用高能高臭氧UV紫外线光束、氧化反应催化板、高能离子发生器的工艺来降解恶臭气体(有机废气),改变恶臭气体如:氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,通过高能紫外线光束照射、催化剂的氧化反应、正氧离子的氧化反应,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。 二、产品用途 本系列有机废气净化器产品主要适用于:各类工业喷涂、印刷、印花、丝印挥发性有机废气;各类恶臭气体的除臭净化处理。 各种工厂、废水处理站、医院、垃圾中转站等场所的有机 废气除臭、杀菌的净化处理; 三、工作原理 1、利用高能高臭氧 UV 紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通过排风管道排出室外。 2、催化板(二氧化钛)在受到紫外线光照射时生成化学活泼性很强的超氧化物阴离子自由基和氢氧自由基,攻击有机物,达到降解有机物的作用。二氧化钛属于非溶出型材料,在彻底分解有机污染物和杀灭菌的同时,自身不分解、不溶出,光催化作用持久,并具有持久的杀菌、降解污染物效果。

哪些行业废气处理需要光氧催化处理设备

哪些行业废气处理需要光氧催化处理设备光氧处理系统适用于哪些行业的废气处理?光氧处理系统采用高能UV 紫外灯,配合特制的光催化网,激发空气产生极强氧化能力的臭氧、自由基等活性物种,并直接攻击有机物化学键使其分解为CO2、H2O等无毒无害物质。本工艺具有净化效率高、投资费用低、操作简单、无二次污染等优点,可广泛应用于各行各业有机废气处理。 河南开基新能源科技有限公司能够根据用户有机废气的性质,进行工艺设计、产品选型、制作和现场安装,达到国家排放标准。 光氧处理系统主要利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气,裂解工业废气分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物的分子链在高能紫外线的光束的照射下降解转变成低分子化合物,如CO2和H2O等。 利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子及水分子产生游离氧(活性氧)和OH自由基,因游离氧和所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,

进而产生臭氧。 另外通过添加特制催化剂:根据不同的废气成分配置27种以上相对应的惰性催化剂,催化剂采用蜂窝状金属网孔作为载体,全方位与光源接触,惰性催化剂在338纳米光源以下发生催化反应,放大10-30倍光源效果,使其与废气进行充分反应,缩短废气与光源接触时间,从而提高废气净化效率。 光氧处理系统适用于哪些场所?光氧催化处理技术应用范围: 1、光氧催化处理技术能处理的废气主要包括:VOC、硫化氢、氨氮类、硫醇类、硫醚类、苯类、硝基类、烃类以及醛类等类别。 2、它主要运用于油墨印刷、造纸业、制药业、食品业、轮胎及橡胶生产厂、汽车生产厂、油漆喷涂厂、污水处理厂、垃圾处理厂、皮革厂、印染厂、香料生产业、饲料及饲养场、农药生产以及烟草业等多个领域

英文国际会议演讲稿范文

英文国际会议演讲稿范文 英文会议演讲稿篇一:英文国际学术会议开幕词演 讲稿 Distinguished guests, distinguished delegates, ladies and gentlemen, and all the friends: At this special time of wonderful August, With a pleasant subtropical climate in Xiamen, Our respectable guests are here getting together , undertaken by XMU , the 2014 10th International Conference on Natural Computation and the 2014 11th International Conference on Fuzzy Systems and Knowledge Discovery , will be open. Now, First of all, please allow me to give our hearty welcome to all of you present, and thank you , for your friendly coming. We feel so proud, and appreciated as well to be the host of the event. It is a great honor for us to have all you here to attend this conference, of which the theme is the academic exchange about the advanced technologies on Computer Science. Here I’d be delighted to introduce our conventioneers in brief. Apart from

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