超大规模集成电路中低功耗设计与分析

随着IC设计的规模更大,速度更快,以及便携式设备的广泛需求,设计中功耗的问题越来越凸现出来,所以在整个设计流程中就需要对功耗进行分析和低功耗设计,这些技术可以保证芯片的每一部分都能高效、可靠、正确地工作。

选择合适的低功耗手段,必须以细致的功耗预估为前提,并且也要掌握工具的适用范围和能达到的低功耗底限。在流程中尽可能早的分析出功耗需求,可以避免和功耗相关的设计失败。通过早期的分析,可以使用高层次的技巧来降低大量的功耗,更容易达到功耗的要求。

本论文围绕数字CMOS电路的功耗问题进行展开,主要分成两大部分。

首先针对超大规模集成电路中的功耗分析进行探讨,介绍了在RTL级、门级不同层次上对功耗进行分析的方法和对实际设计的指导意义,并对一个450万门的超大规模芯片在各层次上进行功耗分析,并和流片后测试得到的结果有着很好的吻合。

然后是对低功耗进行了一些结构上的设计。动态电压缩放(DVS)技术是一种通过将不同电路模块的工作电压调低到恰好满足系统最低要求来实时降低系统中不同电路模块功耗的方法,有着良好的应用前景。本论文实现了一款动态电压缩放(DVS)电路,可应用于突发吞吐量工作模式的处理器,通过和一个电路实例的整体仿真,验证了该DVS电路的低功耗效果。

关键字:低功耗;功耗分析;动态电压缩放

Liu Hainan (Microelectronics and Solid-State Electronics)

Directed by Professor Zhou Yumei

As the design of IC go into larger and faster, the issue about power consumption is more critical. It is necessary to analysis the power accurately and manage low power techniques in every step of the design flow, so as to assure the efficient, reliable and correct function.

Choosing the appropriate low power solutions depends on careful power analysis as well as understanding the capabilities of available tools. Analyzing power requirements as early as possible in the design flow helps avoid power related disasters. Early analysis also makes power goals easier to attain because higher-level techniques save the greatest amount of power.

The thesis is made up of two main parts based on the discussion of the digital CMOS power consumption.

First of all, this thesis introduces and demonstrates a top-down VLSI design methodology for power analysis, discuss the method to estimate the power on RTL and gate level, which could serve as a guide to the floorplan and place & route. And estimate the power consumption about a 4.5 million VLSI on several level, draw some conclusion from comparing the test result of the fabricated chip.

In the second, completed a low power technique on the structure level. Dynamic V oltage Scaling is a technique using the lowest level voltage in real time on different block dramatically reducing energy consumption, while maintaining the desired level of performance, which has a nice prospect to realize low power. The thesis has developed a DVS circuit, which could get the corresponding lowest voltage according to the system frequency. Take a 16X16 multiplier as a test circuit to simulate together, proving the low power action of DVS.

Keyword:low power, power analysis, Dynamic V oltage Scaling

摘 要 (Ⅰ)

目 录 (Ⅲ)

第一章 绪论 (1)

1.1 前言 (1)

1.2 低功耗设计研究的现状 (2)

1.3 论文的内容与安排 (3)

第二章 低功耗设计方法 (5)

2.1 功耗模型 (5)

2.2 低功耗设计方法 (6)

2.3 各个层次上的功耗预估 (13)

2.4 450万门超大规模芯片的功耗预估 (20)

第三章 动态电压缩放电路 (24)

3.1 DVS概述 (24)

3.2 DVS的适用范围 (28)

3.3 DVS的应用 (31)

3.4 DVS的性能指标 (32)

3.5 动态DC-DC转换器的设计考虑 (34)

第四章 动态电压缩放控制电路的实现 (41)

4.1 DVS原理框图 (41)

4.2 电路的实现 (43)

4.3 电路的仿真与低功耗验证 (53)

第五章 总结 (57)

参考文献 (58)

发表文章目录 (60)

致 谢 (61)

第一章绪论

第一章绪论

一、前言

随着微电子技术的迅猛发展,最突出的表现是特征尺寸的不断缩小,集成度遵从摩尔定律不断提高。1964年,Intel公司创始人之一Golden Moore便预测说集成在单个硅芯片上的晶体管数量每18个月将会翻一番,同时芯片成本也将相应下降,这就是著名的“摩尔定律”。

集成电路芯片的功能变得更加丰富,工作速度越来越快,器件尺寸越来越小,芯片的成本越来越低。当前系统芯片(SOC)成为微电子发展的必然趋势。基于SOC的芯片设计是将更大,更复杂的系统集成于单个芯片。单个芯片内可能集成通用微处理器核(MCU Core)、数字信号处理器核(DSP Core)、存储器核(Memory Core)、专用电路(ASIC)等[1]。系统功能的多样性和复杂性一方面增加了芯片功耗,对低功耗设计和精确预估功耗提出了挑战;另一方面也提供了更多降低功耗的机会。与此同时,器件越做越小,工作频率越来越高,使芯片单位面积的计算负荷迅速上升,导致高性能芯片的功耗越来越大。尤其是在进入90nm后,芯片频率可能高达3GHz,其巨大的发热现象极大地影响了芯片功能的实现,已经被业界称为发热壁垒。

功耗的迅速增加将会引起一系列的问题,比如芯片的散热措施也需要不断更新,从改变封装形式到添加散热装置,明显地增加了芯片的成本。最新的苹果Mac5处理器,已经开始采用水冷散热的措施。

在半导体工艺不断进步的同时,以电池为供电形式的手持设备和笔记本电脑等便携式电子产品迅速普及开来,系统的功耗已经成为这些系统设计首要考虑的因素。尽管电池技术一直在提高,但与半导体和通信产业的飞速发展相比,它的供电能力和重量一直是便携设备的瓶颈。在过去的30年中,电池的容量仅增加了2—4倍[2],不可能跟上集成电路发展的要求。低功耗设计对于确保合理的电池工作时间是具有决定意义的,所以说,各种便携式通信及其它消费电子产品的快速发展,是要求低功耗设计的一个直接推动因素。

超大规模集成电路低功耗设计与分析

另一个与功耗有关的问题是可靠性。功耗增加会引起芯片温度的升高,将引发一系列的故障机制,如硅片连线故障、封装故障、电学参数漂移、电迁移等等,都会导致器件可靠性下降。温度每升高10℃,器件的故障率就要提高2倍[3]。

高速数字电路中的地线反弹(Ground Bounce)现象也要求对功耗进行细致的分析,尤其是对瞬态的功耗分析有更为迫切的要求。随着数字电路工作频率的不断提高,其输出跳变速率也不断上升,再加上I/O数目的增加,在接电源、地引脚上的电流变化率也会大大上升,而使芯片内部电源、地线的电压有一个较大的变化,会损害信号的完整性,这就需要功耗完整性(Power Integrality)方面的考虑。PI是不能够避免的,但可以从各个方面着手降低这方面的影响,比如封装形式、容性负载,电路板级优化等。如果能够降低芯片的功耗,就会使电流的绝对数值减小,对降低地线反弹会有直接的改善。

基于以上原因低功耗设计越来越引起人们的关注,已经继速度、面积之后,和可测性一起成为现在VLSI设计中的又一个热门领域。

二、低功耗设计研究的现状

低功耗电路设计就是在电路设计过程中采用各种设计手段,降低电路的功耗,当然所采用手段不能明显降低电路的时序性能,电路应该是一个合理的速度、面积、功耗和可测性的折衷。

根据低功耗措施介入电路设计阶段的不同,低功耗设计方法可以分为多个层次,按照抽象层次的不同,可以分为:系统级、算法级、结构级、逻辑门级、电路级、版图级和工艺级。每个级别可以达到的低功耗设计效果也完全不同。抽象层次越高表明在数字系统的设计中进行低功耗考虑得越早,所采用的低功耗设计策略的效果就会越明显。

系统级低功耗设计主要考虑软硬件分工、动态电压管理等方面,它研究的重点是数字系统如何操作和控制各个芯片的工作,达到降低功耗的目的。

算法级的低功耗设计研究主要在算法的复杂性、规整性和所需的数据精度几个方面。

第一章绪论

结构级可以使用包括并行化处理、流水线处理和分布处理在内的并发处理,以及门控时钟、操作数隔离和电源管理的方法降低功耗。

逻辑门级低功耗设计的主要手段有:工艺映射、改变晶体管尺寸、缓冲器插入、调整相位、管脚置换和因式化简等。

电路级主要利用动态逻辑、传输门逻辑、异步逻辑等电路结构来降低功耗。

在版图级阶段,设计者可以考虑互连线电容的降低和以功耗驱动的自动布局布线来降低功耗。

工艺级是可以进行低功耗考虑的最低层次,也就是在具体电路实现采用某些措施来降低电路的功耗,在这个层次主要可以考虑:逻辑类型的选择、优化工艺降低电容、电压缩小(voltage scaling)等方面。这里的电压缩小是指在具体电路实现时通过降低电路的供电电压来达到降低功耗的目的,是系统级的动态电压管理的具体实现。

抽象层次的合并与细化会产生其他不同的分类方法,但这些技术的基本思想都是为了降低电源电压、电压摆幅、电容、开关活动率中的一项或几项。

国外很多大学和公司都开展了数字电路的低功耗研究,在各个层次上都进行了很深入的研究,并取得了很显著的成果。我国在集成电路的低功耗研究的各个层次上也都有所开展,主要集中在各高校和研究所。

三、论文的内容与安排

本论文围绕数字CMOS电路的功耗问题进行展开,主要分成两大部分。首先针对超大规模集成电路中的功耗分析进行探讨,介绍了在RTL级、门级不同层次上对功耗进行分析的方法和对实际设计的指导意义,并对一个450万门的超大规模芯片在各层次上进行功耗分析,根据流片后测试得到的结果,得到一个相互对照的结论。然后是对低功耗进行了一些结构上的设计,实现了一款动态电压缩放(DVS)电路,适用于突发模式的处理器,并和一个电路实例一起进行仿真,验证了该DVS电路的低功耗效果。

研究重点及章节安排如下:

超大规模集成电路低功耗设计与分析

第二章首先对数字CMOS电路的功耗建模进行介绍,然后介绍了在不同层次上的低功耗技术,最后是对低功耗ASIC流程中的功耗预估进行着重讨论。第三章是针对动态电压缩放电路而展开的,介绍了动态电压缩放的概念、指标、适用范围和一些设计上的考虑,以及现阶段动态电压缩放的应用和开发状况。第四章是动态电压缩放控制电路的实现,包括各部分电路的实现、仿真结果低功耗验证与分析。第五章是对全文的总结。

第二章低功耗设计方法与分析

第二章低功耗设计方法

本章对数字CMOS电路进行了功耗建模,系统地介绍了在各个层次上的低功耗技术,并对低功耗ASIC流程中的功耗预估进行重点讨论。

第一节 功耗模型

CMOS电路的功耗可以分为两部分:广义地被分成静态和动态两大类。

一、静态功耗

静态功耗是由于MOS晶体管的开关特性并不是理想的,存在漏电流、亚阈值电流、衬底注入电流等非理想的因素,在门不翻转时,即不活动或静态时所消耗的功耗。绝大部分静态功耗是由漏源亚阈值漏电产生,主要由于减小阈值电压而不能使晶体管完全截止。有源区和衬底间的漏电也能产生漏电流。因此,静态功耗也常称为漏功耗。

二、动态功耗

动态功耗是指消耗在电路动作时的功耗,动态功耗是由于CMOS电路的开关动作所引起的。当外加激励加在电路上,使节点上电压变化时,电路便处于活动状态。因为在输入端的电平变化可能不能导致在输出端的逻辑变化,所以在输出端即使不发生逻辑变化时也可以发生动态的功率消耗。动态功耗由两方面组成:开关转换功耗和内部功耗。

1. 开关转换功耗

开关转换功耗:对于驱动单元的开关转换功耗是指消耗在对单元的输出负载电容进行充放电的消耗,这些电容是由连线、器件的寄生电容、CMOS的输入电容等构成,驱动单元的总负载电容是指驱动的输出端所有的节点和门电容的总和。因为充电和放电是单元输出端的逻辑转换的结果,所以当逻辑转换增加时,功耗也相应增加。因此,单元的开关转换功耗是总负载电容和逻辑转换率的函数。开关转换功耗构成了CMOS电路功耗的大部分组成。

超大规模集成电路低功耗设计与分析

f CV P dd dyn α2=

其中为负载电容,是工作电压,f 为电路工作频率,C dd V α是开关活动率。在所有的功耗中,充放电功耗是最重要的部分,至少占了整个功耗的90%以上

[3]。而相当多的低功耗设计技术正是围绕减少充放电功耗展开的。

2. 内部功耗

内部功耗:内部功耗是指在开关转换过程中消耗在单元内部的功耗。在开关过程中,通过对单元内部的电容充放电而消耗的功耗。内部功耗还包括对于p 管和n 管在瞬间短路时所消耗的功耗,也称为短路功耗。

f W P sc τκ=

其中κ时由工艺和电压决定的,W 是晶体管的宽度,τ是输入信号上升/下降的时间,是开关频率。

f 对于转换时间较短的电路,短路功耗很小,但对于转换较慢的电路,短路功耗对于一个门的消耗的50%还要多[4]。短路功耗还受到晶体管的尺寸和负载电容的影响。

第二节

低功耗设计方法

人们一直以来主要关注的问题是如何提高芯片的工作速度、节省硅片面积与成本以及提高系统工作的可靠性,而对电路功耗的考虑通常处于相对次要的位置。但是由于VLSI 本身的发展及市场需求使情况发生了一些根本的变化,在很多领域,降低功耗已成为数字系统设计的一个最为重要的问题。

低功耗设计贯穿于从系统级、算法(行为)级、结构级、逻辑电路级直到器件/工艺级的整个数字系统设计流程。在低功耗设计中,首先要明确一个系统中的功耗分布,在此基础上针对功耗消耗大的模块单元、关键路径和非关键路径进行功耗优化。由系统级到逻辑电路层次其功耗优化由系统设计者决定,器件/工艺层次由半导体工艺决定。

从系统和算法级提出的低功耗设计方法的效率要比门级和寄存器传输级的高得多,门级和寄存器传输级得低功耗设计方法基本都是在电路的基本结构确定的前提下,添加少量的电路和微调电路的结构。算法级和系统级低功耗设计方法主要是从电路的体系结构和编码等方面入手,对具体电路实现没有特殊要求,这些低功耗措施对综合工具和布局布线工具完全是透明的,因此最后得到的电路质量较高。而结构级的低功耗设计方法是在确定电路实现方案时就要考虑电路的功耗问题,在电路的面积、速度、功耗和可测性方面做出权衡,因此设计出的电路在面积、速度和可测性方面会有所牺牲,但电路的功耗往往会有一个数量级的下降。

一、系统层次功耗优化

系统级功耗控制的基本方法是针对系统的不同工作模式和状态,设计出相应的低功耗工作模式。一方面系统应能按照性能设计要求完成系统功能;另一方面要求系统消耗尽可能低的功耗,即尽可能地工作于低功耗工作模式。由于系统所执行任务的多样性,对系统,特别是对处理器核的工作性能有不同的需要。以工作频率为性能标志,系统功耗设计应能根据不同的任务需要让处理器工作于功耗尽可能低的状态,即较低的工作频率,将任务调度和电压缩放结合起来降低功耗

1.软硬件划分

软硬件划分是从系统功能的抽象描述(如C语言)着手,把系统功能分解为硬件和软件来实现,对于一个系统的功能,可通过在处理器上运行软件来实现和通过专用电路实现,比较两者的功耗得出一个低功耗的实现方案,软硬件划分的技术处于设计的起始阶段,给降低功耗带来更大的可能。在根据系统功能说明进行软硬件协同设计、确定指令体系结构时,不同的设计出发点所导致的设计功耗结果差别会很大。因此系统硬件的各个子模块划分以及软件上设置不同的工作状态对功耗的优化非常重要。

2.存储器优化

存储器是集成系统的重要组成部分,存储器的功耗包括对存储器本身功耗和处理器与存储器之间通信的功耗。进行低功耗设计时应合理设置存储器层次,对片上存储器和片外存储器进行合理规划,同时要考虑到存储元件的类型(SRAMs, DRAMs,cache),及对它们的大小、组织结构进行合适的优化。

3.动态功耗管理

动态功耗管理主要有两种技术,一种是电压缩放,即根据任务所需要达到的性能来选择处理器的电压或频率;另一种是进入低功耗的休眠状态,如果没有任务执行则关闭处理器来降低功耗。该技术的核心就是如何根据系统的状态信息决定系统何时对电压进行缩放,或何时进入休眠状态[5] [6]。

二、算法/行为层次功耗优化

对所需算法的复杂性、并发性进行分析,尽可能利用算法的规整性和可重用性达到降低功耗的目的。由于实现一个具体问题的方法往往具有多样性,而且它与具体实现的依赖性很小,所以算法的选择相对来说自由得多,而且它对最终硬件实现的功耗的影响也会很显著。

1.算法的复杂性

每条指令的执行都需要一定的能量,对于确定的处理器,其每条指令的功耗是一定的,所以最简单的衡量一个算法是否在功耗方面为最优的方法,就是根据运行此种算法所需的指令数来判断。考虑到各条指令所需的功耗并不相同,更为精确的方法应当是以各条指令所消耗的能量为权值的加权和。

2.算法的规整性

一个规整的算法本身就很适合ASIC来实现,对于降低功耗来说也同样是有利的:在ASIC中,规整的算法使得用来描述状态的有限状态机变得简单,使其耗能减少;算法的规整性会使所需要的判断分支语句减少,判断分支语句会引起流水线中空泡增多,导致无效的能量消耗。

3.算法的数据精度

实现相同的功能要求,不同的算法所需的数据精度是不同的。如果数据精度高,数据的宽度就会很大,必然使运算部件的规模增加,功耗也会增加。

4.控制-数据流图低功耗变换

在高层次综合技术中,算法通常表达成控制-数据流图的形式,进行优化后映射到特定的硬件上。这类技术在过去只考虑系统性能和系统费用的优化,在此基础上,将一个高层的功耗模型提供功耗的因子加入到优化算法中,从而获得低功耗的实现方案。

三、结构层次功耗优化

从前面的讨论可知,降低电路的工作电压可以有效地降低电路的功耗,但同时会增加电路的延时,因此设计者在降低电路工作电压的同时,必须采取措施提高电路的工作速度。采用适当的结构,可以在维持电路速度不变的情况下,降低电源电压。

1、采用并行结构

并行是将一条数据通路的工作分解到两条通路上完成,这样每条数据通路的工作频率都为原来的一半,数据通路允许的延时增加了一倍,此时电路可以采用较低的工作电压。虽然增加的电路和由它引起的连线资源会导致电容的增加,并且输出端口增加的多路选通器也会导致部分功耗,但通常情况下这两部分增加的功耗不会导致电路实际功耗的增加。

2、采用流水线结构

采用流水线结构是降低功耗的又一途径。电路流水就是采用插入寄存器的办法降低组合路径的长度,提高电路速度,在此基础上降低电路的工作电压,可以极大地降低电路地功耗。

将电路流水化和并行化达到节省功耗的前提是可以选择电路的工作电压,如果电路工作电压固定,上面两种方法只能提高电路的工作速度,并相应地增加了电路的功耗。

3、总线的低功耗设计

数字系统中总线的基本特点就是负载较大、走线较长、数据传输密度高,通常都具有较大的电容,形成大量的功耗。

1)降低电压幅度

减小总线上信号的电压变化幅度(通常小于1V)对降低具有特大电容总线的功耗非常有效。它的额外代价是总线和功能模块之间的信号电平的变换电路。

该方法对于芯片工作电压较高(3.3V和5.0V)的总线效果显著,随着工艺的进步,工作电压也随之降低,该技术在未来的应用范围将很有限。

2)总线分割

对总线进行分段控制,根据总线和功能模块连接的物理结构,在信号传输时,隔断总线的无关部分,从而减小总线的实际电容,以达到降低功耗的作用。该技术作用于版图布线的设计阶段,受到系统总线结构和版图布局等因素的制约。从系统级设计的角度,对SOC系统的总线结构进行分割设计日益成为趋势。

3)总线编码

降低总线上的翻转率同样是节省总线功耗的一种方法,而在完成同样功能的前提下要降低总线上的有效翻转频率只有改变总线上传输数据的编码。常见的总线编码形式有二进制原码、one-hot编码、格雷码、总线反转码(Bus-invert Coding)和二进制补码。该技术的额外代价是附加的编码和译码电路,但随着工艺的发展,布线的电容和功耗将大大超过门单元,因此该技术在未来将具有很好的应用前景。

4、门控时钟

在时序电路中,全部触发器在时钟信号的作用下同步地转换状态。在开关过程中,如某一触发器地次态与现态相同,该触发器就处于维持状态,这时时钟对触发器的触发就会造成无效功耗。另外,一个系统中的不同模块在某些时

段内会处于空闲状态,他们此时的开关动作和时钟触发对系统都是无意义的。门控时钟的设计思想就是在上述的维持和空闲状态时,关闭其时钟信号,从而有效减小时钟驱动的功耗。门控时钟可以作用于局部电路或一个模块,也可以是整个电路,当然作用的范围越大,减少的功耗也越就显著。在电路中加入门控时钟非常容易,设计者可以自己在语言中描述,也可以通过综合工具自动来加入。

5.操作数隔离

操作数隔离就是通过降低组合模块输入的翻转次数,来降低组合模块的有效翻转率达到降低组合模块功耗的目的。

组合电路的内部工作状态完全是由其输入信号决定,即使输入信号的翻转会引起组合电路输出信号的改变时,组合电路内部会有很多器件参与工作,将会导致电路消耗功耗,因此降低组合电路模块输入信号的无效翻转可以降低者部分电路的功耗。

一些算术模块,如算术逻辑单元(ALU),加法器和乘法器是经常执行多余计算的单元。这些单元的输入端是比较理想的进行操作数隔离的对象。

6.异步电路结构

异步逻辑是完全不同于同步设计的一种设计方法,与同步电路相比较,异步电路设计在低功耗设计中有着很大的潜力。异步电路本质上是数据驱动的,靠握手信号连接,只在需要时才工作,减少了模块的无效翻转,降低了电路的翻转活动率。异步逻辑不采用全局时钟,不存在时钟偏斜问题,节省了时钟翻转消耗的功耗。它的速度是根据输入情况变化的,是各种输入的“平均情况”;而同步电路中全局时钟的周期必须大于最坏情况,故同步电路的速度是“最坏情况”。异步电路的速度“平均情况”要比同步电路的“最坏情况”快,故异步电路可在低电压下达到所要求的速度,降低了电路所需要的电压,大幅度降低了电路的功耗,异步电路虽然在功耗方面有它特殊的优势,但因为实现方面的困难,要出现商用化的异步处理器可能还需要相当长一段时间。另外一个原

因是大多数异步电路的指令集都是自定义的,用户使用起来不方便,不能普及,因此大多数的异步微处理器还不能代替市场上现有的微处理器。

7.动态电压缩放(Dynamic Voltage Scaling)

这是系统级动态功耗管理策略在结构级的实现。因为实际情况下并不要求处理器总是工作在高性能状态,当工作量不大时,处理器工作在一个降低了的频率下就可以达到性能上的要求,此时就可以降低电路的工作电压,导致电路功耗的下降。要实现动态电压缩放,需要电路可以快速地根据要求来切换电路的工作电压。本论文所实现的低功耗设计就是应用的这种结构,将在三、四两章中详细地展开。

UC Berkeley设计的一种基于ARM8的体系结构的处理器就具有DVS功能,它采用0.6umCMOS工艺实现。该处理器具有两种工作方式,当它工作在1.1V/8MHz时,功耗为1.8mW;工作在3.3V/100MHz时,功耗为220mW。

四、逻辑电路层次功耗优化

1.公因子提取

在逻辑综合中,公因子提取和共享是简化逻辑网络、减少实现电路成本的常用方法。对提取的不同公因子计算其功耗因子,选择功耗最小的来实现电路。

2.工艺映射

工艺映射实现把逻辑表达式或布尔网络映射到目标库中的门单元的过程。在映射过程中,尽量将活动因子大的节点隐藏于门单元的内部,从而减少其电容负载,降低功耗。

3.门尺寸优化

门尺寸优化的基本思想是对非关键路径的门缩小尺寸以减小面积和功耗。由于使用驱动能力小的单元,电平转换将变慢,引起短路电流增加,这是门尺寸优化的制约因素。

对关键路径的门尺寸优化则根据路径上不同结点的跳变频率,对相关的门单元分别增大和缩小,在保证时序约束的条件下,减少功耗。在通过改变单元尺寸大小来节省功耗时,应该同时考虑负载驱动和电路延时的因素,在满足时序的前提下,调整电路的尺寸,尽量减小每个门输入信号的偏斜和输出负载。

4.管脚置换

一般情况下,对于库单元功能相同的引脚,在综合时是等价的。但实际上,不同引脚的电容、信号延迟等参数是不同的。管脚置换的基本思想就是根据输入信号实际翻转率的不同,将翻转率较高的输入信号连接到电容较小的管脚上,达到降低功耗的目的。这种方法需要知道信号实际翻转率和准确的单元库模型。

五、器件/工艺层次功耗优化

电路按比例缩小,不仅提高了系统的集成度,也带来了功耗上的好处。系统集成使得芯片间的通讯量降低,可使功耗减小。

工艺的进步使多层金属布线成为可能,增加可布置的金属层数,使用上层金属进行全局互连,可以减小互连电容,从而减小延迟和功耗。

采用多阈值、阈值可变器件,以满足不同工作状态的需要。

新型的低功耗器件和计算方案也在研究中,发展了各种“可逆”计算的结果。如,在电路速度要求不高的应用中,可用绝热计算(Adiabatic Computing)

这样的新型低功耗器件结构,以时间换取功耗的减少。

还可以通过加工技术的提高减小芯片和封装的电容,也能改善功耗性能。如采用SOI技术。SOI技术能减少寄生电容和体效应,从而减小功耗。

第三节各个层次上的功耗预估

由于SOC的趋势,在面积和速度上的增长导致功耗问题已经越来越受人们的关注。已经不仅仅是为了延长电池的供电时间,散热和可靠性方面的问题比如电迁移和电压降都变得非常重要。

在主流深亚微米的设计中,功耗可能会限制功能的实现和性能的高效,大大的影响可制造性和产品成品率。大功耗会增加结温,温度的升高会增大晶体管的延迟,也会增加互连线上的电阻。如果不考虑功耗,一些仅仅针对提高性能的设计手段是往往是达不到预想效果的。产品性能的不达标会降低产品的收益。另外,如果功耗过高,则需要在系统级对温度进行监测和管理。总之,这些功耗的问题极大地提高了SOC 系统的成本。在SOC 的设计流程中,需要对功耗进行适当的考虑,以减小成本。

低功耗ASIC 流程和传统ASIC 流程的不同之处在于:传统的设计流程对功耗的处理是到最后才作考虑的,直到设计流程到门级或晶体管结构级才做整体的分析。如果在这时为得到更高的能量效率,希望做进一步的修改,就已经太迟了。因此若想将设计的焦点集中在实现最大限度低功耗的话,就要在设计的最开始,即最高层次描述时,像对性能进行分析那样,对功耗也要进行分析;每个设计层次的功耗分析,要保证该层次的功耗设计能满足设计的要求;来自高层的功耗信息也将配合和约束下一层次的设计。低功耗设计流程的初衷就是尽可能早地、尽可能准确地预估出功耗,并采取一系列措施以便得到尽可能多的能量节省。

一、功耗计算

整个芯片的功耗是动态功耗和静态功耗的总和。动态功耗是指消耗在开关逻辑时,在单元内部(内部功耗)和驱动连线负载(开关功耗)所消耗的功耗。

f CV er Dynamicpow 2=

其中为负载电容,V 是工作电压,逻辑转换数。

C f 随着半导体结构的不断缩小,器件和线间电容也不断减小,这一点意味着更快的速度和更小的功耗。但考虑到设计规模和开关转换率的激增,芯片功耗的表征却是越来越大。

静态功耗(漏功耗)是指在晶体管没有开关活动时的功耗。

STAT VI power Static =?

虽然晶体管会有漏衬间的反向漏流,但漏功耗的绝大部分是由晶体管关断时亚阈值电流产生的。

当经常处于闲置状态时,对漏功耗进行精确建模便相当重要了。随着阈值电压的降低,亚阈值电流变得越来越显著起来。如图2.1,Intel 公司的资料表明,当工艺水平在0.13um ,以及以上时,漏功耗要占到芯片总功耗的50%[7]。漏功耗的增加会指数倍地增加芯片的失效概率。

降低功耗的主要手段是降低电源的供电电压。因为动态功耗和供电电压的平方关系,电压的降低可以很好地改善芯片的动态功耗。但是,又因为电路的开关延迟与负载电容和dd V dd th V V 成正比,所以降低电源电压也会降低电路的速

度。因此,为了维持电路快速驱动并翻转的能力,需要和同时降低。这样就会使漏电流增加,增大了漏功耗。所以,需要一个低功耗的流程来对性能要求和功耗进行折衷。

th V dd V

图2.1 不同工艺下漏功耗比重示意图

二、功耗预估和分析

前面也提到了,在整个设计过程中,对功耗问题考虑地越早,对功耗最终效果的影响也就越大。例如,在系统和算法级,应用并行结构取代串行可以降低时钟频率,可以显著地降低功耗,不过,用并行手段是以大面积为代价的。当时钟频率降低后供电电压也可以适当降低,因为功耗与电压是平方律关系,与频率和翻转是线形关系,所以并行结构可以节省大量的功耗。

图2.1列出了可以应用于SOC流程中的一些功耗优化和功耗分析的技术。

图2.2 SOC设计流程中功耗优化和分析技术

在流程的所有设计阶段,如表2.1的四个阶段进行功耗预估是十分必要的。随着获得库的信息,以及设计的逐步实现,功耗预估的结果也愈逼近最后的真实值。

表2.1 功耗预估的四个阶段

进行预估的阶段门数的计算方法负载的计算方法使用的预估工具

粗略估计不确定Spreadsheet

1.设计和库文件选

择阶段

2.早期综合粗略估计 DC中线负载模型Design Compiler

Power Compiler 3.后期综合精确的(摆放后)线负载模型/SPEF Power Compiler

Physical Compiler

PrimePower

4.版图实现后准确的提取的SPEF PrimePower

1. RTL级功耗分析

在设计的最初阶段,功耗分析的目的只是需要提供一个相对粗略的预测值,为后续设计的可行性进行方向性的指导。这时,库可能还没有最后确定,只能通过线程表分析法,找出最优功耗相关的库和体系结构。在得到库信息后,或者以库中的相关信息代替线程表中的值,或者用Design Compiler和Power compiler代替线程表分析方法进行功耗分析。

1)线程表分析法

功耗分析线程表包括门数的大约值,每个模块粗略的活动因子,一组制造商提供的uW/MHz数据和相应的功耗预估值。通过在这个层面上的分析,可以明确那些因为功耗过大不可能实现的设计,避免了再用几个周去实现该电路的时间浪费。

要使用线程表分析法,需要首先估计每个模块的逻辑门数(每一种类型库单元)和活动率。还要有每种类型的单元在开关时的功耗,可以根据库提供商的手册对相关速度的功耗(uW/Hz)赋一合适大小的数值。一个单元块的内部功耗由下面的关系给出:

Power consumption = Gate Count·μW/MHz·Activity·Frequency 在一个模块中累加所有不同单元的内部功耗值,就可以得到模块的整体内部动态功耗预估。在综合前,门数的预估是基于体系结构的选择和对整个设计

集成电路低功耗设计方法研究【文献综述】

毕业设计文献综述 电子信息科学与技术 集成电路低功耗设计方法研究 摘要:随着IC制造工艺达到纳米级,功耗问题已经与面积、速度一样受到人们关注,并成为制约集成电路发展的关键因素之一。同时,由于电路特征尺寸的缩小,之前相比于电路动态功耗可以忽略的静态漏功耗正不断接近前者,给电路低功耗设计提出了新课题,即低漏功耗设计。本文将分析纳米工艺下芯片功耗的组成和对低漏功耗进行研究的重要性,然后介绍目前主要的低功耗设计方法。此外,由于ASIC技术是目前集成电路发展的趋势和技术主流,而标准单元是ASIC设计快速发展的重要支撑,本文在最后提出了标准单元包低漏功耗设计方法,结合电路级的功耗优化技术,从而拓宽ASIC功耗优化空间。 关键字:低功耗,标准单元,ASIC设计 前言: 自1958年德克萨斯仪器公司制造出第一块集成电路以来,集成电路产业一直以惊人的速度发展着,到目前为止,集成电路基本遵循着摩尔定律发展,即集成度几乎每18个月翻一番。 随着制造工艺的发展,IC设计已经进入了纳米级时代:目前国际上能够投入大规模量产的最先进工艺为40nm,国内的工艺水平正将进入65nm;2009年,Intel酷睿i系列创纪录采用了领先的32nm 工艺,并且下一代22nm工艺正在研发中。但伴随电路特征尺寸的减小,电路功耗数值正呈指数上升,集成电路的发展遭遇了功耗瓶颈。功耗问题已经同面积和速度一样受到人们重视,成为衡量IC设计成功与否的重要指标之一。若在设计时不考虑功耗而功利地追求集成度的提高,则可能会使电路某些部分因功耗过大引起温度过高而导致系统工作不稳定或失效。如Intel的1.5GHz Pentium Ⅳ处理器,拥有的晶体管数量高达4200万只,功率接近95瓦,整机生产商不得不为其配上了特大号风扇来维持其正常工作。功耗的增大不仅将导致器件的可靠性降低、芯片的稳定性下降,同时也给芯片的散热和封装带来问题。因此,功耗已经成为阻碍集成电路进一步发展的难题之一,低功耗设计也已成为集成电路的关键设计技术之一。 一、电路功耗的组成 CMOS电路中有两种主要的功耗来源,动态功耗和静态功耗。其中,动态功耗包括负载电容的充放电功耗(交流开关功耗)和短路电流引起的功耗;静态功耗主要是由漏电流引起的功耗,如图1所示。

数字集成电路设计_笔记归纳..

第三章、器件 一、超深亚微米工艺条件下MOS 管主要二阶效应: 1、速度饱和效应:主要出现在短沟道NMOS 管,PMOS 速度饱和效应不显著。主要原因是 TH G S V V -太大。在沟道电场强度不高时载流子速度正比于电场强度(μξν=) ,即载流子迁移率是常数。但在电场强度很高时载流子的速度将由于散射效应而趋于饱和,不再随电场 强度的增加而线性增加。此时近似表达式为:μξυ=(c ξξ<),c s a t μξυυ==(c ξξ≥) ,出现饱和速度时的漏源电压D SAT V 是一个常数。线性区的电流公式不变,但一旦达到DSAT V ,电流即可饱和,此时DS I 与GS V 成线性关系(不再是低压时的平方关系)。 2、Latch-up 效应:由于单阱工艺的NPNP 结构,可能会出现VDD 到VSS 的短路大电流。 正反馈机制:PNP 微正向导通,射集电流反馈入NPN 的基极,电流放大后又反馈到PNP 的基极,再次放大加剧导通。 克服的方法:1、减少阱/衬底的寄生电阻,从而减少馈入基极的电流,于是削弱了正反馈。 2、保护环。 3、短沟道效应:在沟道较长时,沟道耗尽区主要来自MOS 场效应,而当沟道较短时,漏衬结(反偏)、源衬结的耗尽区将不可忽略,即栅下的一部分区域已被耗尽,只需要一个较小的阈值电压就足以引起强反型。所以短沟时VT 随L 的减小而减小。 此外,提高漏源电压可以得到类似的效应,短沟时VT 随VDS 增加而减小,因为这增加了反偏漏衬结耗尽区的宽度。这一效应被称为漏端感应源端势垒降低。

4、漏端感应源端势垒降低(DIBL): VDS增加会使源端势垒下降,沟道长度缩短会使源端势垒下降。VDS很大时反偏漏衬结击穿,漏源穿通,将不受栅压控制。 5、亚阈值效应(弱反型导通):当电压低于阈值电压时MOS管已部分导通。不存在导电沟道时源(n+)体(p)漏(n+)三端实际上形成了一个寄生的双极性晶体管。一般希望该效应越小越好,尤其在依靠电荷在电容上存储的动态电路,因为其工作会受亚阈值漏电的严重影响。 绝缘体上硅(SOI) 6、沟长调制:长沟器件:沟道夹断饱和;短沟器件:载流子速度饱和。 7、热载流子效应:由于器件发展过程中,电压降低的幅度不及器件尺寸,导致电场强度提高,使得电子速度增加。漏端强电场一方面引起高能热电子与晶格碰撞产生电子空穴对,从而形成衬底电流,另一方面使电子隧穿到栅氧中,形成栅电流并改变阈值电压。 影响:1、使器件参数变差,引起长期的可靠性问题,可能导致器件失效。2、衬底电流会引入噪声、Latch-up、和动态节点漏电。 解决:LDD(轻掺杂漏):在漏源区和沟道间加一段电阻率较高的轻掺杂n-区。缺点是使器件跨导和IDS减小。 8、体效应:衬底偏置体效应、衬底电流感应体效应(衬底电流在衬底电阻上的压降造成衬偏电压)。 二、MOSFET器件模型 1、目的、意义:减少设计时间和制造成本。 2、要求:精确;有物理基础;可扩展性,能预测不同尺寸器件性能;高效率性,减少迭代次数和模拟时间 3、结构电阻:沟道等效电阻、寄生电阻 4、结构电容: 三、特征尺寸缩小 目的:1、尺寸更小;2、速度更快;3、功耗更低;4、成本更低、 方式: 1、恒场律(全比例缩小),理想模型,尺寸和电压按统一比例缩小。 优点:提高了集成密度 未改善:功率密度。 问题:1、电流密度增加;2、VTH小使得抗干扰能力差;3、电源电压标准改变带来不便;4、漏源耗尽层宽度不按比例缩小。 2、恒压律,目前最普遍,仅尺寸缩小,电压保持不变。 优点:1、电源电压不变;2、提高了集成密度 问题:1、电流密度、功率密度极大增加;2、功耗增加;3、沟道电场增加,将产生热载流子效应、速度饱和效应等负面效应;4、衬底浓度的增加使PN结寄生电容增加,速度下降。 3、一般化缩小,对今天最实用,尺寸和电压按不同比例缩小。 限制因素:长期使用的可靠性、载流子的极限速度、功耗。

数字集成电路物理设计阶段的低功耗技术

数字集成电路物理设计阶段的低功耗技术 张小花(200XXXXXXXX) 2011年六月 摘要:通过一个图像处理SoC的设计实例,着重讨论在物理设计阶段降低CMOS功耗的方法。该方法首先调整 PAD摆放位置、调整宏单元摆放位置、优化电源规划,得到一个低电压压降版图,间接降低CMOS功耗;接着,通过规划开关活动率文件与设置功耗优化指令,直接降低CMOS功耗。最终实验结果表明此方法使CMOS功耗降低了 10.92%。基于该设计流程的图像处理SoC已经通过ATE设备的测试,并且其功耗满足预期目标。 关键词: 集成电路; 物理设计; 电压降; 低功耗 Digital integrated circuit physical design phase of the low power technology luo jiang nan(2008102041) June, 2011 Abstract: through a image processing of SoC design examples, the paper discuss the physical design stage reduce power consumption method. CMOS This method firstly PAD put the position, adjusting adjustment macro unit put the position, optimizing power planning, get a low voltage pressure drop, reduce the power consumption of the CMOS indirect territory; Then, through the planning activities rate documents and set switch power optimization, reduce the power consumption of the CMOS setup instructions directly. Finally the experimental results show that the method that CMOS power consumption was reduced by 10.92%. Based on the design process of the image processing has been through the ATE the SoC test equipment, and its power consumption to meet expectations. Keywords: IC; physical design; voltage drop; low power consumption 1 引言 随着集成电路规模的扩大以及便携式和嵌入式应用需求的增长,低功耗数字集成电路设计技术日益受到重视,已成为集成电路设计的研究热点.通常低功耗设计技术包括三个方面:设计中的低功耗技术、封装的低功耗技术和运行管理的低功耗技术.其中设计中的低功耗技术包括前端设计阶段的 体系结构级低功耗技术、RTL级低功耗技术、门级低功耗技术和物理设计阶段的低功耗 技术.

MRS201低功耗霍尔元件

TMR 超低功耗全极磁开关 概述 是一款集成了隧道磁阻(TMR )传感器和CMOS 技术,为高灵敏度、高速、低功耗、高精度应用而开发的全极磁开关。采用高精度推挽式半桥TMR 磁传感器和CMOS 集成电路,包括TMR 电压发生器、比较器、施密特触发器和CMOS 输出电路,能将变化的磁场信号转化为数字电压信号输出。通过内部电压稳压器来提供温度补偿电源,并允许宽的工作电压范围。以低电压工作、1微安级的供电电流、高响应频率、宽的工作温度范围、优越的抗外磁干扰特性成为众多低功耗、高性能应用的理想选择。采用两种封装形式:SOT23-3和TO-92S 。 功能框图 产品特性 ? 隧道磁电阻 (TMR) 技术 ? 1.5微安超低功耗 ? 高频率响应可达1kHz ? 全极磁开关 ? 高灵敏度,低开关点 ? 宽工作电压范围 ? 卓越的温度稳定性 ? 优越的抗外磁场性能 典型应用 ? 流量计,包括水表、气表和热量表 ? 接近开关 ? 速度检测 ? 线性及旋转位置检测 磁开关MRS201MRS201MRS201MRS201MRS201MRS201

管脚定义 TO-92S SOT23-3 极限参数 性能参数(V CC = 3.0V, T A = 25°C) 注:在以上测试中,电源和地之间需连接一个0.1μF的电容。

磁特性(V CC = 3.0V, T A = 25°C) 电压和温度特性 输出和磁场关系 注:上电时,在工作磁场为零时,输出信号为高电平。 磁场感应方向磁场强度

MRS201应用指南 封装尺寸 SOT23-3封装图: 平行于TMR 传感器敏感方向的磁场超过工作点门限︱B OPS ︱(︱B OPN ︱)时,输出低电平。当平行于TMR 传感器敏感方向的磁场低于释放点︱B RPS ︱(︱B RPN ︱)时,输出高电平。磁场工作点和释放点的差值就是传感器的回差B H 。 为了降低外部噪音,推荐在传感器电源和地之间增加一个滤波电容(靠近传感器)。如应用电路图所示,典型值为0.1μF 。 MRS201

大规模集成电路应用

《大规模集成电路应用》论文姓名:谭宇 学号: 20104665 学院: 计算机与信息工程学院 专业班级: 自动化3班

大规模集成电路的体会 摘要:信息飞速发展时代,半导体、晶体管等已广泛应用,大规模集成电路也 成为必要性的技术,集成电路诞生以来,经历了小规模(SSI)、中规模(MSI)、大规模(LSI)的发展过程,目前已进入超大规模(VLSI)和甚大规模集成电路(ULSI)阶段,进入片上系统(SOC)的时代。 关键字:大规模集成;必要性;体会; 1 大规模集成的重要性 集成电路产业是衡量一个国家综合实力的重要重要指标。而这个庞大的产业主要由集成电路的设计、芯片、封装和测试构成。在这个集成电路生产的整个过程中,集成电路测试是惟一一个贯穿集成电路生产和应用全过程的产业。如:集成电路设计原型的验证测试、晶圆片测试、封装成品测试,只有通过了全部测试合格的集成电路才可能作为合格产品出厂,测试是保证产品质量的重要环节。 集成电路测试是伴随着集成电路的发展而发展的,它为集成电路的进步做出了巨大贡献。我国的集成电路自动测试系统起步较晚,虽有一定的发展,但与国外的同类产品相比技术水平上还有很大的差距,特别是在一些关键技术上难以实现突破。国内使用的高端大型自动测试系统,几乎是被国外产品垄断。市场上各种型号国产集成电路测试,中小规模占到80%。大规模集成电路测试系统由于稳定性、实用性、价格等因素导致没有实用化。大规模/超大规模集成电路测试系统主要依靠进口满足国内的科研、生产与应用测试,我国急需自主创新的大规模集成电路测试技术,因此,本文对集成电路测试技术进行了总结和分析。 2 集成电路测试的必要性 随着集成电路应用领域扩大,大量用于各种整机系统中。在系统中集成电路往往作为关键器件使用,其质量和性能的好坏直接影响到了系统稳定性和可靠性。 如何检测故障剔除次品是芯片生产厂商不得不面对的一个问题,良好的测试流程,可以使不良品在投放市场之前就已经被淘汰,这对于提高产品质量,建立生产销售的良性循环,树立企业的良好形象都是至关重要的。次品的损失成本可以在合格产品的售价里得到相应的补偿,所以应寻求的是质量和经济的相互制衡,以最小的成本满足用户的需要。 作为一种电子产品,所有的芯片不可避免的出现各类故障,可能包括:1.固定型故障;2.跳变故障;3.时延故障;4.开路短路故障;5桥接故障,等等。测试的作用是检验芯片是否存在问题,测试工程师进行失效分析,提出修改建议,从工程角度来讲,测试包括了验证测试和生产测试两个主要的阶段。 一款新的集成电路芯片被设计并生产出来,首先必须接受验证测试。在这一阶段,将会进行功能测试、以及全面的交流(AC)参数和直流(DC)参数的测试等,也可能会探测芯片的内部结构。通常会得出一个完整的验证测试信息,如芯片的工艺特征描述、电气特征(DC参数、AC参数、电容、漏电、温度等测试条件)、时序关系图等等。通过验证测试中的参数测试、功能性测试、结构性测试,可以诊断和修改系统设计、逻辑设计和物理设计中的设计错误,为最终规范(产品手册)测量出芯片的各种电气参数,并开发出测试流程。 当芯片的设计方案通过了验证测试,进入生产阶段之后,将利用前一阶段设

集成电路的功耗优化和低功耗设计技术

集成电路的功耗优化和低功耗设计技术 摘要:现阶段各行业的发展离不开对能源的消耗,随着目前节能技术要求的不 断提升,降低功耗成为行业发展的重要工作之一。本文围绕集成电路的功耗优化 以及低功耗设计技术展开分析,针对现阶段常见的低功耗设计方式以及技术进行 探究,为集成电路功耗优化提供理论指导。 关键词:集成电路;功耗优化;低功耗 目前现代节能技术要求不断提升,针对设备的功耗控制成为当前发展的主要问题之一。 针对数字系统的功耗而言,决定了系统的使用性能能否得到提升。一般情况下,数字电路设 计方面,功耗的降低一直都是优先考虑的问题,并且通过对整个结构进行分段处理,同时进 行优化,最后总结出较为科学的设计方案,采用多种方式降低功耗,能够很大程度上提升设 备的使用性能。下面围绕数字电路的功耗优化以及低功耗设计展开分析。 一、设计与优化技术 集成电路的功耗优化和低功耗设计是相对系统的内容,一定要在设计的每个环节当中使 用科学且合理的技术手段,权衡并且综合考虑多方面的设计策略,才能够有效降低功耗并且 确保集成电路系统性能。因为集成电路系统的规模相对较大且具有一定的特殊性,想要完全 依靠人工或者手动的方式来达到这些目的并不现实且缺少可行性,一定要开发与之对应的电 路综合技术。 1 工艺级功耗优化 将工艺级功耗应用到设计当中,通常情况下采取以下两种方式进行功耗的降低: 首先,根据比例调整技术。进行低功耗设计过程中,为了能够实现功耗的有效降低会利 用工艺技术进行改善。在设计过程中,使用较为先进的工艺技术,能够让设备的电压消耗有 效缩减。现阶段电子技术水平不断提升,系统的集成度也随之提高,目前采用的零件的规格 也逐渐缩小,零件的电容也实现了良好的控制,进而能够很大程度上降低功耗。借助比例技术,除了能够将可见晶体管的比例进行调整,而且也能够缩小互连线的比例[1]。目前在晶体 管的比例缩小方面,能够依靠缩小零件的部分重要参数,进而在保持性能不被影响的情况下,通过较小的沟道长度,确保其他的参数不受影响的栅压缩方式,进而将零件的体积进行缩减,同时也缩短了延长的用时,使功耗能够有效降低。针对互连线缩小的方式主要将互连线的整 个结构进行调整,工作人员在进行尺寸缩减的过程中,会面临多方面的难题,比如系统噪音 无法控制,或者降低了电路使用的可靠性等等。 其次,采用封装技术进行降低。采用封装技术,能够让芯片与外部环境进行有效的隔离,进而避免了外部环境给电气设备造成一定的破坏与影响,在封装阶段,芯片的功耗会受到较 大的影响,因此需要使用更加有效的封装手段,才能够提升芯片的散热性,进而有效降低功 耗[2]。在多芯片的情况下,因为芯片与其他芯片之间的接口位置会产生大量的功耗,因此针 对多芯片采取封装技术,首先降低I/0接口的所有功能,接着解决电路延迟的问题,才能够 实现对集成电路的优化。 2 电路功耗优化 一般情况下,对电路级的功耗会选择动态的逻辑设计。在集成电路当中,往往会包含多 种电路逻辑结构,比如动态、静态等等,逻辑结构从本质上而言具有一定的差异性,这种差 异性也使得逻辑结构有着不同作用的功能。动态逻辑结构有着较为典型的特性[3]。静态的逻 辑结构当中所有的输入都会对接单独的MOS,因此逻辑结构功耗更大,动态的逻辑结构当中 电路通常具备N、M两个沟道,动态电路会利用时钟信号采取有效的控制,进而能够实现预

大规模集成电路设计答案(1)

`CMOS反相器电路图、版图、剖面图

CMOS的广泛使用,是由于解决了latch-up效应 Latch-up效应解释、原理、解决方法(略) 避免栅锁效应方法:用金掺杂或中子辐射,降低少数载流子寿命;深阱结构或高能量注入形成倒退阱;将器件制作于高掺杂衬底上的低掺杂外延层中;沟槽隔离。 在基体(substrate)上改变金属的掺杂,降低BJT的增益 ?避免source和drain的正向偏压 ?增加一个轻掺杂的layer在重掺杂的基体上,阻止侧面电流从垂直BJT到低阻基体上的通路 ?使用Guard ring: P+ ring环绕nmos并接GND;N+ ring环绕pmos 并接VDD,一方面可以降低Rwell和Rsub的阻值,另一方面可阻止栽子到达BJT的基极。如果可能,可再增加两圈ring。 ? Substrate contact和well contact应尽量靠近source,以降低Rwell和Rsub的阻值。?使nmos尽量靠近GND,pmos尽量靠近VDD,保持足够的距离在pmos 和nmos之间以降低引发SCR的可能 ?除在I/O处需采取防Latch up的措施外,凡接I/O的内部mos 也应圈guard ring。? I/O处尽量不使用pmos(nwell) 门级电路图(AOI221) AOI221=(AB+CD+E)’

伪NMOS: 伪NMOS的下拉网络和静态门的下拉网络相似,上拉网络是用一个PMOS管,且此管输入接地,因此PMOS管总是导通的。 动态电路: 动态电路用一个时钟控制的PMOS管取代了总是导通的PMOS管,克服了有比电路的缺点。动态电路速度快,输入负载小,切换时不存在竞争电流,而且动态电路没有静态功耗。 动态电路存在的根本性问题就是对输入单调性的要求。 多米诺电路: 多米诺电路由一级动态门和一级静态CMOS反相器构成。典型结构: 下拉网络+上拉预充值网络+反相器构成 过程就是充值+求值的过程 在多米诺电路中,所有门的预充、求值都可以用一个时钟控制。求值期间,动态门的输出单调下降,所以静态反相器的输出单调上升。多米诺电路是同时进行预充,但求值是串行的。逻辑功效(logic effort) 逻辑功效定义为门的输入电容与能够提供相同输出电流的反相器的输入电容的比值。也就是说逻辑功效表示某个门在产生输出电流时相比反相器的糟糕程度。逻辑功效不仅使我们能容易计算时延,它也向我们展示了如何确定晶体管的尺寸以优化路径中的延时。

超低功耗电路的设计原则及设计分析

超低功耗电路的设计原则及设计分析 以手机为代表的电池供电电路的兴起,为便携式仪表开创了一个新的纪元。超低功耗电路系统(包括超低功耗的电源、单片机、放大器、液晶显示屏等)已经对电路设计人员形成了极大的诱惑。毫无疑问,超低功耗电路设计已经对低功耗电路提出了挑战,并将扩展成为电子电路中的一个重要应用领域。 虽然超低功耗设计仍然是在CMOS集成电路(IC)基础上发展起来的,但是因为用户众多,数千种专用或通用超低功耗IC不断涌现,使设计人员不再在传统的CMOS型IC上下功夫,转而选择新型超低功耗IC,致使近年来产生了多种超低功耗仪表。电池供电的水表、暖气表和煤气表近几年能够发展起来就是一个证明。目前,电池供电的单片机则是超低功耗IC的代表。 本文将对超低功耗电路设计原则进行分析,并就怎样设计成超低功耗的产品作一些论述,从而证明了这种电路在电路结构和性价比等方面对传统电路极具竞争力。 1 CMOS集成电路的功耗分析 无论是低功耗还是超低功耗IC,主要还是建立在CMOS电路基础上的。虽然超低功耗IC 对单元电路进行了新形式的设计,但作为功耗分析,仍然离不开CMOS电路基本原理。以74系列为代表的TTL集成电路,每门的平均功耗约为10mW;低功耗的TTL集成电路,每门平均功耗只有1mW。74系列高速CMOS电路,每门平均功耗约为10μW;而超低功耗CMOS 通用小规模IC,整片的静态平均功耗却可低于10μW。传统的单片机,休眠电流常在50μA~2mA范围内;而超低功耗的单片机休眠电流可达到1μA以下。 CMOS电路的动态功耗不仅取决于负载,而且就电路内部而言,功耗与电源电压、集成度、输出电平以及工作频率都有密切联系。因此设计超低功耗电路时不得不对全部元件的内外性质做仔细分析。 CHMOS或CMOS电路的功耗特性一般可以表示为: P=PD+PA

《超大规模集成电路设计》考试习题(含答案)完整版分析

1.集成电路的发展过程经历了哪些发展阶段?划分集成电路的标准是什么? 集成电路的发展过程: ?小规模集成电路(Small Scale IC,SSI) ?中规模集成电路(Medium Scale IC,MSI) ?大规模集成电路(Large Scale IC,LSI) ?超大规模集成电路(Very Large Scale IC,VLSI) ?特大规模集成电路(Ultra Large Scale IC,ULSI) ?巨大规模集成电路(Gigantic Scale IC,GSI) 划分集成电路规模的标准 2.超大规模集成电路有哪些优点? 1. 降低生产成本 VLSI减少了体积和重量等,可靠性成万倍提高,功耗成万倍减少. 2.提高工作速度 VLSI内部连线很短,缩短了延迟时间.加工的技术越来越精细.电路工作速度的提高,主要是依靠减少尺寸获得. 3. 降低功耗 芯片内部电路尺寸小,连线短,分布电容小,驱动电路所需的功率下降. 4. 简化逻辑电路 芯片内部电路受干扰小,电路可简化. 5.优越的可靠性 采用VLSI后,元件数目和外部的接触点都大为减少,可靠性得到很大提高。 6.体积小重量轻 7.缩短电子产品的设计和组装周期 一片VLSI组件可以代替大量的元器件,组装工作极大的节省,生产线被压缩,加快了生产速度. 3.简述双阱CMOS工艺制作CMOS反相器的工艺流程过程。 1、形成N阱 2、形成P阱 3、推阱 4、形成场隔离区 5、形成多晶硅栅 6、形成硅化物 7、形成N管源漏区 8、形成P管源漏区 9、形成接触孔10、形成第一层金属11、形成第一层金属12、形成穿通接触孔13、形成第二层金属14、合金15、形成钝化层16、测试、封装,完成集成电路的制造工艺 4.在VLSI设计中,对互连线的要求和可能的互连线材料是什么? 互连线的要求 低电阻值:产生的电压降最小;信号传输延时最小(RC时间常数最小化) 与器件之间的接触电阻低 长期可靠工作 可能的互连线材料 金属(低电阻率),多晶硅(中等电阻率),高掺杂区的硅(注入或扩散)(中等电阻率)

中南大学大规模集成电路考试及答案合集

中南大学大规模集成电路考试及答案合集

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---○---○ --- 学 院 专业班级 学 号 姓 名 ………… 评卷密封线 ……………… 密封线内不要答题,密封线外不准填写考生信息,违者考试成绩按0分处理 ……………… 评卷密封 中南大学考试试卷 时间110分钟 题 号 一 二 三 合 计 得 分 评卷人 2013 ~2014 学年一学期大规模集成电路设计课程试题 32 学时,开卷,总分100分,占总评成绩70 % 一、填空题(本题40分,每个空格1分) 1. 所谓集成电路,是指采用 ,把一个电路中 所需的二极管、 、电阻、电容和电感等元件连同它们之间的电气连线在一块或几块很小的 或介质基片上一同制作出来,形成完整电路,然后 在一个管壳内,成为具有特定电路功能的微型结构。 2. 请写出以下与集成电路相关的专业术语缩写的英文全称: ASIC : ASSP : LSI : 3. 同时减小 、 与 ,可在保持漏源间电流不变的前提下减小器件面积,提高电路集成度。因此,缩短MOSFET 尺寸是VLSI 发展的趋势。 4. 大规模集成电路的设计流程包括:需求分析、 设计、体系结构设计、功能设计、 设计、可测性设计、 设计等。 5. 需求规格详细描述系统顾客或用户所关心的内容,包括 及必须满足的 。系统规格定义系统边界及系统与环境相互作用的信息,在这个规格中,系统以 的方式体现出来。 6. 根据硬件化的目的(高性能化、小型化、低功耗化、降低成本、知识产权保护等)、系统规模/性能、 、 、 等确定实现方法。 7. 体系结构设计的三要素为: 、 、 。 8. 高位综合是指从 描述自动生成 描述的过程。与人工设计相比,高位综合不仅可以尽可能地缩短 ,而且可以生成在面积、性能、功耗等方面表现出色的电路。 9. 逻辑综合就是将 变换为 ,根据 或 进行最优化,并进行特定工艺单元库 的过程。 10. 逻辑综合在推断RTL 部品时,将值的变化通过时钟触发的信号推断为 , 得 分 评卷人

对半导体技术、微电子技术、集成电路技术三者的浅略认识

对半导体技术、微电子技术、集成电路技术三者的浅略认识 一、半导体技术、微电子技术、集成电路技术三者的联系与区别 我们首先从三者的概念或定义上来分别了解一下这三种技术。 半导体技术就是以半导体为材料,制作成组件及集成电路的技术。在电子信息方面,绝大多数的电子组件都是以硅为基材做成的,因此电子产业又称为半导体产业。半导体技术最大的应用便是集成电路,它们被用来发挥各式各样的控制功能,犹如人体中的大脑与神经。 微电子技术是随着集成电路,尤其是超大型规模集成电路而发展起来的一门新的技术,是建立在以集成电路为核心的各种半导体器件基础上的高新电子技术,为微电子学中的各项工艺技术的总和。 集成电路技术,在电子学中是一种把电路小型化的技术。采用一定的工艺,把一个电路中所需的各种电子元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构。(以上三者概念均来源于网络)这般看来,三者概念上互相交叉,却也略有区别。依我这个初次接触这三个名词、对电子信息几乎一窍不通的大一新生来看,半导体技术是其他二者技术的基础,因为半导体是承载整个电子信息的基石,不管是微电子还是集成电路,便是以半导体为材料才可以建造、发展。而微电子技术,个人感觉比较广泛,甚至集成电路技术可以包含在微电子技术里。除此之外,诸如小型元件,如纳米级电子元件制造技术,都可以归为微电子技术。而集成电路技术概念上比较狭窄,单单只把电路小型化、集成化技术,上面列举的小型元件制造,便不能归为集成电路技术,但可以归为微电子技术。以上便是鄙人对三者概念上、应用上联系与区别的区区之见,如有错误之处还望谅解。 二、对集成电路技术的详细介绍 首先我们了解一下什么是集成电路。 集成电路是一种微型电子器件或部件。人们采用一定的工艺,把一个电路中所需的各种元件及布线互连一起,制作在一小块或几小块半导体晶片或介质基片上,然后封装在一个管壳内,成为具有所需电路功能的微型结构。其中所有元件在结构上已组成一个整体,使电子元件向着微小型化、低功耗、智能化和高可靠性方面迈进了一大步。它在电路中用字母“IC”表示。当今半导体工业大多数应用的是基于硅的集成电路。集成电路具有体积小,重量轻,引出线和焊接点少,寿命长,可靠性高,性能好等优点,同时成本低,便于大规模生产。 而简单来说,集成电路技术便是制造集成电路的技术方法。它涉及半导体器件物理、微电子学、电子学、无线电、光学以及信息学等学科领域的知识。 从产业分工角度,集成电路技术可以分为集成电路加工技术、集成电路测试封装技术以及集成电路设计技术等几方面。 1. 集成电路加工技术 集成电路加工技术主要是通过物理或化学手段在硅材料上生成半导体器件(比如场效应管)以及器件之间的物理互连。这些器件以及器件之间的互连构成的电路功能要符合系统设计要求。集成电路加工技术涉及的知识包括半导体器件物理、精密仪器、光学等领域,具体应用在工艺流程中,包括注入、掺杂、器件模型、工艺偏差模型、成品率分析以及工艺过程设计等。在近十几年的时间里,集成电路加工工艺水平一直按照摩尔(Moore)定律在快速发展。 2.集成电路测试、封装技术 集成电路测试包括完成在硅基上产生符合功能要求的电路后对裸片硅的功能和性能的

常用低功耗设计

随着半导体工艺的飞速发展和芯片工作频率的提高,芯片的功耗迅速增加,而功耗增加又将导致芯片发热量的增大和可靠性的下降。因此,功耗已经成为深亚微米集成电路设计中的一个非常重要的考虑因素。为了使产品更具有竞争力,工业界对芯片设计的要求已从单纯的追求高性能、小面积,转换为对性能、面积、功耗的综合要求。微处理器作为数字系统的核心部件,其低功耗设计对降低整个系统的功耗具有非常重要的意义。 本文首先介绍了微处理器的功耗来源,重点介绍了常用的低功耗设计技术,并对今后低功耗微处理器设计的研究方向进行了展望。 1 微处理器的功耗来源 研究微处理器的低功耗设计技术,首先必须了解其功耗来源。高层次仿真得出的结论如图1所示。 从图1中可以看出,时钟单元(Clock)功耗最高,因为时钟单元有时钟发生器、时钟驱动、时钟树和钟控单元的时钟负载;数据通路(Datapath)是仅次于时钟单元的部分,其功耗主要来自运算单元、总线和寄存器堆。除了上述两部分,还有存储单元(Mem ory),控制部分和输入/输出 (Control,I/O)。存储单元的功耗与容量相关。 如图2所示,C MOS电路功耗主要由3部分组成:电路电容充放电引起的动态功耗,结反偏时漏电流引起的功耗和短路电流引起的功耗。其中,动态功耗是最主要的,占了总功耗的90%以上,表达式如下: 式中:f为时钟频率,C1为节点电容,α为节点的翻转概率,Vdd为工作电压。

2 常用的低功耗设计技术 低功耗设计足一个复杂的综合性课题。就流程而言,包括功耗建模、评估以及优化等;就设计抽象层次而言,包括自系统级至版图级的所有抽象层次。同时,功耗优化与系统速度和面积等指标的优化密切相关,需要折中考虑。下面讨论常用的低功耗设计技术。 2.1 动态电压调节 由式(1)可知,动态功耗与工作电压的平方成正比,功耗将随着工作电压的降低以二次方的速度降低,因此降低工作电压是降低功耗的有力措施。但是,仅仅降低工作电压会导致传播延迟加大,执行时间变长。然而,系统负载是随时间变化的,因此并不需要微处理器所有时刻都保持高性能。动态电压调节DVS (Dynarnic Voltage Scaling)技术降低功耗的主要思路是根据芯片工作状态改变功耗管理模式,从而在保证性能的基础上降低功耗。在不同模式下,工作电压可以进行调整。为了精确地控制DVS,需要采用电压调度模块来实时改变工作电压,电压调度模块通过分析当前和过去状态下系统工作情况的不同来预测电路的工作负荷。 2.2 门控时钟和可变频率时钟 如图1所示,在微处理器中,很大一部分功耗来自时钟。时钟是惟一在所有时间都充放电的信号,而且很多情况下引起不必要的门的翻转,因此降低时钟的开关活动性将对降低整个系统的功耗产牛很大的影响。门控时钟包括门控逻辑模块时钟和门控寄存器时钟。门控逻辑模块时钟对时钟网络进行划分,如果在当前的时钟周期内,系统没有用到某些逻辑模块,则暂时切断这些模块的时钟信号,从而明显地降低开关功耗。图3为采用“与”门实现的时钟控制电路。门控寄存器时钟的原理是当寄存器保持数据时,关闭寄存器时钟,以降低功耗。然而,门控时钟易引起毛刺,必须对信号的时序加以严格限制,并对其进行仔细的时序验证。 另一种常用的时钟技术就是可变频率时钟。根据系统性能要求,配置适当的时钟频率,避免不必要的功耗。门控时钟实际上是可变频率时钟的一种极限情况(即只有零和最高频率两种值),因此,可变频率时钟比门控时钟技术更加有效,但需要系统内嵌时钟产生模块PLL,增加了设计复杂度。去年Intel公司推出的采用先进动态功耗控制技术的Montecito处理器,就利用了变频时钟系统。该芯片内嵌一个高精度数字电流表,利用封装上的微小电压降计算总电流;通过内嵌的一个32位微处理器来调整主频,达到64级动态功耗调整的目的,大大降低了功耗。

数字集成电路设计与分析

问答: Point out design objects in the figure such as :design, cell, reference, port, pin, net, then write a command to set 5 to net A Design: top Reference: ADD DFF Cell: U1 U2 Port: A B clk sum Pin: A B D Q Net: A B SIN Set_load 5 [get_nets A] why do we not choose to operate all our digital circuits at these low supply voltages? 答:1)不加区分地降低电源电压虽然对减少能耗能正面影响,但它绝对会使门的延时加大 2)一旦电源电压和本征电压(阈值电压)变得可比拟,DC特性对器件参数(如晶体管 阈值)的变化就变得越来越敏感 3)降低电源电压意味着减少信号摆幅。虽然这通常可以帮助减少系统的内部噪声(如串扰引起的噪声),但它也使设计对并不减少的外部噪声源更加敏感) 问道题: 1.CMOS静态电路中,上拉网络为什么用PMOS,下拉网络为什么用NMOS管 2.什么是亚阈值电流,当减少VT时,V GS =0时的亚阈值电流是增加还是减少? 3.什么是速度饱和效应 4.CMOS电压越低,功耗就越少?是不是数字电路电源电压越低越好,为什么? 5.如何减少门的传输延迟? P203 6.CMOS电路中有哪些类型的功耗? 7.什么是衬垫偏置效应。 8.gate-to-channel capacitance C GC,包括哪些部分 VirSim有哪几类窗口 3-6. Given the data in Table 0.1 for a short channel NMOS transistor with V DSAT = 0.6 V and k′=100 μA/V2, calculate V T0, γ, λ, 2|φf|, and W / L:

低功耗电路设计

便携式产品低功耗电路设计的综合考虑 集成电路和计算机系统的发展对低功耗的要求越来越高 分析了功耗产生的主要原因以及与成本的关系 如今为了适应这一变化 低功率逻辑电路的标准被定义为每一级门电路功耗小于1.3uW/MHz最终用户认为 对于总体系统设计来说这是电子工业发展的必然趋势更轻和功能更强大的最终产品 从功率观点看设计任务将变得更加艰巨 就是单个或一组充电电池能维持设备连续几天的工作 另外绿色所有政府部门采购的台式电脑必须符合功耗要求 VLSI技术公司移动产品部销售经理Barta指出深绿色 这些机器将挂起所有操作直到被相关激励信号唤醒后才进入正常运行模式 ARPA?y?ú??μí1|?êμ?×óáìóò×÷é?è??D?? ê1D?ò?′úμ?×ó?μí3μ?1|o?????μíóú??óD?μí3μ?1|o? ?÷?tμ??′1üàíμè?÷??áìóò?Dμ??è????ê? òò?a?aá???áìóòé??°′óá?μ??ìo?D?o?′|àí 随着每隔几年电路密度的成倍增大难度越来越大 LSI逻辑公司ASIC市场部副总裁Koc说200k门数的芯片 这么大的功率已经远远超过了封装的散热能力 因为高温工作会给集成电路带来可靠性和功能性问题 与温度有关的这些故障模型包括工作器件故障以及电流密度 低功率应用 在电池供电模式下由于受便携式电脑的实际尺寸和重量限制也限制了电池的大小和重量

低功率系统的另一个例子是蜂窝电话模拟电路 电池在充电一次后接收模式下工作一整天 一般来说而现在系统设计都将功耗作为其中的一项重要性能指标 同时也带来功耗问题但利用适当的功率控制方法或创新性设计可以获得多种解决方案 首先则速度越慢 会减小电容充放电的电流或负载驱动电流较低的电压将导致较低的输出功率或较低的信号幅度 产生功耗的原因 整体的功耗取决于诸多因素封装密度产品性能和供电电压往往速度越高功耗越大 它通常由负载器件和寄生元件产生 在电阻性负载电路如模拟电路中更是如此 电路中的导线(金属导线)和层间寄生电阻会产生静态阻抗功耗 有源器件的正常工作模式可用一条转移曲线和某些I-V特性来描述 适用于全部有源器件对无源和有源器件来说 在CMOS电路中I-V转移曲线是一个瞬态函数 从一个状态转移到另一个状态不消耗功率转移曲线并不是理想的方形理论上看 具有零内阻的开关器件会在电源与地之间形成直接短路的现象 最大的功耗来自于内部和外部电容的充放电 据此 峰值电流I=C(V/T)T是上升或下降沿时间因此峰值电流通常都比较大此时C 是指输出端的负载电容F则是开关频率 所需要的电源电压也越高由此产生的影响涉及到电源总线母板布线另外 因此可能会影响到系统的总体封装

集成电路

集成电路设计综述 杨超 (湖南工学院电气与信息工程学院湖南衡阳421000)【摘要】本文介绍了集成电路设计的各个阶段及其基本的特征,把集成电路设计流程划分为三个阶段: 需求分析系统设计、逻辑设计、物理设计, 并通过对每一阶段的叙述, 同时介绍了集成电路设计的方法和基本知识。最后描述了集成电路设计面对的问题和前景,集成电路技术遵循摩尔定律发展进入了纳米尺度, 功耗带来的挑战日益突出, 已经成为制约集成电路发展的瓶颈问题. 微电子技术的发展已经进入了“功耗限制” 的时代, 功耗成为集成电路设计和制备中的核心问题。降低功耗有可能替代原来提高集成度、缩小器件尺寸成为未来集成电路发展的驱动力。低功耗集成电路的实现是一项综合的工程, 需要同时考虑器件、电路和系统的功耗优化, 需要在性能和功耗之间进行折中. 随着集成电路进入纳米尺度, 适于低功耗应用的CMOS 技术平台由于MOSFET 泄漏导致的电流增大、寄生效应严重等问题愈发突出,目前的许多低功耗技术成为了“治标” 的解决方案, 难以从根本上解决集成电路发展中遇到的“功耗限制” 问题, 一定程度上影响了纳米尺度集成电路的可持续发展,本文在深入分析影响集成电路功耗的各个方面的基础上, 介绍了超低功耗集成电路的工艺、器件结构以及设计技术。 【关键词】集成电路设计,低功耗,微电子器件,逻辑设计,物理设计 1、引言 集成电路技术遵循摩尔定律发展进入了纳米尺度, 功耗带来的挑战日益突出, 已经成为制约集成电路发展的瓶颈问题,微电子技术的发展已经进入了“功耗限制”的时代, 功耗成为集成电路设计和制备中的核心问题,降低功耗有可能替代原来提高集成度、缩小器件尺寸成为未来集成电路发展的驱动力,低功耗集成电路的实现是一项综合的工程,需要同时考虑器件、电路和系统的功耗优化, 需要在性能和功耗之间进行折中。随着集成电路进入纳米尺度, 适于低功耗应用的CMOS 技术平台由于MOSFET 泄漏导致的电流增大、寄生效应严重等问题愈发突出,目前的许多低功耗技术成为了“治标” 的解决方案, 难以从根本上解决集成电路发展中遇到的“功耗限制” 问题, 一定程度上影响了纳米尺度集成电路的可持续发展. 本文在深入分析影响集成电路功耗的各个方面的基础上,介绍了超低功耗集成电路的工艺、器件结构以及设计技术,目前这种发展趋势至少可以持续到2026 年, 其器件的特征尺寸将缩小至 6 nm,因此, 在未来的较长一段时期内,硅基集成电路仍将是微电子技术的主流,传统集成电路设计, 以更小的面积、更快的速度完成运算任务是不懈努力的目标. 然而随着硅基集成电路技术发展到纳米尺度,面积与时间已经不再是集成电路设计中需要考虑的唯一目标, 功耗带来的挑战日益突出, 已经成为制约集成电路发展的瓶颈问题。 2、集成电路往低功耗方向发展 近50年来, 硅基集成电路技术一直沿着摩尔定律高速发展,根据2011 年国际半导体技术发展蓝图(ITRS) 的预测, 目前这种发展趋势至少可以持续到2026 年, 其器件的特征尺寸将缩小至 6 nm。 因此, 在未来的较长一段时期内, 硅基集成电路仍将是微电子技术的主流,传统集成电路设计, 以更小的面积、更快的速度完成运算任务是不懈努力的目标. 然而随着硅基集成电路技术发展到纳米尺度,面积与时间已经不再是集成电路设计中需要考虑的唯一目标, 功耗带来的挑战日益突出, 已经成为制约集成电路发展的瓶颈问题,在诸如手持和便携设备等产品中功耗指标甚至成为第一要素,例如, 苹果公司iPhone4S 手机的双核A5 处理器和三星公司Galaxy S3 手机的四核Exynos 4412 处理器均基于ARM 多核、超低功耗架构Cortex-A9,

数字集成电路低功耗设计

数字集成电路低功耗设计 摘要数字IC的低功耗设计是一个系统问题,必须在设计的各个层次上发展适当的技术,综合应用不同的设计策略,才能达到在降低功耗的同时还能维持较高的系统性能的目的。本文系统地总结了当前系统级芯片设计中的低功耗技术,并对功耗估计和分析以及不同设计层次的功耗优化方法分别进行了讨论。 关键词数字集成电路功耗估计功耗分析低功耗设计功耗优化 1 引言 近来,研究人员发现仅仅用时间和面积作为评价系统性能的指标是不够的。功耗是另一个非常重要的考虑指标。直到最近,相对于面积和速度指标而言,对功耗的考虑还被放在第二位。但是,近年来这种考虑方法正在开始改变,对功耗指标重要性的考虑逐渐提高到与面积和速度同等重要的高度。许多因素推动了这个趋势的发生。也许最明显的因素就是便携式电子系统的飞速发展。对于这些便携式电子系统应用,平均功耗已经变成一个最关键的设计指标。例如,用分立器件所搭建的一个便携式多媒体终端,由于没有进行低功耗的优化设计,其消耗的功率是40瓦。用先进的镍-金属-氰化物电池供电,每公斤重可以产生的电能约为65瓦*小时,支持这样的终端运行10小时就需要6公斤重电池,这是无法接受的。甚至用现在比较先进的电池技术如锂离子电池,每公斤重可以产生的电能为100瓦*小时,支持这个多媒体终端运行10小时,也需要4公斤锂离子电池。因此,如果没有低功耗设计,当前和未来的便携式电子设备要么需要非常重的电池组,要么电池的寿命非常短。 即使对于非便携式的设备而言,减小功耗也会起到非常关键的作用。例如,进行过性能优化的微处理器,在时钟频率为200MHz~500MHz的情况下,消耗的功耗典型值大约为40瓦~80瓦。微处理器的速度正在稳步提高,时钟频率已经达到了1GHz。在这样高的时钟频率下,它们消耗大约300瓦的功率是无法接受的,因为封装和散热设备的成本太高了。因而,除非功耗大大降低,否则因功耗而产生的热量必须限制封装和VLSI系统的性能。 动态功耗是IC功耗的主要组成部分,但随着深亚微米工艺的发展,之前微不足道的漏电流功耗呈指数级增大,甚至有超越动态功耗的趋势,这也使得新兴低功耗技术的研究显得更加重要和紧迫。 本文将介绍芯片功耗的主要来源、基本概念及其影响因素;针对这些功耗来源和影响因素,本文将分别考虑IC设计中不同抽象层次对电路功耗的影响,并比较各项低功耗技术的效果和存在的问题;此外,对功耗的优化也进行了详细的介绍。 2 功耗估计 功耗估计是指估计数字电路的平均功耗。理想情况下平均功耗应该包括静态功耗和动态功耗,然而在精心设计的CMOS电路中,容性功率占主导地位,因此平均功耗一般指的是容性功耗。这与模拟为电压降低问题的瞬时功耗或最坏情况功耗的估计有很大不同。在设计的每一个层次上,从低层的电路级、门级,到高层的结构级(RTL级)和行为级,有相应的功耗估计方法。

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