薄膜光学薄膜材料与器件

红外吸收光谱技术分析a2SiN x∶H薄膜中化学键结构,随着沉积速率的提高,薄膜的化学键结构发生变化,N—H

键含量和氮含量增大,Si—H键含量和氢含量降低。薄膜

沉积速率是影响薄膜物理和光学性质的重要工艺参数。图5参12(严寒)

O484.42007054576

SiO2衬底上PECV D2Si1-x G e x薄膜研究=Investigation of PECVD2Si1-x G e x thin film on SiO2[刊,英]/王光伟(天津工程师范大学电子工程系.天津(300222)),郑宏兴…//液

晶与显示.―2007,22(2).―1092114

在覆盖SiO2的n2Si(100)衬底上,采用等离子体增强

化学沉积法(PECVD)制备Si1-x G e x薄膜材料。薄膜Ge 含量x及元素的深度分布由俄歇电子谱(A ES)测定。对Si1-x G e x进行热退火处理,以考察退火温度和时间对薄膜特性的影响。薄膜的物相通过X射线衍射(XRD)确定。基于XRD图谱,利用Scherer公式计算平均晶粒大小。Si1-x G e x薄膜载流子霍尔迁移率由霍尔效应法测定。数值拟合得到霍尔迁移率与平均晶粒尺寸为近线性关系,从而得出PECVD2Si1-x G e x薄膜的电输运特性基本符合Se2 to模型的结论。图8参19(严寒)

O484.4∥TM914.422007054577化学水浴沉积CIG S太阳电池缓冲层Z nS薄膜的研究= Chemical2bath2deposited ZnS buffer layers for CIGS thin film solar cells[刊,中]/刘琪(安徽工程科技学院.安徽,芜湖(241000)),冒国兵…//太阳能学报.―2007,28(2).―1552159

在含有ZnSO4、SC(N H2)2、N H4O H的水溶液中采用CBD法沉积ZnS薄膜,研究了沉积时间、水浴温度、搅拌等工艺条件对沉积薄膜的影响。薄膜的厚度与搅拌的强度有很大关系,表明扩散传质是薄膜生长的控制步骤。XRF 和XRD测试表明,沉积的薄膜中含有ZnS和Zn(O H)2, SEM测试表明薄膜颗粒大小相近,但不致密。随着沉积时间的增加,薄膜厚度增加,透过率减小。当前采用CBD2 ZnS薄膜制备的无镉CIG S太阳电池转换效率达到8.54%。图6表1参6(严寒)

O484.412007054578掺铝对Z nO薄膜光学常数的影响=Effects of dopant Al concentration on optical constants of ZnO∶Al thin films by sol2gel technique[刊,中]/洪伟铭(湛江师范学院.广东,湛江(524048))//半导体光电.―2007,28(2).―2052208 采用溶胶2凝胶法在(0001)蓝宝石衬底上制备了ZnO ∶Al薄膜,利用Kramers2Kronig色散关系对ZnO∶Al薄膜在300～600nm的光学常数进行计算,研究了掺杂浓度对薄膜光学常数的影响。结果显示,在可见光区,薄膜的光学常数受铝掺杂浓度的影响很小,折射率、消光系数、复介电常数实部和虚部的数值基本恒定,分别约为1.6,0. 08,0.27和2.5。在紫外区,薄膜光学常数受掺杂浓度的影响明显,随掺杂浓度提高,光学常数值均减小,且都在激子吸收峰(370nm)处出现一极大值。图6参11(杨妹清)

O484.412007054579富硅氮化硅薄膜的制备及其发光特性=Preparation and photoluminescent properties of Si2rich silicon nitride thin films[刊,中]/曾友华(华侨大学信息科学与工程学院.福建,泉州(362021)),郭亨群…//半导体光电.―2007,28 (2).―2092212

采用射频磁控反应溅射法制备了氮化硅薄膜。利用X射线衍射谱(XRD)、红外光谱(IR)、能谱(EDS)和光致发光谱(PL),通过与氮气中和空气中退火薄膜比较,对原沉积薄膜进行了成分与结构和发光特性研究。研究发现原沉积薄膜是部分晶化的富硅氮化硅薄膜,薄膜中晶态氮化硅颗粒的平均粒径为33nm;在氮气中退火后,纳米颗粒增大;在空气中退火后,薄膜被氧化,晶态颗粒消失。在4.67 eV的光激发下,原沉积薄膜中观测到七个强的PL峰,在氮气和空气中退火后,PL峰位和强度有变化。图4参13(杨妹清)

O484.412007054580压强和温度对薄膜折射率的影响模型=Effects of pres2 sure and temperature on film refraction[刊,中]/张大伟(上海理工大学光学与电子信息工程学院.上海

(200093)),孙浩杰…//上海理工大学学报.―2007,29 (2).―1752178

基于膜分子和气相分子在沉积时竞争的观点,得到压强和温度对薄膜折射率影响的理论模型。模型的研究表明,薄膜折射率随真空压强的增加而降低,并随沉积温度的增加而增加。在不同真空压强和不同沉积温度下制备了氧化锆薄膜,计算了样品的折射率,结果显示的规律和理论模型的规律基本一致。图2参8(于晓光)

O484.412007054581晶粒尺寸对FeS2薄膜微应变及光吸收特性的影响= Effects of grain sizes on behaviors of microstrain and opti2 cal absorption for FeS2films[刊,中]/刘艳辉(浙江大学材料与化学工程学院.浙江,杭州(310027)),汪洋…//无机材料学报.―2007,22(1).―1432147

采用不同厚度的Fe膜在673K热硫化20h制备出具有不同晶粒尺寸的FeS2薄膜,分析并测定了薄膜组织结构、微应变及光吸收性能。结果表明,Fe膜硫化形成的FeS2薄膜厚度在120～550nm变化时,可导致平均晶粒尺寸在40～80nm的变化。FeS2晶粒尺寸的变化造成了晶体面缺陷密度的变化,可引起微观内应力水平、缺陷能级分布和晶界势垒高度的变化,进而使得薄膜的微应变、点阵畸变度、光吸收系数及禁带宽度等物理特性随晶粒尺寸的增加而降低。图8参21(于晓光)

O484.412007054582负载缺位钨硅酸的有机无机复合光致变色薄膜=Novel organic2inorganic photochromic film based on mono2vacant Keggin2type polyoxometalates[刊,中]/董晓雯(上海大学理学院化学系.上海(200436)),潘庆谊…//无机材料学报.―2007,22(2).―3692372

采用sol2gel技术,利用缺位杂多酸中氧原子不饱和性,将Keggin结构缺位杂多酸盐SiW11以共价键结合到SiO2网络上,制备了SiW11/SiO2/PVA复合薄膜。IR光谱表明,SiW11在基体中基本保持Keggin结构,与SiO2网络上形成了W—O—Si共价键。由于W—O—Si键的生成,造成Keggin结构SiW11产生一定的形变。此薄膜在紫外光照射下变蓝,具有较好的光致变色性质。图4表1参5(于晓光)

O484.412007054583 [101]取向Li掺杂Z nO薄膜光学性能的研究=Optical properties of Li∶ZnO thin films with[101]orientation [刊,中]/朱兴文(上海大学材料学院.上海(200072)),李勇强…//无机材料学报.―2007,22(3).―3592362

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了[101]取向的Li∶ZnO薄膜,研究了该薄膜的光学性能随热处理温度变化的规律。结果表明,399nm的发光峰是由Li的杂质能级引起;与[002]取向的薄膜相比,未经热处理的[101]薄膜其光学带隙大,且出现了380nm附近的带边发射(NB E)峰;在560～580℃热处理下,其晶胞变小、光学带隙变窄、360nm左右的带间发光峰红移;当热处理温度升至610℃时,薄膜中再次出现380nm的NB E峰。图5表1参24(于晓光)

薄膜材料与器件

O484.12007054584 CdWO4膜的制备及发光特性的研究=L uminescence of CdWO4films prepared by spray pyrolysis[刊,中]/娄志东(北京交通大学光电子技术研究所,发光与光信息技术教育部重点实验室.北京(100044)),衣兰杰…//液晶与显

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示.―2007,22(2).―1622166

利用一种软化学合成方法—喷雾热解法,在玻璃基底

上制备了钨酸镉(CdWO4)发光膜,研究了其结构、吸收光谱、光致发光及较低电压下的阴极射线发光特性。由吸收光谱估算出CdWO4膜的禁带宽度约为3.70eV。当基底温度在350℃以上时,生成的CdWO4膜在紫外光及阴极

射线激发下发出蓝绿光,其光谱为一宽蓝绿发光带。研究

了退火温度对CdWO4膜发光特性的影响。图6参14(严寒)

O484.1∥T H7512007054585薄膜反射镜的静电成形=Electrostatic deformation of membrane mirrors[刊,中]/陈新华(苏州大学现代光学技术研究所.江苏,苏州(215006)),唐敏学…//红外与激光

工程.―2007,36(2).―2742277

基于静电学原理,设计了口径Ф200mm薄膜反射镜

静电成形实验系统,该系统包括薄膜反射镜固定装置、电极板装置以及直流高压系统。采用ZYGO干涉仪和莫尔偏折术,分别对薄膜反射镜面形随直流电压的变化情况以及不同电压下薄膜反射镜的顶点曲率半径进行了观察和测量,并与理论值进行了比较和分析。实验结果表明,该系统可有效改变薄膜反射镜的面形。在700V电压下,薄膜反射镜的顶点曲率半径达17.7m。图8参13(于晓光)

TB432007054586 30.4nm波长SiC/Mg多层膜反射镜=SiC/Mg multilayer film reflective mirror at30.4nm[刊,中]/朱京涛(同济大学物理系精密光学工程与技术研究所.上海(200092)),张淑敏…//光学学报.―2007,27(4).―7352738

研究了SiC/Mg、B4C/Mg、C/Mg、C/Al、Mo/Si、B4C/ Si、SiC/Si、C/Si、Sc/Si等材料组合的多层膜在该波长处的反射性能。基于反射率最大与多层膜带宽最小的设计优化原则,选取了SiC/Mg作为膜系材料。采用直流磁控溅射技术制备了SiC/Mg多层膜,用X射线衍射仪测量了多层膜的周期厚度,用国家同步辐射计量站的反射率计测量了多层膜的反射率,在入射角12°时,实测30.4nm处的反射率为38.0%。图3表1参14(严寒)

TB43∥TB3832007054587偶氮苯聚合物薄膜光致微结构的研究=Study of photoin2 duced microstructure in azobenzene polymer films[刊,中]/李真(暨南大学光电工程系.广东,广州(510632)),蔡志岗…//光子学报.―2007,36(3).―4162420

利用光场梯度力理论,对前向四波混频光路制作偶氮苯聚合物薄膜表面微结构的结果进行解释,认为用这种方法制作亚微米微结构存在机理缺陷。采用“Step2by2Step”制作偶氮苯聚合物薄膜表面四方微结构,该方法将是制作二维亚微米微结构的有效手段。图7参17(严寒)

制膜技术与装置

O484.12007054588氧化铁镍薄膜的制备与表征=Preparation and character2 ization of iron2doped nickel oxide thin films[刊,中]/黄金昭(天津大学博士后流动站.天津(300072)),徐征…//光电子?激光.―2007,18(4).―3922395

提出了射频反应磁控溅射中薄膜沉积速率同O2流量和溅射功率关系的理论计算模型,根据这一理论计算模型,在O2/Ar气氛中,利用射频反应磁控溅射制备氧化铁镍薄膜;最后分别采用台阶仪、X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、电子扫描镜(SEM)和电化学工作站对薄膜进行了表征,并分析了在制备过程中O2含量、工作压强和溅射功率对薄膜的沉积速率、结构、组分和表面形貌的影响。实验验证了所提出的理论计算模型以及Ni3+的存在;得到了膜厚与晶型以及工作压强与形貌的关系。图7参12(杨妹清)

O484.12007054589飞秒激光沉积β2FeSi2/Si半导体膜及光学性能研究=β2 FeSi2thin film prepared by femtosecond laser ablation and its optical characteristic[刊,中]/周幼华(华中科技大学激光技术国家重点实验室.湖北,武汉(430074)),陆培祥

…//无机材料学报.―2007,22(3).―5452549

采用飞秒脉冲激光沉积法在Si(100)和Si(111)单晶基片上制备了均匀的单相β2FeSi2薄膜;用X射线衍射(XRD),场扫描电镜(FESEM),能谱仪(EDX),傅里叶红外喇曼谱仪(FTRIS)研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能。观察到了β2FeSi2在Si单晶基片上的生长与晶面取向有关的证据,并在室温(2℃)下观测到β2FeSi2薄膜的光致发光。图6参16(于晓光)

O484.12007054590 C at2CV D方法制备多晶硅薄膜的孕育层控制=Restriction on amorphous incubation layer of polysilicon thin films by catalytic chemical vapor deposition[刊,中]/张玉(中科院长春光机所北方液晶工程研究开发中心.吉林,长春(130033)),荆海…//液晶与显示.―2007,22(1).―372 41

采用p2Si的间断生长,对预先沉积的a2Si孕育层进行数分钟的氢原子刻蚀,目的是刻蚀掉有严重缺陷的Si—Si 键,保留与晶体硅匹配的Si—Si键,促进晶核形成,抑制孕育层的再生长。经XRD和SEM测试发现,间断p2Si的生长,经若干分钟的H原子处理后多晶硅很快就形成,结晶取向在(111)面上最强,晶粒尺寸平均为80nm。结果表明,用Cat2CVD制备p2Si薄膜,间断生长过程,用氢原子处理预先沉积的一层a2Si孕育层,可以抑制孕育层的生长,提高了p2Si薄膜的晶化速率。图4表1参12(严寒)

O484.1∥TM914.422007054591 VHF2PECV D法制备微晶SiG e薄膜及太阳电池=Micro2 crystalline Si Ge prepared by V HF2PECVD for thin film so2 lar cells[刊,中]/谷士斌(河北工业大学信息学院.天津(300132)),胡增鑫…//光电子?激光.―2007,28(5).―5392542

以Si2H6和G eF4为源气体,用甚高频等离子体增强化学汽相沉积(V HF2PECVD)技术在不同衬底温度和功率条件下制备了Si G e薄膜材料。用喇曼光谱和扫描电子显微镜(SEM)对材料的结构进行了研究。结果表明,薄膜结构随温度的升高、功率的增大逐渐由非晶Si Ge(a2Si Ge)转变为微晶Si G e(μc2Si G e)材料。将这种材料应用于μc2 Si G e薄膜太阳能电池中,电池结构为玻璃/SnO2/p2μc2Si/ i2μc2Si G e/n2μc2Si/Al,首次获得效率为4.2%的μc2Si Ge薄膜太阳能电池。图4表2参11(王淑平)

O484.432007054592温度对高速微晶硅薄膜沉积速率及其特性的影响=Influ2 ence of temperature on deposition rate and properties of microcrystalline silicon flims[刊,中]/郭群超(南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室.天津(300071)),孙建…//光电子?激光.―2007,28(6).―6592662

采用超高频(V HF)结合高压(HP)的技术路线,在较高Si H4浓度(SC)下实现了微晶硅(μc2Si∶H)薄膜的高速沉积,考察了衬底温度在化学汽相沉积(CVD)过程中对薄膜的生长速率以及光电特性的影响。结果表明,薄膜微结构特性随衬底温度变化是导致薄膜电学特性随衬底温度变化的根本原因;HP与低压条件下沉积的μc2Si∶H薄膜的特性随温度变化的规律不同,在试验温度范围内,HP高速沉积的μc2Si∶H薄膜生长速率不同于低压时随温度升高而下降的趋势,而是先增大后趋于平稳,晶化率随温度升高也不是单调增加,而是先增加后减小。图11参9(王淑平)

TB432007054593硫化镉纳米膜的电化学制备方法=Preparation of CdS

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常用胶水基本知识教程文件

常用胶水基本知识

缺氧胶的定义缺氧胶（又叫厌氧胶或者螺丝固定胶水）在低密度聚乙烯瓶子内由于与氧（空气）充分接触而使胶液保持稳定，当用于金属间隙（如螺纹、平面法兰、圆形零件套装等配合间隙）与氧（空气）隔绝时，因金属离子的催化诱导作用而形成自由基，自由基引发聚合物链的形成，最终固化成为具有优良密封与锁固特性的固体高聚物，即热固性塑料，工作温度-55℃至+150℃，耐老化性能通常优于钢材。缺氧胶又名厌氧胶、绝氧胶、螺丝胶、机械胶，英文名：anaerobic adhesive. 厌氧胶的特点和应用（1）大多数为单体型，黏度变化范围广，品种多，便于选择。

（2）不需称量、混合、配胶，使用极其方便，容易实现自动化作业。（3）室温固化，速度快，强度高、节省能源、收缩率小、密封性好。固化后可拆卸。（4）性能优异，耐热、耐压、耐低温、耐药品、耐冲击、减震、防腐、防雾等性能良好。（5）胶缝外溢胶不固化，易于清除。（6）无溶剂，毒性低，危害小，无污染。（7）用途广泛，密封，锁紧、固持、粘接、堵漏等均可使用。（8）储存稳定，胶液储存期一般为三年。厌氧胶因其具有独特的厌氧胶固化特性，可应用于锁紧、密封、固持、粘接、堵漏等方面。厌氧胶已成为机械行业不可缺少的液体工具。在航空航天、军工、汽车、机械、电子、电气等行业有着很广泛的应用。（1）锁紧防松。金属螺钉受冲击震动作用很容易产生松动或脱机，传统的机械锁固方法都不够理想，而化学锁固方法廉价有效。如果将螺钉兔上厌氧胶后进行装配，固化后在螺纹间隙中形成强韧塑性胶膜，使螺钉锁紧不会松动。现在已经有预涂型（B-204）厌氧胶，预先涂在螺钉上，放置待用（有效期四年），只要将螺钉拧入旋紧，即可达到预期的防松效果。

第13课带有衍射光学元件的激光扩束器

第13课.带有衍射光学元件的激光扩束器在第11课中，您了解了如何使用普通球面透镜设计激光扩束器，并了解到需要多个透镜元件才能获得良好的性能。第12课采用相同的设计，使用两个非球面元件，效果极佳。本课程将证明您可以使用DOE（衍射光学元件）。 to within10%.目标是将腰半径为0.35mm的HeNe激光器转换成直径为10mm且均匀至10％以内的光束这是我们初始的输入文件： RLE!Beginning of lens input file.。 ID KINOFORM BEAM SHAPER WA1.6328!Single wavelength UNI MM!Lens is in millimeters OBG.351!Gaussian object;waist radius-.35mm;define full aperture=1/e**2point. 1TH22!Surface2is22mm from the waist. 2RD-2TH2GTB S!Guess some reasonable lens parameters;use glass type SF6from Schott catalog SF6 3TH20!Surface3is a kinoform on side2of the first element 3USS16!Defined as Unusual Surface Shape16(simple DOE) CWAV.6328!Zones are defined as one wave phase change at this wavelengt HIN1.798855!Assume the zones are machined into the lens.You can also apply!a film of a different index. RNORM1 4TH2GTB S SF6 4USS16 CWAV.6328 HIN1.798855 RNORM1!The first side of the second element is also a DOE 5CV0TH50!Start with a flat surface 7!Surfaces6and7exist AFOCAL!because they are required for AFOCAL output. END!End of lens input file. 我们给第2个表面指定了一个合理RD值。这是现阶段还没有DOE的非球面系数的系统：

光学用胶必看

材料安全数据资料 Super Bonder (R) 29810 渗入型瞬干胶 42050 1.化学产品及其标识产品名称: 乐泰（R）Super Bonder (R) 29810 渗入型瞬干胶订货代号: 42050 产品类型: 氰基丙烯酸酯 2.组成,成分信息成分C AS代码% 氰基丙烯酸乙酯7085-85-0 95-100 对苯二酚 123-31-9 0-0.5 有暴露限制的成分暴露限制 (TWA) ACGIH OSHA 其它成分(TLV) (PEL) 氰基丙烯酸乙酯 0.2ppm TWA 无无对苯二酚2mg/m3 TWA 2mg/m3 TWA 2mg/m3 TWA 4mg/m3 STEL 暴露限制(STEL) ACGIH OSHA 成分(TLV) (PEL) 3.危害信息毒性: 皮肤接触会导致烧伤.对皮肤的粘接迅速而又强烈.刺激眼睛和皮肤. 估计的口服受害限度LD50超过5000mg/kg; 估计的皮肤受害限度LD50超过2000mg/kg. 主要侵入途径: 已知没有. 体征和症状: 当蒸汽的浓度超过TLV时,会刺激眼睛和粘膜.与上述超过 TLV的蒸汽接触, 会产生非过敏性哮喘的症状. 暴露引起生存条件恶化: 已知没有. 成分参考文献致癌物对人体器官和其它健康情况的影响NTP IARC OSHA 氰基丙烯酸乙酯ALG IRR RES 无无无对苯二酚BLO BNM CNS EYE IMM 无不适用无 IRR LIV MUT SKI THY

3 危害信息缩写 N/A 不适用ALG 过敏 BLO 血液BNM 骨髓 CNS 中枢神经系统EYE 眼睛 IMM 免疫系统IRR 刺激性 LIV 肝脏MUT 致变物 RES 呼吸SKI 皮肤 THY 甲状腺 4 急救措施摄入: 不可能摄入. 参见附录中的紧急情况处理程序. 吸入: 移到通风处. 如果症状持续, 寻求医生帮助. 皮肤接触: 用温水浸泡. 参见附录中的紧急情况处理程序. 眼睛接触: 用水流冲洗. 参见附录中的紧急情况处理程序. 5 灭火措施闪点：150-200?F 测试方法:Tag闭杯建议灭火剂: 二氧化碳, 泡沫, 干粉灭火剂特殊的灭火方法: 不适用燃烧或热分解所产生的有害物质:刺激性的有机碎片. 特别火灾或爆炸危害: 无爆炸限制: (在空气中的体积比, %) 下限:不适用 (在空气中的体积比, %) 上限:不适用 6. 意外泄露措施出现意外溢出或泄露处理措施: 用水冲洗, 使产品聚合. 用惰性吸收剂吸收. 7. 操作和贮存安全贮存: 在不大于75?F的条件下贮存. (要想获得具体的贮存寿命情况, 请与乐泰用户服务中心联系, 1-800-243-4874) 操作: 避免长期与皮肤和眼睛接触. 避免吸入蒸汽.

光学薄膜工艺基础知识

光学薄膜工艺基础知识工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为：一、基片材料 1、膨胀系数不同热应力的主要原因； 2、化学亲和力不同影响膜层附着力和牢固度； 3.、表面粗糙度和缺陷散射的主要来源。二.、基片清洁残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1、膜层对基片的附着力差； 2、散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3、透光性能变差。三、离子轰击的作用提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。光学镜片小知识镜片材料分类玻璃镜片包括光学玻璃镜片及高折射率镜片（即通常所称的超薄片），其硬度高、耐磨性能好，一般其质量及各项参数不会随时间而改变，但是玻璃镜片的抗冲击性及重量方面要略逊于树脂镜片。树脂镜片一般要比玻璃镜片轻得多，且抗冲击性能要优于玻璃片，防紫外线能力强，但其表面硬度较低，比较容易被擦伤。树脂镜片及镀膜镜片由于其特性较软，所以平时应注意不要让镜面直接接触硬物，擦洗时最好先用清水（或掺合少量洗洁精）清洗，然后用专用试布或优质棉纸吸干眼镜片上的水滴。此外，在环境条件较差的地方应慎用镀膜镜片，以免沾上污物难以清洗。宇宙（PC）镜片：折射率高，牢固，但易磨损.多数使用于小孩子的眼镜片，无框架的装配或运动员的护眼罩。镜片镀膜后有哪些优点？镀膜镜片可以降低镜片表面的反射光，视物清楚，减少镜面反射光，增加了光线透过率，也解决戴眼镜在强光下照像的难题，增加美感。镀膜眼镜能防止紫外线、红外线、X线对视力的伤害。配戴镀膜眼镜不易疲劳。对荧光屏前工作人员的视力可受到保护。镀膜树脂镜片除应避免划碰高温外，亦应避免酸类油烟等侵蚀，如在日常生活中最好不要戴镜下厨，尤其是通风不好油烟大时；同时亦不能戴（带）镜进（近）热水淋浴环境，平常临时放置时应将镜片凸面向上，随身携带时应将眼镜放入盒内，不要随便放入口袋中或挂包中，那样极易使膜层擦伤。

衍射光学元件

Top Hat Beam Shaper-高帽光束整形 HOLO/OR几十年来服务于堆栈高帽元件模拟，可以很好地定义高斯光束，将其在工作平台上转换为均匀强度光斑。应用领域：激光切割,激光焊接，激光显示，激光医学和审美激光应用 Beam Splitter/Multispot-分束器/多场分束器元件为衍射光学元件，用于将一束激光光束分离为几束，每束光都有最初那束光的特性，这些特性不包括光能量大小和传播角度。多束光方向可以形成一维或二维光图像。应用领域：激光打孔，医疗表面处理，并行处理，并行激光扫描 Homogenizer/Diffuser-均化器/扩散器 HOLO/OR有多样且广泛的工业衍射光元件，允许在合理的价格范围内提供解决方案。应用领域：允许任何光束类型，小扩散角，自定义角度，各种波长和尺寸，自定义形状 Beam Sampler-光束采样器 HOLO/RO介绍一种新的ED匀化器，由纯石英玻璃或硒化锌材料组成，可选择在这两种材料表面进行高功率ARV-镀膜，有利于给出解决方案，显著减少0.2% 的后向反射。（每个面0.1%）应用领域：直插式功率，嵌入式光束分析

Dual Wavelength-双波长产生器衍射光学给出了一个独特的构想，可以只影响一个波长。在多波长光束中，双波长光束组合器是衍射光学元件，用于将两束入射光以不同的波长组合到相同焦点上，为在所需观察面上获得一个强光斑，就必须在激光光束射向光斑的路径上放置一个透明的衍射光学元件。应用领域：外科手术激光系统，工业二氧化碳激光系统 Vortex lens-涡旋透镜 Holo-Or介绍了VL系列涡旋微透镜，由纯石英玻璃或硒化锌材料组成，可选择在这两种材料表面进行高功率ARV-镀膜，有利于给出解决方案，显著减少0.2% 的后向反射。（每个面0.1%）应用领域：天文学，光学镊子，加密术 Lenslet arrays-微透镜阵列微透镜阵列基底由微衍射透镜覆盖，微透镜阵列作为扩散器，或者作为局部焦点和采样点。衍射微透镜阵列的优势在于其占空因子为 100%，高于折射微透镜阵列。可以很容易地进行设计和成像，并修正微透镜成像系统像差。应用领域：光束扫描仪，焦平面阵列光传感器 Multifocal Lenses-多焦点透镜衍射光学可以从一个入射光产生多个输出光束，而不是典型的折射透镜，沿着光轴由一个焦点获得多个焦点，并都处于焦平面，这样的透镜被称为多焦微透镜，它们对于并行放大系统，光传感，视觉应用等十分重要。同时，这些透镜也可以应用于准长焦点元件，在材料处理上有效创建长深度焦点。

canon多层衍射光学元件及镜头

多层衍射光学元件及镜头添加用户：风雨无阻添加时间：2008-08-22 来源：点击：77214 Canon于2000年9月4日宣布研制成功世界上第一片用于照相机摄影镜头中的“多层衍射光学元件”(Multi- Layer Diffractive Optical Element，)，并将于2 000年9月20~25日在德国科隆举办的Photokina 2000大会上展示使用该光学镜片的EF 400/4 DO IS USM镜头的样品，该镜头的正式出售版预计于2001年上半年面市。右边为多层衍射光学镜片，左边为EF 400/4 DO IS USM样品。多层衍射光学镜片同时具有萤石和非球面镜片的特性，所以该镜片的推出，是光学工业的一个里程碑。衍射光学元件有衍射光栅，通过衍射改变光路(这里所说的衍射是指光线遇到障碍物时，将偏离直线传播，在边缘有扩散的倾向)。这样的光学元件原来应用在工业仪器，比如分光仪和信号读出光学系统(比如CD和DVD播放机)。但由于这类光学元件在自然光(白光)进入镜头时，会产生过多的衍射光，其结果是产生眩光，导致影像质量下降。 Canon研制的多层衍射光学元件(MLDOE)由两块有同心圆衍射光栅的单层衍射光学元件组成，其光栅相对组合。当入射光进入MLDOE时，不会产生多余的衍射光，几乎所有的光线都用于成像。Canon的研究成果首次表明：在照相机镜头中是可以采用衍射光学元件的。

多层衍射光学元件多层衍射光学元件原理图

单层衍射光学元件和多层衍射光学元件的衍射特性衍射光学元件最重要的特性是波长合成结像的位置与折射光学元件的位置是反向的。在同一个光学系统中，将一片MLDOE与一片折射光学元件组合在一起，就能比萤石元件更有效地校正色散(色彩扩散)。而且，通过调整衍射光栅的节距(间隙)，衍射光学元件可以具有与研磨及抛光的非球面镜片同样的光学特性，有效地校正球面以及其他像差。 MLDOE校正色散的原理在生产MLDOE衍射光栅时，需要微米级(1微米=1/1000mm)的精度来保证衍射光

光胶基础知识

光胶基础知识一、光胶的原理：光胶是利用分子的引力实现镜片与镜片之间的粘合，一般来说两片镜片的光圈只能相差半个圈。最好一面是高光圈，另一面是低光圈。二、光胶的目的：光胶是光学加工中一种必不可少的工序，是为了保证光学镜片在磨砂、抛光下盘后能达到设计图纸要求的光洁度、平行度、角度、光圈、尺寸的一种高精度的上盘方法。比如12.7×12.7×12.7直角棱镜要求三个面的光圈N为0.5；光洁度为20—10；角精度为45°±3′，90°±30″；塔差为3′；侧垂3′；像这样的镜片就必须用光胶法上盘进行加工，否则就不能达到图纸的要求。三、光胶的方法：光胶分两种方法，一种是干光胶、另一种是湿光胶。比较常用也比较方便的方法是干光胶法，下面分别予以介绍。 1、干光胶法：先复检光胶面，检查表面质量（光胶面不应有过多的毛道子、水迹、发霉等疵病），然后用粘有特殊油脂、乙醇的光胶布擦拭靠体、镜片，再用干布擦拭靠体、镜片，再将擦好的镜片与靠体用掸笔或吹气球将灰尘除去，然后将光胶面对正，轻轻贴合，当看到有清晰的干涉条纹而无脏物时，

轻轻一压，零件就光胶在靠体上了。如发现有脏物或白点时，则应重新光胶。为使光胶更加牢固，并防止水分渗入，在光胶接缝处涂以保护胶等。

2、湿光胶法：先复检光胶面，检查表面质量（光胶面不应有过多的毛道子、水迹、发霉等疵病），然后用粘有乙醇、乙醚混合液光胶布擦拭靠体、镜片，再用石油醚擦拭靠体、镜片，再将擦好的镜片与靠体用掸笔或吹气球将灰尘除去，然后将光胶面对正，轻轻贴合，当看到有清晰的干涉条纹而无脏物时，轻轻一压，零件就光胶在靠体上了。如发现有脏物或白点时，则应重新光胶。为使光胶更加牢固，并防止水分渗入，在光胶接缝处涂以保护胶等。四、光胶的下盘方法：光胶下盘时可用木锤敲击工件或加温后取下工件，还可以用比较锋利的刀片轻轻地撬工件。感谢您的支持与配合，我们会努力把内容做得更好！

衍射光学元件示意图,衍射元件应用原理图

衍射光学元件示意图经过多年发展，海纳光学已经成为国内极具权威的衍射光学元件供应商。衍射光学元件主要分为光束整形器、分束器、多焦点DOE、长焦深DOE、衍射锥镜、螺旋相位片、匀化片和其它图案的衍射元件DOE。这里我们挑选较常用的整形镜、分束器、多焦点DOE，专门给出了这些衍射光学元件的示意图，衍射元件应用原理图，让用户能够对衍射元件的使用、安装位置和衍射过程一目了然。一、光束整形器，整形镜，Beam Shaper, Top hat beam shaper 平顶光束整形器的作用是把高斯光束转换为平顶光束，即高斯整平顶。平顶光斑具有效率高、光斑小、能量均匀性好等特点，顶部能量绝对均匀，边缘陡峭，无高级次衍射，也称为平顶帽式光斑。光束整形器又称为整形镜，高斯整平顶DOE，平顶光整形器，平顶帽式整形镜，平顶光DOE，是最具代表性的衍射光学元件之一。下面图片可以清晰地看到整形镜获得平顶光斑的过程，整形镜得到的平顶光斑的尺寸为衍射极限的1.5倍~几百倍，要求入射的高斯光束为TEM00的单模光。一般整形镜的衍射效率>93%，均匀性>95% (多台阶整形镜)，对安装精度要求较高。

整形镜不仅可以把入射光整形成圆形、正方形，还可以整形成直线、长方形、六边形等其它用户需要的形状。下图是把高斯光整形成直线光斑的示意图，这里我们用到一个模组而不是单独的镜片，这个模组成为Leanline，其克服了整形镜的工作距离限制，能够在一定工作距离范围内保持光束整形的效果。二、匀化器、匀化镜、均匀光斑DOE、扩散片，Homogenizer, Diffuser 激光匀化器的作用是把入射激光转换成能量均匀分布的光斑，这里的光斑尺寸一般较大，形状可以为圆形、正方形、线性、六边形和其它任意用户想要定制的形状。入射激光可以为单模或多模，衍射效率70%~90%不等。下图清晰地给出了匀化器的匀化过程，一般的结构是激光通过匀化器和聚焦系统后即可匀化，但这里还配合了一个激光扩束缩束镜，通过调节这个扩束缩束镜就可以直接调节输出光斑的大小。

手机镜头常用光学塑胶zemax玻璃库的设置和材料实用简介

手机镜头常用塑胶材料简介一下内容原创，转载请注明出处 1，高折射率王者“ OKP-1” 拥有顶尖的高折，在前一个通用的成功材料0KP4HT勺基础上，改进降低了双折射，改善了脱模效果和流动性。台湾和韩系厂都在使用，2014年上半年，才开始推大陆市场。价格和 OKP4HH不多。本人看好的材料。 2，经典的高折贵族“ OKP4H”T 塑胶材料的高折一族，稀缺的高折和较好的成型效果使其价格一直维持高昂。双折射较差，是已经大规模实用过的材料，现在仍然在大量运用中。 3，OKP系列的奠基者“ 0KP4 拥有较好的双折射和成型特性，但折射率在OKP S列里偏低。不少设计都会实用到。4，持续改进的智者“ APL5514DP，APL5514M，L APL5514CL” APEL系列的塑胶材料都拥有优秀的透过率，流动性，低双折射。以及大约OKP系列1/3~1/4 的价格优势。所以APEL的竞争力很大，每天都有大量的APL系列塑胶被镜头厂实用。另外DP-ML-CL持续改善的系列产品都具有相似的折射率，所以替换起来很方便。 5，黑马材料“ EP5000” 大阪瓦斯的EP5000从出道就针对0KP4HT它与0KP4H拥有极其接近的折射率。同时拥有更好的流动性和超低的双折射，还具有比0KP4H稍低的价格。所以EP5000迅速抢占了0KP4HT勺市场，这才逼的三井化学出0KP1 EP500Q我做设计优选的材料。 6，内力深厚的高僧“ E48R” ZE0NEX勺看家材料，从330R, 480R一路发展起来。低双折射，低吸水率，耐高温，不易附静电，外观容易保持。早已经被大规模使用起来了，通常被设计在对外观要求较高的最后一片镜片。APL系列和其有类似的价格和相差不远的折射率，可想相互替代设计，但APL 的外观效果通常没有E48R优异。强烈推荐的材料。 7，超凡脱俗的高僧“ K26R” K26R是E48R的升级版本，略微提高了折射率，继承了E48R的各种优异特性，进一步改善了成型的流动性和脱模效果。K26R在日企已经有很多成功设计在使用中了，大陆才刚刚接触使用。这是我也很看好的材料。价格比E48R稍高，后面可能会降价。 8,经典的PC材“PC_AD5503 PC系列的老前辈代表，高折射率（不够高），比较大的双折射，吸水率高，成型缩水大。总之作为光学材料物性不够好。但其价格不到0KP系列的1/10，所以低端的，廉价的手机镜头都还在使用这种材料。在国内的用量很大。 9，经典通用的材料“ PMM”A 又称亚克力，经典的透明塑胶，低折射率，低双折射，高透过率，高吸水性。以及超级的价格：比PC_AD550还要便宜一半多。最大的缺憾是不耐高温，无法镀膜，所以只能用在低端镜头中。综上，手机镜头常用的光学材料基本以及都有了，其他一些没列的材料是不建议使用的。原因包括材料特性不好，库存不足，没大量应用，厂家不推广了等。 BY：Ivan

光学基础知识及光学镀膜技术

光学基础知识及光学镀膜技术光學薄膜是指在光學元件上或獨立的基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜來改變光波傳遞的特性。即應用光波在這些薄膜中進行的現象與原理，如透射、吸收、散射、反射、偏振、相位變化等，進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學與工程上的應用。在本廠的實際應用上，DM半透板與ITO鍍膜屬於這個領域。光學薄膜雖早於1817年Fraunhofer已經開始利用酸蝕法製成了抗反射膜，但是真正的發展是在1930年真空鍍膜設備之後。而軍事的需求(望遠鏡、飛彈導向鏡頭、監視衛星、夜視系統等)加速了光學薄膜的開發與研究。計算機的出現使得設計更為方便，相對的各種理論及設計方法因應而出，光學薄膜的研究於是更為進步並充分應用於各種光電系統及光學儀器之中，如光干涉儀、照相機、望遠鏡、顯微鏡、投影電視機、顯示器、光鑯通訊、汽車工業、眼鏡等。光學薄膜基本上是藉由干涉作用達到其效果的。簡單的如肥皂泡沫膜、金屬表層的氧化膜、水面油層的顏色變化，都可以視為單層干涉的效果。因此，當光在膜層中的干

涉現象可以被偵測到時，我們就說這層模是薄的，否則是厚的(k值消散掉)。由於干涉現象不僅跟膜層的厚度有關，而且光源的干涉性和偵測性的種類也有關。接下來為各位介紹幾個主題1.波動光學基本理論2.薄膜光學的應用及產品介紹3.薄膜設計方法4.金屬鍍膜材料5.光學薄膜的鍍製方法及設備6.光學薄膜材料。光學薄膜的製作是理論設計的實現，它不僅和蒸鍍方法及材料有關亦與薄膜支撐者，即基板之表面狀況及材質有密切的關係，事實上光學薄膜的研製的主要困難已經比較少是在設計上，而是在製鍍上，亦即要製造出預期中的光學常數及厚度之薄膜，因此新的製膜方法及監控方式在工程上更顯的重要。 1. 繞射和干涉的現象常常會被拿在一起來討論,繞射可視為很多光源互相干涉,但其數學處理的方式仍然與干涉不太一樣。例如全像或光柵,可以用繞射也可以用干涉來解釋,也各有其數學模式。光的波動說:當一個水波經過一個障礙時,我們可以看到障礙的邊緣會泛起陣陣漣漪,這種現象就是繞射,光波也有繞射現象,這種現象是和光的直線前進或光的粒子說相抵觸的。早在1500年,L.da Viaci 已提及光的繞射,Huygens在1678年首先創立光的波動理論,他把波陣面上每一點都視為一個次級子波的波源,而所有子波前進時的包絡面又形成新的波前,應用這個原理可以解釋光的直線前進、光的反射與折射。 1801年,Young用干涉理論來解釋單狹縫的現象,但實驗結

SYNOPSYS 光学设计软件课程第13课：带有衍射光学元件的激光扩束器

第13课. 带有衍射光学元件的激光扩束器在第11课中，您了解了如何使用普通球面透镜设计激光扩束器，并了解到需要多个透镜元件才能获得良好的性能。第12课采用相同的设计，使用两个非球面元件，效果极佳。本课程将证明您可以使用DOE（衍射光学元件）。目标是将腰半径为0.35mm的HeNe激光器转换成直径为10mm且均匀至10％以内的光束这是我们初始的输入文件： RLE ! Beginning of lens input file.。 ID KINOFORM BEAM SHAPER WA1 .6328 ! Single wavelength UNI MM ! Lens is in millimeters OBG .35 1 ! Gaussian object; waist radius -.35 mm; define full aperture = 1/e**2 point. 1TH 22 ! Surface 2 is 22 mm from the waist . 2RD -2 TH 2 GTB S ! Guess some reasonable lens parameters; use glass type SF6 from Schott catalog SF6 3TH 20 ! Surface 3 is a kinoform on side 2 of the first element 3 USS 16 ! Defined as Unusual Surface Shape 16 (simple DOE) CWAV .6328 ! Zones are defined as one wave phase change at this wavelengt HIN 1.7988 55 ! Assume the zones are machined into the lens. You can also apply ! a film of a different index. RNORM 1 4 TH 2 GTB S ! The first side of the second element is also a DOE SF6 4 USS 16 CWAV .6328 HIN 1.7988 55 RNORM 1 5 CV 0 TH 50 ! Start with a flat surface 7 ! Surfaces 6 and 7 exist AFOCAL ! because they are required for AFOCAL output. END ! End of lens input file. 我们给第2个表面指定了一个合理RD值。这是现阶段的系统，还没有DOE的非球面系数：

各种胶水资料

厌氧胶 1. 组成厌氧胶是由丙烯酸酯类单体、引发剂、促进剂、稳定剂组成．还可根据需要添加其他助剂如填料、染料和颜料、增稠剂、增塑剂、触变剂及紫外光吸收剂等。 2. 特点室温固化，速度快，强度高、节省能源、收缩率小、密封性好。固化后可拆卸。性能优异，耐热、耐压、耐低温、耐药品、耐冲击、减震、防腐、防雾等性能良好。胶缝外溢胶不固化，易于清除。无溶剂，毒性低，危害小，无污染。 3. 应用厌氧胶主要应用于锁紧防松、密封防漏、固持定位、粘接、堵漏等方面。在航空航天、军工、汽车、机械、电子、电气等行业有着很广泛的应用。存期一般为三年。 4. 使用方法 ①表面处理除锈——除油污——清洗——干燥除锈可用机械或化学方法进行：除油污、清洗使用适当的有机溶剂（如丙酮、溶剂汽油）浸泡清洗二至三次即可。 ②涂厌氧胶，施以足量的厌氧胶胶以填满空隙。 ③装配，应尽快定位，定位后不能再移动工件。 ④固化，一般1小时厌氧胶可达到使用强度，24小时达到最大强度。 5. 注意事项 ①厌氧胶不能用金属、玻璃等不透气的容器盛装，而需用透气性（低密度聚乙烯）的容器装，并且最多只能装2/3瓶。 ②厌氧胶应贮存在阴凉、干燥的地方，不能暴晒。 ③适合于金属之间的粘接，不适合用塑料、木、纸等多孔性材料。对于钢铁、铜及其合金等活性金属表面粘接固化决、强度高。对于不锈钢、锌、镉等惰性金属表面固化慢、强度低。 ④固化条件须满足下面两个条件：隔绝氧气，间隙一般要求<0.2mm;活性引发中心，如金属、促进剂。 ⑤拆除时若粘接力过大，可将部件加热到200~300℃趁热拆卸；也可用厌氧胶专用清除剂或丙酮中浸泡长时间后进行拆卸。

二元光学元件的设计理论

二元光学元件的设计理论、特殊工艺与应用分析摘要：二元光学自从80年代提出以来，由于其具有衍射效率高，色散性能好，以及具有传统光学不具有的独特的光学性能，而获得了迅速的发展。本文介绍了二元光学的发展历程、加工方法、特殊工艺，并阐述了常用二元光学器件的具体应用，及其发展方向。为同类元器件的研制与推广提供参考。关键词：微光学、二元光学、衍射、光刻工艺 1、前言传统光学元件是基于折反射原理的器件，如透镜、棱镜等都是用机械或手工的方法进行加工，不仅制造工艺复杂、而且元件尺寸大、重量大，已不能适应现代光学设备小型化、阵列化的趋势。80年代中期，美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念，二元光学有别于传统光学元件制造方法，基于衍射光学的原理，元件表面采用浮雕结构，制造上可以采用现有集成电路生产方法，由于采用二元掩模故称为二元光学。关于二元光学的准确定义，至今还没有统一的看法，但目前的共识是二元光学基于光波衍射理论，利用计算机辅助设计、并采用超大规模集成电路制造工艺在元件表面蚀刻产生不同台阶深度的浮雕结构，形成具有极高衍射效率的衍射光学元件，是光学与微电子学相互渗透交叉的前沿学科[1]。它的出现将给传统光学设计和加工工艺带来新的革命。 2、二元光学元件研究进展 2.1 设计理论二元光学元件的设计类似于传统的光学元件的设计方法，已知入射光的光场分布，以及所要达到的输出平面的光场分布，如何计算中间光学元件的参数，使得入射光经过光学系统后光场分布符合设计要求。但是它们之间不同之处在于传统光学设计软件采用的是光线追击以及传递函数的设计方法，而二元光学采用的是衍射理论及傅立叶光学的分析方法。但是在设计方法上仍有其共同点：如修正算法、模拟退火法、二元搜索法等也同样适合于二元光学元件的设计。由于在许多情况下，二元光学元件的特征尺寸在波长量级或亚波长量级，故标量衍射理论已不在适用，因此必须发展描述光偏振特性和不同偏振光之间相互作用的矢量衍射理论[2]。 2.2 加工工艺二元光学元件基本制作工艺采用类似超大规模集成电路中微电子加工技术，而二元光学元件采用表面三维浮雕结构，需同时控制平面尺寸及纵向深度，其加工难度更大。近年

衍射光学元件上课讲义

衍射光学元件

?-高帽光束整形 HOLO/OR几十年来服务于堆栈高帽元件模拟，可以很好地定义高斯光束，将其在工作平台上转换为均匀强度光斑。应用领域：激光切割,激光焊接，激光显示，激光医学和审美激光应用 ?Beam Splitter/Multispot-分束器/多场分束器元件为衍射光学元件，用于将一束激光光束分离为几束，每束光都有最初那束光的特性，这些特性不包括光能量大小和传播角度。多束光方向可以形成一维或二维光图像。应用领域：激光打孔，医疗表面处理，并行处理，并行激光扫描 ?Homogenizer/Diffuser-均化器/扩散器 HOLO/OR有多样且广泛的工业衍射光元件，允许在合理的价格范围内提供解决方案。应用领域：允许任何光束类型，小扩散角，自定义角度，各种波长和尺寸，自定义形状 ?Beam Sampler-光束采样器

HOLO/RO介绍一种新的ED匀化器，由纯石英玻璃或硒化锌材料组成，可选择在这两种材料表面进行高功率ARV-镀膜，有利于给出解决方案，显著减少0.2% 的后向反射。（每个面0.1%）应用领域：直插式功率，嵌入式光束分析 ?Dual Wavelength-双波长产生器衍射光学给出了一个独特的构想，可以只影响一个波长。在多波长光束中，双波长光束组合器是衍射光学元件，用于将两束入射光以不同的波长组合到相同焦点上，为在所需观察面上获得一个强光斑，就必须在激光光束射向光斑的路径上放置一个透明的衍射光学元件。应用领域：外科手术激光系统，工业二氧化碳激光系统 ?Vortex lens-涡旋透镜 Holo-Or介绍了VL系列涡旋微透镜，由纯石英玻璃或硒化锌材料组成，可选择在这两种材料表面进行高功率ARV-镀膜，有利于给出解决方案，显著减少0.2% 的后向反射。（每个面0.1%）应用领域：天文学，光学镊子，加密术 ?Lenslet arrays-微透镜阵列微透镜阵列基底由微衍射透镜覆盖，微透镜阵列作为扩散器，或者作为局部焦点和采样点。衍射微透镜阵列的优势在于其占空因子为 100%，高于折射微透镜阵列。可以很容易地进行设计和成像，并修正微透镜成像系统像差。应用领域：光束扫描仪，焦平面阵列光传感器

光学常用胶水资料

种类 04002 性能指标粘度：60000 ；承受温度 148 C ;可操作时间 22min@25 C 缝隙填充适用环境不含溶剂，固化后不会收缩，适用于填充缝隙。适于粘接不锈钢、铝、酚醛塑料、聚酯、木头、陶瓷、石头、玻璃纤维、玻璃、皮革。可机械加工，喷砂，钻洞和开孔 04004 353ND ――环氧树脂胶粘度：15000 ;承受温度82 C ;用来覆盖和填充划痕，如修理可操作时间120min@25 C 修印刷电路板、光纤、镜头、光补涂层学仪器、珠宝、艺术品等需要透明粘接的地方。适于粘接不锈钢、铝、铜、酚醛塑料、环氧塑料、玻璃、陶瓷。易操作，皮肤过敏性低；易渗入光纤束中；是一种理想的用于固定光纤、金属、玻璃、陶瓷和多种塑料的粘接剂。粘度3000-5000 ;可操作时间小于等于3小时，2小时乐泰480 乙基快干胶 200mPa.S ;工作温度用于大面积金属物质粘合，可 40-80 C,固化时间20-50S ；谓金属粘合提供良好的解决办法，此外乐泰 480还能够轻松地粘接塑料或是弹性体材料。 UV 胶一一丙烯酸酯单体好。可用于密封、粘接、绝缘、防潮、防震；弹性胶粘剂。塑料与塑料、塑料与玻璃、塑料与金属等材料粘接。粘接强度高，固化后完全透明，产品长固化时间20s 1053 , 1153有机硅树脂常温下粘度：; 优良电气绝缘性能，耐高低温 1153 20-55 性能，防潮。体积小重量轻、抗过载能力强，1053主要用于制造耐高温涂料。1153主要用于制造柔软云母板，柔软云母片。

时间5h,硫化温度70-80 C 在一定温度下可硫化成弹性4h. - 60 ―― 180 C范围内正体，硫化时不放热，收缩率小，常工作。无腐蚀性。具有防潮、耐水、耐臭氧、耐气候老化、电气性能优良，化学稳定性与机械强度好。主要用于电子元器件的灌封，粘接、涂覆材料。防潮绝缘、防震。 295硅脂粘度：295-1D ，200-240 无味、无嗅、无毒、具有良好 295-2D，200-230 的耐高低温性能。抗氧化性， 295-3D，170-200 化学性质稳定。电绝缘性好，可在-50 ―― 250 C,长期使防水防潮。广泛用于半导体晶用温度范围-50―― 180C 体管的填充，仪表的电器绝缘。高低温润滑。高压绝缘子的防污闪。防震。

光学常用胶水资料

乐泰480——乙基快干胶200mPa.S；工作温度 40-80℃，固化时间 20-50s; 用于大面积金属物质粘合，可谓金属粘合提供良好的解决办法，此外乐泰480还能够轻松地粘接塑料或是弹性体材料。 GD406 脱醇型单组份室温硫化硅橡胶固化时间100-200min。适用温度-60—— 200℃。高强度、粘接性好、无腐蚀。电绝缘性、密封性、硫化性能好。可用于密封、粘接、绝缘、防潮、防震；弹性胶粘剂。 UV胶——丙烯酸酯单体固化时间20s塑料与塑料、塑料与玻璃、塑料与金属等材料粘接。粘接强度高，固化后完全透明，产品长期不变黄，不白化。 GN511,GN512有机硅凝胶（二甲基硅氧烷）GN511：粘度 5000-6000；允许操作时间>5h；固化时间 4h(70-80) ℃。 GN512：允许操作时间硫化不放热，收缩率小，无腐蚀性、防潮；主要用于电子元器件的灌封、粘接、涂覆材料。起到防潮、绝缘、防震

光学常用胶水

GN511,GN512有机硅凝胶（二甲基硅氧烷）GN511：粘度 5000-6000；允许操作时间>5h；固化时间4h(70-80)℃。 GN512：允许操作时间10-30min，室温下 24h固化。温度-60— —200℃正常使用。硫化不放热，收缩率小，无腐蚀性、防潮；主要用于电子元器件的灌封、粘接、涂覆材料。起到防潮、绝缘、防震作用。 1053，1153有机硅树脂常温下粘度： 105325-60； 115320-55 优良电气绝缘性能，耐高低温性能，防潮。体积小重量轻、抗过载能力强，1053主要用于制造耐高温涂料。1153主要用于制造柔软云母板，柔软云母片。 GN521,GN522有机硅凝胶粘度：5000-7000；允许操作时间5h,硫化温度70-80℃ 4h.-60——180℃范围内正常工作。双组份一应定的比例混合时，在一定温度下可硫化成弹性体，硫化时不放热，收缩率小，无腐蚀性。具有防潮、耐水、耐臭

衍射光学元件的基本原理

衍射光学元件的基本原理衍射光学元件是由二元光学的发展而衍生出来的一种新的光学器件，属于微光学范畴。光的衍射理论是设计衍射光学元件的基本原理。光的衍射公式复杂冗长，不便于实际应用，维尔克斯光电根据实际工程中holoor衍射光学元件的使用情况，精心总结了以下简化的公式，以相对简单的方式阐述衍射光学元件基本原理。衍射光学公式：光栅方程&垂直入射：光栅方程&斜入射衍射角度随波长的变化：衍射极限的光斑尺寸： Holoor以对比度来定义光斑均匀性： Holoor的衍射光学元件DOE对于校准后的激光光束效果最好，但也可用于调制未校准的激光光束； DOE衍射光学元件不要求激光光束是偏振的或相干的； DOE衍射光学元件不会影响激光的偏振态，除了亚波长regime。激光光束分束器/激光点阵衍射光学元件/多光斑衍射光学元件用到的衍射光学原理 Holoor 激光光束分束器/激光点阵衍射光学元件/多光斑衍射光学元件用于把一个激光光束分解为多个光束，而且每个光束的特性和入射的原始激光光束一致。入射激光光束模式：单模/多模相邻激光点/激光光斑的间距：

每个点的尺寸：容忍度：对于X轴Y轴Z轴的对准偏差不敏感衍射效率：70~95% 均匀性：典型值<5% 平顶光束整形器 Holoor平顶光束整形器的作用是把一个高斯入射激光光束在一个特定的工作平面上转化为一个均匀的激光光斑，形成一个具有极好的能量均匀性的像。特性：成像尺寸可以为衍射极限的1.5倍~几百倍输入激光模式：单模TEM00 （建议M2<1.3）衍射效率：>93% 衍射均匀性：典型值<5%，无杂散光容忍度：对于X轴Y轴的对准/校准敏感，聚焦和输入光束尺寸有关激光匀化器、扩散器 Holoor 激光匀化器、扩散器的作用是是激光束变为任意形状的、具有均匀能量分布的大光斑，光斑形状可以为圆形、正方形、线性、六边形，甚至是任意形状。输入激光模式：单模或多模（M2越大匀化效果越好）衍射效率：典型值70%~90% 容忍度：对于X轴Y轴Z轴的对准偏差不敏感

光学常用胶水资料

光学常用胶水资料 Document number：NOCG-YUNOO-BUYTT-UU986-1986UT

种类性能指标适用环境 04002 粘度：60000；承受温度 148℃;可操作时间 22min@25℃缝隙填充不含溶剂，固化后不会收缩，适用于填充缝隙。适于粘接不锈钢、铝、酚醛塑料、聚酯、木头、陶瓷、石头、玻璃纤维、玻璃、皮革。可机械加工，喷砂，钻洞和开孔 04004 粘度：15000；承受温度 82℃;可操作时间 120min@25℃修补涂层用来覆盖和填充划痕，如修理印刷电路板、光纤、镜头、光学仪器、珠宝、艺术品等需要透明粘接的地方。适于粘接不锈钢、铝、铜、酚醛塑料、环氧塑料、玻璃、陶瓷。 353ND——环氧树脂胶粘度3000-5000；可操作时间小于等于3小时，2小时易操作，皮肤过敏性低；易渗入光纤束中；是一种理想的用于固定光纤、金属、玻璃、陶瓷和多种塑料的粘接剂。乐泰480——乙基快干胶；工作温度40-80℃，固化时间20-50s; 用于大面积金属物质粘合，可谓金属粘合提供良好的解决办法，此外乐泰480还能够轻松地粘接塑料或是弹性体材料。 GD406 脱醇型单组份室温硫化硅橡胶固化时间100-200min。适用温度-60—— 200℃。高强度、粘接性好、无腐蚀。电绝缘性、密封性、硫化性能好。可用于密封、粘接、绝缘、防潮、防震；弹性胶粘剂。 UV胶——丙烯酸酯单体固化时间20s 塑料与塑料、塑料与玻璃、塑料与金属等材料粘接。粘接强度高，固化后完全透明，产品长期不变黄，不白化。GN511,GN512有机硅凝GN511：粘度5000-硫化不放热，收缩率