1100 Si surface passivation by ultrathin AI2O3 films and AI2O3 Sin x stacks

1100 Si surface passivation by ultrathin AI2O3 films and AI2O3 Sin x stacks
1100 Si surface passivation by ultrathin AI2O3 films and AI2O3 Sin x stacks

SILICON SURFACE PASSIVATION

BY ULTRATHIN Al2O3 FILMS AND Al2O3/SiN x STACKS

Jan Schmidt, Boris Veith, Florian Werner, Dimitri Zielke, and Rolf Brendel Institute for Solar Energy Research Hamelin (ISFH), Am Ohrberg 1, 31860 Emmerthal, Germany

ABSTRACT

We show that aluminum oxide (Al2O3) layers depo-sited by thermal as well as by plasma-assisted atomic layer deposition (ALD) are very well suited for the effec-tive surface passivation of p-type silicon wafers. Surface recombination velocities (SRVs) well below 10 cm/s are measured for both ALD variants. The SRV strongly in-creases with decreasing film thickness if the Al2O3films are <10 nm for thermal ALD and <5 nm for plasma ALD. Firing at 830°C in a conveyor-belt furnace deteriorates the passivation quality, in particular for ultrathin Al2O3films. For Al2O3films ≤10 nm the thermal stability of the Al2O3 was significantly improved by depositing a 75-nm capping layer of PECVD-SiN x onto the Al2O3. Application of Al2O3 to the rear of PERC solar cells shows that high V oc values above 660 mV and J sc values of 40 mA/cm2 are achieva-ble, irrespective of the ALD variant applied. However, generally slightly higher efficiencies are obtained for Al2O3 deposited by plasma ALD. The plasma ALD layers result in the highest efficiency of 21.1%.

INTRODUCTION

In recent years, aluminum oxide (Al2O3) grown by atomic layer deposition (ALD) has been identified as a di-electric material very well suited for the surface passiva-tion of lowly doped p- and n-type silicon wafers [1-4] as well as highly doped p+silicon surfaces [5,6]. There are fundamental advantages over other dielectric materials (such as SiN x or SiO x) frequently used for the surface passivation of silicon solar cells. Importantly, as Al2O3 is a negative-charge dielectric, no parasitic shunting [7] occurs when applied to the rear of passivated emitter and rear cells (PERC)on p-type silicon. This has recently led to cell efficiencies exceeding 20% [8] for simplified PERC solar cells on p-type silicon and to efficiencies >23% [9] on n-type silicon wafers with Al2O3-passivated p+front emitter. Also, we have recently demonstrated that ALD-Al2O3 is well compatible with standard firing steps used for the fabrication of metal contacts in screen-printed solar cells. Hence, Al2O3 could be an important component for future industrial high-efficiency solar cells.

In contrast to deposition techniques conventionally applied in photovoltaics, such as plasma-enhanced chem-ical vapor deposition (PECVD), ALD consists of two self-limiting half-reactions, which implies numerous advantag-es: (i) ALD results in highly conformal coatings, which al-lows to passivate e.g. macropores or other complex sur-face structures, (ii) a generally pin-hole-free deposition is achieved, and (iii) as ALD is a self-limiting process ex-tremely uniform films can be deposited over very large areas. The main disadvantage of ALD for photovoltaic ap-plications is its relatively low deposition rate. This disad-vantage could be overcome by depositing ultrathin ALD-Al2O3films and capping them with a thicker film of e.g. PECVD-SiN x or SiO x or by the development of advanced fast ALD processes.

In this contribution, we study the dependence of the surface passivation quality on the Al2O3 film thickness for films deposited by two different ALD techniques, namely thermal ALD and plasma-assisted ALD. We examine the effect of a PECVD-SiN x capping layer on top of the Al2O3 film on the firing stability of the surface passivation quality and finally present our latest PERC cell results.

THERMAL AND PLASMA-ASSISTED ALD In the ALD process, one monolayer of Al2O3 is grown per cycle. Each cycle consists of two half-reactions, as depicted in Fig. 1. In the first half-reaction, trimethylalumi-num (TMA) molecules react with hydroxyl (OH) groups at-tached to the surface. At the end of the first half-reaction, Al atoms and methyl groups cover the surface and the remaining TMA molecules in the deposition chamber are no longer able to react with the surface. After purging the deposition chamber with nitrogen or oxygen gas, the sec-ond half-reaction of the ALD cycle starts. We apply two different realization forms for the second half-reaction: in the thermal ALD process, water vapor is injected into the deposition chamber. The H2O molecules react very fast with the Al-CH3complex attached to the surface. Hydro-gen reacts with the methyl group to methane and oxygen reacts with aluminum to aluminum oxide. In the plasma-assisted ALD process, an oxygen plasma is ignited above the substrate, generating oxygen radicals which effec-tively react with the methyl groups and the aluminium at the surface. In the FlexAL deposition system from Oxford Instruments applied in this study an inductively coupled plasma (ICP) source is used, which means that the oxy-gen plasma is not in direct contact with the silicon wafer during Al2O3deposition. This type of remote-plasma deposition technique is known to create almost no plasma damage at the surface, and is hence well suited for an excellent silicon surface passivation. In our FlexAL sys-tem, thermal as well as plasma-assisted ALD of Al2O3 can be performed in the same deposition chamber. Hence, the FlexAL is well suited for a direct comparison of both ALD techniques.

Figure 2 shows the Al2O3 thickness, measured using an in-situ ellipsometer (Woollam M-2000F) integrated into our ALD system, as a function of the number of cyles. Figure 2 compares the growth per cycle (GPC) for plasma ALD and thermal ALD at a fixed deposition temperature of 200°C. Typical cycle durations are in the range 4 – 6 s. As can be seen from Fig. 2, plasma ALD results in a 60% higher GPC than thermal ALD at 200°C. However, the deposition rates obtained for both techniques are below 2 nm/min which means that for photovoltaic applications, where high throughput is required, only ultrathin Al2O3 layers are conceivable. This makes stacks of ALD-Al2O3 and SiN x or SiO x (deposited e.g. by PECVD) a very inter-esting option for industrial solar cells. Most recently is has been shown that by spatial separation of the half-reactions very high deposition rates up to 1 nm/s are achievable using ALD [10]. These recent developments could make ALD a near-term option for the surface pas-sivation of next-generation industrial solar cells.

Figure 3 shows a spatially resolved ellipsometry measurement of the thickness distribution of an Al2O3 layer deposited in our FlexAL system on a polished 6” sili-con wafer. The Al2O3film was deposited at 200°C using 500 cycles of plasma-assisted ALD. The thickness homo-geneity over the entire wafer is 0.4%. We also measure an excellent thickness homogeneity better than 0.5% on 6” wafers using thermal ALD.

Figure 4 shows a dynamic infrared lifetime mapping (dynamic ILM) [11] measurement of the effective carrier 23

cles for (i) plasma-assisted ALD and (ii) thermal ALD. The film thickness was determined by in-situ ellipsometry and the growth per cycle (GPC) was determined from the lin-ear fits to the measured data.

Fig.1. Schematic of one cycle of a thermal and a plasma-assisted atomic layer deposition (ALD) process. Each cycle consists of two half-steps: first, the trimethylaluminum (TMA) molecules attach to the hydroxyl groups attached to the silicon surface; second, the molecules are oxidized by H2O (thermal ALD) or an O2 plasma (plasma ALD).

Fig. 3. Thickness of an Al 2O 3 layer deposited on a pol-ished 6” silicon wafer measured using ellipsometry. The Al 2O 3 film was deposited at 200°C using 500 cycles of plasma-assisted ALD. The thickness homogeneity over the entire wafer is 0.4%.

Effective lifetime [μs]

Fig. 4. Spatially resolved measurement of the effective lifetime τeff on a 1-?cm p -type float-zone silicon wafer us-ing the dynamic infrared lifetime mapping (dynamic ILM ) [11] technique. Both wafer surfaces are passivated by 20 nm of Al 2O 3 deposited using plasma-assisted ALD at 200°C. After deposition the sample was annealed at 425°C to improve the passivation quality. The area-averaged lifetime is 1.3 ms and the standard deviation is 0.2 ms.

Both wafer surfaces are passivated by 20 nm of Al 2O 3 de-posited using plasma-assisted ALD at 200°C. After depo-sition the sample was annealed at 425°C to improve the passivation quality. The area-averaged lifetime is 1.3 ms and the standard deviation is 0.2 ms, demonstrating that a very good homogeneity of the passivation quality is achieved using ALD.

PLASMA VS THERMAL ALD

In order to evaluate the surface passivation quality of Al 2O 3 deposited by plasma ALD versus thermal ALD, we perform photoconductance decay measurements using a Sinton lifetime tester. We use 290 μm thick (100)-oriented low-resistivity (1.5 ?cm) p -type float-zone silicon (FZ-Si) wafers coated with Al 2O 3 films on both wafer surfaces at deposition temperatures ranging from 200 to 260°C. To convert the measured effective lifetime values τeff into ef-fective surface recombination velocities (SRVs) S eff , we use the intrinsic bulk lifetime of silicon according to the parameterization published in Ref. 12. If not stated other-wise, in this study we report lifetimes measured at an in-jection density of ?n = 1015 cm -3

. For the used 1.5 ?cm FZ-Si wafers, the corresponding bulk lifetime amounts to τb = 3.4 ms. Prior to surface passivation all wafers were damage-etched and RCA-cleaned. Figure 5 shows the measured effective lifetime τeff as a function of the Al 2O 3 layer thickness in the as-deposited state (i.e. without any post-annealing). Effective lifetimes in the range 3 – 5 μs (circles in Fig. 5), corresponding to an effective surface

recombination velocity (SRV) S eff of ~104

cm/s, show that Al 2O 3 deposited by plasma ALD provides virtually no sur-face passivation in the as-deposited state . Conversely, Al 2O 3 layers deposited by thermal ALD provide a good level of surface passivation already in the as-deposited state (triangles in Fig. 5) if they are sufficiently thick. For the thermal ALD an increasing effective lifetime with in-creasing Al 2O 3 thickness is observed. As can be seen from Fig. 5, for a 10 nm thick Al 2O 3 film deposited by thermal ALD an effective lifetime of only 24 μs is meas-ured, corresponding to an S eff of 670 cm/s, whereas for a

eff Al 2O 3 layer thickness in the as-deposited state (i.e. with-out any post-annealing). The lines are guides to the eyes.

eff Al 2O 3 layer thickness after post annealing for 15 min at 425°C for the plasma ALD samples and at 350°C for the thermal ALD samples. The lines are guides to the eyes.

The latter lifetime corresponds to an effective SRV of S eff = 45 cm/s. We conclude that using thermal ALD it is in fact possible to realize a relatively good surface passiva-tion quality in the as-deposited state applying processing temperatures ≤260°C. No satisfactory surface passivation quality is however achieved for very thin layers (<20 nm). Similar results have recently been reported for n -type sili-con wafers [4]. The completely different passivation prop-erties of Al 2O 3 deposited by plasma and by thermal ALD could suggest that the growth mechanisms are different in both cases. Another potentially important difference be-tween thermal and plasma ALD recently pointed out by Dingemans et al. [4] is that during plasma ALD the inter-face is exposed to very hard UV radiation emitted by the O 2 plasma, which might damage the interface. This dam-age could be annealed out during the post-annealing treatment.

Figure 6 shows the dependence of τeff on the Al 2O 3 thickness after a post annealing treatment of the samples. We have optimized the post annealing treatment and found that relatively broad temperature windows of ap-proximately ±50°C can be applied to achieve an excellent surface passivation. The samples shown in Fig. 6 were annealed for 15 min at 425°C for the plasma ALD sam-ples and at 350°C for the thermal ALD samples. By com-paring Figs. 5 and 6 it can be seen that a dramatic in-crease in τeff is observed after post annealing. The Al 2O 3 deposited by plasma ALD shows, independent of the layer thickness, higher τeff values than the samples passivated by thermal ALD, which means that the post annealing re-verses the trend measured in the as-deposited state (Fig. 5). For the plasma ALD films, maximum lifetimes of 3 ms are measured for an Al 2O 3 thickness above 10 nm, which corresponds to an ultralow effective SRV of S eff = 0.6 cm/s

using the intrinsic bulk lifetime parameterization of Kerr and Cuevas [12]. For the thermal ALD films, slightly lower maximum lifetimes of 2 ms are measured, still leading to an outstanding S eff of 3 cm/s. The differences between thermal and plasma ALD become more pronounced for ultrathin (< 10 nm) layers. While the plasma ALD layer shows only a small deterioration until a film thickness of 5 nm is reached, the thermal ALD Al 2O 3 layer shows a pro-nounced deterioration in its passivation quality already for film thicknesses below 10 nm. For an extremely thin Al 2O 3 layer of only 1 nm thickness, we still measure a τeff of 170 μs (S eff = 80 cm/s) for the plasma ALD sample, but only τeff = 30 μs (S eff = 520 cm/s) for the thermal ALD sample. Our results show that the surface passivation quality of ul-trathin Al 2O 3 films deposited by plasma ALD is clearly su-perior to that of films deposited by thermal ALD. To find out the reason for the increasing S eff with decreasing Al 2O 3 thickness, we have measured some of our samples using the lifetime-corona technique [13]. Our experimental results show that the very large negative fixed charge density Q f within our Al 2O 3 films, which is in the range of

Q f = – 4-6×1012 cm -3

, does not change with the Al 2O 3 thickness, however, the interface state density strongly increases with decreasing film thickness for the ultrathin layers [14]. This suggests that the defect states responsi-ble for the fixed charges are located extremely close (< 1 nm) to the interface. The main reason for the strong in-crease in S eff with decreasing Al 2O 3 thickness is however unambiguously an increase of the interface state density.

FIRING STABILITY

We exposed 1.5 ?cm p -type FZ-Si wafers passivated with (i) single layers of plasma ALD-Al 2O 3 and (ii) stacks 23and (ii) stacks of Al 2O 3 and PECVD-SiN x (75 nm thick). The right scale shows the implied open-circuit voltage cor-responding to the measured S eff .

Fig. 8. PERC-type solar cell structure used to demon-strate the applicability of different rear surface passivation schemes.

Firing experiments were performed in an industrial infra-red conveyor-belt furnace (Centrotherm Contact Firing Furnace DO 8.600-300-FF) at a peak temperature of ~830°C for ~3 s. The peak temperature stated is the ac-tual temperature measured during firing using a data log-ger. The set temperature was 860°C. Figure 7 shows the effective SRV S eff measured at an injection density of 1015 cm-3 after firing as a function of Al2O3 layer thickness. The right scale in Fig. 7 shows the implied open-circuit voltage corresponding to the measured SRV. Compared to the S eff values measured before firing, which are always well below 10 cm/s (see above), we measure a pronounced increase in S eff due to the firing. For an Al2O3thickness ≥20 nm we measure S eff values in the vicinity of 50 cm/s after firing, which holds for single layers of Al2O3 (red cir-cles in Fig. 7) as well as for Al2O3/SiN x stacks (blue trian-gles in Fig. 7). For Al2O3 films ≤10 nm the thermal stability of the Al2O3is significantly improved by depositing a 75-nm capping layer of SiN x onto the Al2O3, which is probably due to the very high (10-15 at.%) hydrogen content in the PECVD-SiN x film. Deposition of SiN x onto the 3.6-nm Al2O3layer alone increases the lifetime from 550 to 700 μs (before firing) [3], which is most likely due to hydrogen diffusing from the SiN x through the ultrathin Al2O3to the interface, where it effectively passivates dangling bonds. For ultrathin Al2O3 layers (≤10 nm covered by 75 nm SiN x we measure S eff values in the range between 30 and 40 cm/s. The surface passivation quality of these stacks after firing is hence compatible with an open-circuit voltage V oc exceeding 700 mV, which is well acceptable for future in-dustrial high-efficiency solar cells.

PERC SOLAR CELLS

In order to verify the suitability of the different dielec-tric layers to the rear surface passivation of p-type silicon solar cells, we have fabricated passivated emitter and rear cells (PERC) using the process sequence described in Ref. 8. Figure 8 shows the cell structure featuring a PECVD-SiN x-passivated 100 ?/sq phosphorus-diffused n+ front emitter and a rear surface passivated by the dielec-tric layer systems shown in the first column of Table 1. The front grid is made by shadow-mask evaporation of aluminum and the rear is fully metalized by full-area alu-minum evaporation (4% rear metallization fraction) after point contact openings have been generated. As a refer-ence process we use an SiO2rear passivation grown by wet thermal oxidation at 1000°C [8]. Table 1 summarizes the one-sun parameters of the best PERC solar cells, as measured under standard testing conditions (25°C, 100 mW/cm2, AM 1.5 G). Remarkably, the measured open-circuit voltages V oc and short-circuit current densi-ties J sc of the Al2O3-passivated cells are higher than the V oc and J sc values of the SiO2-passivated reference cell. V oc values of Al2O3-passivated cells are all ≥660 mV and J sc values are in the vicinity of 40 mA/cm2, demonstrating that parasitic shunting effects are absent in these cells. On top of the very thin Al2O3layers we have deposited thicker PECVD SiO x or SiN x layers to improve the internal rear reflection of the cell. Importantly, there is no signifi-cant difference between thermal and plasma ALD. However, slightly higher open-circuit voltages are typically obtained for Al2O3films deposited by plasma ALD, in agreement with the slightly better passivation measured on lifetime test structures. The results compiled in Table 1 clearly demonstrate that plasma and thermal ALD are both well suited for the fabrication of high-efficiency PERC cells with efficiencies exceeding 20%. The highest effi-ciency of 21.1%in Table 1 is achieved for the plasma ALD Al2O3layer, whereas the thermal ALD results in a maximum efficiency of 20.4%, which is comparable to the thermal oxide reference.

Table 1: One-sun parameters measured under standard testing conditions of the best PERC silicon solar cells with 3 different rear surface passivations: (i) thermal SiO2(220 nm), (ii) thermal ALD Al2O3 (30 nm)/PECVD-SiN x (100 nm) stacks, and (iii) Al2O3(30 nm)/PECVD-SiO x (200 nm) stacks. All cells were fabricated on 0.5-?cm FZ p-Si wafers. The aperture cell area is 4 cm2.

Rear side passivation V oc [mV] J sc [mA/cm2] FF [%] η [%] Thermal SiO2657 39.1 78.9 20.2 Thermal ALD Al2O3/SiN x660 39.4 78.4 20.4

Plasma ALD Al2O3/SiO x666 40.1 79.0 21.1

CONCLUSIONS

We have demonstrated that Al2O3layers deposited by plasma-assisted as well as by thermal ALD are very well suited for the surface passivation of p-type silicon wa-fers. In the case of plasma ALD, however, the as-deposited films show virtually no surface passivation, whereas after post-annealing treatment surface recom-bination velocities below 1 cm/s were measured. For thermal ALD, a satisfactory level of surface passivation was already measured in the as-grown state, which im-proved with increasing film thickness. For a 30 nm thick as-grown thermal ALD Al2O3 layer a SRV of 45 cm/s was measured. After post annealing this SRV decreased to only 3 cm/s, making thermal ALD also an excellent choice for the surface passivation of silicon solar cells. In general, the passivation quality was found to deteriorate with decreasing Al2O3 film thickness. However, for plasma ALD Al2O3films a pronounced deterioration of the SRV was only observed for layer thicknesses < 5 nm, whereas thermal ALD films already deteriorated in the surface pas-sivation level below 10 nm.

Firing at 830°C in a conveyor-belt furnace was found to degrade the passivation quality, in particular for ultra-thin Al2O3films. For Al2O3films ≤10 nm the thermal stability of the Al2O3was significantly improved by depositing a 75-nm capping layer of SiN x onto the Al2O3, which is probably due to the very high hydrogen content in the PECVD-SiN x film. For ultrathin Al2O3 layers we measured SRVs between 30 and 40 cm/s after firing, which is compatible with implied V oc values exceeding 700 mV.

Al2O3 films deposited by thermal and by plasma ALD were applied as rear passivation layers to PERC solar cells and no significant difference between thermal and plasma ALD was observed. V oc values in the range 660 – 670 mV, J sc values of ~40 mA/cm2 and efficiencies exceeding 20% clearly indicate that parasitic shunting ef-fects are absent in Al2O3-passivated cells. In average over many cells, slightly better cell results were obtained with plasma ALD. The maximum efficiency of 21.1% was achieved for a PERC cell with plasma ALD-Al2O3/ PECVD-SiO x rear surface passivation. Acknowledgments

Funding was provided by the State of Lower Saxony and the German Ministry for the Environment, Nature Conser-vation and Nuclear Safety (BMU) under contract number 0325050 (“ALD”).

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心理学课程学习心得体会

心理学课程学习心得体会 在假期中,我通过校视通学习了《教育心理学》这门课程,通过学习这门课程,我学到了很多专业知识,也对学习中的很多方面有了新的认识,下面是我学习的心得体会:教育心理学是一门介于教育科学和心理科学之间的交叉学科,它的研究对象是教育过程中的心理现象和规律,包括受教育者的各种心理现象及其变化和发展规律,以及教育者如何通过这些规律对受教育者进行行之有效的教育。本学科的研究有助于促进整个心理科学的发展,对教育实践有重要的指导意义。同时,这也是心理学专业的学生必修的一门专业课,在整个心理体系中占有重要的位置。 教育心理学主要分为四个模块,一是学习的本质,二是学习的过程,三是影响学习的因素,四是教学与管理。其中,学习与学习理论是学科的核心内容之一。它既介绍了学习的本质,并对不同的流派提出的学习理论进行了详细的介绍。我认为这部分内容相当重要,它让我开始了对学习的思考,第一次去尝试理解人类是怎样学习的。行为主义、认知派、人本主义、构建主义等对人类的学习作出了不同的解释,其中的很多观点都让我产生了强烈的共鸣。在佩服和敬仰这些伟大的心理学家的同时,我学会了用辩证的方法来看待问题。他们提出的理论基本都能在某一方面对问题得到很好的解释,但也必然会在某些方面有所欠缺。仔细深入的思考可以给我们很多启示,对我们的学习有重要的指导意义。但是,同时我们也可以看到在人类学习机制的探索之路上仍然有很多未解之谜。 关于认知领域的学习过程和行为领域的学习过程,我主要学习了六个方面的内容:知识的学习、学习策略的学习、能力和创造力的培养、动作技能的学习、学习的迁移、品德的形成。这是对认知领域和行为领域的学习过程的详细介绍。这几方面的内容都是很实用的。而且我个人对这方面的内容比较感兴趣,所以很喜欢学习这部分的知识。 掌握知识是学生学习的主要任务,也是学校教育的核心内容之一。知识的定义,知识的分类,知识的表征形式,以及元认知和概念学习,这些关于知识学习的内容让我对"知识"二字有了不同的认识,有种恍然大悟的感觉,没学习之前虽然觉得自己很清楚什么是知识,但却不能用准确的文字表达出来,学习了教育心理学后才知道知识是指存在于语言文字符号中的信息,或者说是主体在与环境相互作用而获得的信息及其组织形式。学习了这门课程后,感觉到自己的专业素养提高了,能用心理学的一些术语和理论来解释学习中的一些现象。在不经意间就会把所学的理论知识和现实联系起来,尝试着从教育心理学的观点去理解、解释。

管理心理学心得体会

管理心理学心得体会 管理心理学心得体会一:管理心理学的心得体会 记得老师说过管理心理学这门学科的研究对象是“以人为中心”。以前一直没有过对这门学科的了解,从选修这门课一直到上完,我有了不少收获,虽然对这么学科的学习和了解还是非常的少,但我仍对这么学科有了很好的认识,并且有兴趣和想法在将来继续在这门学科上学习下去。 管理心理学它是研究组织中的人的心理活动规律,用科学的方法改进管理工作,充分调动人的积极性,最大限度地提高工作效率的一门学科。它的研究根源和目的是探索人的行为产生的原因以及人的动机与人际关系发生发展的规律。主要研究社会心理现象以及个体,群体,领导组织的心理活动。 管理的实质是“对人管理首先就要了解人”,了解所要管理的对象的性格特征,了解他的工作环境,了解他的工作能力。了解了才能很好的管理,才能很好的调动对象的积极性,提高工作能力。 当领导管理自己的下属,调动下属的积极性,当老师的要管理自己的学生,调动学生的积极性,而这一切就是要领导者考虑的问题。在管理心理学中,激励就是调动人的积极性的过程。激励大师金克拉曾说:“你若想成为人群中的一股力量,便必须掌握激励,生活就是这样,你把它放入自己所处的人际中,人们就记得你信任你,就像黑夜相信灯光一样。” 激励便是“激发鼓励”。激励是管理心理学上一个非常重要的功能,是管理心理学的核心问题,也是管理心理学研究的热点问题之一。 激励是一个心理学术语,是指持续地激发人的动机的心理过程。或者说,激励是引起个体产生明确的目标指向特定行为的内在驱动力。在管理工作中,激励就是管理者对员工的激发和鼓励,激发员工的工作动机,鼓励员工的工作干劲,通过运用各种管理手段刺激员工的需要,激发其动机,使其朝向所期望的目标前进,发挥其才能,释放其潜能,最大限度地、自觉地发挥积极性和创造性,在工作中做出更大的成绩,也就是调动员工的积极性。它是一名管理者的基本职责和必备能力。工商企业只有一项真正的资源:人。

社会心理学学习心得

社会心理学学习心得 这学期学习了社会心理学,有一点心得体会。 社会心理学是现代心理学的支柱之一,它与人格心理学、实验心理学和认知心理学一起构成了现代心理学的基本结构。本书在介绍社会心理学的历史、理论、方法、研究的基础上,选取了社会心理学的几个主要研究领域,并从理论和实际上对其加以分析这些领域包括:社会认知,社会行为,社会态度,人际关系,社会交换与影响,团体与组织心理,以及最新受到重视的文化心理学和健康心理学。在对这些领域的知识进行分析的时候,作者力图使其与我们所生活的时代联系在一起,从而使社会心理学的理论和知识对我们的生活有所帮助。 学习社会心理学能够使人们对自己有一个更加清楚的认识。在现实生活中,人们尽管常常可能会反省自己的所作所为,但由于种种原因,人们对自己的认识远远少于他人或者事件的认识。学习社会心理学的第一个好处是认识自己。 在学习社会心理学我也学会了认识他人。生活中人们时时刻刻在和不同的人打交道,尽管不同的人的行为差异很大,但还是有规律可循的。在渐渐了解自己之后,我发现自己以前总是在怨天尤人,不仅如此,还喜欢把一件小事考虑的很复杂。但是现在我发现所学习的心理学的知识在我脑中结成了一张大网,活生生的经历时时接受着理论的检验。我了解了,我不怨了。我学会了忍耐,学会了宽容。有人说:“主动与被动紧一线之隔,而生命情

调却神情悬隔。”还有人说:“当你不能改变环境时,最好改变自己。”也有人说:“当你不喜欢自己现在的生活状态时,请马上改变。”于是,我选择了后者那就是所谓的“改变”,虽然说这几乎是不可能的事情,但是我还是愿意去尝试,并且希望用时间来证明自己是可以做到的! 学习社会心理学的第三个好处是认识社会。通过学习社会心理学,我能够理解自己所处的社会的特性,了解了在这样的社会中应该如何生存下去,这对即将毕业的我有很大帮助。 学习社会心理学的最大好处是认识生活的价值。生活的意义不在于有钱或者名声响亮,而是在于:一是能够自主,自己的事情自己能够决定,而不是由他人决定;二是能力,能够有足够的实力把自己决定或者他人交给的任务完成;三是关系,在生活中和他人建立起密切的联系,而不是孤军奋战;四是自尊,对自己有清醒的认识和积极的评价。通过学习社会心理学,我更加清楚地认识到了自己生活的意义。 通过对社会心理学的学习,我的性格,为人处事的方式,甚至价值观都发生了很大的变化。开始学会如何去关心他人,处理事情时开始考虑的周到了些。逐渐开始观察、理解朋友的心理,情绪上的变化,并力所能及的给予一些心理上的疏导,和言语上的安慰,以缓解轻度的心理上的问题,也许这些“微乎其微的事”不值得一提,但从小的行为的改变,可以看到心理学课对我大的影响。可以毫不夸张的说心理学的学习使我无论从文化知识上,

心理健康讲座心得体会1500字

心理健康讲座心得体会1500字 1.挑战自我,从头学习 这学期学校分配我教七八两个年级的健康,一开始真有些发愁。都说隔行如隔山,确实如此啊。暑假期间我就开始学习了,看心理 学方面的书,在网上找相关的视频,向杨秀霞老师吉小翠老师请教,要相关资料,认真备课,精心做课件。开学后从市教研室买来心理 优质课的光盘,有十一节课,我就天天看,仔细琢磨,从中学到很 多教学方法。 2.积极参加市里的教研活动,不断提升自身素质 市心理教研室每周三都要组织教研活动,或布置工作,或请心理专家讲课,我都按时参加,活动地点一般都很远,如回民中学,80 中等,我都克服困难积极参加,不错过学习的机会。 3.积极开展校园心理剧的宣传普及工作 这学期教研室布置市各中小学创作校园心理剧,并且选出好的剧目参赛。校园心理剧我还是第一次听说,怎么去创作和推广?万事开 头难,我先上网查资料弄明白什么是心理剧,再下载一些剧本和心 理剧视频,从中选出一些好的介绍给学生。我下载的心理剧都是学 生自己表演的,有如何正确对待早恋的,有如何与同学相处的,很 容易产生共鸣,学生们都很喜欢看,达到了寓教于乐的目的。二八 班的同学最先创作出了剧本《追星风波》,并且自拍自演,还请 好几个老师担当角色,充分显示了同学们的才华。二十二班的同学放完自编自演的心理剧后,还展开讨论,找出剧本和演出存在的 不足,更使人感到欣喜。 4.积极引进心理专家来我校讲课

今年郑州慈善总会搞了一个心理专家进校园的活动,免费给各学校搞讲座。但是需事先报名,确定题目及时间地点,程序很麻烦。 不报名完全可以。但是我觉得这也是一次难得的机会,也是自己的 一份责任。于是向初三的老师征求意见,了解初三学生存在的问题, 确定题目请专家来讲,在学校教导处的组织下,讲座非常成功,学 生们收益匪浅。 5.做好期末考试,建立健康课档案 我非常重视学生的期末考试,一是让学生从中多学点知识,二是为健康课准备好检查资料。我参考以往的卷子,又上网查阅,重新 为八九两个年级出题.考试结束后还要改卷,一共要改28个班的卷,还要登分,工作量特别大。但我没有丝毫松懈,认认真真完成这项 工作。我还准备了资料盒,把这学期的资料保存好,为上面的检查 做好准备。 虽然自己想尽力把健康课备好,教好,但毕竟是半路出家,工作中难免有很多不足,今后要努力学习,不断钻研,争取把教学工作 做得更好. 种素质的形成,要以心理素质为中介,创造意识、自主人格、竞争能力、适应能力的形成和发展要以心理素质为先导。在复杂多变 的社会环境中,保持良好的心理适应状况,是抗拒诱惑、承受挫折、实现自我调节的关键。 大学生心理素质方面存在的种种问题一方面是与他们自身所处的心理发展阶段有关,同时也与他们所处的社会环境分不开。大学生 一般年龄在十七、八岁至二十二、三岁,正处在青年中期,青年期 是人的一生中心理变化最激烈的时期。由于心理发展不成熟,情绪 不稳定,面临一系列生理、心理、社会适应的课题时,心理冲突矛 盾时有发生,如理想与现实的冲突、理智与情感的冲突、独立与依 赖的冲突、自尊与自卑的冲突、求知与辨别能力差的冲突、竟争与 求稳的冲突等等。这些冲突和矛盾若得不到有效疏导、合理解决, 久而久之会形成心理障碍,特别是当代大学生,为了在激烈的高考 竟争中取胜,几乎是全身心投人学习,家长的过度保护、学校的应

学习心理学的心得体会精选

学习心理学的心得体会精选 通过12天心理学的学习培训,我将会不断的提高心理学的理论知识,同时我也会把三位老师交给我们的方法很好的运用到实践中去,不断的学习成长,争取做到在尊重他人的同时,我好,你好,世界好。 有句话说的非常好好:搬开别人脚下的绊脚石,就是为自己铺路。 在新世纪的征途上,既面临难得的机遇,又面临严峻的挑战。 当今是个知识大爆炸的时代,知识更新速度特别快,老师如果不积极学习,就会被时代远远的甩在后面。追求知识是老师们应该树立的新观念。知识经济时代老师应该具备的素质一是较高的理论修养;二是广博的知识储备;三是良好的做人品质。现代老师应该牢固树立的一个重要观念就是终身学习的观念。老师只有不断的学习新东西,不断地更新自己的知识结构和知识内容,这样才能更好的的驾驭新时代的任务。良好的观察力是老师更好的教育好每一个学生的重要条件。因此,我感觉老师必须善于观察学生。不仅仅是观察学生,观察身边的人,同时也包括观察自己。俗话说"人贵有自知之明",而"自知之明"离不开自我观察。良好的自我观察力能够是你及时的发现并抓住自己的缺点和不足,对自己做出客观的评价,以便在工作中根据自身的实际情况扬长避短、在不断的自我调节中完善自己。掌握正确的观察方法就要学习有关的心理学方面的知识,向有经验的老师学习,同时要注意时时刻刻锻炼自己的观察力。另外还要注意到,同事们和领导也在时时刻刻观察自己。"以人为本,感情留人"。就是要跳出狭隘老师

的局限,在教育学生过程中要倾注心血、倾注感情,在教学过程中,既要关注学生获取知识的能力,又要关注他们的情感态度,尊重领导和同事们的个性,了解他们的思想、感情和心理状态,关心他们的个人生活和健康,实现团体目标和个人目标的和谐统一,做到个人和团体一起成长。,团结和谐的人际关系和工作环境,使大家能够心情舒畅地工作。只有有了感情这个重要的基础,一个组织才能始终保持人与人之间的密切联系和合作,才能把人心凝聚起来,形成合力。在教学中客观公正地对待每一个学生,不搞厚此薄彼,不搞亲亲疏疏,要倾注心血,热情待人,平等待人,善意待人,真正把一个班级建设成为温暖的"大家庭"。 总之,学习心理学,不仅对我个人有很大的帮助,对我在教学 中也有很大的帮助,我会尽我所能学好心理学这门功课,努力做到三赢。 每个人都渴望更清醒地了解自己,也渴望看清别人,我也不例外。在学心理之前我感觉心理学是一门神秘的学问,能够了解自己的行为,也能够能够理解别人行为背后的意义。但在学习心理学的这段时间以来我更加科学的认识到了心理学的含义,我被其中的奥妙吸引,它是实实在在的科学,并没有很多的虚幻的东西在里面。 在我看来,无论我们正在从事什么工作,或者我们什么都不做,只是安静地坐在那里,我们的心理活动从来都没有停止过。心理学存在于我们生活中的无时无刻,心理活动贯穿于我们的整个人生,从出

我的父亲的作文1000字5篇

我的父亲的作文1000字5篇 小时候总觉得父亲不怎么爱我,因为父亲从不会表达,只会默默地付出。父亲的爱,岂是一朝一夕所能读懂的......下面是的关于我的父亲的作文,欢迎阅读。 小时候总觉得父亲不怎么爱我,因为父亲从不会表达,只会默默地付出。父亲的爱,岂是一朝一夕所能读懂的。他的爱太过深沉,太过厚重,以至于我太久没有读懂。慢慢的才开始发现,原来我这一生最爱的其实也就是父亲了。 小时候,总认为父亲不爱我。是啊,每次爸爸都会给弟弟很多零花钱,每次我和弟弟斗嘴爸爸都会向着弟弟,还有每次有什么好吃的爸爸都会让我给弟弟……现在才发现那时的我太过斤斤计较,父亲的爱岂是我能用那卑微的眼光去衡量的。那时,父亲不过是想去教会我如何去做好一个姐姐,正如今天他教会我如何去做人一样,只是,那时幼稚的我怎会懂得。 慢慢的,当这份爱越积累越凝重,当我渐渐的长大,当父亲变得越来越老,我才忽然明白,爸爸是多么伟大的一个男人啊。尽管他没有一米八七的大个子,没有庞大的体格。是啊,他是那样瘦弱,可__一个瘦弱的男人坚强的撑起了这个家。家里老老小小五六口人都要靠他养活。他从来没有退缩过,在他最健壮的时候,他去抬粮食。可

他那瘦弱的身躯怎经得起总日的劳累,他病了,他的腰开始隐隐作痛,可他怎么能退,那一个家的重担压在他身上。当他实在没有力气去抬粮食的时候,他又不断的去做别的事。他运过木头,收过玉米芯。当新年快到的时候,他知道应该去进些红枣卖,当蔬菜下来的时候他又去贩卖蔬菜。他卖过鞋,卖过玩具,他知道什么时候该去做什么。他为这个家不断的奔波着,岁月的沧桑印在了他的脸上。照片中那个站在杨树下的男人,浓密的剑眉间透露出一股傲气,国字型的脸上没有一丝皱纹,明丽的大眼睛在阳光下发亮,伶俐的短发,白色的衬衣,照片中的阳光气息浓郁,比阳光气息更浓郁的是爸爸身上洋溢出的青春味道。听见爸爸叫我的声音,我立刻跑出去。眼前的一幕我惊呆了,父亲刚刚取面粉回来,他扛着那袋面粉,不,是那袋面粉重重的压在他身上,他的腰弯得那样的厉害,和地面快要平行了。我想要过去帮忙,他却执拗的不让,只是让我帮他掀开门帘。这就是他爱的固执的表达呀。用他的话说,就是只要他还能动,就绝不会让我去出力。可是,我的傻爸爸呀,你已不再年轻啊,现在的你连扛起一袋面粉的力气都没有了。我的眼角渗出了泪,却转过身不让父亲看到。 我不知道我那健壮的父亲什么时候开始变得这样瘦弱。当我再看父亲,不知他的脸什么时候开始改变,他脸上浓密的不再是眉毛,而是眼角那深深的皱纹,他脸上的那股青年人的气息开始黯淡,以至于再也找不到。父亲是什么时候开始变成这样的,我不知道,我不知道,我只记得父亲能、把年幼时的我举得很高很高,是啊,那才是我

心理学心得体会

心理学心得体会 导读:本文是关于心理学心得体会的文章,如果觉得很不错,欢迎点评和分享! 【篇一:心理学心得体会】 英国著名小说家莎士比亚说过:错误并非出自我们的星球,而是出自于我们自身。 心理学,一个既熟悉又陌生的词语。其实,在我还没有学习心理学的时候,我一直对这个概念似懂非懂,本以为自己虽然对“心理”说不出个所以然来,但小小的心得体会还是有的,但经过老师的教导,才知道自己之前其实根本一点都不了解心理学,不过,经过这一学期的学习,我对心理学的认识不知不觉中多了很多。 根据老师的教导,结合老师的原话,我对心理学的总结如下:(一)心理学教育是在新形势下加强和改进学校德育工作的需要,是促进意志、个性、气质等非智能结构发展的需要,是促进学生身心健康全面发展的需要,是适应未来社会竞争的素质教育的需要,是探究一个人的心理活动与行为纪律的科学。 (二)学习这门课程,对于维护自身的心理健康和身体健康有着重要意义,同时对于关注他人,帮助他人也有重要意义。一个人的内心情感——喜怒哀乐忧伤悲会直接表现为外在行为上,一种乐观、积极向上的心态会使外在的生活充满愉悦之感。学习这门课程之后,会逐步了解自己的性格特点和心理健康状态,同时也会更加关注周围的

人。 经过这一学期的学习,我有了许多体会,因此做下以下决定: (一)提高自控能力。可以看到,大学生自由支配的时间实在很多,多到使很多人都没有去学习,整天只知道玩游戏打发时间,虽然我没那么严重,但也差不多,所以我需要有较强的自控能力,增强学习自觉性,否则再这么下去也是浪费时光,荒废学业。 (二)克服自卑。我们周围有不少人有自卑心理,也就是不愿意接受自我,我就是其中的一个。老师说过,对青年来说,正确评价自我、接受自我至关重要,它关系到建立正确的自我观念,适应环境,促使性格健康发展。接受自我,去除自卑感,是精神健康的重要保证。因此,我要的真正了解我自己,克服自卑。 (三)正确走好感情之路。这一学期的最后一讲,讲的就是大学生恋爱心理学,让我感到很震惊,没想到大学生恋爱有这么多学问。老师讲过,有同学们在恋爱过程中,不同气质类型的人常有不同的表现。但由于气质本身并无优劣之分,故其表现也都有积极的一面和消极的一面。各种气质类型的人都可能尝到爱情之果的酸甜苦辣。恋爱的不顺利,原因很复杂,但气质方面的消极因素无疑也起了作用。有的固然失之于古板迟滞,而有的却恰恰受害于过分的灵活通便。所以,拥有心理健康方面的心理知识,才能使自己走好自己的感情之路。 虽然这个学期心理学的课程已经结束了,但它能带给我很多东西。做人,不但需要被爱,还要去爱人,更要爱自己,懂得爱自己的人才能真正领悟到世间的有情。多一些信心,多一些爱,才会找到一条比

我的父亲作文1000字初中优秀作文4篇.doc

我的父亲作文1000字初中优秀作文4篇 我的父亲是个淳朴的农民,他没有华丽的背景、没有繁华的身世,没有别人那样有文化,一辈子只知道和黄土与黄牛为友,土里土气,汗腥味儿充满全身。然而,我还是爱我的父亲。下面一起随我来欣赏关于"我的父亲"的作文吧。 我的父亲作文1000字初中优秀作文1: 时光在流失,不知不觉中,我已长大,父亲却在慢慢变老,鬓角不时冒出一根刺眼的白发,头顶的毛发也日渐稀疏,只有那双的充满智慧眼睛,依旧那么明亮,思维依然那么敏捷。我爱父亲,更尊敬他,因为他是慈父,良师、更是诤友。 慈父 父亲的工作能力很强,也很坚强,在我的印象中,从没有让父亲发愁和感到棘手的事。有一次,我好奇的问父亲,有没有让你感到害怕的事,他认真的想了一会,说:"有,你小的时后,我最怕听到你的咳嗽声。"母亲后来告诉我:由于我小时候是早产,身体比较虚弱,没出满月时得过一次肺炎。导致以后只要感冒,就会发烧咳嗽,变成肺炎。有几次半夜发烧,父亲便抱着我去儿童医院治疗,整夜整夜的不睡。以至于后来条件反射,一听到我咳嗽就紧张,睡不着。妈妈常对我说:"你爸爸天不怕,地不怕,你一咳嗽他就怕。"父亲的怕,却演绎着浓浓的爱。 良师

父亲博览群书,文笔很好,洋洋洒洒数千言,一挥而就,翻开报章杂志,经常能看到他的文章。也许受父亲的遗传,我也写过许多文章诗歌。奇怪的是,父亲从来不教我如何写,更不说如何开头,如何结尾,他总是说"文无定法"只是肯定我的长处。一篇文章只修改个别的词和一两句话,文章便顿时生动起来,堪称画龙点睛之笔。所以,我小时候从不认为写作文有多么的难,也发表了不少习作,甚至在五年级写了一篇小说。现在写文章的一点功底,也是那时候打下的。 诤友 "乐交诤友,不交损友",随着年龄增长,父亲把我当成男子汉平等对待。经常的一句口头禅是"哥们儿,齐头并进。"但当我犯错时,却毫不留情,不过不是站在父亲的立场,而是站在朋友的立场。最近,我连续两次因为逃避责任而撒谎。父亲认真跟我谈心,这被他称为两个男人的对话。他慷慨激昂地对我说了两点:"你是男人,要勇于承担责任;男人就要挺起脊梁股,敢于面对困难,战胜挫折,否则将一事无成!"父亲认真且坚毅的表情深深震撼了我,我默默下定决心,要勇敢、要坚强。 父亲时常开玩笑说,"我是一个不称职的父亲,下一辈子你不要做我的儿子,找一个好父亲,一定能够成大器。"如果真有来世的话,我会对父亲说:"父亲,下辈子我还做你的儿子!" 我的父亲作文1000字初中优秀作文2: 有一个人,他用那双坚实有力的手臂将呱呱坠地的我抱起;有一个人,他用那宽阔的肩膀为我支起一个温暖的家;有一个人,他那

管理心理学心得体会1500字3篇(完整版)

管理心理学心得体会1500字3篇 管理心理学心得体会1500字3篇 管理心理学心得体会1500字范文1: 在《管理心理学》中,我学习了人的从众行为,我想既然人有从众行为,那么由人组成的企业同样也具有从众行为。在某种意义上来说,这种非理性的企业从众性行为正破坏着我们并不富足的改革积累。为什么在中国的企业界、企业之中会有这种从众性现象? 一个人的行为是受很多方面制约的,但主要归纳来看一是受外部环境的制约,二是受自身思维的影响。就正如一个人的跑步行为,只有当他有了跑步这个想法,而且至少有一个能跑步的地方,他的才能实施跑步这个行为。如果他自己没有要跑步这个想法,就算有再好的跑道在面前,他也是不可能跑的。如果他在水中,就算他再想跑,他也是不能够跑,而只能够游。同理,一个企业的从众性行为也是多方面影响的结果,我认为主要有以下几方面的原因。 一、利润空间比较大 如果有某种产品在市场上毫无利润可言,我想是不会有企业愿意生产的。正是有利可图,有暴利可图,才使众多的企业盲目地争相进入。先进入的企业由于获得了暴利而极速膨胀,这种模范的影响导致更多的企业急于进入,形成另一轮的多米诺骨牌效应。可以说,高额的利润是产生从众性行为的最根本的原因。 二、进入壁垒比较低 进入壁垒包含两方面:

一是技术方面的壁垒,二是资金方面的壁垒。也就是说某个行业有从众性行为的发生那么该行业进入所需要的资金肯定不多,其产品的技术含量也一定不高。 三、市场机制不健全 市场运行机制的不健全必然要导致竞争的无序,而这种无序又会成为企业从众性行为的催化剂。大家都想乘乱捞一把,在里面的想多捞些,还没进去而看着眼红的拼命往里挤。市场不能进行有效的调控,就像一群人,得了一种病,医生却不知道该怎么医治,传染的人越来越多。最后,身体特好的熬过来了,熬不过的占大多数。 目前,我们的市场还没有一个完善的、强有力的市场准入制度,也就是说很多企业没有该种产品的生产资格却上马生产,市场对这种无证上岗的企业不能进行有效的制约,这样就会造成很多企业没有完备的生产手续也能生产,为从众性行为的发生开了方便之门。 四、领导素质比较低 一个企业的行为是由这个企业的领导者作出的,领导者所作出的决定能反映其素质的高低。通过对众多的失败的案例分析,我们发现了以下几点共同之处。首先,企业领导者普遍缺乏道德感和人文关怀意识。这种意识是以胜者为王,败者为寇作为参考标准。企业家往往无意于追究企业成长,发展过程中的道德性,这在很大程度上也助长了企业家们的功利意识。追求功利,就是要求高额的利润,从而又归结到从众性行为产生的最根本的原因上来了。其次,企业领导者普遍缺乏对规律和秩序的尊重。我们的许多企业领导者缺乏对游戏规则的遵守,许多人以不按牌理出牌的人为标榜。本来,不按牌理出牌,出奇招制胜是很好的经营手法,但是由于领导者自身素质偏低,

有关学习心理学的心得体会

有关学习心理学的心得体会 心理学,一个既熟悉又感到陌生的词。联合国卫生组织指出:21世纪困扰人类的不是环境问题,不是资源问题,也不是恐怖主义,而是来自于人类心理的问题。诸如情结的烦闷,学业与工作的压力,孩子厌学,感情困惑等等,这些因素都会引发忧郁,失眠,焦虑或者其它现代文明玻这一组数据,不仅让人咋舌,更让人不得不证实当今的社会问题。可以说,如何让自己浮躁的心态,归于平静,如何放松自己,关注心理健康,已成为21世纪重要的社会的新课题。 在我国,改革开放以来,随着社会生活的不断变化,市场经济的加速运行,完全打破了几十年来人们在传统落后的计划经济体制中形成的思维定式。当突然直面一个激烈竞争,快速变化的市场经济新模式,我们会深刻的感受到多年来积累的知识,能力,经验,受到了前所未有的挑战。在现实生活中,我们赖以生存的环境,条件一夜之间都发生了巨大的变化,在学习工作,生产关系的矛盾,冲突,经常困扰着人们健康的心灵,严重影响其学业和事业的成功。 偶然得知,徐清照老师的连线心理工作坊,便慕名前往,与此感受到了与众不同的教学氛围,很受鼓舞。说心里话,在学习《心理学》之前,我对此学科的理解几乎是片面的,琐碎的。但,当我从参加第一堂心理学开始,对心理学就渐渐地有了一个清晰的概念,更加加深了我对此学科的浓厚的

兴趣。通过徐清照老师的讲解,我逐步懂得了“世上每一个人都是不同的个体,而在每个人的身上,也蕴藏着一份特殊的才能,那份才能犹如熟睡的巨人,就等我们去唤醒他。” 所谓人格是指一个人的整体精神面貌,是具有一定倾向性,稳定性的心理特点的总和,包括气质,性格,兴趣,信念和能力等。心理咨询师应当具备的人格条件又包含哪些内容呢? 1.心理相对健康 心理咨询师是通过自己的行为来引导来访者的,所以他的健康水平至少要高于他的来访者。虽然心理咨询师本身也是普通人,也有七情六欲,会像其他人一样希望得到爱,希望被接受,被承认,被肯定,渴望安全感等等,但他必须有能力在咨询关系以外求得这些欲望的满足,以保证有效地完成心理咨询师这一社会角色的任务,不致引起角色紧张。心理咨询师也会在生活中和他的大多数来访者,在相同的社会环境里,遇到各种生活难题,也会出现心理矛盾和冲突,但他可以保持相对的心理平衡,而且能在咨询关系以外来解决他的心理矛盾和冲突,不至于因为个人的问题干扰咨询工作。一个合格的心理咨询师应当是一个愉快的,热爱生活的,有良好适应能力的人。要得到来访者的信任,咨询师自己必须愿意不断成长,并且在生活中不懈奋斗。那些情绪不稳定,经常处于心理冲突状态而不能自我平衡的人,是很难胜任心

大学心理学学习心得体会范文

大学心理学学习心得体会范文 大学心理学学习心得篇一《心理学》这门课程对于我们每一位大学生来说是必修的科目,也是我们了解心理知识的所要走的阶梯,对我们了解人的心理尤为重要。 虽然我已经在老师的指导和教导下,学了这门课程大半个学期,还未学完,但我已经对心理知识的有关方面有了一定的了解,人的知识、情绪、行为、动机、感情等等都与心理相互联系,相互作用,相互影响的。人的心理有积极与消极,主观与客观、好与坏、高兴与悲哀在现实生活中,一些现象令人愉悦,一些现象使人忧虑,美好的事物引发人的爱慕之心,丑恶现象惹人产人产生厌恶之感。人具有喜、怒、哀、惧以及自豪感、美感、理智感、自卑感等多种情感和情绪,而这些情感与情绪作为人对事物和自身的生活态度体验、构成了人类心理生活的一个非常重要的方面。 在课堂上,老师每讲到新的知识,都会耐心地指导,并以理论与实践相结合的方式来授课,甚至还有一些比较经典的视频以指导我们,让我们掌握起知识的要点时容易理解和,使我们的思维能力得到拓展和提高,增加知识的免疫力,因为这样我们在记忆知识时更加牢固。有时在讲到一些重要理论时,还会出一些心理实验来测试我们的能力和心理素质的承受能力,这些课堂实验使我们感到十分有趣而且这样别具心裁的课也十分生动和形色,是我们学生所喜欢的,上课时不会感到枯燥乏味,能够引起我们的兴致,因为它可以调

动学生学习的激情,活跃课堂气氛,真正达到育人效果。学生在实实在在的活跃的生动的并且有一定新意的活动中受到教益和启迪,促进知行的结合。学生在主动参与教学过程中,激发了感情,明白了道理,情理凝结,这也而况仪让我们了解自己的心理能力达到一个什么样的程度,是好还是坏,是强还是弱,是积极还是消极的,是高还是低,这都是我们需要去了解的,因为可以从实践中获取知识和应用知识。 《心理学》是一门科学的课程,它是以科学的方法研究人的心理和行为以及它们活动规律科学,更加是人类为了认识、摸透、掌握和了解自己而研究自己的一门科学,这主要是研究人的心理现象,同时也考察人的行为、感情、动机,并且探讨心理现象与行为之间的规律性关系。有人说,心理是一种精神现象,它不具形体,难以直接考察和研究的。然而,人的心理与人的行为,可以了解人的心理。可以分为社会心理和个体心理。社会心理与个体心理是密不可分的。社会心理现象体现在个体心理活动当中,它离不开个体心理。但对个体而言,社会心理又是一种重要的社会现实,直接影响个体心理的形成与发展。个体心理是社会现实在个体头脑中的反映,虽然属个体的主观精神活动,但其中包含着丰富的社会心理因素。 受遗传、教育、生活经历、职业活动和其他因素影响,不同的人的心理会形成各不相同的特点;在不同的时间或条件下,人的心理活动具有不同的状态。对于人类来说,人是

我的爸爸作文1000字5篇

我的爸爸作文1000字5篇 每个人都有自己的爸爸,那么,今天,小编给大家介绍的是我的爸爸,希望大家喜欢。 我的爸爸作文1 我的爸爸是已过四十岁的中年人,皮肤黑黑的,眼睛大大的,鼻子有点塌,头上的白发因为工作的压力而日益增多了。 从小,爸爸一直都是我的榜样。他非常喜欢乐于助人,而且很会做饭和打扫卫生。他对我一直都很严,所以我基本上不敢跟他吵架或顶嘴。他经常教育我要诚实,要懂礼貌之类的。他说的一些话一直都激励着我成长。 记得有一次,我上二年级的时候,我们班上的几个同学想在我家里吃饭,因为我妈的厨艺不错,所以我爽快的答应了他们。放学后我兴高采烈的回去准备想把这件事情告诉我的妈妈时,妈妈正好有事出去了,没在家。我都答应了班上的同学来我们家吃饭了,我不能违约啊!于是,我就像热锅上的蚂蚁—样急得团团转。爸爸看见我这么着急的样子,就问我发生了什么事情。然后,我就把这件事情告诉了他,他听了之后爽快的对我说:“别担心,做菜这事就交给我好了!”说完后,他马上从冰箱里拿了一些菜和鱼。我半信半疑地问他:“爸,你真的可以吗?”他听了我的话之后,笑着点了点头。大约过了一个小时,跟我约好的几个同学来到了我的家,我邀请他们在餐桌上坐好了

之后,我爸就开始上菜了。我和同学们看到爸爸上的菜之后,都惊呆了,有红烧鱼啊,辣椒炒肉啊,西红柿炒鸡蛋还有香菇炖排骨。刚上完菜,我和同学们便马上开始夹菜,一个个的吃的可香了!他们吃完之后都夸我爸做菜超级好吃,我心里无比自豪。那是我第一次知道爸爸会做菜,而且味道超级赞! 记得还有一次,我和爸爸骑摩托车去效外看荷花。回去的路上突然下起了倾盆大雨,我们并没有带伞,也没有雨衣,附近也没有可以躲雨的地方,风又特别大。我只穿了一件衣服,冻得我瑟瑟发抖,爸爸看见后,他赶紧把外套脱下来给我穿,然后又在摩托车的后备箱里拿了一件衣服给我挡雨,然后,马上坐车回到了家里。途中,靠在爸爸的背上感觉特别温暖。一到家,我爸就赶紧让我去洗澡,我看他全身都湿透了,就想让他先洗。但他用严厉的眼神让我赶紧去洗澡,我在他严厉的眼神里看出了暖暖的爱。 我一直以来都没少让他操心,他一直都努力想让我幸福和快乐。每次我听到《父亲》这首歌的时候,我都会忍不住潸然泪下。“时光 时光慢些吧,不要再让你变老了,我愿用我一生换你岁月长流。一生要强的爸爸,我能为你做些什么,微不足道的关心,收下吧!”是的,我们不可以让时光慢些和倒流,我现在能做的就是把我自己变得更好,然后来报答爸爸妈妈! 我的爸爸作文2 不胖也不瘦的身材,一米七多的个子,白净的脸庞戴着斯文的眼镜,一看就是个善良文雅的人……这就是我的爸爸。

《教育心理学》学后心得体会

《教育心理学》 古人云:“开卷有益”。常读书和常思考,会使我们勇于和善于对自己的教育教学作出严格的反省和内省,既不惮于正视自己之短,又要努力探究补救途径,更要擅于总结自己的或同行的成功经验,从中提炼出可供借鉴的精华,为理论的突破夯实根基。读《学与教的心理学》,我想对自己及老师们说一句:读书,能使你的知识变得更丰富,若干年以后,“教科书在你眼里看来就浅易得像识字课本一样了” 我阅读了《学与教的心理学》这本书,读完后深有感触,这本书中提到的很多的教学机制、教学理念,与我们的教育教学息息相关。读后使我的业务水平有了进一步的提高,对学生的心理以及学与教的心理有了更深刻的认识。教学是教与学的统一,只有老师和学生们的积极配合,才能达到教学的完美结合。 《学与教的心理学》这本书包括了三部分:教师与学生心理,学习心理,教学心理。它将新的学习论和教学论及其教学设计技术贯穿全书。采取了以学校学习和教学中的心理学问题为基本线索,介绍和剖析学与教的重要方面和主要环节的心理学理论与应用。论述了学习类型与教学条件的相互关系,学生人格特征与教学处理的相互影响,师生间和同学间的交互作用,等等。 我先谈谈对教与学的心理学的认识,当然这些是来自对书上内容的吸收和思考。学与教的心理学是一门把学习心理和教学心理两个分支学科结合起来,阐明学生的知识、技能和品德的习得过程,以及教师如何为学生有效学习创设适当条件,促进学生的知识、技能和品德学习

的心理学新学科。它是研究学校教育过程中学生的学习活动及与之相关的心理现象及其规律的科学。它涉及学校教育过程中的一切心理现象和规律。一方面深刻的体会到教与学这是两个相互影响和促进的过程,对于我们重点研究学校教学或更细些的课堂教学和我们这么多年的学习生活体会是一致的;另一方面,我也认识到教学它是一个完整的过程,而在每一个过程都应当有正确的理论去指导,这样才能更好地促进教学。教与学的心理学与教育学不同:教育学研究的是教育过程的一些基本规律,而相对应的,教与学的心理学则研究在教育教学条件下教师与学生心理活动的规律及应用。 从书中,我认识到以下几个方面的问题: 1、我国教育面临着从“应试”教育向“素质”教育的转轨。要提高学生的素质,首先要使教师队伍具备良好的素质。要更新我们教师的教育观念和提高自身教书育人的技能。 2、中、小学教育的对象是青少年学生。学生的发展既是教育目标,又是教育的基本依据。教师要想取得预期的教育效果,必须了解学生发展的基本规律及其学生的个体差异。在教学中我应把握学生的认知特征,促进学生的认知发展。 3、帮助学生有效地学习是教师的天职。若要有效地帮助学生学习,就必须懂得和熟练地运用学习规律。所以我们教师要知道学生认知能力、动作技能和态度与品德学习的过程和有效学习的内部与外部条件。 4、教师必须学好教学心理学才能使习得的学习论原理转化为教学技

心理学的心得体会

积极心理学得心得体会 随着人们大踏步得迈进21世纪,心理健康越来越成为不同文化背景与社会得关注焦点。心理学得发展也愈发得得到重视。拥有健康得身体已不再只就是生理学家得关注所在了,越来越多得心理学工作者也投身于此。 众多得研究发现表明,许多生理疾病与心理得异常状态有着密切得联系。同时心理状态对生理疾病也有着重要得影响。例如,赛利格曼得一个博士研究生做过一次实验,她给老鼠注射了癌细胞,将老鼠安排于不同环境中。第一组老鼠可以通过逃避(如抓碰开关)而成功地摆脱电击(乐观组),第二组则在第一组成功逃避电击时候被电击,因为前者碰到开关则同时接通了它们得电击线路,它们无论如何也逃避不了电击。第三组老鼠在没有危险得环境中。结果第一组老鼠中患癌症得大约只有四分之一,第二组为四分之三,而最后一组有二分之一得癌症。这组实验说明了积极有效地应对危险可以提升免疫力。在美国,抑郁症得患病率比起20世纪60年代高出了10倍,而抑郁症得平均发病年龄也从60年代得29、5岁下降到今天得14、5岁。与此同时,与抑郁症相伴得常常就是极高得自杀率。由此可见,心理得异常越来越成为威胁人类健康得方式。 因此,提升人们得心理状态,对于人们得健康起着至关重要得作用。在心理学发展得初期阶段,心理学家大多致力于研

究心理病态例如著名心理学家弗洛伊德得理论就就是从对精神病得研究起步得。自二战之后,在心理学家马斯洛与罗杰斯得人本主义理论倡导下,人们得目光逐渐投向积极地正向得心理研究方向。直到二十一世纪初,积极心理学(positive psychology)才正式被提出,并迅速引导了整个心理学得发展. 积极心理学倡导心理学不仅仅应对损伤、缺陷与伤害进行研究,它也应对力量与优秀品质进行研究;治疗不仅仅就是对损伤、缺陷得修复与弥补,也就是对人类自身所拥有得潜能、力量得发掘;心理学不仅仅就是关于疾病或健康得科学,它也就是关于工作、教育、爱、成长与娱乐得科学。如果说以前得心理学研究就是雨天里得伞那么积极心理学就就是天气预报。积极得心理学从关注人类得疾病与弱点转向关注人类得优秀品质,它有三个层面得含义:第一,从主观体验上瞧它关心人得积极得主观体验,主要探讨人类得幸福感,满意感,快乐感,建构未来得乐观主义态度与对生活得忠诚;第二 ,对个人成长而言,积极得心理学主要提供积极得心理特征,如爱得能力,工作得能力,积极地瞧待世界得方法,创造得勇气,积极得人际关系,审美体验,宽容与智慧灵性等等;第三,积极得心理品质包括一个人得社会性,作为公民得美德,利她行为,对待别人得宽容与职业道德,社会责任感、成为一个健康得家庭成员。

心理学心得体会3篇

心理学心得体会3篇 心理学,一个既熟悉又感到陌生的词, 《心理学与生活》学习心得体会 。一直以来我都对心理学充满了好奇与兴趣,但却很少有机会接触与之相关的课程。因此当我看到选修课程中有《心理学与生活》这一门课程时,我便毫不犹豫的选择了它。 对于我来说,选择这门课程的原因主要有以下三个方面。 首先,在选择课程的时候我把兴趣放在第一位。记得有一位老师对我说过:“世界上最幸福的事就是从事自己所喜欢的职业并从中赚钱。”简单的一句话却道出了人生的真谛。不管是选择职业还是课程或者是其他更复杂的选择,我都会把兴趣放在首要位置,因为我相信只有做自己喜欢的事情才能从中受益。 其次,我想对自己有个深入的了解和认识。而《心理学与生活》或许能帮助我更加的了解自己,学会让自己浮躁的心态,归于平静,学会如何放松自己,永远保持健康的心理人格。古人云:做人“每日三省吾身”,“人贵有自知之明”,说的是人要不断认识自己。因此,选择这门课程绝对没错。 最后,我相信学习心理学与生活,不仅对于维护自身的心理健康有着重要意义,同时对于关注他人,帮助他人也有重要意义。我希望通过学习这门课程我可以学会观察并理解他人的心理以及情绪上的变化,并力所能及的给予一些心理上的疏导和言语上的安慰,以缓解轻

度的心理上的问题。 对这门课程的学习虽然只有短短几周的时间,说不上深入了解了关于心理学的专业知识,但我确实收获不少。虽然这只是选修课,但我确从未错过蔡老师的每一节课。或许有一部分同学对于大学的大部分课程存在着抗拒甚至厌烦的心理,出于压抑且无聊的课堂氛围。与之相反的,《心理学与生活》带给我的是无尽的兴趣与快乐。 在接触心理学这门学科的以前,它总给我一种很玄的感觉,总以为它和算命一样有点不可捉摸,但是通过这半个学期的学习,我被它的科学性,真实性所折服,可以说它是实实在在存在的东西,与此同时我还发现心理健康与身体健康同样重要,同时两者之间是相互联系,相互影响的。心理学不仅具有科学性,而且也不乏应用性。心理学来源于生活,又指导生活。 在蔡老师的课堂上,我们更加深入的了解了心理学的奥妙,感受到幸福和快乐作为一门学问来研究时的魅力,而不仅仅是看不到摸不着的感受, 心得体会 《《心理学与生活》学习心得体会》( 经过对心理学与生活课程的学习之后,我逐渐发现想要了解自己其实并不难,除了要做一个冷静的现实主义者,更重要的是要学会如何调整自己的心态。在渐渐了解自己之后,我发现自己以前总是在怨天尤人,不仅如此,还喜欢把一件小事考虑的很复杂。但是现在我发现所学习的心理学与生活的知识在我脑中结成了一张大网,活生生的

我的父亲初中作文_我的父亲作文大全

我的父亲初中作文_我的父亲作文大全 我的父亲是一个很平凡的人,但是他和我讲的道理却是那么的不平凡。我非常敬佩我的父亲,因为他教给我很多道理,他的那些话到现在还让我记忆犹新。下面是小编收集推荐的我的父亲初中作文,仅供参考,欢迎阅读参考。我的父亲初中作文(一)人们常说,父亲是那登天的梯,父亲是那拉车的牛;也有人说,父亲是家中的精神支柱,是全家的避风港。在我看来,父亲是冷峻的石头,无论我做的怎样优秀,他的回答只有——沉默。记得那一次,我住在外婆家。忽然想起我的作业本忘在家了,当时非常急需,但家离外婆家有二公里远,要步行是不可能的了,这会儿只得拜托父亲开车送。谁知我还没开口,父亲一把将我拉上车,抛给我一句:“你妈跟我说了,走吧。”我刚回过神,车子已经开动了。望着坐在车座上这位泰然自若的父亲,我不禁问了自己一句:“我的父亲到底是个怎样的人?”我始终捉摸不透。“好了,下车吧。”这时父亲突然冒出一句话。我茫然望了一眼窗外,“不是……爸,这还没到家呢……”“我只是出来散步,顺道载你出来罢了。书落在家里,那是你粗心的缘故,你为此付出代价,那是理所当然,没人会替你干苦力。”父亲完全不以为意。我的心抖了一阵,没想到父亲居然不肯从这样悠闲的休息时间中抽出那么一点时间来送我回家拿书!瞅一眼父亲,他的那眸子里折射出一股不容分说的力量,我迅疾下了车。车子从我的身旁擦肩而过。空旷的马路上,频频驶过几辆轿车,我被彻底丢到了另一个空间。骤然间,下起了雨,我小跑着穿过马路,任雨水打湿我的手背……眼看着就要到家了,我赌气似的对自己说:“我自己没车照样能回去!”拿回了书,雨还在没完没了地下着。因为没准备伞,雨淋了我一身。当我正准备想找个地方歇息时,面前忽然出现了一把熟悉的蓝色的雨伞,猛然一回头,是父亲!背后还停着那辆车,原来父亲打从我关上车门的那一刻起就开始“跟踪”我,散步只不过是个充满爱意的借口。车灯照亮了地面,也照亮了父亲的眼睛。我清楚地看到父亲眼里的泪光,充满了心疼,也充满了关怀。那一刻,我突然醒悟:原来这就是我的父亲,这就是他对我的爱,只是和母亲那种爱的方式不同。不由自主地,一颗颗泪珠从我的腮边滑落下来,与雨水融在了一起。我不知道父亲看见了没有——我怕他看见,笑我没出息;却又希望他看见,知道我了解了他的爱。我的父亲初中作文(二)我的父亲个子非常高。他有一双明亮的眼睛,一个尖尖的鼻子,还有一张大嘴巴。爸爸是一个宽于待人的人。有一次,他把自己心爱的钢笔放在桌子上。因为有人叫他,爸爸急着要走,所以没有带走钢笔。我看到了就拿着爸爸的钢笔在纸上乱涂乱画起来。画来画去,不知道怎么一回事,我竟然把爸爸的钢笔上的小圆珠给落了出来。我想这一下我可惨了,爸爸回来少者狠狠地骂我一顿,重者还会打我一顿。怎么办?怎么办?我无计可施,无路可逃,只好听天由命,任凭爸爸发落。可是,结果出乎我的意料,爸爸回来以后,不但没有骂我,反而是耐心地教育我:“儿子,大人的东西你不能碰,要碰要得到大人的同意。绝对不能够弄坏人家的东西!”爸爸还是一个乐于助人的人。有一次,他在家里做家务活。突然听见“轰隆隆”的雷声,他到阳台上去正想把自己家晒在阳台上的衣服收进来,却看到对面邻居家也有衣服晒在外边,而且那一家人的家里没有一个人。他们都去上班了。他二话没说,立刻跑到对面去先帮他们把衣服收进屋子。然后,他再回到自己家里收衣服。这时,大雨已经落了下来。自己家的衣服却被淋湿了。后来,妈妈批评他。他反而批评妈妈自私。后来,雨停了,邻居回来了。爸爸把衣服给他们送过去。他们说:“真是太谢谢你了!”爸爸说:“没什么,远亲不如近邻嘛!不客气。”你说我爸爸怎么样?他真是一个宽于待人,乐于助人的大好人。我的父亲初中作文(三)也许在别人眼中,我的父亲是个十分平常的人。但在我心中,他却是我精神食粮的供应者。我的思绪飞回了一个冬天的夜晚,呼啸的寒风鞭打着我近乎绝望的心,我的心已经冰到了极点,又带着一种无名的怒火。桌子上,是十几张退回来的作文稿。突然,门“嘎吱--”一声开了,父亲进来了,我没有搭理他,他也一言不发。我偷偷斜过眼看他,他的目光希望中带着失望,而此时,又夹杂了轻视和绝望。我怕了,不敢看了,随后是长久的沉默¨¨¨“失败是成功之母!”父亲缓缓地说,喉咙哽咽着,此刻的他

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