Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究

Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究周智刚

【期刊名称】《电子与封装》

【年(卷),期】2002(002)005

【摘要】本文介绍了Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究,评估Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺层次的可行性.

【总页数】3页(24-26)

【关键词】H.B.;P.E.B;焦深容宽;孔光刻;通孔光刻

【作者】周智刚

【作者单位】无锡微电子科研中心二室,江苏,无锡,214035

【正文语种】中文

【中图分类】TN305.7

【相关文献】

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