FPC生产流程学习

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(陈日辉)

一.开料

1.覆盖膜的结构:PI/胶/离形纸

型号:G140 WS125 BTWL125 G表示供应商W表示白色BT表示长条板

1表示PI厚度(mil)S表示供应商W表示白色

40表示胶厚度(μm)1表示PI厚度(mil)L表示供应商

40表示胶厚度(μm)1表示PI厚度(mil)

25表示胶厚度(μm)

2.基材的分类:单面基材,双面基材,单面覆胶基材,(多层基材),纯铜箔

(1)单面基结构:PI/胶/铜箔

型号:18/25,18表示铜箔厚度(μm),25表示PI厚度(μm),胶默认20μm。

(2)双面基结构:铜/胶PI/胶/铜箔

型号:35/25/70,35表示铜箔厚度(μm),25表示PI厚度(μm),70表示另一面铜箔厚度(μm),胶默认20μm。

(3)单面覆胶基材:胶/PI/胶/铜箔

型号与单面基材类似。

注:1mil≈25.4μm,1oz(铜箔)≈35μm

二.钻孔

1.步骤:包板→读钻带→上板→设置参数→调整→排刀→加工→取板

2.包板方向:根据流程卡的作业说明。覆盖膜一般滑面向下。

3.钻咀直径范围:0.2~6.5(mm),其中槽刀:1.6~2.0(mm)

4.钻孔顺序:定位孔→从小到大→槽孔

5.参数设置:根据钻咀的性能设置。

6.压板的作用:防毛刺,稳定性,散热

垫板的作用:保护钻咀

7.长条板,整卷要分段钻孔,单次钻孔极限范围500×615(mm)

三.P.T.H.

1.步骤:微蚀→除油→PI调整→活化→加速→沉铜→电镀

微蚀用SPS+H2SO4,蚀掉0.3~0.8μm

除油用碱

PI调整用KOH(3%~5%)

活化是使孔壁附上一层胶体Pd

加速是去掉活化带来的SnCl2

沉铜是在Pd的催化和碱性环境下,HCHO产生还原性的氢,将溶液中的Cu2+还原成Cu 附在孔壁上形成很薄的铜层。

电镀是用板和铜球作电极,在板上镀上约10μm的铜,关键作用是加厚孔壁上的铜层。

2.作用:使得双面板的两面线路在有孔的位置导通

四.曝光

1. 曝光原理

在铜箔表面贴上或涂上一层感光材料,使菲林上的线路通过感光材料转移到板材上。

2. 单、双面板曝光时的定位方法

对特定孔。

3. 怎么区分正片菲林和负片菲林及它们各自的作用

要的线路是透明的菲林是负片菲林,不要的线路是透明的菲林为正片菲林。

4. 怎么区分菲林的要膜面朝向,曝光时药膜面与线路板应怎么放置

我们可以用器物划一下菲林的边缘,掉色的一面就是药膜面。药膜面面向线路放置

5.曝光机开启后怎么确定曝光能量

剪一小块干膜贴在板材上,曝光尺贴在干膜上,放到曝光机里曝光,再拿去显影,干膜部分与曝光尺作对比,颜色相同或相近的就是对应的曝光能量。

6.干膜结构

干膜分三层,上下层是离型膜,中间是感光阻剂。贴干膜时,要将其中的一层离型膜剥去。

五.DES

1.步骤:显影→检查→蚀刻→退膜

2.显影:

(1)干膜:显影→补充显影→水洗→吸干

显影用Na2CO3溶液(1±0.2%),显影速度3.7m/min,水压2.0kg/m2,显影温度为30℃。(2)湿膜:显影→加压水洗→强风干→热风干

显影速度3.7m/min,水压2.0kg/m2,热风干为70℃。

3.检查:没显的地方刮掉,显多了的地方用油性笔涂上。

4.蚀刻退膜:蚀刻→水洗→吸干→膨松→退膜→水洗→抗氧化→水洗→吸干→冷风干→热风干

蚀刻速度:2OZ铜:2 m/min

1OZ铜:4.5~5m/min

0.5OZ铜:≥5m/min

蚀刻液由NaClO3(58.5mol/L),HCl(340mol/L),CuCl2组成,比重为1.3,温度为50℃。

蚀刻原理:在HCl溶液中,Cu2+能将Cu氧化,生成Cu2Cl2,再用NaClO3将一价铜氧化成Cu2+重复使用:

CuCl2+ Cu ===== Cu2Cl2(盐酸溶液中)

NaClO3+ 3 Cu2Cl2+ 6HCl ===== NaCl + 6 CuCl2+ 3H2O

退膜使用NaOH(4%~8%),50℃。

退膜速度:3.5~4.0 m/min。

热风干:70℃。

六.电测

1.原理:在电测机上利用计算机软件进行开短路测试。

2.符号:++表示短路,--表示开路,+表示微短。

4.修理:短路及微短:将短路处刮开;开路:将开路的单元剪掉报废。

七.贴CVL

将覆盖膜上的一层离型纸撕去,有热固胶的一面面向线路,对好之后用电烙铁粗略定固,然后拿去假压,再拿去压合车间;贴CVL能达到的公差为0.3mm;

八.压合

1.压基材、覆盖膜、补强、热固胶的相关参数

基材:温度180°C,压力120—140Kg/cm2, 预热时间5—10s,成型时间60—100s 底层覆盖膜:温度180°C,压力100—120Kg/cm2,预热时间5—10s,成型时间80—120s 顶包:温度180°C,压力120Kg/cm2, 预热时间5—10s,成型时间100—120s 补强:温度180°C,压力80—120Kg/cm2,预热时间5—10s,成型时间100—120s 热固胶:温度70—80°C,压力10—20Kg/cm2, 预热时间5—10s,成型时间10—25s

2.压合的原理

通过压合机将有热固胶的覆盖膜压合在线路上

3.过塑的作用

防止板材出现气泡,偏位等现象

九.丝印

1.步骤:拉网→晒网→定位→文字→烘烤

2.图形的原理与曝光相似

3.定位方法:将网装好,电路板对齐,在定位孔的位置贴上定位针。

4.烘烤的温度和时间:

丝印温度(℃)时间(min)

单面字符150 20

双面字符第一面150 5

双面字符第二面150 20

长条单面字符150 20

长条双面字符第一面150 5

长天双面字符第二面150 20 覆盖膜字符80 130

十.打孔

打孔的作用是为了定位。

十一.OSP

1. OSP的原理和作用

先对板材进行清洗,然后在板材上覆盖上一层有机保焊膜,防止焊点等铜箔裸露的地方被氧化。

2.OSP步骤:

除油→水洗×3→微蚀→水洗×3→酸洗→水洗×3→抗氧化→风刀赶水→冷风干→热风干→冷却→接板

注:酸洗步骤可以免去。

注:除油体积“80/100”表示浸缸体积为100L,开缸体积为80L,下同。

十二.成型

1.成型的作用

因为为提高生产效率,我们的每一块板材都由很多个pieces组成的,为了方便后续工序加工、使用,所以我们要把板材切成一段段的但却不切断。

十三.FQC、包装、入库、出货

十四.沉镀铜工艺流程、碗孔板工艺流程

沉镀铜:开料→钻孔→沉铜→镀铜→贴膜→曝光→显影→蚀刻→退膜→电测→贴覆盖膜→贴装→固化→文字→固化→表面处理→冲制→FQC→FQA→包装→入库→出库

碗孔板:开料→钻孔或冲孔→贴基材→压基材→烘烤→涂湿膜→曝光→显影→线测→蚀刻→退膜→电测→贴覆盖膜→假压→热压→固化→表面清理→文字→固化→表面处理→成型→FQC→FQA→包装→入库→出库

FPC生产过程介绍

FPC生产过程介绍 首先介绍一下什么是FPC? FPC是Flexible Printed Circuit的简称,又称软性线路板、柔性印刷电路板,挠性线路板,简称软板或FPC,具有配线密度高、重量轻、厚度薄的特点。主要使用在手机、笔记本电脑、PDA、数码相机、LCM等很多产品。 FPC实物 FPC所用到的材料 1,原材料

(1)有胶材料,无胶材料;材料上的铜分电解铜与压延铜,无胶压延铜的材料柔性,折叠性比较好。 (2)材料的厚度:PI+铜厚 2,覆盖膜 覆盖膜由PI和胶组成. 3,补强 补强一般有以下几种;PI补强,PED补强,FR4补强,钢片补强等,一般补强的厚度有,PI1/2 1/2,PI11,PI21,PI31 到PI91,PI后的两为数值分别代表PI的厚度与胶的厚度,单位为Mil。厚度根据客户要求而定。 4,纯胶 纯胶的主要用于多层板的叠层和分层板,也有用于粘接补强。 5,屏闭膜 主要起到信号屏闭作用,而且要接地。 6,3M胶 粘接补强与用于固定FPC 等作用。 双面FPC的生产流程 (1)开料

材料的大小有规定,材料大小的长度一面固定是250mm,另一面的长度大小随着panel的需求而定。根据Panel的大小而裁定材料的大小. (2)钻孔 PTH,定位孔,方向孔 (3)PTH 通过镀液的自催化氧化还原反应,使桶离子镀在经过活化处理的的孔壁上,为下一步的电镀做准备,使铜壁上的铜厚达到一定的厚度,从而达到导通的作用。(4)电镀 提高孔内镀层均匀性,保证整个版面(孔内及孔口附近的整个镀层)镀层厚度达到一定的要求。 (5)前处理, 清洗板面,处理板面的氧化物,油腻等 (6)贴干膜 PE,感光阻剂和PET组成,在板在贴上干膜,从而达到影象转移的功能,在蚀刻的过程中起到保护线路的作用。 (7)曝光,贴上干膜后会发生有机聚合反应,曝光后会在板面形成线路图形。(8)显影

FPC生产流程

FPC生产流程 FPC生产流程 1.FPC生产流程: 1.1 双面板制程: 开料→ 钻孔→ PTH → 电镀→ 前处理→ 贴干膜→ 对位→曝光→ 显影→ 图形电镀→ 脱膜→ 前处理→ 贴干膜→对位曝光→ 显影→蚀刻→ 脱膜→ 表面处理→ 贴覆盖膜→ 压制→ 固化→ 沉镍金→ 印字符→ 剪切→ 电测→ 冲切→ 终检→包装→ 出货 1.2 单面板制程: 开料→ 钻孔→贴干膜→ 对位→曝光→ 显影→蚀刻→ 脱膜→ 表面处理→ 贴覆盖膜→ 压制→ 固化→表面处理→沉镍金→ 印字符→ 剪切→ 电测→ 冲切→ 终检→包装→ 出货 2. 开料 2.1. 原材料编码的认识 NDIR050513HJY: D→双面, R→ 压延铜, 05→PI厚0.5mil,即12.5um, 05→铜厚18um, 13→胶层厚13um. XSIE101020TLC: S→单面, E→电解铜, 10→PI厚25um, 10→铜厚度35um, 20→胶厚20um.

CI0512NL:(覆盖膜) :05→PI厚12.5um, 12→胶厚度12.5um. 总厚度:25um. 2.2.制程品质控制 A.操作者应带手套和指套,防止铜箔表面因接触手上之汗而氧化. B.正确的架料方式,防止皱折. C.不可裁偏,手对裁时不可破坏沖制定位孔和测试孔. D.材料品质,材料表面不可有皱折,污点,重氧化现象,所裁切材料不可有毛边,溢胶等. 3钻孔 3.1打包: 选择蓋板→組板→胶帶粘合→打箭头(记号) 3.1.1打包要求: 单面板 15张 ,双面板 10张 , 包封 20张. 3.1.2蓋板主要作用: A: 防止钻机和压力脚在材料面上造成的压伤 B::使钻尖中心容易定位避免钻孔位置的偏斜 C:带走钻头与孔壁摩擦产生的热量.减少钻头的扭断. 3.2钻孔: 3.2.1流程: 开机→上板→调入程序→设置参数→钻孔→自检 →IPQA检→量产→转下工序. 3.2.2. 钻针管制方法:a. 使用次数管制 b. 新钻头之辨认,检验方法 3.3. 品质管控点: a.钻带的正确 b.对红胶片,确认孔位置,数量,正确. c确认孔是否完全导通. d. 外观不可有铜翘,毛边等不良现

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