电源完整性分析

电源完整性分析
电源完整性分析

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电源完整性设计详解

1、为什么要重视电源噪声问题

为什么要重视电源噪声问题?

芯片内部有成千上万个晶体管,这些晶体管组成内部的门电路、组合逻辑、寄存器、计数器、延迟线、状态机、以及其他逻辑功能。随着芯片的集成度越来越高,内部晶体管数量越来越大。芯片的外部引脚数量有限,为每一个晶体管提供单独的供电引脚是不现实的。芯片的外部电源引脚提供给内部晶体管一个公共的供电节点,因此内部晶体管状态的转换必然引起电源噪声在芯片内部的传递。

对内部各个晶体管的操作通常由内核时钟或片内外设时钟同步,但是由于内部延时的差别,各个晶体管的状态转换不可能是严格同步的,当某些晶体管已经完成了状态转换,另一些晶体管可能仍处于转换过程中。芯片内部处于高电平的门电路会把电源噪声传递到其他门电路的输入部分。如果接受电源噪声的门电路此时处于电平转换的不定态区域,那么电源噪声可能会被放大,并在门电路的输出端产生矩形脉冲干扰,进而引起电路的逻辑错误。芯片外部电源引脚处的噪声通过内部门电路的传播,还可能会触发内部寄存器产生状态转换。

除了对芯片本身工作状态产生影响外,电源噪声还会对其他部分产生影响。比如电源噪声会影响晶振、PLL、DLL 的抖动特性,AD 转换电路的转换精度等。

由于最终产品工作温度的变化以及生产过程中产生的不一致性,如果是由于电源系统产生的问题,电路将非常难调试,因此最好在电路设计之初就遵循某种成熟的设计规则,使电源系统更加稳健。

2、电源系统噪声余量分析

绝大多数芯片都会给出一个正常工作的电压范围,这个值通常是±5%。例如:对于3.3V 电压,为满足芯片正常工作,供电电压在3.13V 到3.47V 之间,或3.3V±165mV。对于1.2V 电压,为满足芯片正常工作,供电电压在1.14V 到1.26V 之间,或1.2V±60mV。这些限

制可以在芯片datasheet 中的recommended operating conditions 部分查到。这些限制要考虑两个部分,第一是稳压芯片的直流输出误差,第二是电源噪声的峰值幅度。老式的稳压芯片的输出电压精度通常是±2.5%,因此电源噪声的峰值幅度不应超过±2.5%。当然随着芯片工艺的提高,现代的稳压芯片直流精度更高,可能会达到±1%以下,TI 公司的开关电源芯片TPS54310 精度可达±1%,线性稳压源AMS1117 可达±0.2%。但是要记住,达到这样

的精度是有条件的,包括负载情况,工作温度等限制。因此可靠的设计还是以±2.5%这个值更把握些。如果你能确保所用的芯片安装到电路板上后能达到更高的稳压精度,那么你可以为你的这款设计单独进行噪声余量计算。本文着重电源部分设计的原理说明,电源噪声余量将使用±2.5%这个值。

电源噪声余量计算非常简单,方法如下:

比如芯片正常工作电压范围为3.13V~3.47V 之间,稳压芯片标称输出3.3V。安装到

电路板上后,稳压芯片输出3.36V。那么容许电压变化范围为3.47-3.36=0.11V=110mV。稳压芯片输出精度±1%,即±3.36*1%=±33.6 mV。电源噪声余量为110-33.6=76.4 mV。

计算很简单,但是要注意四个问题:

第一,稳压芯片输出电压能精确的定在3.3V 么?外围器件如电阻电容电感的参数也不是精确的,这对稳压芯片的输出电压有影响,所以这里用了3.36V 这个值。在安装到电路

板上之前,你不可能预测到准确的输出电压值。

第二,工作环境是否符合稳压芯片手册上的推荐环境?器件老化后参数还会和芯片手册上的一致么?

第三,负载情况怎样?这对稳压芯片的输出电压也有影响。

第四,电源噪声最终会影响到信号质量。而信号上的噪声来源不仅仅是电源噪声,反射串扰等信号完整性问题也会在信号上叠加噪声,不能把所有噪声余量都分配给电源系统。所以,在设计电源噪声余量的时候要留有余地。

另一个重要问题是:不同电压等级,对电源噪声余量要求不一样,按±2.5%计算的话,1.2V 电压等级的噪声余量只有30mV。这是一个很苛刻的限制,设计的时候要谨慎些。模拟电路对电源的要求更高。电源噪声影响时钟系统,可能会引起时序匹配问题。因此必须重视电源噪声问题。

3、电源噪声是如何产生的

电源噪声是如何产生的?

电源系统的噪声来源有三个方面:

第一,稳压电源芯片本身的输出并不是恒定的,会有一定的波纹。这是由稳压芯片自身决定的,一旦选好了稳压电源芯片,对这部分噪声我们只能接受,无法控制。

第二,稳压电源无法实时响应负载对于电流需求的快速变化。稳压电源芯片通过感知其输出电压的变化,调整其输出电流,从而把输出电压调整到额定输出值。多数常用的稳压源调整电压的时间在ms~us级。因此,对于负载电流变化频率在直流到几百KHz之间时,稳压源可以很好的做出调整,保持输出电压的稳定。当负载瞬态电流变化频率超出这一范围时,稳压源的电压输出会出现跌落,从而产生电源噪声。现在,微处理器的内核及外设的时钟频率已经超过了600 MHz,内部晶体管电平转换时间下降到800 ps以下。这要求电源分配系统必须在直流到1GHz范围内都能快速响应负载电流的变化,但现有稳压电源芯片不可能满足这一苛刻要求。我们只能用其他方法补偿稳压源这一不足,这涉及到后面要讲的电源去耦。

第三,负载瞬态电流在电源路径阻抗和地路径阻抗上产生的压降。PCB 板上任何电气路径不可避免的会存在阻抗,不论是完整的电源平面还是电源引线。对于多层板,通常提供一个完整的电源平面和地平面,稳压电源输出首先接入电源平面,供电电流流经电源平面,到达负载电源引脚。地路径和电源路径类似,只不过电流路径变成了地平面。完整平面的阻抗很低,但确实存在。如果不使用平面而使用引线,那么路径上的阻抗会更高。另外,引脚及焊盘本身也会有寄生电感存在,瞬态电流流经此路径必然产生压降,因此负载芯片电源引脚处的电压会随着瞬态电流的变化而波动,这就是阻抗产生的电源噪声。在电源路径表现为负载芯片电源引脚处的电压轨道塌陷,在地路径表现为负载芯片地引脚处的电位和参考地电位不同(注意,这和地弹不同,地弹是指芯片内部参考地电位相对于板级参考地电位的跳变)。

4、电容退耦的两种解释

采用电容退耦是解决电源噪声问题的主要方法。这种方法对提高瞬态电流的响应速度,降低电源分配系统的阻抗都非常有效。

对于电容退耦,很多资料中都有涉及,但是阐述的角度不同。有些是从局部电荷存储(即储能)的角度来说明,有些是从电源分配系统的阻抗的角度来说明,还有些资料的

说明更为混乱,一会提储能,一会提阻抗,因此很多人在看资料的时候感到有些迷惑。其实,这两种提法,本质上是相同的,只不过看待问题的视角不同而已。为了让大家有个清楚的认识,本文分别介绍一下这两种解释。

来说明电容退耦原理。。

4.1 从储能的角度

储能的角度来说明电容退耦原理

来说明电容退耦原理

在制作电路板时,通常会在负载芯片周围放置很多电容,这些电容就起到电源退耦作用。其原理可用图1 说明。

当负载电流不变时,其电流由稳压电源部分提供,即图中的I0,方向如图所示。此时电容两端电压与负载两端电压一致,电流Ic为0,电容两端存储相当数量的电荷,其电荷数量和电容量有关(C=Q/U)。当负载瞬态电流发生变化时,由于负载芯片内部晶体管电平转换速度极快,必须在极短的时间内为负载芯片提供足够的电流。但是稳压电源无法很快响应负载电流的变化,因此,电流I0不会马上满足负载瞬态电流要求,因此负载芯片电压会降低。但是由于电容电压与负载电压相同,因此电容两端存在电压变化。对于电容来说电压变化必然产生电流,此时电容对负载放电,电流Ic不再为0,为负载芯片提供电流。根据电容等式:

I=C×??

(公式1)

??

只要电容量C 足够大,只需很小的电压变化,电容就可以提供足够大的电流,满足负载瞬态电流的要求。这样就保证了负载芯片电压的变化在容许的范围内。这里,相当于电容预先存储了一部分电能,在负载需要的时候释放出来,即电容是储能元件。储能电容的存在使负载消耗的能量得到快速补充,因此保证了负载两端电压不至于有太大变化,此时电容担负的是局部电源的角色。

从储能的角度来理解电源退耦,非常直观易懂,但是对电路设计帮助不大。从阻抗的角度理解电容退耦,能让我们设计电路时有章可循。实际上,在决定电源分配系统的去耦电容量的时候,用的就是阻抗的概念。

从阻抗的角度来理解退耦原理。。

4.2 从阻抗的角度来理解退耦原理

将图1 中的负载芯片拿掉,如图2所示。从AB 两点向左看过去,稳压电源以及电容

退耦系统一起,可以看成一个复合的电源系统。这个电源系统的特点是:不论AB 两点间负载瞬态电流如何变化,都能保证AB 两点间的电压保持基本稳定,即AB 两点间电压变化很小。

我们可以用一个等效电源模型表示上面这个复合的电源系统,如图3

对于这个电路可写出如下等式:

?V=Z×?I(公式2)

我们的最终设计目标是,不论AB 两点间负载瞬态电流如何变化,都要保持AB 两点间电压变化范围很小,根据公式2,这个要求等效于电源系统的阻抗Z 要足够低。在图2中,我们是通过去耦电容来达到这一要求的,因此从等效的角度出发,可以说去耦电容降低了电源系统的阻抗。另一方面,从电路原理的角度来说,可得到同样结论。电容对于交流信号呈现低阻抗特性,因此加入电容,实际上也确实降低了电源系统的交流阻抗(1/jwc)。

从阻抗的角度理解电容退耦,可以给我们设计电源分配系统带来极大的方便。实际上,电源分配系统设计的最根本的原则就是使阻抗最小。最有效的设计方法就是在这个原则指导下产生的。

5、实际电容的特性

正确使用电容进行电源退耦,必须了解实际电容的频率特性。理想电容器在实际中是不

存在的,这就是为什么经常听到“电容不仅仅是电容”的原因。

实际的电容器总会存在一些寄生参数,这些寄生参数在低频时表现不明显,但是高频情况下,其重要性可能会超过容值本身。图4 是实际电容器的SPICE 模型,图中,ESR 代表等效串联电阻,ESL 代表等效串联电感或寄生电感,C 为理想电容。

等效串联电感(寄生电感)无法消除,只要存在引线,就会有寄生电感。这从磁场能量变化的角度可以很容易理解,电流发生变化时,磁场能量发生变化,但是不可能发生能量跃变,表现出电感特性。寄生电感会延缓电容电流的变化,电感越大,电容充放电阻抗就越大,反应时间就越长。等效串联电阻也不可消除的,很简单,因为制作电容的材料不是超导体。讨论实际电容特性之前,首先介绍谐振的概念。对于图4的电容模型,其复阻抗为:

当频率很低时,2πf ESL < 1/ 2πfC,整个电容器表现为电容性,

当频率很高时,2πf ESL > 1/ 2πfC,电容器此时表现为电感性,因此“高频时电容不再是电容”,而呈现为电感。当

??=?

2πfESL=1/2πfC

??√???×?时,

此时容性阻抗矢量与感性阻抗之差为0,电容的总阻抗最小,表现为纯电阻特性。该频率点就是电容的自谐振频率。自谐振频率点是区分电容是容性还是感性的分界点,高于谐振频率时,“电容不再是电容”,因此退耦作用将下降。因此,实际电容器都有一定的工作频率范围,只有在其工作频率范围内,电容才具有很好的退耦作用,使用电容进行电源退耦时要特别关注这一点。寄生电感(等效串联电感)是电容器在高于自谐振频率点之后退耦功能被消弱的根本原因。图5 显示了一个实际的0805 封装0.1uF陶瓷电容,其阻抗随频率变化的曲线。

电容的自谐振频率值和它的电容值及等效串联电感值有关,使用时可查看器件手册,了解该项参数,确定电容的有效频率范围。下面列出了AVX 生产的陶瓷电容不同封装的各项参数值。

电容的等效串联电感和生产工艺和封装尺寸有关,同一个厂家的同种封装尺寸的电容,其等效串联电感基本相同。通常小封装的电容等效串联电感更低,宽体封装的电容比窄体封装的电容有更低的等效串联电感。

既然电容可以看成RLC串联电路,因此也会存在品质因数,即Q值,这也是在使用电容时的一个重要参数。

电路在谐振时容抗等于感抗,所以电容和电感上两端的电压有效值必然相等,电容上的电压有效值U C=I*1/ωC=U/ωCR=QU,品质因数Q=1/ωCR,这里I是电路的总电流。电感上的电压有效值U L=ωL*I=ωL*U/R=QU,品质因数Q=ωL/R。因为:U C=U L所以Q=1/ωCR=ωL/R。电容上的电压与外加信号电压U之比U C/U=(I*1/ωC)/RI=1/ωCR=Q。电感上的电压与外加信号电压U 之比U L/U=ωLI/RI=ωL/R=Q。从上面分析可见,电路的品质因数越高,电感或电容上的电压比外加电压越高。

Q值影响电路的频率选择性。当电路处于谐振频率时,有最大的电流,偏离谐振频率时总电流减小。我们用I/I0表示通过电路的电流与谐振电路中电流的比值,即相对变化率。ω/ω0表示频率偏离谐振频率程度。图6 显示了I/I0与ω/ω0关系曲线。这里有三条曲线,对应三个不同的Q值,其中有Q1>Q2>Q3。从图中可看出当外加信号频率ω偏离电路的谐振频率ω0时,I/I0均小于1。Q 值越高在一定的频偏下电流下降得越快,其谐振曲线越尖锐。也就是说电路的选择性是由电路的品质因素Q所决定的,Q值越高选择性越好。在电路板上会放置一些大的电容,通常是坦电容或电解电容。这类电容有很低的ESL,但是ESR 很高,因此Q值很低,具有很宽的有效频率范围,非常适合板级电源滤波。

6、电容的安装谐振频率

上一节介绍的是电容自身的参数,当电容安装到电路板上后,还会引入额外的寄生参数,从而引起谐振频率的偏移。充分理解电容的自谐振频率和安装谐振频率非常重要,在计算系统参数时,实际使用的是安装谐振频率,而不是自谐振频率,因为我们关注的是电容安装到电路板上之后的表现。

电容在电路板上的安装通常包括一小段从焊盘拉出的引出线,两个或更多的过孔。我们知道,不论引线还是过孔都存在寄生电感。寄生电感是我们主要关注的重要参数,因为它对电容的特性影响最大。电容安装后,可以对其周围一小片区域有效去耦,这涉及到去耦半径问题,本文后面还要详细讲述。现在我们考察这样一种情况,电容要对距离它2厘米处的一点去耦,这时寄生电感包括哪几部分。首先,电容自身存在寄生电感。从电容到达需要去耦区域的路径上包括焊盘、一小段引出线、过孔、2 厘米长的电源及地平面,这几个部分都存在寄生电感。相比较而言,过孔的寄生电感较大。可以用公式近似计算一个过孔的寄生电感有多大。公式为

(过孔寄生电感近似公式)

其中:L 是过孔的寄生电感,单位是nH。h 为过孔的长度,和板厚有关,单位是英寸。

d 为过孔的直径,单位是英寸。下面就计算一个常见的过孔的寄生电感,看看有多大,以便有一个感性认识。设过孔的长度为63mil(对应电路板的厚度1.6 毫米,这一厚度的电路板很常见),过孔直径8mil,根据上面公式得:

这一寄生电感比很多小封装电容自身的寄生电感要大,必须考虑它的影响。过孔的直径越大,寄生电感越小。过孔长度越长,电感越大。下面我们就以一个0805 封装0.01uF

电容为例,计算安装前后谐振频率的变化。参数如下:容值:C=0.01uF。电容自身等效串联电感:ESL=0.6 nH。安装后增加的寄生电感:L mount=1.5nH。

电容的自谐振频率:

安装后的总寄生电感:0.6+1.5=2.1nH。注意,实际上安装一个电容至少要两个过孔,寄生电感是串联的,如果只用两个过孔,则过孔引入的寄生电感就有3nH。但是在电容的每

一端都并联几个过孔,可以有效减小总的寄生电感量,这和安装方法有关。

安装后的谐振频率为:

可见,安装后电容的谐振频率发生了很大的偏移,使得小电容的高频去耦特性被消弱。在进行电路参数设计时,应以这个安装后的谐振频率计算,因为这才是电容在电路板上的实际表现。

安装电感对电容的去耦特性产生很大影响,应尽量减小。实际上,如何最大程度的减小安装后的寄生电感,是一个非常重要的问题,本文后面还要专门讨论。

7、局部去耦设计方法

我们从一个典型逻辑电路入手,讨论局部退耦设计方法。图7 是典型的非门(NOT GATE)电路。当输入(Input)低电平时,Q1 打开,拉低Q2 的基极,因此Q4 的基极被拉低,

Q3 打开,输出(Output)高电平。

实际电路设计中,器件之间相互连接构成完整系统,因此器件之间必然存在相互影响。作为例子,我们级联两个非门,如图8 所示,看看两个器件之间怎样相互影响。理想的情况应该是:第一个非门输入逻辑低电平(逻辑0),其输出为高电平,第二个非门输入为第一个的输出,也为高电平,因此第二个非门输出低电平。

为保证逻辑电路能正常工作,表征电路逻辑状态的电平值必须落在一定范围内。比如对于3.3V 逻辑,高电平大于2V 为逻辑1,低电平小于0.8V 为逻辑0。当逻辑门电路的输入电平处于上述范围内时,电路能保证对输入逻辑状态的正确判断。当电平值处于0.8V到2V之间时,则不能保证对输入逻辑状态的正确判断,对于本例的非门来说,其输出可能是逻辑0,也可能是逻辑1,或者处于不定态。因此输入电平超出规定范围时,可能发生逻辑错误。

逻辑电路在设计时采用了很多技术来保证器件本身不会发生这样的错误。但是,当器件安装到电路板上,板级系统的其他因素仍可能导致类似错误的发生。图8中级联的两个非门共用电源端Vcc 和接地端GND。Vcc 到每个非门供电引脚间都会存在寄生电感,每个非门的地引脚到GND之间也同样存在寄生电感。在实际板级电路中设计中,寄生电感不可避免,电源平面、地平面、过孔、焊盘、连接焊盘的引出线都会引入额外的寄生电感。图8 已经画出了电源端和地端的寄生电感。当第一个非门输入高电平,其输出低电平。此时将会形成图中虚线所示的电流通路,第一个非门接地处寄生电感上的电压为:

V=L*di/dt

这里i 为逻辑转换过程形成的瞬态电流。如果电路转换过程非常快(高速器件内部晶体管转换时间已经降到了皮秒级),di/dt 将是个很大的值,即使很小的寄生电感L 也会在电感两端感应出很大的电压V。对于一些大规模逻辑芯片,接地引脚是内部非常多的晶体管共用的,这些晶体管同时开关的话,将产生很大的瞬态电流,再加上极快的转换时间,寄生电感上的感应电压更大。此时第一个非门的输出信号电平为:非门本身低电平电压+寄生电感上的电压。如果这一值接近2V,可能会被第二个非门判断为逻辑1,从而发生逻辑错误。

寄生电感可能引起电路逻辑错误,那么如何解决这一问题?

图9 展示了一种解决方法。把电容紧邻器件放置,跨接在电源引脚和地引脚之间。正常时,电容充电,存储一部分电荷。当非门发生翻转瞬间,电容放电,形成瞬间的浪涌电流,方向如图9中虚线所示。这样电路转换所需的瞬态电流不必再由VCC提供,电容相当于局部小电源。因此电源端和地端的寄生电感被旁路掉了,寄生电感在这一瞬间没有电流流过,因而也不存在感应电压,这就保证了第一个非门输出信号的逻辑电平值的正确性。

所需电容可能不是一个,通常是两个或多个电容并联放置,减小电容本身的串联电感,进而减小电容充放电回路的阻抗。电容的摆放、安装距离、安装方法、电容选择等问题,本文后面会详细介绍。

很多芯片制造商在参考设计中给出的都是这种局部去耦方式,但并不是说这种方式就是最优的。芯片商关心的是如何提高他所提供的特定器件的性能,也就是说,着眼点在器件本身,并没有从整个电路系统的角度来处理电源去耦的问题。有时你会发现,对每一个的电源和地引脚都单独去耦是不现实的,可能是空间限制,放不下如此多的电

容,也可能是成本限制。因此对于板级集成的工程师来说,除了要熟悉局部去耦的方法外,还要深入研究如何从整个电源分配系统的角度进行电源去耦设计。

8、从电源系统的角度进行去耦设计

先插一句题外话,很多人在看资料时会有这样的困惑,有的资料上说要对每个电源引脚加去耦电容,而另一些资料并不是按照每个电源引脚都加去偶电容来设计的,只是说在芯片周围放置多少电容,然后怎么放置,怎么打孔等等。那么到底哪种说法及做法正确呢?我在刚接触电路设计的时候也有这样的困惑。其实,两种方法都是正确的,只不过处理问题的角度不同。看过本文后,你就彻底明白了。

上一节讲了对引脚去耦的方法,这一节就来讲讲另一种方法,从电源系统的角度进行去耦设计。该方法本着这样一个原则:在感兴趣的频率范围内,使整个电源分配系统阻抗最低。其方法仍然是使用去耦电容。

电源去耦涉及到很多问题:总的电容量多大才能满足要求?如何确定这个值?选择那些电容值?放多少个电容?选什么材质的电容?电容如何安装到电路板上?电容放置距离有什么要求?下面分别介绍。

目标阻抗))

8.1 著名的Target Impedance(目标阻抗

目标阻抗(Target Impedance)定义为:

其中:Vdd 为要进行去耦的电源电压等级,常见的有5V、3.3V、1.8V、1.26V、1.2V 等。Ripple为允许的电压波动,在电源噪声余量一节中我们已经阐述过了,典型值为

2.5%。

?I MAX为负载芯片的最大瞬态电流变化量。

该定义可解释为:能满足负载最大瞬态电流供应,且电压变化不超过最大容许波动范围的情况下,电源系统自身阻抗的最大值。超过这一阻抗值,电源波动将超过容许范围。如果你对阻抗和电压波动的关系不清楚的话,请回顾“电容退耦的两种解释”一节。

对目标阻抗有两点需要说明:

1 目标阻抗是电源系统的瞬态阻抗,是对快速变化的电流表现出来的一种阻抗特

性。

2 目标阻抗和一定宽度的频段有关。在感兴趣的整个频率范围内,电源阻抗都不

能超过这个值。阻抗是电阻、电感和电容共同作用的结果,因此必然与频率有关。感兴趣的整个频率范围有多大?这和负载对瞬态电流的要求有关。顾名思义,瞬态电流是指在极短时间内电源必须提供的电流。如果把这个电流看做信号的话,相当于一个阶跃信号,具有很宽的频谱,这一频谱范围就是我们感兴趣的频率范围。

如果暂时不理解上述两点,没关系,继续看完本文后面的部分,你就明白了。

8.2 需要多大的电容量

有两种方法确定所需的电容量。第一种方法利用电源驱动的负载计算电容量。这种方法没有考虑ESL 及ESR 的影响,因此很不精确,但是对理解电容量的选择有好处。

第二种方法就是利用目标阻抗(Target Impedance)来计算总电容量,这是业界通用的方法,得到了广泛验证。你可以先用这种方法来计算,然后做局部微调,能达到很好的效果,如何进行局部微调,是一个更高级的话题。下面分别介绍两种方法。

方法一:利用电源驱动的负载计算电容量

设负载(容性)为30pF,要在2ns内从0V驱动到3.3V,瞬态电流为:

如果共有36个这样的负载需要驱动,则瞬态电流为:36*49.5mA=1.782A。假设容许电压波动为:3.3*2.5%=82.5 mV,所需电容量为

C=I*dt/dv=1.782A*2ns/0.0825V=43.2nF

说明:所加的电容实际上作为抑制电压波纹的储能元件,该电容必须在2ns 内为负载提供1.782A的电流,同时电压下降不能超过82.5 mV,因此电容值应根据82.5 mV来计算。记住:

电容放电给负载提供电流,其本身电压也会下降,但是电压下降的量不能超过82.5 mV(容许的电压波纹)。这种计算没什么实际意义,之所以放在这里说一下,是为了让大家对去耦原理认识更深。

方法二:利用目标阻抗计算电容量(设计思想很严谨,要吃透)

为了清楚的说明电容量的计算方法,我们用一个例子。要去耦的电源为1.2V,容许电压波动为2.5%,最大瞬态电流600mA,

第一步:计算目标阻抗

第二步:确定稳压电源频率响应范围。

和具体使用的电源片子有关,通常在DC 到几百kHz 之间。这里设为DC 到100kHz。在100kHz 以下时,电源芯片能很好的对瞬态电流做出反应,高于100kHz 时,表现为很高的阻抗,如果没有外加电容,电源波动将超过允许的2.5%。为了在高于100kHz 时仍满足电压波动小于2.5%要求,应该加多大的电容?

第三步:计算bulk电容量

当频率处于电容自谐振点以下时,电容的阻抗可近似表示为:

频率f越高,阻抗越小,频率越低,阻抗越大。在感兴趣的频率范围内,电容的最大阻抗不能超过目标阻抗,因此使用100kHz 计算(电容起作用的频率范围的最低频

率,对应电容最高阻抗)。

第四步:计算bulk电容的最高有效频率

当频率处于电容自谐振点以上时,电容的阻抗可近似表示为:

频率f 越高,阻抗越大,但阻抗不能超过目标阻抗。假设ESL 为5nH,则最高有效频率为:

这样一个大的电容能够让我们把电源阻抗在100kHz 到1.6MHz 之间控制在目标阻抗之下。当频率高于1.6MHz 时,还需要额外的电容来控制电源系统阻抗。

第五步:计算频率高于1.6MHz时所需电容

如果希望电源系统在500MHz 以下时都能满足电压波动要求,就必须控制电容的寄生电感量。必须满足2πf×Lmax≤X MAX,所以有:

假设使用AVX公司的0402 封装陶瓷电容,寄生电感约为0.4nH,加上安装到电路板上后过孔的寄生电感(本文后面有计算方法)假设为0.6nH,则总的寄生电感为1 nH。为了满足总电感不大于0.16 nH的要求,我们需要并联的电容个数为:1/0.016=62.5 个,因此需要63个0402 电容。

为了在1.6MHz 时阻抗小于目标阻抗,需要电容量为:

因此每个电容的电容量为1.9894/63=0.0316 uF。

综上所述,对于这个系统,我们选择1 个31.831 uF的大电容和63 个0.0316 uF 的小电容即可满足要求。

注意:以上基于目标阻抗(Target Impedance)的计算,只是为了说明这种方法的基本原理,实际中不能这样简单的计算就了事,因为还有很多问题需要考虑。学习的重点是这种方法的核心思想。

8.3 相同容值电容的并联

使用很多电容并联能有效地减小阻抗。63个0.0316 uF的小电容(每个电容ESL 为1 nH)并联的效果相当于一个具有0.159 nH ESL的1.9908 uF电容。

单个电容及并联电容的阻抗特性如图10 所示。并联后仍有相同的谐振频率,但是并联电容在每一个频率点上的阻抗都小于单个电容。

但是,从图中我们看到,阻抗曲线呈V 字型,随着频率偏离谐振点,其阻抗仍然上升的很快。要在很宽的频率范围内满足目标阻抗要求,需要并联大量的同值电容。这不是一种好的方法,造成极大地浪费。有些人喜欢在电路板上放置很多0.1uF电容,如果你设计的电路工作频率很高,信号变化很快,那就不要这样做,最好使用不同容值的组合来构成相对平坦的阻抗曲线。

不同容值电容的并联与反谐振((Anti-Resonance)

8.4 不同容值电容的并联与反谐振

容值不同的电容具有不同的谐振点。图11 画出了两个电容阻抗随频率变化的曲线。

左边谐振点之前,两个电容都呈容性,右边谐振点后,两个电容都呈感性。在两个谐振点之间,阻抗曲线交叉,在交叉点处,左边曲线代表的电容呈感性,而右边曲线代表的电容呈容性,此时相当于LC并联电路。对于LC 并联电路来说,当L 和 C 上的电抗相等时,发生并联谐振。因此,两条曲线的交叉点处会发生并联谐振,这就是反谐振效应,该频率点为反谐振点。电导G=jwc2+1/jwL1,未考虑ESR

两个容值不同的电容并联后,阻抗曲线如图12 所示。从图12中我们可以得出两个结论:a 不同容值的电容并联,其阻抗特性曲线的底部要比图10 阻抗曲线的底部平坦得多(虽然存在反谐振点,有一个阻抗尖峰),因而能更有效地在很宽的频率范围内减小阻抗。

b 在反谐振(Anti-Resonance)点处,并联电容的阻抗值无限大,高于两个电容任何一个单独作用时的阻抗。并联谐振或反谐振现象是使用并联去耦方法的不足之处。

在并联电容去耦的电路中,虽然大多数频率值的噪声或信号都能在电源系统中找到低阻抗回流路径,但是对于那些频率值接近反谐振点的,由于电源系统表现出的高阻抗,使得这部分噪声或信号能量无法在电源分配系统中找到回流路径,最终会从PCB 上发射出去(空气也是一种介质,波阻抗只有几百欧姆),从而在反谐振频率点处产生严重的EMI

问题。因此,并联电容去耦的电源分配系统一个重要的问题就是:合理的选择电容,尽可能的压低反谐振点处的阻抗。

对反谐振((Anti-Resonance)的影响

8.5 ESR对反谐振

Anti-Resonance 给电源去耦带来麻烦,但幸运的是,实际情况不会像图12 显示的那么糟糕。实际电容除了LC之外,还存在等效串联电感ESR,因此,反谐振点处的阻抗也不会是无限大的。实际上,可以通过计算得到反谐振点处的阻抗为

其中,X为反谐振点处单个电容的阻抗虚部(均相等)。现代工艺生产的贴片电容,等效

串联阻抗很低,因此就有办法控制电容并联去耦时反谐振点处的阻抗。等效串联电感ESR 使整个电源分配系统的阻抗特性趋于平坦。

8.6 怎样合理选择电容组合

前面我们提到过,瞬态电流的变化相当于阶跃信号,具有很宽的频谱。因而,要对这一电流需求补偿,就必须在很宽的频率范围内提供足够低的电源阻抗。但是,不同电容的有效频率范围不同,这和电容的谐振频率有关(严格来说应该是安装后的谐振频率),有效频率范围(电容能提供足够低阻抗的频率范围)是谐振点附近一小段频率。因此要在很宽的频率范围内提供足够低的电源阻抗,就需要很多不同电容的组合。

你可能会说,只用一个容值,只要并联电容数量足够多,也能达到同样低的阻抗。的确如此,但是在实际应用中你可以算一下,多数时候,所需要的电容数量很大。真要这样做的话,可能你的电路板上密密麻麻的全是电容。既不专业,也没必要。

选择电容组合,要考虑的问题很多,比如选什么封装、什么材质、多大的容值、容值的间隔多大、主时钟频率及其各次谐波频率是多少、信号上升时间等等,这需要根据具体的设计来专门设计。

通常,用钽电容或电解电容来进行板级低频段去耦。电容量的计算方法前面讲过了,需要提醒一点的是,最好用几个或多个电容并联以减小等效串联电感。这两种电容的Q 值很低,频率选择性不强,非常适合板级滤波。

高频小电容的选择有些麻烦,需要分频段计算。可以把需要去耦的频率范围分成几段,每一段单独计算,用多个相同容值电容并联达到阻抗要求,不同频段选择的不同的电容值。但这种方法中,频率段的划分要根据计算的结果不断调整.

一般划分3到4 个频段就可以了,这样需要3到4 个容值等级。实际上,选择的容值等级越多,阻抗特性越平坦,但是没必要用非常多的容值等级,阻抗的平坦当然好,但是我们的最终目标是总阻抗小于目标阻抗,只要能满足这个要求就行。

在某个等级中到底选择那个容值,还要看系统时钟频率。前面讲过,电容的并联存在反谐振,设计时要注意,尽量不要让时钟频率的各次谐波落在反谐振频率附近。比如在零点几微法等级上选择0.47、0.22、0.1 还是其他值,要计算以下安装后的谐振频率再来定。

还有一点要注意,容值的等级不要超过10 倍。比如你可以选类似0.1、0.01 、0.001这样的组合。因为这样可以有效控制反谐振点阻抗的幅度,间隔太大,会使反谐振点阻抗很大。

当然这不是绝对的,最好用软件看一下,最终目标是反谐振点阻抗能满足要求。

高频小电容的选择,要想得到最优组合,是一个反复迭代寻找最优解的过程。最好的办法就是先粗略计算一下大致的组合,然后用电源完整性仿真软件做仿真,再做局部调整,能满足目标阻抗要求即可,这样直观方便,而且控制反谐振点比较容易。而且可以把电源平面的电容也加进来,联合设计。

图13 是一个电容组合的例子。这个组合中使用的电容为:2 个680uF钽电容,7 个2.2uF陶瓷电容(0805 封装),13 个0.22uF陶瓷电容(0603 封装),26 个0.022uF陶瓷电容(0402封装)。图中,上部平坦的曲线是680uF电容的阻抗曲线,其他三个容值的曲线为图中的三个V字型曲线,从左到右一次为2.2uF、0.22uF、0.022uF。总的阻抗曲线为图中底部的粗包络线。

这个组合实现了在500kHz 到150MHz 范围内保持电源阻抗在33 毫欧以下。到

500MHz频率点处,阻抗上升到110 毫欧。从图中可见,反谐振点的阻抗控制得很低。

小电容的介质一般常规设计中都选则陶瓷电容。NP0 介质电容的ESR 要低得多,对于有更严格阻抗控制的局部可以使用,但是注意这种电容的Q 值很高,可能引起严重的高频振铃,使用时要注意。

封装的选择,只要加工能力允许,当然越小越好,这样可以得到更低的ESL,也可以留出更多的布线空间。但不同封装,电容谐振频率点不同,容值范围也不同,可能影响到最终的电容数量。因此,电容封装尺寸、容值要联合考虑。总之最终目标是,用最少的电容达到目标阻抗要求,减轻安装和布线的压力。

8.7 电容的去耦半径

电容去耦的一个重要问题是电容的去耦半径。大多数资料中都会提到电容摆放要尽量靠近芯片,多数资料都是从减小回路电感的角度来谈这个摆放距离问题。确实,减小电感是一个重要原因,但是还有一个重要的原因大多数资料都没有提及,那就是电容去耦半径问题。

如果电容摆放离芯片过远,超出了它的去耦半径,电容将失去它的去耦的作用。

理解去耦半径最好的办法就是考察噪声源和电容补偿电流之间的相位关系。当芯片对电流的需求发生变化时,会在电源平面的一个很小的局部区域内产生电压扰动,电容要补偿这一电流(或电压),就必须先感知到这个电压扰动。信号在介质中传播需要一定的时间,因此从发生局部电压扰动到电容感知到这一扰动之间有一个时间延迟。同样,电容的补偿电流到达扰动区也需要一个延迟。因此必然造成噪声源和电容补偿电流之间的相位上的不一致。特定的电容,对与它自谐振频率相同的噪声补偿效果最好,我们以这个频率来衡量这种相位关系。设自谐振频率为f,对应波长为λ,补偿电流表达式可写为:

其中,A是电流幅度,R 为需要补偿的区域到电容的距离,C 为信号传播速度。

当扰动区到电容的距离达到λ/4时,补偿电流的相位为π,和噪声源相位刚好差180度,即完全反相。此时补偿电流不再起作用,去耦作用失效,补偿的能量无法及时送达。为了能有效传递补偿能量,应使噪声源和补偿电流的相位差尽可能的小,最好是同相位的。距离越近,相位差越小,补偿能量传递越多,如果距离为0,则补偿能量百分之百传递到扰动区。这就要求噪声源距离电容尽可能的近,要远小于λ/4 。实际应用中,这一距离最好控制在λ/40~λ/50之间,这是一个经验数据。

例如:0.001uF 陶瓷电容,如果安装到电路板上后总的寄生电感为1.6nH,那么其安装后的谐振频率为125.8MHz,谐振周期为7.95ps。假设信号在电路板上的传播速度为

166ps/inch,则波长为47.9 英寸。电容去耦半径为47.9/50=0.958 英寸,大约等于2.4 厘米。

本例中的电容只能对它周围2.4 厘米范围内的电源噪声进行补偿,即它的去耦半径2.4厘米。不同的电容,谐振频率不同,去耦半径也不同。对于大电容,因为其谐振频率很低,对应的波长非常长,因而去耦半径很大,这也是为什么我们不太关注大电容在电路板上放置位置的原因。对于小电容,因去耦半径很小,应尽可能的靠近需要去耦的芯片,这正是大多数资料上都会反复强调的,小电容要尽可能近的靠近芯片放置。

8.8 电容的安装方法

电容的摆放

对于电容的安装,首先要提到的就是安装距离。容值最小的电容,有最高的谐振频率,去耦半径最小,因此放在最靠近芯片的位置。容值稍大些的可以距离稍远,最外层放置容值最大的。但是,所有对该芯片去耦的电容都尽量靠近芯片。下面的图14 就是一个摆放位置的例子。本例中的电容等级大致遵循10 倍等级关系。

还有一点要注意,在放置时,最好均匀分布在芯片的四周,对每一个容值等级都要这样。通常芯片在设计的时候就考虑到了电源和地引脚的排列位置,一般都是均匀分布在芯片的四个边上的。因此,电压扰动在芯片的四周都存在,去耦也必须对整个芯片所在区域均匀去耦。如果把上图中的680pF 电容都放在芯片的上部,由于存在去耦半径问题,那么就不能对芯片下部的电压扰动很好的去耦。

电容的安装

在安装电容时,要从焊盘拉出一小段引出线,然后通过过孔和电源平面连接,接地端也同样。这样流经电容的电流回路为:电源平面->过孔->引出线->焊盘->电容->焊盘->引出>过孔->地平面,图15直观的显示了电流的回流路径。

电源完整性分析-网际星空

本文始於2010年初,2011年開放閱覽,將說明PI不是只看Resonance、Target Impedance來下de-coupling cap.,或看IR drop而已,應先避免電源\地平面不當分割,再下電容加強改善Target Impedance,才是較好的設計方式。另外還以實例說明做PI模擬時,電容模型輸入正確寄生電感值的重要性,以及分地與合地設計時,近場的差異。 1.Verification of board import 1.1 check stack-up 1.2 check net 1.3 check circuit element 2.Resonant mode analysis 2.1 未修改前,原分地、分power 2.2 部分power plane合併(已合地) 2.3 加de-coupling電容(已合地、合power) 3.Target Impedance 3.1 VDD3.3V for general IO 3.2 RF_VDD33 4.Voltage Drop (IR drop) 4.1 Generate sources and sinks 4.2 Meshing 4.3 Plotting and analyzing results 4.3.1. 原分地、分電源 4.3.2. 合地、合電源後 5.案例分析-- DCDC noise couple 5.1 模擬方法描述 5.2 模擬結果 5.2.1 電流分佈密度 5.2.2 近場強度分佈 6.問題與討論 6.1 為何在數MHz低頻存在resonant頻點? 6.2 Resonant 要壓到什麼程度才夠? 6.3 Target Impedance要壓到什麼程度才夠?

电源完整性分析(于争博士)

电源完整性设计 作者:于博士 一、为什么要重视电源噪声 芯片内部有成千上万个晶体管,这些晶体管组成内部的门电路、组合逻辑、寄存器、计数器、延迟线、状态机、以及其他逻辑功能。随着芯片的集成度越来越高,内部晶体管数量越来越大。芯片的外部引脚数量有限,为每一个晶体管提供单独的供电引脚是不现实的。芯片的外部电源引脚提供给内部晶体管一个公共的供电节点,因此内部晶体管状态的转换必然引起电源噪声在芯片内部的传递。 对内部各个晶体管的操作通常由内核时钟或片内外设时钟同步,但是由于内部延时的差别,各个晶体管的状态转换不可能是严格同步的,当某些晶体管已经完成了状态转换,另一些晶体管可能仍处于转换过程中。芯片内部处于高电平的门电路会把电源噪声传递到其他门电路的输入部分。如果接受电源噪声的门电路此时处于电平转换的不定态区域,那么电源噪声可能会被放大,并在门电路的输出端产生矩形脉冲干扰,进而引起电路的逻辑错误。芯片外部电源引脚处的噪声通过内部门电路的传播,还可能会触发内部寄存器产生状态转换。 除了对芯片本身工作状态产生影响外,电源噪声还会对其他部分产生影响。比如电源噪声会影响晶振、PLL、DLL的抖动特性,AD转换电路的转换精度等。解释这些问题需要非常长的篇幅,本文不做进一步介绍,我会在后续文章中详细讲解。 由于最终产品工作温度的变化以及生产过程中产生的不一致性,如果是由于电源系统产生的问题,电路将非常难调试,因此最好在电路设计之初就遵循某种成熟的设计规则,使电源系统更加稳健。 二、电源系统噪声余量分析 绝大多数芯片都会给出一个正常工作的电压范围,这个值通常是±5%。例如:对于3.3V 电压,为满足芯片正常工作,供电电压在3.13V到3.47V之间,或3.3V±165mV。对于1.2V 电压,为满足芯片正常工作,供电电压在1.14V到1.26V之间,或1.2V±60mV。这些限制可以在芯片datasheet中的recommended operating conditions部分查到。这些限制要考虑两个部分,第一是稳压芯片的直流输出误差,第二是电源噪声的峰值幅度。老式的稳压芯片

电源研发工程师年终总结

2013年工作总结 一、引言 2013年5 月1日,我进入创华盛泰科技有限公司,正式进入了稳定工作的行伍,由即将失业的焦虑转入了“朝九晚五”的平和。以此开始,不断学习是我终生的信条,领导的教诲、同事的帮助让我心存感恩。在此,借着旧年即将远去,新年灿然来临的契机,总结一下过去,展望一下未来。 二、个人工作回顾 (一)项目情况 作为工程研发人员,我接受的主要任务 a 电源适配器(高频开关电源)进行研发设计。 b 生产问题的改进和指导以及BOM的制作,审核。 c 客户的技术支持和产品的整改。 d 业务样品的制作和规格书的制作。 以上的个人工作被定性为公司未来发展战略的重要组成部分,领导给予了高度重视。整个工作持续进行了近六个月,现对其做一下总结: 1、研发及设计情况的总结 一接到上级的研发任务,我就开始对相关资料进行了查询及生产的评估,首先对国内相关技术资料进行了查阅,包括一些网站和个人等学术搜索中可查到的所有关于开关电源方面的论文、专利、报告等。同时对开关电源设计手册、应用案例等进行了遍览。 通过资料的查阅,使我对开关电源的相关技术、产品知识有了较为通透的了解,对其科学前沿有了比较准确的把握,为开关电源的研发成功奠定了必要的理论基础。在这半年以来自己研发电源16款,实际量产3款(分别为CH1209 CH1803 CH60-4) 2、生产问题的总结 在生产遇到问题时,凭借多年的工作经验,解决了一系列技术问题,并按照客户测试OK 的样品进行BOM的制作和归类,然后由生产试产在进行更进和改进,以避免下次大批量生产时出错。在这半年以来制定BOM单47款,均为正常生产。 3、客户端问题的总结 在公司现有条件和产品的基础上,以优先客户利益为宗旨,满足广大客户需求为己任。从不埋怨,夙兴夜寐、兢兢业业、勤勤恳恳,力求达到精益求精,从不弄虚作假,直接了解客户产品和沟通,让客户满足和放心。 4、样品制作和规格书制作总结

铁道信号电源总结报告

铁道信号电源总结报告 铁道信号电源总结报告 本报告是针对行业投资可行性研究咨询服务的专项研究报告,此报告为个性化定制服务报告,我们将根据不同类型及不同行业的项目提出的具体要求,修订报告目录,并在此目录的基础上重新完善行业数据及分析内容,为企业项目立项、上马、融资提供全程指引服务。可行性研究报告是在制定某一建设或科研项目之前,对该项目实施的可能性、有效性、技术方案及技术政策进行具体、深入、细致的技术论证和经济评价,以求确定一个在技术上合理、经济上合算的最优方案和最佳时机而写的书面报告。可行性研究报告主要内容是要求以全面、系统的分析为主要方法,经济效益为核心,围绕影响项目的各种因素,运用大量的数据资料论证拟建项目是否可行。对整个可行性研究提出综合分析评价,指出优缺点和建议。为了结论的需要,往往还需要加上一些附件,如试验数据、论证材料、计算图表、附图等,以增强可行性报告的说服力。可行性研究是确定建设项目前具有决定性意义的工作,是在投资决策之前,对拟建项目进行全面技术经济分析论证的科学方法,在投资管理中,可行性研究是指对拟建项目有关的自然、社会、经济、技术等进行调研、分析比较以及预测建成后的社会经济效益。在此基础上,综合论证项目建设的必要性,财务的盈利性,经济上的合理性,技术上的先进性和适应性以及建设条件的可能性和可行性,从而为投资决策提供科学依据。投资可行性报告咨询服务分为政府审批核准用可行性研究报告和融资用可行性研究报告。

审批核准用的可行性研究报告侧重关注项目的社会经济效益和影响;融资用报告侧重关注项目在经济上是否可行。具体概括为: 政府立项审批,产业扶持,银行贷款,融资投资、投资建设、境外投资、上市融资、中外合作,股份合作、组建公司、征用土地、申请高新技术企业等各类可行性报告。报告通过对项目的市场需求、资源供应、建设规模、工艺路线、设备选型、环境影响、资金筹措、盈利能力等方面的研究调查,在行业专家研究经验的基础上对项目经济效益及社会效益进行科学预测,从而为客户提供全面的、客观的、可靠的项目投资价值评估及项目建设进程等咨询意见。可行性研究报告大纲(具体可根据客户要求进行调整),为客户提供国家发改委甲级资质第一章研究定位及主要方法第一节研究目的第二节研究内容第三节研究方法第四节数据来源第五节分析依据第二章铁路智能信号电源项目投资环境分析第一节社会宏观环境分析第二节铁路智能信号电源项目相关政策分析 一、国家政策 二、铁路智能信号电源行业准入政策 三、铁路智能信号电源行业技术政策第三节地方政策第三章铁路智能信号电源项目总论第一节铁路智能信号电源项目背景 一、铁路智能信号电源项目名称 二、铁路智能信号电源项目承办单位 三、铁路智能信号电源项目主管部门四、铁路智能信号电源项目拟建地区、地点五、承担可行性研究工作的单位和法人代表 六、研究工作依据七、研究工作概况第二节可行性研究结论 一、市场预测和项目规模

Cadence-PDN电源完整性分析

Cadence PDN电源平面完整性分析 ——孙海峰 随着超大规模集成电路工艺的发展,芯片工作电压越来越低,而工作速度越来越快,功耗越来越大,单板的密度也越来越高,因此对电源供应系统在整个工作频带内的稳定性提出了更高的要求。电源完整性设计的水平直接影响着系统的性能,如整机可靠性,信噪比与误码率,及EMI/EMC等重要指标。板级电源通道阻抗过高和同步开关噪声SSN过大会带来严重的电源完整性问题,这些会给器件及系统工作稳定性带来致命的影响。PI设计就是通过合理的平面电容、分立电容、平面分割应用确保板级电源通道阻抗满足要求,确保板级电源质量符合器件及产品要求,确保信号质量及器件、产品稳定工作。 Cadence PCB PDN analysis电源平面分析主要可以解决以下几个问题: 板级电源通道阻抗仿真分析,在充分利用平面电容的基础上,通过仿真分析确定旁路电容的数量、种类、位置等,以确保板级电源通道阻抗满足器件稳定工作要求。 板级直流压降仿真分析,确保板级电源通道满足器件的压降限制要求。 板级谐振分析,避免板级谐振对电源质量及EMI的致命影响等。 那么Cadence PCB PDN analysis如何对PCB进行电源平面完整性的分析?接下来,我将以一个3v3如下图所示的电源平面为例,来进行该平面的电源平面分析。

对图中3v3电源平面进行完整性分析,具体步骤将作详细解析。 在对该电源平面进行分析之前,我们需要首先确定PCB参数的精确,如:电源平面电平Identify DC Nets、PCB叠层参数Cross-Section等,这些参数都必须和PCB板厂沟通(板厂对叠层参数生产能力不同),在此基础上精确参数方能得到精确的分析结果。这些参数也可以在PDN Analysis分析界面上点击Identify DC Nets,Cross-Section来调整优化。

ADS 的设计系统克服信号和电源完整性的10种方法

是德科技 ADS 克服信号和电源完整性挑战的 10 种方法 技术概述

Keysight EEsof EDA 的先进设计系统(ADS)软件是全球闻名的电子设计自动化软件,是射频、微波和高速数字应用的理想选择。为了提高效率,ADS 采用了一系列新技术,其中包括两个电磁(EM)软件解决方案,专门用于帮助信号和电源完整性工程师提高 PCB 设计中的高速链路性能。以下列出了 ADS 帮助工程师克服信号和电源完整性挑战的 10 种方法。 1. ADS 为您的 SI EM 表征提供出色的速度和准确性.....................................................第 2 页 2. ADS 简化部件 S 参数文件的使用................................................................................第 4 页 3. ADS 提供先进的通道仿真器技术................................................................................第 6 页 4. ADS 立身于技术(如 PAM-4)潮头 .............................................................................第 9 页 5. ADS 加速 DDR4 仿真方法 ...........................................................................................第 12 页 6. ADS 将电源交到设计人员(PI 分析)手中 ...................................................................第 15 页 7. ADS 可实现平坦的 PDN 阻抗响应 ..............................................................................第 18 页 8. ADS 提供电热仿真 .......................................................................................................第 21 页 9. ADS 有一个互连工具箱(Via Designer 和 CILD)..............................................................第 22 页 10. ADS 传递是德科技理念: 人力资源、硬件和软件资源的结合,开启测量新视野..................................................第23 页 1. ADS 为您的 SI EM 表征提供出色的速度和准确性 在精确表征高速通道的损耗和耦合时,通常会使用电磁(EM)技术。随着数据速率提升,我们面临的一个主要困境是选择使用哪种 EM 技术。全波通用 EM 仿真工具可在高频下提供所需的精度。用于 SI 分析的 3D-EM 技术的限制因素是 PCB 设计的规模和复杂性。高密度电路板需要花大量时间去手动简化版图,根据所需仿真的信号网络进行切板,并在实际的时间内(通常要很多小时)优化网格得到准确的仿真结果。设计人员一次只能验证电路板的一小部分。 相比之下,混合仿真器则要快得多,并且可以覆盖电路板上更大的网络范围。然而,仿真是否能够与测量很好地关联,这个问题始终存在。此外,使用简化方法还让您错过了哪些 EM 效应? ADS 推出了两种 EM 分析解决方案— SIPro 和 PIPro,它们专门为克服这些挑战而设计。SIPro 侧重于对大型、复杂的高速 PCB 上的高速链路进行 SI EM 分析,而 PIPro 则侧重于对配电网络(PDN)进行 PI EM 分析,包括直流 IR 压降分析、交流 PDN 阻抗分析和电源面共振分析。 尤其是,SIPro 采用了复合 EM 技术,提供比通用 EM 解决方案容量更高的纯 EM 分析。它可以捕获所有相关的 EM 效应,如过孔之间的耦合、过孔到微带转换以及信号到地/电源面耦合。SIPro 和 PIPro EM 仿真器套件都提供了网络驱动的用户界面,设计人员可以在这个界面上快速选择他们想要仿真的网络,以及电源面和接地面及元器件,并且无需花费时间或精力在仿真之前手动编辑或操作版图对象。端口也可以自动设置。利用这一流程,设计人员只需不超过 20 次点击,就能迅速完成从版图到获得仿真结果的过程(图 1)。

电子维修工作总结报告

电子维修工作总结报告 篇一:电路板维修工作总结 电路板维修资料总结 电路板是电子产品的控制中心。它由各种集成电路,元器件和联接口并由多层布线相互连接所组成。这些不论那里出了问题, 电路板将起不到控制作用,那么设备就不能正常工作了。 设备维修,均离不开电路板的修理。这里我总结了一些不引起注意,然而是较为重要的经验。有些电路板一直找不到故障点,可能就与以下所述有关。 一、带程序的芯片 1、EPROM芯片一般不宜损坏。因这种芯片需要紫外光,才能擦除掉程序,故在测试中不会损坏程序。但有资料介绍:因制作芯片的材料所致,随着时间的推移,即便不用也有可能损坏,所以要尽可能给以备份。 2、EEPROM,SPROM等以及带电池的RAM芯片,均极易破坏程序。这类芯片是否在使用测试仪进行VI曲线扫描后,是否就破坏了程序,还未有定论。尽管如此,同仁们在遇到这种情况时,还是小心为妙。笔者曾经做过多次试验,可能大的原因是: 检修工具的外壳漏电所致。 3、对于电路板上带有电池的芯片不要轻易将其从板上

拆下来。二。复位电路 1、待修电路板上有大规模集成电路时,应注意复位问题。 2、在测试前最好装回设备上,反复开、关机器试一试,以及多按几次复位键。 三、功能与参数测试 1、测试仪对器件的检测, 仅能反应出截止区,放大区和饱和区。但不能测出工作频率的高低和速度的快慢等具体数值等。 2、同理对TTL数字芯片而言, 也只能知道有高低电平的输出变化。而无法查出它的上升与下降沿的速度。四。晶体振荡器 1、对于晶振的检测, 通常仅能用示波器或频率计实现。万用表或其它测试仪等是无法量的。如果没有条件或没有办法判断其好坏时, 那只能采用代换法了,这也是行之有效的。 2、晶振常见的故障有: 内部漏电; 内部开路; 变质频偏; 与其相连的外围电容漏电。 从这些故障看,使用万用表的高阻档和测试仪的VI曲线功能应能检查出 ,项的故障。但这将取决于它的损坏程度。 3、有时电路板上的晶振可采用这两种方法来判断。

电源完整性设计详解

于博士信号完整性研究网 https://www.360docs.net/doc/e07978549.html, 电源完整性设计详解 作者:于争 博士 2009年4月10日

目 录 1 为什么要重视电源噪声问题?....................................................................- 1 - 2 电源系统噪声余量分析................................................................................- 1 - 3 电源噪声是如何产生的?............................................................................- 2 - 4 电容退耦的两种解释....................................................................................- 3 - 4.1 从储能的角度来说明电容退耦原理。..............................................- 3 - 4.2 从阻抗的角度来理解退耦原理。......................................................- 4 - 5 实际电容的特性............................................................................................- 5 - 6 电容的安装谐振频率....................................................................................- 8 - 7 局部去耦设计方法......................................................................................- 10 - 8 电源系统的角度进行去耦设计..................................................................- 12 - 8.1 著名的Target Impedance(目标阻抗)..........................................- 12 - 8.2 需要多大的电容量............................................................................- 13 - 8.3 相同容值电容的并联........................................................................- 15 - 8.4 不同容值电容的并联与反谐振(Anti-Resonance)......................- 16 - 8.5 ESR对反谐振(Anti-Resonance)的影响......................................- 17 - 8.6 怎样合理选择电容组合....................................................................- 18 - 8.7 电容的去耦半径................................................................................- 20 - 8.8 电容的安装方法................................................................................- 21 - 9 结束语..........................................................................................................- 24 -

电源调试工作总结

电源调试工作总结 非常感谢公司给我这个成长的平台,令我在工作中不断的学习,不段的进步,慢慢的提升自身的素质与才能,回首,我跨进公司这段时间里,这段时间对我来说很重要,可以说是我走过人生很重要的一个阶段,使我学到了很多工作经验,这些日子里领导和同事对我的支持与关爱,令我受用别致,在此我向公司的领导以及全体同事表示最衷心的感谢,有你们的协助才能使我在工作中更加的得心应手,在工作上,围绕中心工作,严以律己,较好的完成各项工作任务。 在工作态度上,能遵章守纪、团结同事、务真求实、乐观上进,始终保持严谨认真的工作态度和一丝不苟,勤勤恳恳,任劳任怨。在生活中发扬艰苦朴素、勤俭耐劳、乐于助人,老老实实做人,勤恳做事,简朴的生活,严格要求自己。 今后努力的方向:随公司各项制度的实行,可以预料我们的工作将更加繁重,要求也更高,需掌握的知识也更高更广。为此,我将更加勤奋的工作,刻苦的学习,努力提高文化素质和各种工作技能,为公司做出应有的贡献。在这调试过程中,作为一个运营管理者,首先提高自身的整体素质,树立起开拓创新、务实高效的形象。我充分认识到自己既是一个管理者,更是一个执行者。要想管理好这项运营工作,除了熟悉业务外,首先要以身作则,这样才能保证设备安全运营。总之,这次TCN的调试,在领导的支持、帮助下,在工程技术专家、前辈的培养下,我在不同的工作岗位上取得了一定的成绩。成绩已成

为过去,我面临的是来自新世纪、新技术、新问题的挑战。面对挑战,我深深地认识到自己的不足,差距很大。我必须一如既往地努力学习、勤奋工作,不断地增长知识,提高能力,为企业的发展尽自己的力量。我自从进入本公司参加此项工作以来,一直从事一线电工工作,主要从以下几个方面来总结: 一、在工作中,坚持谦虚、踏实、勤奋的工作准则,积累了较丰富的实践经验,取得了一定的工作成绩,得到了同事、领导认可。在此期间,完成了全过程多类工业、民用项目电气工程安装、调试、系统启动运行等工作,编写了大量的调试运营表格、调试方案、系统试运行方案,对施工、安装过程中的技术管理、生产管理有了较全面、系统的了解,二、强化理论和业务学习,不断提高自身综合素质 我重视加强理论和业务学习,在工作中,坚持一边工作一边学习,不断提高自身综合素质水平。 1.认真学习相关理论和简单经验,有效快速的完成运营程序。 2.是认真学习工作业务,在学习方法上做到在重点中找重点,抓住重点,并结合自己在这些知识方面存在哪些不足之处,有针对性地进行学习,不断提高自己的办公室业务工作能力。 3.认真学习公司文件及专业技术程序文件等,结合自己工作实际,逐条应用。通过学习,进一步扎实专业知识和实际应用方法。 三、努力工作,安全生产 1、提高职工安全用电意识,增强职工责任心。 2、落实完善安全用电组织体系,健全安全管理规章制度。

电源完整性设计

电源完整性设计电容的安装方法 电容的安装方法 电容的摆放 对于电容的安装,首先要提到的就是安装距离。容值最小的电容,有最高的谐振频率,去耦半径最小,因此放在最靠近芯片的位置。容值稍大些的可以距离稍远,最外层放置容值最大的。但是,所有对该芯片去耦的电容都尽量靠近芯片。下面的图14就是一个摆放位置的例子。本例中的电容等级大致遵循10倍等级关系。 图14 电容摆放位置示例 还有一点要注意,在放置时,最好均匀分布在芯片的四周,对每一个容值等级都要这样。通常芯片在设计的时候就考虑到了电源和地引脚的排列位置,一般都是均匀分布在芯片的四个边上的。因此,电压扰动在芯片的四周都存在,去耦也必须对整个芯片所在区域均匀去耦。如果把上图中的680pF电容都放在芯片的上部,由于存在去耦半径问题,那么就不能对芯片下部的电压扰动很好的去耦。 电容的安装 在安装电容时,要从焊盘拉出一小段引出线,然后通过过孔和电源平面连接,接地端也

是同样。这样流经电容的电流回路为:电源平面->过孔->引出线->焊盘->电容->焊盘->引出线->过孔->地平面,图15直观的显示了电流的回流路径。 图15 流经电容的电流回路 放置过孔的基本原则就是让这一环路面积最小,进而使总的寄生电感最小。图16显示了几种过孔放置方法。 图16 高频电容过孔放置方法 第一种方法从焊盘引出很长的引出线然后连接过孔,这会引入很大的寄生电感,一定要避免这样做,这时最糟糕的安装方式。 第二种方法在焊盘的两个端点紧邻焊盘打孔,比第一种方法路面积小得多,寄生电感也较小,可以接受。 第三种在焊盘侧面打孔,进一步减小了回路面积,寄生电感比第二种更小,是比较好的

山东直流电源工作总结

山东2010年直流电源设备专业工作总结 66~1000kV变电站直流电源系统情况统计 截止2010年底,本公司66~1000kV及以上变电站共700 座,同比增加 6.2%。1000kV变电站0 座,其中直流系统采用220V 0 座,110V 0 座;750kV变电站0 座,其中直流系统采用220V 0 座,110V 0 座;500kV变电站28 座,其中直流系统采用220V 27 座,110V 1 座;330kV变电站0 座,其中直流系统采用220V 0 座,110V 0 座;220kV变电站259座,110kV变电站413 座,其中直流系统采用220V 671 座,110V 1 座;66kV变电站0 座,其中直流系统采用220V 0 座,110V 0 座;变电站直流电源设备装用情况按附表1统计。 66~1000kV变电站中用蓄电池直流系统的有700 座,同比增加6.2% ;用交流操作电源系统的 有0 座,同比增加0 ;用硅整流系统的有0 座。同比增加0 。 1、整体配置情况 本公司共有直流充电装置1017台。变电站直流电源系统充电装置配置情况按附表1统计。 注:变电站有不同充电装置的在总结中做详细说明,并注明变电站电压等级和变电站名称。 2、1000kV变电站配置情况 (1)高频开关型充电装置的变电站0 座,其中三台(每台n+1个模块配置)的变电站有0 座,二台(每台n+1个模块配置)的变电站有0 座,单台充电装置的变电站有0 座。 (2)相控型充电装置的变电站共0 座,其中三台充电装置的有0 座,二台充电装置的有0 座。(3)硅整流的变电站有0 座。 (4)混合型的变电站有0 座。 (5)磁饱和型的变电站有0 座。 (6)交流操作电源变电站有0 座。 3、750kV变电站配置情况 (1)高频开关型充电装置的变电站0 座,其中三台(每台n+1个模块配置)的变电站有0 座,二台(每台n+1个模块配置)的变电站有0 座,单台充电装置的变电站有0 座。 (2)相控型充电装置的变电站共0 座,其中三台充电装置的有0 座,二台充电装置的有0 座。(3)硅整流的变电站有0 座。 (4)混合型的变电站有0 座。 (5)磁饱和型的变电站有0 座。

电源完整性基础理论

电源完整性理论基础 ------- 阿鸣随着PCB设计复杂度的逐步提高,对于信号完整性的分析除了反射,串扰以及EMI之外,稳定可靠的电源供应也成为设计者们重点研究的方向之一。尤其当开关器件数目不断增加,核心电压不断减小的时候,电源的波动往往会给系统带来致命的影响,于是人们提出了新的名词:电源完整性,简称PI(power integrity)。其实,PI和SI是紧密联系在一起的,只是以往的EDA仿真工具在进行信号完整性分析时,一般都是简单地假设电源绝对处于稳定状态,但随着系统设计对仿真精度的要求不断提高,这种假设显然是越来越不能被接受的,于是PI的研究分析也应运而生。从广义上说,PI是属于SI研究范畴之内的,而新一代的信号完整性仿真必须建立在可靠的电源完整性基础之上。虽然电源完整性主要是讨论电源供给的稳定性问题,但由于地在实际系统中总是和电源密不可分,通常把如何减少地平面的噪声也作为电源完整性中的一部分进行讨论。 一. 电源噪声的起因及危害 造成电源不稳定的根源主要在于两个方面:一是器件高速开关状态下,瞬态的交变电流过大;二是电流回路上存在的电感。从表现形式上来看又可以分为三类:同步开关噪声(SSN),有时被称为Δi噪声,地弹(Ground bounce)现象也可归于此类(图1-a);非理想电源阻抗影响(图1-b);谐振及边缘效应(图1-c)。

对于一个理想的电源来说,其阻抗为零,在平面任何一点的电位都是保持恒定的(等于系统供给电压),然而实际的情况并不如此,而是存在很大的噪声干扰,甚至有可能影响系统的正常工作,见图2: 开关噪声给信号传输带来的影响更为显著,由于地引线和平面存在寄生电感,在开关电流的作用下,会造成一定的电压波动,也就是说器件的参考地已经不再保持零电平,这样,在驱动端(见图3-a),本来要发送的低电平会出现相应的噪声波形,相位和地面噪声相同,而对于开关信号波形来说,会因为地噪声的影响导致信号的下降沿变缓;在接收端(见图3-b),信号的波形同样会受到地噪声的干扰,不过这时的干扰波形和地噪声相位相反;另外,在一些存储性器件里,还有可能因为本身电源和地噪声的影响造成数据意外翻转(图3-c)。 从前面的图3-c我们可以看到,电源平面其实可以看成是由很多电感和电容构成的网络,也可以看成是一个共振腔,在一定频率下,这些电容和电感会发生谐振现象,从而影响电源层的阻抗。比如一个8英寸×9英寸的PCB空板,板材是普通的FR4,电源和地之间的间距为4.5Mils,随着频率的增加,电源阻抗是不断变化的,尤其是在并联谐振效应显著的时候,电源阻抗也随之明显增加(见图4)。

如何实现电源PCB板完整性的设计

如何实现电源PCB板完整性的设计 在电路设计中,一般我们很关心信号的质量问题,但有时我们往往局限在信号线上进行研究,而把电源和地当成理想的情况来处理,虽然这样做能使问题简化,但在高速设计中,这种简化已经是行不通的了。尽管电路设计比较直接的结果是从信号完整性上表现出来的,但我们绝不能因此忽略了电源完整性设计。因为电源完整性直接影响最终PCB板的信号完整性。电源完整性和信号完整性二者是密切关联的,而且很多情况下,影响信号畸变的主要原因是电源系统。例如,地反弹噪声太大、去耦电容的设计不合适、回路影响很严重、多电源/地平面的分割不好、地层设计不合理、电流不均匀等等。 (1)电源分配系统 电源完整性设计是一件十分复杂的事情,但是如何近年控制电源系统(电源和地平面)之间阻抗是设计的关键。理论上讲,电源系统间的阻抗越低越好,阻抗越低,噪声幅度越小,电压损耗越小。实际设计中我们可以通过规定最大的电压和电源变化范围来确定我们希望达到的目标阻抗,然后,通过调整电路中的相关因素使电源系统各部分的阻抗(与频率有关)目标阻抗去逼近。 (2)地反弹 当高速器件的边缘速率低于0.5ns时,来自大容量数据总线的数据交换速率特别快,当它在电源层中产生足以影响信号的强波纹时,就会产生电源不稳定问题。当通过地回路的电流变化时,由于回路电感会产生一个电压,当上升沿缩短时,电流变化率增大,地反弹电压增加。此时,地平面(地线)已经不是理想的零电平,而电源也不是理想的直流电位。当同时开关的门电路增加时,地反弹变得更加严重。对于128位的总线,可能有50_100个I/O线在相同的时钟沿切换。这时,反馈到同时切换的I/O驱动器的电源和地回路的电感必须尽可能的低,否则,连到相同的地上的静止将出现一个电压毛刷。地反弹随处可见,如芯片、封装、连接器或电路板上都有可能会出现地反弹,从而导致电源完整性问题。 从技术的发展角度来看,器件的上升沿将只会减少,总线的宽度将只会增加。保持地反弹在可接受的唯一方法是减少电源和地分布电感。对于,芯片,意味着,移到一个阵列晶片,

SIwave电源完整性仿真教程

SIwave电源完整性仿真教程V1.0 目录 1软件介绍 (4) 2.1功能概述 (4) 2.2操作界面 (5) 2.3常用热键 (7) 2仿真的前期准备 (8) 2.1软件的准备 (8) 2.2 PCB文件导入 (8) 2.2.1 Launch SIwave方式 (8) 2.2.1 ANF+CMP方式 (9) 2.3 PCB的Validation Check (10) 2.4 PCB叠层结构设置 (11) 2.5仿真参数设置 (13) 2.6 RLC参数修正 (14) 2.6.1 RLC的自动导入 (14) 2.6.2检视自动导入的RLC默认值 (15)

2.6.3批量修改RLC值 (16) 2.6.4套用大厂的RLC参数 (16) 3 SIwave仿真模式 (17) 3.1谐振模式 (17) 3.2激励源模式 (19) 3.3 S参数分析 (22) 4实例仿真分析 (24) 4.1从Allegro中导入SIwave (24) 4.2 Validation Check (24) 4.3叠层结构设置 (24) 4.4无源参数RLC修正 (25) 4.5平面谐振分析 (27) 4.6目标阻抗(Z参数)分析 (28) 4.7选取退耦电容并添加 (29) 4.8再次运行仿真查看结果 (30) 5问题总结 (32)

5.1 PCB谐振的概念 (32) 5.2为何频率会有实部和虚部 (33) 5.3电容的非理想特性影响 (34) 5.4地平面完整与回流路径连续 (34) 5.5电源目标阻抗 (35)

1软件介绍 2.1功能概述 Ansoft SIwave主要用于解决电源完整性问题,采用全波有限元算法,只能进行无源的仿真分析。Ansoft SIwave虽然功能强大,但并非把PCB导入,就能算出整块板子的问题在哪里。还需要有经验的工程设计人员,以系统化的设计步骤导入此软件检查PCB设计。主要功能如下: 1.计算共振模式 在PDS电源地系统结构(层结构、材料、形状)的LAYOUT之前,我们可以计算出PDS 电源地系统的共有的、内在的共振模式。可以计算在目标阻抗要求的带宽或更高的带宽范围内共振频率点。 2. 查看共振模式下的电压分布图 避免把大电流的IC芯片放置于共振频率的电压的峰值点和电压谷点。原因是当把这些源放在共振频率的电压的峰值点和电压谷点的时候很容易引起共振。 3.侦测电压 利用电流源代替IC芯片放置于它们可能的LAYOUT placement位置的周围、同时放置电压探头于理想IC芯片的位置侦测该位置的电压频率相应。在电压的频率相应的曲线中,峰值电压所对应的频率点就是共振频率的发生点。 4.表面电压 基于电压峰值频率,查看这些频率点的表面电压的分布情况,把退耦电容放置于电压

PCB电路板设计的实际工作总结概括

绘制原理图---->生成网络表 PCB大至工作内容: 调入网络表 | 设置PCB设计环境: ----绘制印刷电路的板框 ----格点大小和类型 ----版层参数 ----布线参数 规划电路板:确定边框--固定孔定位 修改PCB与原理图库零件的封装不一致修改封装。 进行零件布局---除考虑电路功能,IO接口位置等外,还要考虑EMI, 模拟电路区和数字电路区合理接地,机械结构散热等等。 布线规则及其他参数设置:层管理、线宽、过孔间距、布线的拓朴结构等 手工配合自动布线调整,使电路布通 DRC检查,反复检查考虑各种因素完成布板 发Email 或拷盘给加工厂家跟厂家协商板的材料和厚度工艺要求等 如果是要求比较高的电路板高频电路板,也可以输出:Gerber 光绘文件,提出板子的介电常数等用要求,还可以用工具分析一些参数(如阻抗、过冲、下冲反射分析和串扰等)进行电路的信号完整性分析,以修改高频板,提高高频性能。 抗干扰方面考虑: 如果要求高的系统,pcb设计还要结合考虑整体系统设计, 如EMI滤波器,这些要结合一些EMC标准来考虑设计: -如电磁辐射传播路径, -是内部还是外部干扰源, 如:外部电路干扰,本身电路内部,开关电源开关管,快速恢复二极管性能不好,共模干扰,差模干扰,(继电器、可控硅、电机、高频时钟等干扰源)

抑制干扰源的常用措施: 加电感、电阻、续流二极管 继电器并接火花抑制电路 电机加滤波电路 外壳接大地 电源线加粗,合理走线、接地,三总线分开 成本允许的话采用四层以上印制板,中间两层为电源及地。 集成块与插座接触应可靠 尽量减少回路环的面积 I/O口采用光电、磁电、继电器隔离

DDR3信号完整性与电源完整性设计

DesignCon 2011 Signal and Power Integrity for a 1600 Mbps DDR3 PHY in Wirebond Package June Feng, Rambus Inc. [Email: jfeng@https://www.360docs.net/doc/e07978549.html,] Ralf Schmitt, Rambus Inc. Hai Lan, Rambus Inc. Yi Lu, Rambus Inc.

Abstract A DDR3 interface for a data rate of 1600MHz using a wirebond package and a low-cost system environment typical for consumer electronics products was implemented. In this environment crosstalk and supply noise are serious challenges and have to be carefully optimized to meet the data rate target. We are presenting the signal and power integrity analysis used to optimize the interface design and guarantee reliable system operation at the performance target under high-volume manufacturing conditions. The resulting DDR3 PHY was implemented in a test chip and achieves reliable memory operations at 1600MHz and beyond. Authors Biography June Feng received her MS from University of California at Davis, and BS from Beijing University in China. From 1998 to 2000, she was with Amkor Technology, Chandler, AZ. She was responsible for BGA package substrate modeling and design and PCB characterization. In 2000, she joined Rambus Inc and is currently a senior member of technical staff. She is in charge of performing detailed analysis, modeling, design and characterization in a variety of areas including high-speed, low cost PCB layout and device packaging. Her interests include high-speed interconnects modeling, channel VT budget simulation, power delivery network modeling and high-frequency measurements. Ralf Schmitt received his Ph.D. in Electrical Engineering from the Technical University of Berlin, Germany. Since 2002, he is with Rambus Inc, Los Altos, California, where he is a Senior Manager leading the SI/PI group, responsible for designing, modeling, and implementing Rambus multi-gigahertz signaling technologies. His professional interests include signal integrity, power integrity, clock distribution, and high-speed signaling technologies. Hai Lan is a Senior Member of Technical Staff at Rambus Inc., where he has been working on on-chip power integrity and jitter analysis for multi-gigabit interfaces. He received his Ph.D. in Electrical Engineering from Stanford University, M.S. in Electrical and Computer Engineering from Oregon State University, and B.S. in Electronic Engineering from Tsinghua University in 2006, 2001, and 1999, respectively. His professional interests include design, modeling, and simulation for mixed-signal integrated circuits, substrate noise coupling, power and signal integrity, and high-speed interconnects. Yi Lu is a senior systems engineer at Rambus Inc. He received the B.S. degree in electrical engineer and computer science from U.C. Berkeley in 2002 with honors. In 2004, he received the M.S. degree in electrical engineering from UCLA, where he designed and fabricated a 3D MEMS microdisk optical switch. Since joining Rambus in 2006, he has been a systems engineer designing various memory interfaces including XDR1/2 and DDR2/3.

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