磁控溅射法制备TiO2薄膜及其光催化性能
磁控溅射法制备TiO2薄膜及其光催化性能研究摘要:本论文主要研究了溅射气压、氧氩比和溅射时间对tio2薄膜的影响,使用浓度为30mg/l的甲基橙溶液做光催化实验,结果表明tio2薄膜具有良好的光催化性能。
关键词:tio2薄膜;磁控溅射;光催化
1 实验过程
1.1实验设备与仪器
jcx-1000超声波清洗机清洗载玻片,采用cs—300复合磁控溅射装置在玻璃基片上镀膜;靶材为二氧化钛靶,纯度99.99 %;真空室中通入少量99.999 %的纯氩和纯氧。tu—1901紫外可见分光光度计,接触角测试仪,自动控温扩散炉(抚顺市无线电研究所),采用x,pert pro型x射线衍射仪,uv755b 紫外可见分光光度,分析天平。
1.2.试验方案
设计不同的实验方案,如表1所示
表1 具体实验方案
a.不同溅射时间
溅射时间(h) 1 2 3 4
氧氩比1:40 1:40 1:40 1:40
溅射压强(pa) 1 1 1 1
溅射电流(a)0.4 0.4 0.4 0.4
b.不同溅射压强
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