光学薄膜的研究新进展及应用

光学薄膜的研究新进展及应用
光学薄膜的研究新进展及应用

膜材料发展前景与展望

膜材料发展前景与展望 一、国内外经济对膜产业的重大需求 近几十年发展起来的膜技术是以具有选择透过性的膜材料作为核心,在膜两侧推动力下,实现混合物分离、提纯、浓缩的分离技术。与过滤、精馏、萃取、蒸发等传统分离技术相比,膜技术具有能耗低、分离效率高、设备简单、无相变、无污染等优点,因此被称为新型高效分离技术。作为一种高新技术,膜技术并不是高不可攀的,实际上,它就在我们身边。比如,随处可购买到的纯净饮用水绝大部分采用膜技术净化得到;为保持乳品的营养价值及水果的风味,牛奶、酸奶、奶酪等也可以采用膜技术进行除菌、浓缩及杂质去除。 在21世纪的多数工业中,膜技术将扮演重要角色,在水资源、能源、环境、传统产业改造等领域发挥重大作用。 在缓解水资源短缺方面,预计到2050年,我国缺水总量将达4000亿m3,因缺水而导致的工业总产值损失大约2000亿元,农业总产值损失大约1500亿元。膜法海水淡化技术、膜法水质净化技术、膜及其集成技术将成为解决我国北方资源性缺水、南方水质性缺水和城市缺水的有效手段。 在化工与石油化工领域,分离过程能耗占到了总能耗的70%左右,分离效率低还导致了严重的环境污染问题。膜分离技术可以高效低能耗地实现高精度分离,是过程工业节能降耗的共性技术之一。譬如,膜法精密过滤代替蒸发,可节能40%以上,减少溶剂消耗量30%以上;膜法渗透汽化技术代替精馏,进行有机物脱水,可节能50%

以上;膜技术是过程工业减排的关键支撑技术,采用膜法处理油田回注水、焦化废水等,可实现工业废水循环利用,减少废水排放量;采用膜法可以实现废酸、废碱资源化利用,实现废液零排放。 此外,膜技术还是改造传统产业、推进相关行业技术进步的高新技术,可以说,膜技术的发展得到了全球范围的高度重视,美国、日本、欧洲等多国政府将膜技术作为21世纪高新技术进行研究与开发,制定了相应的研究开发计划,促进了膜技术和产业的强劲发展。我国政府对膜技术的研究和开发同样十分重视,自“六五”以来,已连续六个五年计划都把膜技术作为重点项目进行支持。2010年出台《国务院关于加快培育和发展战略性新兴产业的决定》将高性能膜材料列入战略性新兴产业,为膜技术和膜产业的自身发展,膜应用市场的培育带来了前所未有的机遇。 经过5O多年的发展.中国膜产业逐渐走向成熟。特别是近20年来,中国膜产业高速增长,总产值从1993年2亿元人民币上升到20O8年200亿元(膜行业总产值是指膜制品、膜组件、膜附属设备及相关工程的总值,膜制品与膜组件是整个行业的核心)。 在21世纪的许多工业中,都将膜技术的重要性提升到了战略高度。2009年我国膜产业总产值约240亿元,2010年约300亿元。按照目前年均30%的增幅,未来5年我国膜产业有望突破1000亿元。可以预见,膜技术将迎来产值大幅增加的黄金十年,它所带动的相关产业产值总量更是不可估量。膜技术将在水资源、能源、环境、传统产业改造等领域发挥重大作用。

光学薄膜技术

光学薄膜概论 光学薄膜 光学薄膜泛指在光学器件或光电子元器件表面用物理化学等方法沉积的、利用光的干涉现象以改变其光学特性来产生增透、反射、分光、分色、带通或截止等光学现象的各类膜系。它可分为增透膜、高反膜、滤光膜、分光膜、偏振与消偏振膜等。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。 光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。 光学薄膜的基本原理: 1.利用光线的干涉效应,当光线入射於不同折射系数物质所镀成的薄膜,产生某种特殊光学特性。 分类:光学薄膜就其所镀材料之不同,大体可分为金属膜和非金属膜。 a.金属膜:主要是作为反射镜和半反射镜用。在各种平面或曲面反射镜,或各式稜镜等,都可依所需镀上Al、Ag、Au、Cu等各种不同的材料。不同的材料在光谱上有不同的特性。AI的反射率在紫外光、可见光、近红外光有良好的反射率,是镀反射镜最常使用的材料之一。Ag膜在可见光和近红外光部份的反射率比AI膜更高,但因其易氧化而失去光泽,只能短暂的维持高反射率,所以只能用在内层反射用,或另加保护膜。 b.非金属膜:用途非常广泛,例如抗反射镜片.单一波长滤光片、长或短波长通过滤光片、热光镜、冷光镜、各种雷射镜片等,都是利用多种不同的非金属材料,蒸镀在研磨好之镜杯上,层数由单层到数十、百层不等,视需要的不同,而有不同的设计和方法。目前这些薄膜中被应用得最广泛,最商业化,也是一般人接触到最多的,就是抗反射膜。例如眼镜、照相机镜头、显微镜等等都是在镜片上镀抗反射膜。因为若是不加以抗反射无法得到清晰明亮的影像了,因此如何增加其透射光线就是一个非常重要的课题。 2.利用光波干涉原理,在镜片的表面镀上一层薄膜,厚度为1/4 波长的光学厚度,使光线不再只被玻璃—空气界面反射,而是空气—薄膜、薄膜—玻璃二个界面反射,因此产生干涉现象,可使反射光减少。若镀二层的抗反射膜,使反射率更低,但是镀一层或二层都有缺点:低反射率的波带不移宽,不能在可见光范围都达到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen 三位首先发表以1/4一1/2一1/4波长光学厚度作三层抗反射膜可以得到宽波带低反射率的抗反射膜。多层抗反射膜除了宽波带的,也可做到窄波带的。也就是针对其一波长如氨氟雷射632.8nm波长,要求极高的透射,可使63Z.8nm这一波长透射率高达99.8%以上,用之於雷射仪器。但若需要对某一波长的光线有看极高的反射率需要用高低不同折射系数的材料反覆蒸镀数十层才可达到此效果。 光学薄膜的制造方式:热电阻式、电子枪式和溅射方式。最普通的方式为热电阻式,是将蒸镀材料在真空蒸镀机内置於电阻丝或片上,在高真空的情况下,加热使材料成为蒸气,直接镀於镜片上。由於有许多高熔点的材料,不易使用此种方式使之熔化、蒸镀。而以电子枪改进此缺点,其方法是以高压电子束直接打击材料,由於能量集中可以蒸镀高熔点的材料。另一方式为溅射方式,是以高压使惰性气体离子化,打击材料使之直接溅射至镜片,以此方式

国内外研究现状和研究意义

吉林大学博士学位论文 背景及意义 视觉是人类感知外界信息的重要手段,外界信息的80%以上都是人类通过视觉获取的,当今社会,视频在人类的生产、生活中被广泛传播,成为了人们获取信息最重要的手段。伴随着电子计算机处理能力的飞速发展,人们利用视频内容为自己服务的要求越来越高,利用计算机的高速处理能力为人类提供更加直接有效的视频信息变得越来越重要,智能视频处理的研究越来越受到重视,视频监控系统的应用也日益广泛。 目标跟踪作为智能视频处理的一个重要分支,得到了各国学者的重视,这其中有很多原因使得目标跟踪被大家所关注,其一,计算机的快速发展使得视频处理的大量运算得以实现;其二,存储介质的价格不断降低,使得大量的视频信息得以保留,方便后期调用;第三,军事、民事的需求增强,人们都想借助计算机协助改善生活质量。 目标跟踪在如下领域已经在发挥无可替代的作用: (1)军事应用,军事上的巨大应用前景极大促进了运动目标识别技术的发展,远程导弹、空空导弹的精确打击,飞机航线的设定和规避障碍等都离不开目标跟踪技术,无人机的自动导航功能,通过将目标跟踪得到的位置信息和自身航行速度做分析,实现自主飞行。 (2)机器人视觉,智能机器人能像人类一样运动的前提就是它能“看”到外面的世界,并用“大脑”对其分析判断,认知并跟踪不同的物体,机器手需要通过在手臂上安装的摄像头,锁定目标,并跟踪其运动轨迹,跟踪抓取物体。 (3)医学影像诊断,目标跟踪技术在超声成像中目标自动跟踪分析有着广泛的应用前景,由于超声图像噪声非常大,有用信息很难清楚直接的通过肉眼定位识别,在整个视频中,对有用目标进行准确识别跟踪,将会极大提高诊断准确性,Ayache 等人已经将目标跟踪应用到了超声检查的心脏跳动中,为医生及时准确的诊断心脏问题提供了很大的帮助。 (4)人机交互,传统的人机互动是通过鼠标、键盘、显示器完成的,一旦机器能够跟踪人类的肢体运动,就可以“理解”人类的手势、动作,甚至嘴型,彻底改变传统的人机交互方式,将人机交互变得和人与人之间的交流一样清晰。 (5)车辆跟踪,目标跟踪的一个非常重要的贴近民生的应用就是车辆跟踪。随着汽车相关技术的不断成熟和居民生活质量的大幅提升,我国从自行车大国逐步过度到汽车大国,家庭对汽车的拥有量将发生井喷,越来越多的家庭拥有自己的汽车,使得道路交通负担越来越重。另一方面,城市建设已经定形,城市中的公路已经无处可修,有限的公路对应不断增加的汽车数量,使得交通事故频发,这些问题对道路交通管理提出了更加严格的要求,逐步形成了智能交通系统的概念。智能交通能够由计算机自动识别车辆信息,并跟踪车辆行驶,分析闯红灯,违章变线,车辆逆行等违章行驶事件,将会极大减轻交通警察的工作压力,提高行车安全,减少交通事故的发生。另一个重要的应用是,如果车辆的目标跟踪得到快速发展,那么自动驾驶将成为可能,现在车辆上应用的定速巡航功能,仅仅可以做到定速,也就是电脑控制车速保持,而无法自动识别路面上车辆行驶情况,自动控制车辆的转弯变速,一旦车辆的目标跟踪技术成熟,那么将会给道路交通带来非常深远的影响,极大提高人们的生活质量。 1.2 国内外研究现状 目标跟踪领域的研究是一个非常复杂的课题,随着信息技术的飞速发展,视频监控深入到了人们生产生活中的各个领域,自然引起了各国学者的重视,许多国家投入了大量的人力物力财力去深入研究,解决目标跟踪领域出现的问题,促使目标跟踪算法的飞速发展,视频目标跟踪领域的提出以及发展现状简要的叙述如下: Wax 于1955 年最早提出了目标跟踪理论的基本原理,Sittler 于1964 年提出目标点轨迹的概念和目标运动路径最优数据关联的贝叶斯理论,由此改进了目标跟踪算法,为后来目标

光学薄膜技术第三章--薄膜制造技术

第三章薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积(PVD)和化学液相沉积(CLD)两种工艺来获得。CLD工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用。 PVD需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。 PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。 制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识 用物理方法制作薄膜,概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量,使它分解为原子、分子或少数几 个原子、分子的集合体(从广义来说,就是使其蒸发),并使它们在其他位置重新结合或凝聚。 在这个过程中,如果大气与蒸发中的物质同时存在,那就会产生如下一些问题: ①蒸发物质的直线前进受妨碍而形成雾状微粒,难以制得均匀平整的薄膜; ②空气分子进入薄膜而形成杂质; ③空气中的活性分子与薄膜形成化合物; ④蒸发用的加热器及蒸发物质等与空气分子发生反应形成 化合物,从而不能进行正常的蒸发等等。 因此,必须把空气分子从制作薄膜的设备中排除出去,这个 过程称为抽气。空气压力低于一个大气压的状态称为真空, 而把产生真空的装置叫做真空泵,抽成真空的容器叫做真空 室,把包括真空泵和真空室在内的设备叫做真空设备。制作 薄膜最重要的装备是真空设备. 真空设备大致可分为两类:高真空设备和超高真空设备。二 者真空度不同,这两种真空设备的抽气系统基本上是相同 的,但所用的真空泵和真空阀不同,而且用于真空室和抽气 系统的材料也不同,下图是典型的高真空设备的原理图,制 作薄膜所用的高真空设备大多都属于这一类。 下图是超高真空设备的原理图,在原理上,它与高真空设备 没有什么不同,但是,为了稍稍改善抽气时空气的流动性, 超高真空设备不太使用管子,多数将超高真空用的真空泵直 接与真空室连接,一般还要装上辅助真空泵(如钛吸气泵) 来辅助超高真空泵。 3.1 高真空镀膜机 1.真空系统 现代的光学薄膜制备都是在真空下获得的。普通所说的 真空镀膜,基本都是在高真空中进行的。 先进行(1)然后进行(2)。因为所有的(超)高真空泵只有在真空室的压力降低到一定程度时才能进行工作, 而且在高真空泵(如油扩散泵)中,要把空气之类的分子排出,就必须使排气口的气体压力降低到一定程 度。 小型镀膜机的真空系统 低真空机械泵+高真空油扩散泵+低温冷阱

吸附剂的应用研究现状和进展

84 吸附剂的应用研究现状和进展 杨国华1,黄统琳1,姚忠亮3,刘明华1,2 (1.福州大学环境与资源学院,福建 福州 350108; 2.华南理工大学制浆造纸工程国家重点实验室,广东 广州510640; 3.福建师范大学福清分校生物与化学工程系,福建 福清350300) 摘 要:利用吸附法进行废水处理,具有适应范围广、处理效果好、可回收有用物料以及吸附剂可重复使用等优点,因此随着现有吸附剂性能的不断完善以及新型吸附剂的研制成功,吸附法在水处理中的应用前景将更加广阔。主要对活性炭、吸附树脂、改性淀粉类吸附剂、改性纤维素类吸附剂、改性木质素类吸附剂、改性壳聚糖类吸附剂以及其他可吸收污染物质的药剂、物料等吸附剂的应用研究现状和发展趋势进行综合概述。 关键词:吸附剂;吸附法;研究;综述 基金项目:中国博士后基金资助项目(20070410238)和中国博士后基金特别资助项目(200801239)。 吸附法是利用吸附剂吸附废水中某种或几种污染物,以便回收或去除它们,从而使废水得到净化的方法。利用吸附法进行物质分离已有漫长的历史,国内外的科研工作者在这方面作了大量的研究工作,目前吸附法已广泛应用于化工、环境保护、医药卫生和生物工程等领域。在化工和环境保护方面,吸附法主要用于净化废气、回收溶剂(特别适用于腐蚀性的氯化烃类化合物、反应性溶剂和低沸点溶剂)和脱除水中的微量污染物。后者的应用范围包括脱色、除臭味、脱除重金属、除去各种溶解性有机物和放射性元素等。在处理流程中,吸附法可作为离子交换、膜分离等方法的预处理,以去除有机物、胶体及余氯等,也可作为二级处理后的深度处理手段,以便保证回用水质量。利用吸附法进行水处理,具有适应范围广、处理效果好、可回收有用物料以及吸附剂可重复使用等优点,随着现有吸附剂性能的不断完善以及新型吸附剂的研制成功,吸附法在水处理中的应用前景将更加广阔。 吸附剂是决定高效能的吸附处理过程的关键因素,广义而言,一切固体都具有吸附能力,但是只有多孔物质或磨得极细的物质由于具有很大的表面积,才能作为吸附剂。工业吸附剂还必须满足下列要求: (1)吸附能力强; (2)吸附选择性好; (3)吸附平衡浓度低; (4)容易再生和再利用; (5)机械强度好; (6)化学性质稳定; (7)来源广; (8)价廉。 一般工业吸附剂很难同时满足这八个方面的要求,因此,在吸附处理过程中应根据不同的场合选用不同的吸附剂。目前,可用于水处理的吸附剂有活性炭、吸附树脂、改性淀粉类吸附剂、改性纤维素类吸附剂、改性木质素类吸附剂、改性壳聚糖类吸附剂以及其他可吸收污染物质的药剂、物料等[1] 。本文主要对上述吸附剂的应用研究现状和发展趋势进行综合概述。 1 活性炭 吸附剂中活性炭应用于水处理已有几十年的历史。60年代后有很大发展,国内外的科研工作者已在活性炭的研制以及应用研究方面作了大量的工作。制作活性炭的原料种类多、来源丰富,包括动植物 (如木材、锯木屑、木炭、谷壳、椰子壳、 2009年第6期 2009年6月 化学工程与装备 Chemical Engineering & Equipment

光学薄膜技术第二章课件

典型膜系介绍 根据其作用可以将光学薄膜的类型简单的分为: 1、减反射膜或者叫增透膜 2、分束膜 3、反射膜 4、滤光片 5、其他特殊应用的薄膜 一. 减反射膜(增透膜) 在众多的光学系统中,一个相当重要的组成部分是镜片上能降低反射的镀膜。在很多应用领域中,增透膜是不可缺少的,否则,无法达到应用的要求。 就拿一个由18块透镜组成的35mm 的自动变焦的照相机来说,假定每个玻璃和空气的界面有4%的反射,没有增透的镜头光透过率为23%,镀有一层膜(剩余的反射为%)的镜头光透过率为%,镀多层膜(剩余的反射为%)的为%。 大功率激光系统要求某些元件有极低的表面反射,以避免敏感元件受到不需要的反射光的破坏。此外,宽带增透膜可以提高象质量、色平衡和作用距离,而使系统的全部性能增强。 当光线从折射率为n0的介质射入折射率为n1的另一介质时,在两介质的分界面上就会产生光的反射, 如果介质没有吸收,分界面是一光学表面,光线又是垂直入射,则反射率R 为: 例,折射率为的冕牌玻璃,每个表面的反射约为%,折射率较高的火石玻璃表面的反射更为显著。 这种表面反射造成了两个严重的后果: ①光能量损失,使像的亮度降低; ②表面反射光经过多次反射或漫射,有一部分成为杂散光,最后也达到像平面,使像的衬度降低,分辨率下降,从而影响光学系统的成像质量。 减反射膜,又称增透膜,它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光,从而增加这些元件的透光量,减少或消除系统的杂散光。 最简单的增透膜是单层膜,它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低 的介于空气折射率和光学元件折射率之间的薄膜。以使某些颜色的单色光在表面 R T n n n n R -=???? ??+-=12 1010透射率

企业满意度研究现状和应用

2006企业满意度研究现状和应用 长期以来,大正致力于客户满意度测量方面的研究,为提升企业的满意度工作而努力。为了能更好地为企业在满意度研究工作上进行服务,我们发起了此次满意度研究的工作,期望通过此次研究,能了解中国各种类型企业在满意度工作方面的现状,同时集合各行业领导企业的经验,为企业间经验的参考借鉴搭建一个平台,从而在整体上推动满意度研究在各行业的实施。 研究概况 2006年5-6月,Diagaid对IT、金融、汽车、工业品、房地产、零售、快速消费品等行业近百家大型企业进行了访谈。目的是为了对目前满意度研究的开展情况进行整体把握。 我们的前提假设是:在中国市场竞争越来越激烈的前提下,企业对于客户满意度的重视将会为企业带来价值。 通过这两个月的研究,最终结果显示: 满意度工作已经广泛地在中国的企业内得到开展,并成为增强企业竞争力的工具。企业能明显感受到满意度研究带来的利益。在满意度研究的执行上,仍然存在不够系统化,专业化的问题。 此次的研究,我们最主要的研究区域涉及如下三方面内容: 在目前中国的企业中,满意度研究开展的现状是怎样的? 多少企业在进行满意度研究? 满意度研究的历史有多久了? 是什么驱动着企业进行满意度研究?

企业主要关注哪些方面的满意度? 满意度研究为企业带来了哪些帮助? 满意度研究为企业带来了哪些帮助和影响? 企业所认可的满意度方面的标杆企业有哪些? 他们是如何利用满意度研究的工具来帮助他们成为领先企业的? 具体执行有哪些问题? 满意度研究工作的发展中遇到了哪些问题? 目前企业在具体满意度研究实践上存在哪些问题? 首先我们来了解客户满意度工作在中国开展的现状。 多少企业已经开展满意度研究了? 从整体来看,本次调查的各行业大型企业中,有89%已经进行了专门的满意度研究。另有资料显示,到2004年,在所有大中小型企业中已有64%的企业正在做满意度研究。另外,在本次调查中,11%未进行专门满意度研究的企业通过其他方式来进行客户满意的调查和衡量。而其中又有一半的企业正在规划进行正式的满意度研究。通过与往年资料的比对,我们发现满意度研究的工作正

光学薄膜应用及实例

光学薄膜应用及实例 光学薄膜是利用薄膜对光的作用而工作的一种功能薄膜,光学薄膜在改变光强方面可以实现分光透射、分光反射、分光吸收以及光的减反、增反、分束、高通、低通、窄带滤波等功能。光学薄膜的种类有很多,这些薄膜赋予光学元件各种使用性能,在实现光学仪器的功能和影响光学仪器的质量方面起着重要的或者决定性的作用。 传统的光学薄膜是现代光学仪器和各种光学器件的重要组 成部分,通过在各种光学材料的表面镀制一层或多层薄膜,利用光的干涉效应来改变透射光或反射光的光强、偏振状态和相位变化。薄膜可以被镀制在光学玻璃、塑料、光纤、晶体等各种材料表面上。它的厚度可从几个nm 到几十、上百个μm。光学薄膜可以得到很好的牢固性、光学稳定性,成本又比较低,几乎不增加材料的体积和重量,因此是改变系统光学参数的首选方法,甚至可以说没有光学薄膜就没有现代的光学仪器和各种光学器件。在两百多年的发展过程中,光学薄膜形成了一套完整的光学理论—薄膜光学。光学薄膜已广泛应用于各种光学器件(如激光谐振腔、干涉滤波片、光学镜头等),不仅如此它在光电领域中的重要作用亦逐渐为人们所认识。光学薄膜是TFT-LCD面板制造的关键材料,它们为液晶显示提供一个均匀,明亮且饱满的面光源系统。(光

行天下配图) 减反射膜 假定光线垂直入射在表面上,这时表面的反射光强度与入射光的强度比值(反射率)只决定于相邻介质的折射率的比值: 折射率为1.52 的冕牌玻璃每个表面的反射约为4.2%左右.折射率较高的火石玻璃则表面反射更为显著。这种表面反射造成了两个严重的后果:光能量损失使象的亮度降低;表面反射光经过多次反射或漫射,有一部分成为杂散光,最后也到达象平面使象的衬度降低图象质量,特别是电视、电影摄影镜头等复杂系统都包含了很多个与空气相邻的表面,如不镀上增透膜其性能就会大大降低。应用于可见光谱区的光学仪器非常多,就其产量来说占据了减反射膜的绝大部分,几乎在所有的光学器件上都要进行减反处理。 单层减反膜是应用非常广泛的薄膜,也是最简单的膜系。考虑垂直入射的情况,即i = 0,并令 这时基片表面反射率完全被消除。在入射介质为空气的情况下,n0 =1,则在可见光区使用得最普遍的是折射率为1.52 左右的冕脾玻璃。理想的增透膜的折射率为1.23,但是至今能利用的薄膜的最低折射率是1.38( 氯化镁)。这虽然不很理想但也得到了相当的改进。当ns=1.52,nf=1.38,n0=1.0 时,由式(3)可得最低反射率为1.3%,即镀单层氟化镁后中心波 长的反射率从4.2%降至l.3%左右,整个可见光区平均反射

纳米材料研究现状及应用前景要点

纳米材料研究现状及应用前景 摘要:文章总结了纳米粉体材料、纳米纤维材料、纳米薄膜材料、纳米块体材料、纳米复合材料和纳米结构的制备方法,综述了纳米材料的性能和目前主要应用领域,并简单展望了纳米科技在未来的应用。 关键词:纳米材料;纳米材料制备;纳米材料性能;应用 0 引言 自从1984年德国科学家Gleiter等人首次用惰性气体凝聚法成功地制得铁纳米微粒以来,纳米材料的制备、性能和应用等各方面的研究取得了重大进展。纳米材料的研究已从最初的单相金属发展到了合金、化合物、金属无机载体、金属有机载体和化合物无机载体、化合物有机载体等复合材料以及纳米管、纳米丝等一维材料,制备方法及应用领域日新月异。 纳米材料是指在三维空间中至少有一维处于纳米尺度范围或由它们作为基本单元构成的材料,包括纳米粉体( 零维纳米材料,又称纳米粉末、纳米微粒、纳米颗粒、纳米粒子等) 、纳米纤维( 一维纳米材料) 、纳米薄膜( 二维纳米材料) 、纳米块体( 三维纳米材料) 、纳米复合材料和纳米结构等。纳米粉体是一种介于原子、分子与宏观物体之间的、处于中间物态的固体颗粒,一般指粒度在100nm以下的粉末材料。纳米粉体研究开发时间最长、技术最成熟,是制备其他纳米材料的基础。纳米粉体可用于:高密度磁记录材料、吸波隐身材料、磁流体材料、防辐射材料、单晶硅和精密光学器件抛光材料、微芯片导热基片与布线材料、微电子封装材料、光电子材料、先进的电池电极材料、太阳能电池材料、高效催化剂、高效助燃剂、敏感元件、高韧性陶瓷材料、人体修复材料、抗癌制剂等。纳米纤维指直径为纳米尺度而长度较大的线状材料,如纳米碳管,可用于微导线、微光纤( 未来量子计算机与光子计算机的重要元件) 材料、新型激光或发光二极管材料等。纳米薄膜分为颗粒膜与致密膜。颗粒薄膜是纳米颗粒粘在一起,中间有极为细小的间隙的薄膜;致密膜指膜层致密但晶粒尺寸为纳米级的薄膜。可用于气体催化材料、过滤器材料、高密度磁记录材料、光敏材料、平面显示器材料、超导材料等。纳米块体是将纳米粉末高压成型或控制金属液体结晶而得到的纳米晶粒材料,主要用途为超高强度材料、智能金属材料等。纳米复合材料包括纳米微粒与纳米微粒复合( 0- 0 复合) 、纳米微粒与常规块体复合( 0- 3复

透明导电薄膜的研究现状及应用

透明导电薄膜的研究现状及应用 李世涛乔学亮陈建国 (武汉华中科技大学模具技术国家重点实验室) 摘要:综述了当前透明导电薄膜的最新研究和应用状况,重点讨论了ITO膜的光电性能和当前的研究焦点。指出了目前需要进一步从材料选择、工艺参数制定、多层膜光学设计等方面来提高透明导电膜的综合性能,使其可见光平均透光率达到92%以上,从而满足高尖端技术的需要。 关键词:透明导电,薄膜,平均透光率,ITO,电导率 1 前言 透明导电薄膜的种类有很多,但氧化物膜占主导地位(例如ITO和AZO膜)。氧化铟锡(IndiumTinOxide简称为ITO)薄膜、氧化锌铝(Al-dopedZnO,简称AZO)膜都是重掺杂、高简并n型半导体。就电学和光学性能而言,它是具有实际应用价值的透明导电薄膜。金属氧化物透明导电薄膜(TCO:TransparentandConductiveOxide的缩写)的研究比较早,Bakdeker于1907年第一个报道了CdO透明导电薄膜。从此人们就对透明导电薄膜产生了浓厚的兴趣,因为从物理学角度看,透明导电薄膜把物质的透明性和导电性这一矛盾两面统一起来了。1950年前后出现了硬度高、化学稳定的SnO2基和综合光电性能优良的In2O3基薄膜,并制备出最早有应用价值的透明导电膜NESA(商品名)-SnO2薄膜。ZnO基薄膜在20世纪80年代开始研究得火热。TCO薄膜为晶粒尺寸数百纳米的多晶;晶粒取向单一,目前研究较多的是ITO、FTO(Sn2O:F)。1985年,TakeaOjioSizoMiyata首次用汽相聚合方法合成了导电的PPY-PVA复合膜,从而开创了导电高分子的光电领域,更重要的是他们使透明导电膜由传统的无机材料向加工性能较好的有机材料方面发展。 透明导电膜以其接近金属的导电率、可见光范围内的高透射比、红外高反射比以及其半导体特性,广泛地应用于太阳能电池、显示器、气敏元件、抗静电涂层以及半导体/绝缘体/半导体(SIS)异质结、现代战机和巡航导弹的窗口等。由于ITO薄膜材料具有优异的光电特性,因而近年来得以迅速发展,特别是在薄膜晶体管(TFT)制造、平板液晶显示(LCD)、太阳电池透明电极以及红外辐射反射镜涂层、火车飞机用玻璃除霜、建筑物幕墙玻璃等方面获得广泛应用,形成一定市场规模。 制备透明导电薄膜的方法很多:物理汽相沉积(PVD)(喷涂法、真空蒸发、磁控溅射、高密度等离子体增强(HDPE)蒸发、脉冲激光沉积(PulsedLaserDeposition,简称PLD)技术、化学汽相沉积(CVD)、原子层外延(ALE)技术、反应离子注入以及溶胶-凝胶(Sol-Gel)技术等。然而,适合于批量生产且已经形成产业的工艺,只有磁控溅射法和溶胶-凝胶法。特别是,溅射法由于具有良好的可控性和易于获得大面积均匀的薄膜,而被广泛应用于显示器件中ITO薄膜的制备。美欧和日本均在发展ITO产业,其中日本夏普、日本电气和东芝三大公司都在其工厂内开发ITO薄膜。深圳几家导电玻璃公司在进口和国产生产线上制造LCD用导电玻璃。而AZO薄膜由于其在实用上还有许多问题,现在还处于研究阶段。综上所述,ITO薄膜性能优异,制

光学薄膜的研究进展和应用

光学薄膜的研究进展和应用 【摘要】本文介绍了光学薄膜的工作原理,并对光学薄膜的传统光学领域的应用做了简要的概述。又简要说明现代光学薄膜典型应用,对光学薄膜的制备加以介绍,最后介绍了光学薄膜的发展前景。 【关键词】光学薄膜;薄膜应用;薄膜制造; 1.光学薄膜原理简述 所谓光学薄膜是指其厚度能够光的波长相比拟,其次要能对透过其上的光产生作用。具体在于其上下表面对光的反射与透射的作用。光学薄膜的定义是:涉及光在传播路径过程中,附著在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层,通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性,以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或是光的偏振分离等各特殊 形态的光。 光学薄膜的特点是:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。不同物质对光有不同的反射、吸收、透射性能,光学薄膜就是利用材料对光的这种性能,并根据实际需要制造的。 2.光学薄膜的传统应用 光学薄膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。减反射膜,是应用最广泛的光学薄膜,它可以减少光学表面的反射率而提高其透射率。对于单一波长,理论上的反射率可以降到零,透射率为100%;对于可见光谱段,反射率可以降低到0.5%,甚至更低,以保证一个由多个镜片组成的复杂系统有足够的透射率和极低的杂散光。现代光学装置没有一个是不经过减反射处理的。由于其具有极低的反射率和鲜艳的表面颜色,现代人们日常生活中的眼镜普遍都镀有减反射膜。 高反射膜,能将绝大多数入射光能量反射回去。当选用介质膜堆时,由于薄膜的损耗极低,随着膜层数的不断增加,其反射率可以不断地增加(趋近于100%)。这种高反射膜在激光器的制造和激光应用中都是必不可少的。 能量分光膜,可将入射光能量的一部分透射,另一部分反射分成两束光,最

软件体系结构的研究及应用现状与未来发展方向

软件体系结构的研究及应用现状与未来发展方向 XXX (湖北经济学院法商学院信息管理系,武汉430205) 摘要:随着软件技术的发展,软件规模的扩大、软件开发周期的缩短、软件行业分工的细致、市场竞争的激烈,软件开发商必需要快速分析并实现软件产品。当今,软件的淘汰速度是非常快的,软件设计问题也已经超越了数据结构和算法问题的范围,好的软件就应该拥有较好的扩展性、伸缩性、适应性、稳定性和重用性。为了满足用户日新月异、千变万化的需求,好的软件就必需为变化而设计。不断变化的需求、复杂的业务流程、领域知识的缺乏、许多不可避免的因素都会导致软件变化的发生,所以要确认软件中变化和不变的因素,进行分层处理。软件架构技术的出现,极大地满足了多个应用领域的要求,使得各种技术形成的软件架构可以最大程度地进行重用。同时引出了大规模软件开发所面临的一系列问题,如何建造面向对象的软件架构,并有效地组织和管理;如何分析、提取可复用的架构;如何设计适合架构的环境等。软件架构设计方法能够使软件拥有很好的重用性,扩展性和简洁性。软件架构虽脱胎于软件工程,但其形成的同时借鉴了计算机体系结构和网络体系结构中很多宝贵的思想和方法,最近几年软件架构研究已完全独立于软件工程的研究,成为计算机科学的一个最新的研究方向和独立学科分支。研究软件架构根本目的就是解决好软件的重用、质量和维护问题。关键字:软件架构设计; 软件开发; 研究软件架构; 软件工程 The Research And Development Of Characteristics of Software Architecture XXX (Dept of Information Management ,College of Law and Business of Hubei University of economics,wuhan430205) Abstract: With the development of The Technology Of Software, The expand of software size, the development cycle of software become shorten, the industry of software divide the work more and more meticulous, the market competition fiercer than before. The developer must develop their product at a high-speed. Nowadays the weed out of software become more faster, the problem of the project of software become more and more difficult. They must have good expansibility, flexibility, adaptability, stability and reuse. In order to satisfied the requirement given by the customer, the good one must be design for the changeable society. At the same time, their requirement change more difficult, more and more factor can led to the change

光学薄膜技术及其应用

光学薄膜技术及其应用 张三1409074201 摘要:介绍了传统光学薄膜的原理,根据薄膜干涉的基本原理及其特点,介绍了光学薄膜的性能、制备技术,研究了光学薄膜在的应用和今后的发展趋势。 关键词:光学薄膜、薄膜干涉、应用、薄膜制备 引言: 光学薄膜是指在光学玻璃、光学塑料、光纤、晶体等各种材料的表面上镀制一层或多层薄膜,基于薄膜内光的干涉效应来改变透射光或反射光的强度、偏振状态和相位变化的光学元件,是现代光学仪器和光学器件的重要组成部分。 光学薄膜技术的发展对促进和推动科学技术现代化和仪器微型化起着十分重要的作用,光学薄膜在各个新兴科学技术中都得到了广泛的应用。 本文在简单叙述薄膜干涉的一些相关原理的基础上,介绍了光学薄膜常见的几种制备方法,研究了光学薄膜技术的相关应用,并且展望了光学薄膜研究的广阔前景。 正文: 1.光学薄膜的原理 光学薄膜的直接理论基础是薄膜光学, 它是建立在光的干涉效应基础上的、论述光在分层介质中传播行为。一列光波照射到透明薄膜上,从膜的前、后表面或上、下表面分别反射出两列光波,这两列相干光波相遇后叠加产生干涉。该理论可以比较准确地描述光在数十微米层、纳米层甚至原子层厚的薄膜中的传播行为,由此设计出不同波长、不同性能、适应不同要求的光学薄膜元件。 2.光学薄膜的性质及功能 光学薄膜最基本的功能是反射、减反射和光谱调控。依靠反射功能, 它可以把光束按不同的要求折转到空间各个方位;依靠减反射功能,它可以将光束在元件表面或界面的损耗减少到极致, 完美地实现现代光学仪器和光学系统的设计功能;依靠它的光谱调控功能, 实现光学系统中的色度变换, 获得五彩缤纷的颜色世界。 不仅如此, 光学薄膜又是光学系统中的偏振调控、相位调控以及光电、光热和光声等功能调控元件, 光学薄膜的这些功能, 在激光技术、光电子技术、光通信技术、光显示技术和光存储技术等现代光学技术中得到充分的应用, 促进了相关技术和学科的发展。 3.传统光学薄膜和新型光学薄膜 3.1传统光学薄膜 传统的光学薄膜是以光的干涉为基础。光波是一种电磁波,根据其波长的不同可分成红外线、可见光和紫外线等,当光波投射到物体上时,有一部分在它表面上被反射,其余部分经折射进入到该物体中,其中有一部分被吸收变为热能,剩的部分透射。不同的物质对光有不同的反射、吸收、透射性能,光学薄膜就是利用材料对光的这种性能,并根据实际需要制造的。 传统光学薄膜就是利用材料的这种特性,对光线产生特异性行为。传统光学薄膜有反射膜、增透膜、滤光膜、纳米光学薄膜、偏振膜、分光膜、和位相膜等。 3.2新型光学薄膜 现代科学技术特别是激光技术和信息光学的发展,光学薄膜不仅用于纯光学器件,在光电器件、光通信器件上也得到广泛的应用。近代信息光学、光电子技术及光子技术的发展,对光学薄膜产品的长寿命、高可靠性及高强度的要求越来越高,从而发展了一系列新型光学薄膜及其制备技术,并为解决光学薄膜产业化面临的问题提供了全面的解决方案,包括高强度激光器、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜等。

膜材料技术的发展现状与市场分析_吕晓龙

膜产业现状及发展趋势 一、膜技术在水处理中的应用 随着人们日益关注水资源短缺问题,作为污水深度净化处理与回用的重要手段,由于具有高效节能等优势,微滤、超滤和反渗透技术在工业、市政及生活污水处理,微污染水处理等领域越来越得到广泛应用,尤其是近几年,膜装置数量和处理能力快速增长,如图1。 从超微滤膜的应用领域看,图2显示,国外主要用于饮用水净化处理,废水处理与再利用也占了很大比例,国内是近几年才开始将超微滤膜用于自来水厂,随着国家自来水标准的提高,超微滤膜在自来水厂的用量也将迅速增长。 二、常用超微滤膜材料 膜技术的核心是膜分离材 料,膜技术在实际应用中的最大 问题就是膜污染。膜污染控制的 途径主要从膜过滤工艺和膜材 料选择两方面考虑,本文从材 料学角度对常用的膜分离材料 做简单介绍。 现在已经开发出了多种膜分 离材料,主要分为有机与无机两 大类。 有机高分子类膜材料主要 有:纤维素衍生物类、聚砜类、 聚酰胺类、聚酰亚胺类、聚酯 类、聚烯烃类、含氟聚合物等。 无机膜材料主要有:金属及 金属氧化物类、无机陶瓷类等。 下面对常用的有机高分子膜 分离材料做简单介绍。 1、纤维素衍生物类膜材料 纤维素是资源最为丰富的天 然高分子,经化学改性成的纤维 素酯类或醚类,是研究和应用最 早的超、微滤和反渗透膜材料。 醋酸纤维素膜材料具有较好的亲 水性,从而使膜具有较高的通量 和较好的抗污染性。其缺点是: pH适用范围窄,pH=3-7;使用 温度低,耐微生物降解差,抗压 密性差等。 纤维素类膜材料的性能与 取代基团的种类和取代度密切相 关,可以通过调节取代基团的种 类和数量在一定程度上改进该类 材料及膜的性能。 最常用作膜材料的纤维素衍 生物有醋酸纤维素(CA)和三 醋酸纤维素(CTA)等。 膜材料技术的发展现状与市场分析 文 / 吕晓龙(天津工业大学生物化工研究所) 海水淡化,纳滤和低压反渗透,超滤和微滤 图1 膜分离装置应用情况图2 国外超微滤膜应用领域分布

光学薄膜现代分析测试方法

一、金相实验室 ? Leica DM/RM 光学显微镜 主要特性:用于金相显微分析,可直观检测金属材料的微观组织,如原材料缺陷、偏析、初生碳化物、脱碳层、氮化层及焊接、冷加工、铸造、锻造、热处理等等不同状态下的组织组成,从而判断材质优劣。须进行样品制备工作,最大放大倍数约1400倍。 ? Leica 体视显微镜 主要特性:1、用于观察材料的表面低倍形貌,初步判断材质缺陷; 2、观察断口的宏观断裂形貌,初步判断裂纹起源。 ?热振光模拟显微镜 ?图象分析仪 ?莱卡DM/RM 显微镜附 CCD数码照相装置 二、电子显微镜实验室 ?扫描电子显微镜(附电子探针) (JEOL JSM5200,JOEL JSM820,JEOL JSM6335) 主要特性: 1、用于断裂分析、断口的高倍显微形貌分析,如解理断裂、疲劳断裂(疲劳辉纹)、晶间断裂(氢脆、应力腐蚀、蠕变、高温回火脆性、起源于晶界的脆性物、析出物等)、侵蚀形貌、侵蚀产物分析及焊缝分析。 2、附带能谱,用于微区成分分析及较小样品的成分分析、晶体学分析,测量点阵参数/合金相、夹杂物分析、浓度梯度测定等。 3、用于金属、半导体、电子陶瓷、电容器的失效分析及材质检验、放大倍率:10X—300,000X;样品尺寸:0.1mm—10cm;分辩率:1—50nm。 ?透射电子显微镜(菲利蒲 CM-20,CM-200) 主要特性: 1、需进行试样制备为金属薄膜,试样厚度须<200nm。用于薄膜表面科学分析,带能谱,可进行化学成分分析。 2、有三种衍射花样:斑点花样、菊池线花样、会聚束花样。斑点花样用于确定第二相、孪晶、有序化、调幅结构、取向关系、成象衍射条件。菊池线花样用于衬度分析、结构分析、相变分析以及晶体精确取向、布拉格位移矢量、电子波长测定。会聚束花样用于测定晶体试样厚度、强度分布、取向、点群、空间群及晶体缺陷。 三、X射线衍射实验室 ? XRD-Siemens500—X射线衍射仪 主要特性: 1、专用于测定粉末样品的晶体结构(如密排六方,体心立方,面心立方等),晶型,点阵类型,晶面指数,衍射角,布拉格位移矢量,已及用于各组成相的含量及类型的测定。测试时间约需1小时。 2、可升温(加热)使用。 ? XRD-Philips X’Pert MRD—X射线衍射仪 主要特性: 1、分辨率衍射仪,主要用于材料科学的研究工作,如半导体材料等,其重现性精度达万分之一度。 2、具备物相分析(定性、定量、物相晶粒度测定;点阵参数测定),残余应力及织构的测定;薄膜物相鉴定、薄膜厚度、粗糙度测定;非平整样品物相分析、小角度散射分析等功能。 3、用于快速定性定量测定各类材料(包括金属、陶瓷、半导体材料)的化学成分组成及元素含量。如:Si、P、S 、Mn、Cr、Mo、Ni、V、Fe、Co、W等等,精确度为0.1%。 4、同时可观察样品的显微形貌,进行显微选区成分分析。

国内PVD技术应用与研究现状

国内PVD技术应用与研究现状 作者:四川大学梁红樱赵海波来源:《工具技术》 1 引言 当前,制造业已发生了革命性的转变,以数控机床为基础的现代制造技术正朝着高速、干式切削加工的方向迈进。在该领域中,切削刀具制造技术的发展至关重要。由于刀具涂层技术可大幅度地提高切削刀具的综合性能,尤其是近年来超硬薄膜设计概念的提出,在理论上可有效地改善刀具的高温性能,使涂层刀具应用于高速、干式切削加工成为可能。在数控机床日益普及,现代先进制造技术概念逐渐形成及国家大力推进节能、环保制造模式的影响下,自2000年起,国内刀具涂层技术掀起了第二次发展热潮,发展的重点为各类PVD技术。大专院校以设计、表征超硬薄膜为主要研究方向,而社会兴办刀具涂层加工服务中心则成为国内刀具涂层业发展的主流。尽管国内刀具涂层技术水平依然落后,但应用市场的普及性及需求量已远远超出预计结果。因此,高水平、稳定的刀具涂层技术是国内工具行业极其渴望的,如果国内能开发出相应的原创技术,则短期内可在国内形成广泛的刀具涂层加工服务体系,并会带来巨大的社会经济效益。 2 国内商业应用PVD技术概况 国内PVD涂层技术的研发工作始于八十年代初,八十年代中期研制

成功中小型空心阴极离子镀膜机及高速钢刀具TiN涂层工艺技术。由于对刀具涂层市场前景的看好,国内引进了热阴极离子镀及阴极电弧(多弧)离子镀技术与装备。技术及装备的引进摧动了国内刀具PVD 涂层技术的第一次开发热潮,国内各大真空设备厂及科研单位纷纷展开了离子镀膜机的研制工作,并于九十年代初开发出多种PVD设备。但由于大多数的设备性能指标低,涂层工艺稳定性差,预期的市场效益未能实现,从而导致了近十多年国内刀具PVD涂层技术处于徘徊不前的局面。尽管九十年代末国内成功开发出了硬质合金TiN-TiCN-TiN多元复合涂层工艺技术,并达到了实用水平,但在随后的发展过程中也并未得到市场认可。随着我国汽车工业的迅速崛起、先进制造技术的大量引进及数控加工技术大面积的普及,自本世纪初,PVD技术在国内掀起了第二次开发热潮。与九十年代不同,目前国内PVD技术的发展更具多元性及创新性,归纳起来有以下几种类型: ①阴极电弧法(Cathode Arc Deposition )国内已由小圆型阴极电弧技术发展到大面积阴极电弧技术及柱型靶阴极电弧技术,主要用于TiAlN等薄膜的制备。 ②热阴极法(Hot Cathode Plating )源于Balzers的技术,主要用于TiN等薄膜的制备。

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