连续快速常压化学气相沉积法制备TiO_2自清洁镀膜玻璃
化学气相沉积法制备tib2涂层工艺的研究
化学气相沉积法制备tib2涂层工艺的研究本文旨在研究利用化学气相沉积法制备TIB2涂层工艺。
首先，通过系统分析了TIB2涂层的制备工艺，其包括溅射前的基体处理、溅射、处理和检测。
其次，采用化学气相沉积法搭建了TIB2涂层的生产线，并进行了系统的操作研究。
针对TIB2涂层制备工艺中涉及的各个步骤：基体表面处理，主要采用酸洗、研磨、热处理、氧化等工艺。
溅射过程中，采用了化学气相沉积法制备TIB2涂层，该法可以精确控制反应过程，从而实现TIB2涂层的稳定生长。
在处理步骤中，采用低温气相工艺将TIB2涂层进行了压实，以达到改善TIB2涂层的机械性能的目的。
最后，采用X射线衍射分析仪对TIB2涂层进行了详细的检测，以确定TIB2涂层的物性结构和各项机械性能指标。
以上是利用化学气相沉积法制备TIB2涂层的具体工艺。
实验结果表明，利用该工艺制备的TIB2涂层不仅物性结构接近理想，而且各项机械性能指标也达到了良好的水平。
优雅的外观、贴合性能好、冲击强度高等，使其在各种应用中有很大的发挥空间，比如在航空航天、电子与机械等领域。
经过以上分析，可以得出结论：利用化学气相沉积法制备TIB2涂层工艺，能够有效控制反应过程，稳定生长涂层，而且该涂层的机械性能指标也达到了良好的水平。
因此，TIB2涂层可以广泛应用于航空航天、电子与机械等领域。
本研究并不能完全解决TIB2涂层制备工艺中的所有问题，但它为制备TIB2涂层提供了一个参考框架，同时也让我们对TIB2涂层制备工艺有了一个更加深入的了解，从而为进一步改善TIB2涂层提供参考。
总之，化学气相沉积法制备TIB2涂层的研究有助于改善TIB2涂层的机械性能，实现TIB2涂层的广泛应用，从而有效提高技术水平，提高产品的质量。
TiO2的制备方法综述
纳米TiO2的制备方法综述纳米二氧化钛是一种新型的无机材料,粒径在10nm～50nm，具有粒径小、比表面积大、磁性强、光催化、吸收性能好,吸收紫外线能力强 ,表面活性大、热导性好、分散性好、所制悬浮液稳定、对人体无毒、价格低廉等优点，故其在诸多半导体光催化剂中脱颖而出，应用领域至今已遍及有机废水的降解、重金属离子的还原、空气净化、杀菌、防雾等众多方面。
由于其独特的性能和广泛的用途 , 纳米二氧化钛受到了国内外科学界的高度重视。
目前，纳米二氧化钛的制备根据反应物的相态，可以分为固相法、气相法和液相法，其中液相法是比较常用的一种制备方法固相法合成纳米二氧化钛是利用热分解或固相—固相的变化来进行的。
基础的固相法是钛或钛的氧化物按一定的比例充分混合 ,研磨后进行煅烧 ,通过发生固相反应直接制得纳米TiO2粉体 ,或者是再次粉碎得到TiO2纳米粉体。
固相法主要包括热分解法，固相反应法，火花放电法等。
固相法的主要优点是：经济，工艺过程和设备简单，但是耗能较大；由于固相反应反应不充分，因此产物的纯度不能得到很好的保证；此外由于固相法一般需要高温煅烧，得到的产物一般粒度大且分布不均匀。
因此，固相法只适用于对产品纯度和粒度要求不高的情况。
气相法指直接利用气体或者通过各种手段将物质变为气体 ,使之在气体状态下发生物理或化学反应 , 最后在冷却过程中凝聚长大形成纳米TiO2的方法。
用气相法制备的二氧化钛纳米粒子具有粒度细、化学活性高、粒子呈球形、单分散性好、凝聚粒子少、可见光透过性好、吸收紫外线的能力强等特点，易于工业放大，实现连续生产。
目前常见的方法有气相合成法和气相沉积法。
气相合成法是一种传统的方法。
其生产原理如下：Ti+2Cl2=TiCl4TiCl4+2H2+O2=TiO2+4HCl↑与其他方法相比，气相氢氧焰水解法[1]有以下优点：原料TiCl4获得容易，产品无需粉碎，生成的例子凝聚少，纯度高，粒度小，且粒度分布均匀。
沉积法制备纳米TiO2薄膜
10.3969/j.i s s n.1008-5548.2013.03.004沉积法制备纳米Ti O2薄膜谢洪勇马长文邴乃慈孙志国上海第二工业大学城市建设与环境工程学院，上海201209摘要：利用T i O2胶体在石英玻璃表面沉积制备T i O2薄膜，用分光光度计测量Ti O2薄膜的吸光度，研究沉积时间、Ti O2胶体浓度、镀膜次数对Ti O2薄膜的沉积吸附过程和等效膜厚的影响，讨论纳米Ti O2沉积吸附的类型。
结果表明，最大等效膜厚随着Ti O2胶体浓度的增大而增加；最佳镀膜次数与T i O2胶体浓度无关，随着沉积时间的延长而减少；用气体吸附的B.E.T.和L angm ui r吸附理论分析的纳米T i O2在石英玻璃上的沉积过程与实验结果相符。
纳米Ti O2；沉降法；薄膜；等效膜厚,沉积模型O648.1A1008-5548(2013)03-0014-04Pr e pa r at i on of N a no-Ti O2T hi n Fi l m bySendi m e nt at i on M et hodX I E H ongyong M A C hangw enBI NG N ai c i SU N Zhi guoSchool of U r ban D evel opm ent and Envi ronm ent al E ngi neeri ng,Sha nghai S e cond P ol yt ec hni c U ni ver si t y,S hanghai201209,C hi naA bs t r ac t:N a no-T i O2t hi n f i l m w a s pr e par ed by T i O2col l oi d on qua r t zgl as s s urf ace by deposi t i on m et hod.The ef f ect of Ti O2col l oi dco nce nt r at i on,s edi m en t a t i o n t i m e,a nd nu m be r o f l a yer s on t he ef f ec t i vef i l m t hi c kness and s edi m e nt a t i on behavi or w as i nve st i gat ed.D eposi t i onad sor pt i on t y pes of T i O2na no-par t i c l e s wer e di scus sed.T he r esul t s showt h at t he m a xi m um ef f ec t i ve f i l m t hi c kn ess i n cr e ases w i t h t he i ncr eas e ofT i O2col l oi d conc ent r at i on.T he opt i m um c oat i ng t i m e s have no c onc er nw i t h T i O2col l oi d conc e nt r a t i on,w hi c h dec r ea se w i t h pr ol ongat e ofse di m e nt a t i on t i m e.T he s edi m ent at i on of Ti O2nano-pa r t i cl e s on qua r t zgl a ss a nal yz e d by t he gas a dsor pt i on t he or y of B.E.T.a nd L a ngm ui ri s ot he r m a l a dsor pt i on conf or m s t o exper i m ent al r e sul t s.Key w o r ds:Ti O2na no-pa r t i cl e;s edi m en t at i on;t hi n f i l m;ef f ect i ve f i l mt hi cknes s;sedi m e nt a t i on m odel2012-12-042012-12-18基金项目：上海市教委创新项目，编号：07Z Z180；上海市教委重点学科建设项目，编号：J51803。
二氧化钛薄膜制备方法
二氧化钛薄膜制备方法二氧化钛薄膜，这可真是个神奇的东西呀！它在好多领域都有着重要的应用呢。
那怎么制备二氧化钛薄膜呢？且听我慢慢道来。
先来说说溶胶-凝胶法吧。
这就好像是在搭积木一样，把各种材料巧妙地组合在一起。
先准备好钛的化合物作为原料，然后通过一系列的化学反应，让它变成溶胶状态，就像是把一堆零散的积木变成了有粘性的一团。
接着把这团溶胶涂到基底上，再经过干燥、热处理等步骤，哇塞，二氧化钛薄膜就慢慢形成啦！你说神奇不神奇？还有化学气相沉积法呢。
这就好像是一场魔法表演，让气体在特定的条件下发生奇妙的变化。
把含有钛的气体引入到反应室中，在高温等条件的作用下，这些气体会慢慢沉积在基底上，逐渐形成那薄薄的二氧化钛薄膜。
就好像是魔术师轻轻挥动手中的魔法棒，奇迹就出现啦！水热法也很不错哟！把含钛的化合物和水放在一个特殊的容器里，就像是把食材放进了高压锅，然后在合适的温度和压力下，让它们发生反应。
经过一段时间后，打开容器，嘿，二氧化钛薄膜就在里面啦！是不是很有意思呀？物理气相沉积法也值得一提呢。
就好像是在打造一件精美的工艺品，通过各种物理手段，把钛的材料一层一层地沉积到基底上。
这个过程需要精细的控制和操作，稍有不慎可能就会影响薄膜的质量哦，是不是很有挑战性？那我们在制备二氧化钛薄膜的时候要注意些什么呢？比如说要控制好各种参数呀，温度呀、浓度呀、时间呀等等，这可都关系到薄膜的性能呢。
就好像做饭一样，火候、调料的多少都得把握好，不然做出来的菜可就不好吃啦！再比如说要选择合适的基底材料呀，不同的基底可能会对薄膜的生长和性能产生不同的影响呢。
这就好比是给一件衣服选择合适的布料，合适的布料才能让衣服更加漂亮、舒适呀！还有呀，在制备过程中一定要有耐心，不能急于求成。
毕竟这是一个精细的活儿，就像绣花一样，得一针一线慢慢来。
你想想，要是着急忙慌地弄，能做出好的二氧化钛薄膜吗？总之呢，二氧化钛薄膜的制备方法有好多种，每种方法都有它的特点和优势。
常压化学气相沉积法制备氟掺杂TiO_2自清洁薄膜
硅酸盐学报· 58 ·2010年常压化学气相沉积法制备氟掺杂TiO2自清洁薄膜宋晨路1，刘军波2，翁伟浩1，翁文剑1(1. 浙江大学材料科学与工程学系，杭州 310027；2. 杭州蓝星新材料技术有限公司，杭州 310012)摘要：以四异丙醇钛[Ti(OC3H7)4，TTIP]和三氟乙醇(CF3CH2OH，TFE)为前驱体，采用常压化学气相沉积制备了氟(F)掺杂TiO2自清洁薄膜。
通过扫描电镜、X射线衍射、紫外–可见透射光谱等手段对样品进行分析，研究了前驱体TFE的流量与薄膜性能之间的关系。
结果表明：前驱体TFE的引入会在TiO2中掺入F并抑制薄膜中锐钛矿相的形成。
光催化性能和亲水性能测试表明，沉积F掺杂TiO2薄膜的最佳TFE流量为5.94L/min。
关键词：二氧化钛；氟；掺杂；常压化学气相沉积；自清洁中图分类号：TB321，TG146.4 文献标志码：A 文章编号：0454–5648(2010)01–0058–06PREPARATION OF FLUORINE-DOPED TITANIA SELF-CLEANING FILMS BY ATMOSPHERICPRESSURE CHEMICAL V APOR DEPOSITIONSONG Chenlu1，LIU Junbo2，WENG Weihao1，WENG Wenjian1(1. Department of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027; 2. Hangzhou Bluestar NewMaterials Technology Co. Ltd., Hangzhou 310012, China)Abstract: A fluorine (F)-doped titania (TiO2)-based film on glass for self-cleaning purposes was prepared using Ti(OC3H7)4 and CF3CH2OH (TFE) as precursors by an atmospheric pressure chemical vapor deposition method. The effect of the TFE flow rate on the properties of the films was analyzed by scanning electron microscope, X-ray diffractometer and ultraviolet visible transmission spec-trum. The results show that F can be doped into the TiO2 films, and the formation of anatase phase is suppressed by adding the TFE. The optimal TFE flow rate is 5.94L/min.Key words: titania; fluorine doping; atmospheric pressure chemical vapor deposition; self-cleaning近些年，TiO2因其出色的光催化性和亲水性以及化学性质稳定，无毒，价格低廉等优点而在光催化领域显示出巨大的应用前景。
TiO2自洁玻璃制备及其应用
ห้องสมุดไป่ตู้２０ 年 ３ ０７ 月
电 镀 与 精 饰
第 ２ 卷第 ２ 总 １３ ・ ３・ ９ 期（ ７ 期） ２
文章 编号 ：０ １３ ４ （０ ７ ０ — ０ ３ ０ １ ０ — ８ ９ ２ ０ ） ２０ ２ — ４
Ｔ Ｏ２自洁 玻 璃 制备 及 其 应 用 ｉ
Ｔ０ ｉ 薄膜 的研 究现状 ， 制备 Ｔ ０ 对 ｉ 薄膜 的各种 化 学和物 理 方法进 行 了综述 ， 对其 优 缺 点进行 了比
较 ， 阐述 了 自洁玻璃 的应 用领 域 。 并
关 键 词 ： ｉ 薄膜 ；光催 化 ；亲水 亲油性 ；自洁玻 璃 Ｔ０
中图分 类号 ： Ｑ４ ６ Ｔ ２ 文 献标识 码 ： Ａ
差 异 。 文对 近年 来各 种 Ｔ Ｏ 薄 膜 制备方 法 的研究 本 ｉ
进 展及 其 优 缺点 进 行 了介 绍 和 比较 ， 简 要 阐述 其 并 应用 领域 。
性能 ， 长期 以来受 到人 们 的关注 。 薄膜材 料 在紫外 其
光照射 下 ， 产生 活泼 自由基 ， 能 自由基 能分 解 有机化
引 言
Ｔｉ ０ 薄 膜 光 催 化 剂 由 于 其 较 宽 的 禁 带 宽 度 （． Ｖ） 高 的折 射率 和 机械 强 度 以及 稳 定 的化学 ３ ２ｅ 、
膜法、 电沉积 法 、 微弧 氧化 法等 。采 用不 同的工 艺方 法 或 工艺 参 数制 备 的二 氧化 钛 成 分 、 构 等 均 有所 结
合物 ， 具有杀 菌 和 自清 洁等 作用 ， 在众 多领 域 中具 有
广泛 的应 用前 景 。Ｔｉ 膜 的制备 方 法很 多 ， Ｏ 薄 主要 有溶 胶一 胶 法 、 相沉 积 法 、 驱 物 结 晶 体 升华 成 凝 液 前
常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性
硅酸盐学报· 64 ·2010年常压化学气相沉积法制备二氧化钛薄膜的沉积工艺及薄膜均匀性庞世红1，王承遇2，马眷荣1，马振珠1(1. 中国建筑材料科学研究总院，北京 100024；2. 大连工业大学，辽宁大连 116034)摘要：利用常压化学气相沉积法在浮法玻璃表面制备了二氧化钛薄膜。
研究了水蒸气、氧气含量和衬底温度以及反应器与衬底的距离对薄膜制备过程中沉积速率的影响。
结果表明：当水蒸气质量浓度为50mg/L。
氧气含量为总气体流量的8%时，薄膜的沉积速率可达30nm/s，随着衬底温度从300℃升到600℃，薄膜的沉积速率从15nm/s增加到30nm/s；然而随着反应器与衬底的距离从2mm增加到12mm，薄膜的沉积速率从30nm/s降到10nm/s，但大面积薄膜层的厚度差从10nm降低到2nm，薄膜比较均匀。
关键词：常压化学气相沉积；二氧化钛；沉积速率；薄膜均匀性中图分类号：TB321；TG146.4 文献标志码：A 文章编号：0454–5648(2010)01–0064–04DEPOSITION PROCESS AND UNIFORMITY OF TITANIUM DIOXIDE FILM PREPAREDBY ATMOSPHERE CHEMICAL V APOR DEPOSITIONP ANG Shihong1,2，WANG Chengyu2，MA Juanrong1，MA Zhenzhu1(1. China Building Materials Academy, Beijing 100024; 2. Dalian Polytechnic University, Dalian 116034, Liaoning, China)Abstract: Titanium dioxide film was deposited on a float glass surface by an atmosphere chemical vapor deposition method. The effects of the water vapor, oxygen concentration, substrate temperature and the distance between the reactor and the substrate on the deposition rate were investigated. It is indicated that the deposition rate can be achieved up to a maximum value of 30nm/s when the water vapor concentration is 50mg/L and the oxygen flux is 8% of the total gas flow. The deposition rate can be enhanced from 15to 30nm/s when the substrate temperature is increased from 300℃ to 600℃. Furthermore, when the distance between reactor and substrate is increased from 2to 12mm, the deposition rate is declined from 30 to 10nm/s, and the thickness difference of large film is decreased from 10 to 2nm, indicating the improvement of the uniformity of film .Key words: atmosphere chemical vapor deposition; titanium dioxide; deposition rate; uniformity of film光催化技术是当今材料科学研究的热点，其应用范围十分广泛，如：防污处理、[1]空气净化、[2]太阳能利用、[3–4]抗菌、防雾和自清洁功能等。
【精品文章】纳米TiO2薄膜使玻璃实现“自清洁”功能
纳米TiO2薄膜使玻璃实现“自清洁”功能
生活中，我们经常会碰到各种由玻璃组成的物件，比如女生最常用的梳妆台，家里的窗户，汽车上的车窗，甚至是那些高楼大厦，外围的幕墙都是由玻璃组成。
由于玻璃表面光滑，自然界的油性物质易结合灰尘粘附在其表面，所以玻璃表面很容易存在污渍，且单纯的水流无法清除干净。
每当大扫除要清洗窗户的时候，如何快速、有效地把玻璃表面的污渍去掉，便是人们最大的烦恼，更不用提那一栋栋高楼大厦，满满的幕墙玻璃清洗起来更是一个巨大的工程。
所以，为了解决这个问题，自洁玻璃应势而生。
建筑物的外墙护围（幕墙）
据全球自洁玻璃市场报告显示，全球自洁玻璃市场规模已从2014年的8360万美元增长到2017年的9490万美元。
预计到2025年全球自洁玻璃市值预计将达1.347亿美元，市场年增长率将超过4.60%，可见，自洁净玻璃存在着巨大的市场潜力。
一．自洁玻璃的介绍
自洁玻璃，指自身带有清洁功能的玻璃，通过对普通玻璃表面涂镀纳米半导体材料，使玻璃表面在太阳光激发下具有降解附着在其表面的有机污染物的能力。
其中作为一类最重要的纳米半导体材料，使普通玻璃具有自清洁功能的就是二氧化钛。
由于二氧化钛在（紫外线）光能的作用下能够产生良好的光催化特性和超亲水性，将有机物最终氧化成CO2和H2O等无机小分子，再利用其超亲水特性，雨水在膜层上铺开，充分冲刷玻璃带走污染颗粒，从而使玻璃达到自洁的效果。
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真 空 科 学 与 技 术 学 报
第 28 卷
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第1期
翁伟浩等 : 连续快速常压化学气相沉积法制备 TiO2 自清洁镀膜玻璃
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翁伟浩 宋晨路 翁文剑 3 刘军波 应益明 韩高荣
( 浙江大学材料科学与工程学系 杭州 310027)
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第1期
翁伟浩等 : 连续快速常压化学气相沉积法制备 TiO2 自清洁镀膜玻璃
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真 空 科 学 与 技 术 学 报
真 空 科 学 与 技 术 学 报 第 28 卷 1 期 第 16 CHINESE JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 2008 年 1 、 月 2
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