HDI板制作的基本流程课件(PPT 50张)

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HDI板和两阶叠孔工艺工程制作培训PPT课件

HDI板和两阶叠孔工艺工程制作培训PPT课件

HDI的基本定义
HDI积层多层板的基本特点: 1、微导通孔(包括由激光钻或者机械钻形成的盲孔、埋孔) 的孔径≤Φ0.15mm,孔环≤0.35mm 2、线宽/间距≤4mil 3、布线密度超过117in/in2 4、一般焊盘密度>130点/in2
• 目前国际上尚无非常明确的术语定义
HDI的应用领域
1、手机 2、PDA 3、蓝牙耳机 4、数码相机 5、数码摄像机 6、车载导航仪
五、叠层结构的常见类型
目前公司制作的激光钻孔结构类型有:1+N+1 1+1+N+1+1 2+N+2 3种结构类型。
激光钻孔结构说明如下: 1: 表示激光钻孔钻穿1层阶质层,如图1,激光钻孔1-2和3-4就表示1 ; 2: 表示激光钻孔钻穿2层阶质层,如图3,激光钻孔1-3和5-7就表示2 ; 1+1: 表示激光钻孔也是钻穿1层阶质层,不同的是,分两次层压,第一次层压时
具体见附图2!
激光钻孔板边钻孔说明图1
芯板钻孔板边钻孔说明图2
5、对于1+1+n+1+1结构的激光钻孔,程序跑出的内层激光钻孔层和内层芯板钻孔层板边的管位
孔有误,需手动更改。 例如,如下的8层板,2-7层有机械盲孔,1-2和2-3都为激光钻孔, 那么2-3层的激光钻孔和2-3的芯板钻孔的管位孔应与2-7层埋孔的管位孔相同,但程序跑出 来却与通过的管位孔相同(黄框标识),需要手动将2-3层的激光钻孔和2-3层芯板钻孔层的 管位孔手动更改成与其相对应的2-7层埋孔的管位孔(红框标识)。
二、线路的制作
1.激光钻孔对应的焊盘最少3mil,间距不足时 可以削焊盘 保证至少2.5mil。
2.激光钻孔到导体的间距保证6mil. 3.激光钻孔通过的每层对应都必须有焊盘,保证激光

HDI板加工流程图课件(共65页)

HDI板加工流程图课件(共65页)


7诗的首联写了暮春时节送别友人时的 情景, 其中既 有对自 然景物 的点染 描绘, 也有对 友人深 情厚谊 的直接 表达, 景中有 情,情 中有景 ,二者 是融合 在一起 的。
Laser去黑膜后板
防焊前處理
防焊噴塗
防焊曝光機
曝光后板子
顯影線
顯影后板子
防焊后烘烤箱
選化制作-前處理
選化制作-壓膜
選化制作-曝光
選化制作-顯影
選化制作-化金
化金去膜后成型前
成型
成型后
電性測試
最終檢驗
OSP
包裝前
包裝后
裝箱后

1至夜半时分,昙花盛开时舒展的花瓣 已完整 地收拢 ,重新 闭合成 一枝橄 榄形的 花苞。 很多天 以后我 拿到了 那天晚 上留下 的摄影 照片, 它在开 花前和 开花后 的模样 ,几乎 没有什 么不同 。
聯能科技H.D.I(1+4+1)疊構之制作流程圖
製作流程
作業內容 及目的
裁板
把基板裁成適用 之大小尺寸,以利
后制程加工
埋塞
用油墨塞滿孔壁,以 增強孔壁之信賴性.
埋鍍
表面鍍銅,使 L2/L5層能導通
內鑽
在基板上鑽孔, 以方便后續加工
(對位及檢修)
埋鑽
作為L2/L5層與 層導通之通道
內層
L3/L4內層線及 圖樣之制作
一壓
使用補強材料以 使上,下增層成為
四層板
內層二
L2/L5層線路及 圖樣之制作
二壓
使用補強材料,以 使上,下增層成為
六層板
MASK
在銅面上開出孔 型,以利Laser打
孔加工!.
LASER

HDI制作流程讲义(PPT 90张)

HDI制作流程讲义(PPT 90张)

2019/2/28
P8
2.2.製前設計流程:
2.2.1客戶必須提供的資料:
電子廠或裝配工廠,委託PWB SHOP生產空板(Bare Board)時, 必須提供下列資料以供製作。見表料號資料表-供製前設計使用. 上表資料是必備項目,有時客戶會提供一片樣品,一份零件圖,一份 保證書(保證製程中使用之原物料、耗料等不含某些有毒物質)等。
ODB++是一種雙向格式,允許數據上行和下傳。數據庫類似於大多數 CAD系統的數據庫。一旦數據以ASCII形式到達電路板車間,生產者就 可實施增值的流程作業,如蝕刻補償、面板成像及輸出鑽孔、佈線和照 相等。
2019/2/28
P12
b. 設計時的Check list
依據check list審查後,當可知道該製作料號可能的良率以及 成本的預估。 c. Working Panel排版注意事項: - 排版的尺寸選擇將影響該料號的獲利率。因為基板是主要原 料成本(排版最佳化,可減少板材浪費);而適當排版可提 高生產力並降低不良率。 一般製作成本,直、間接原物料約佔總成本30~60%,包含了基板、膠 片、銅箔、防焊、乾膜、鑽頭、重金屬(銅、鍚、鉛、金),化學耗 品等。而這些原物料的耗用,直接和排版尺寸恰當與否有關係。大部 份電子廠做線路Layout時,會做連片設計,以使裝配時能有最高的生 產力。因此,PWB工廠之製前設計人員,應和客戶密切溝通,以使連片 Layout的尺寸能在排版成工作PANEL時可有最佳的利用率。要計算最恰 當的排版,須考慮以下幾個因素。
B.鑽孔圖: 此圖通常標示孔位及孔號. C.連片工程圖: 包含每一小片的位置,尺寸,折斷邊,工具孔相關 規格,特殊符號以及特定製作流程和容差.
D.疊合結構圖: 包含各導體層,絕緣層厚度,阻抗要求,總厚度等. 3.底片資料 (Artwork Data) 4.Aperture List 5.鑽孔資料 6.鑽孔工具檔 list資料 8.製作規範 A:線路層 B:防焊層 C:文字層 定義:各種pad的形狀,一些特別的如thermal pad 並須特別定義construction方法. 定義:A:孔位置, B:孔號, C:PTH & NPTH D: 盲孔或埋孔層 定義:A:孔徑, B:電鍍狀態, C:盲埋孔 D: 檔名 定義線路的連通 1.指明依據之國際規格,如IPC,MIL 2.客戶自己PWB進料規範 3.特殊產品必須meet的規格如PCMCIA

PCBHDI培训课件

PCBHDI培训课件

PCBHDI未来发展的挑战
要点一
新材料和新工艺的研 发
为了满足PCBHDI未来的发展趋势和 需求,需要不断研发新的材料和工艺 ,以提高其性能和降低成本。
要点二
制造成本的降低
PCBHDI未来的应用领域越来越广泛 ,需要制造成本降低以更好地推广其 应用。
要点三
环境保护和可持续发 展
PCBHDI的生产过程中会产生大量废 弃物,需要考虑环保和可持续发展的 需求,减少对环境的负面影响。
THANKS
谢谢您的观看
利用相关软件进行信号仿 真,验证电路功能和信号 完整性,并根据仿真结果 调整电路参数。
对制作好的PCBHDI进行测 试和调试,确保其性能和 质量符合设计要求。
PCBHDI制作步骤中的常见问题
元器件选型不当
可能导致电路性能不稳定或故障。
PCB布局不合理
可能影响信号质量和电路性能,甚 至导致短路或断路等故障。
制造工艺
PTH采用激光打孔和电镀工艺 ,PCBHDI采用化学腐蚀和电 镀工艺,两者在制造工艺上有
一定差异。
孔径和间距
PCBHDI的孔径和间距更大,有利 于提高信号传输质量和降低成本 。
适用范围
PTH适用于高集成度和高性能的电 子产品,PCBHDI适用于中低端的 电子产品。
PCBHDI与混合信号技术的比较
PCBHDI制作步骤详解
01
前期准备
02
原理图设计
03
PCB布局
04
信号仿真
05
后期调试
明确电路功能需求,准备 相关资料和工具,并对新 元件进行了解和选型。
使用相关软件绘制电路原 理图,明确各个元件的连 接关系,并完成必要的注 释和标注。

HDI板工艺流程介绍PPT课件

HDI板工艺流程介绍PPT课件
1
HDI板结构(一阶盲孔)
一阶盲孔:导通外层与次外层的盲孔
1+2+1 (4Layers)
有盲孔及通孔,无埋孔
有盲孔,埋孔及通孔
2
1+4+1 HDI板结构(一阶盲孔) (6Layers)
. 有盲孔及通孔,无埋孔
有盲孔,埋孔及通孔
3
1+6+1 HDI板结构(一阶盲孔) (8Layers)
有盲孔及通孔,无埋孔
21. 綠漆顯影 Develop
S/M A/W
注意事项: 1.SMD pad间距<8mil处以整体开窗制作,否则无法保证SMDpad间下墨! 2.防焊覆线单边2mil(min)
44
表面பைடு நூலகம்理:
22. Surface Finish (Electroless Ni/Au , OSP……)
45
印文字:
印文字(Legend)
12. 外層壓膜 Dry Film Lamination (Outer layer)
Photo Resist
20
曝光:
13. 外層曝光 Expose
21
显影:
14. 外層顯影 Develop
22
去膜:
16. 去乾膜
23
蚀刻:
17. 蝕刻 Etch---去膜---AOI检查---棕化
24
外层压合:
L1 L2
L3 L4
通孔
外层线路 内层线路
外层线路
9
HDI工艺制作流程简介
下料---裁板---烘烤---化学前处理
1.內層基板 (THIN CORE)
裁板(Panel Size)
Core Copper Foil

HDI 板培训教材ppt课件

HDI 板培训教材ppt课件

成熟。 1.1 RCC简介 RCC是由表面经粗化、耐热、防氧化等处理的铜箔和B阶段树脂组
成的,其结构如图1所示:铜箔(9-18μm)树脂层(60-100μm)图一:涂树 脂铜箔的结构 RCC的树脂层,
应具备与FR-4粘结片(Prepreg)相同的工艺性。此外还要满足积层法多层板的有关性能要求,如:
(1)高绝缘可靠性和微导通孔可靠性; (2)高玻璃化转变温度(Tg); (3)低介电常数和低吸水率;
.
HDI 板中常用名词解释
• HDI (High density interconnection)
• BUM( Buried-up multilayer)
• 通孔(Through Holes) • VIA 导通孔(micro-Via holes) • 盲孔(Blind Vias) • 埋孔(Buried Vias) • PTH 孔(Plating Through Holes) • 插件孔(Assembly Holes) • N-PTH 孔(Non-plating
模生产都适用,在国内市场具有广阔的发展前景。
.
印制板表面镀(涂)工艺
一、印制板表面镀(涂)方法:a、电镀法。b、化学镀。 二、印制板表面镀层常见元素: a、镍,元素符号Ni,原子量58.7,密度8.88g/cm3,Ni2+的电化当量1.095g/AH。 b、金,元素符号Au,原子量197,密度19.32g/cm3,Au+的电化当量0.1226g/A·m。 c、锡,元素符号Sn,原子量118.69。 d、银,元素符号Ag,原子量107.88。 e、钯,元素符号Pd,原子量106.4。 三、镀层概述: a、镍:用于印制板的镍镀层分为半光亮镍(又称低应力镍或哑镍)和光亮镍两种。主要作为板面镀金或插头镀金的底 层,根据需要也可作为面层,镀层厚度按照IPC-6012(1996)标准规不低于2~2.5 μm。镍镀层应具有均匀细致,孔 隙率低,延展性好等特点,而且低应力镍应具有宜于钎焊或压焊的功能。 b、金:用于印制板生产的镀金层分为两类;板面镀金和插头镀金。 1)板面镀金:板面镀金层是24K纯金,具有柱状结构,它有极好的导电性和可焊性。镀层厚度0.01~0.05μm。 板面镀金层是以低应力镍或光亮镍为底层,镍镀层厚度3-51xm,镍镀层作为中间层起着金、铜之间的阻挡层的作用, 它可以阻止金铜间的相互扩散和阻碍铜穿透到金表面。镍层存在相当于提高了金镀层的硬度。 板面镀金层既是碱性蚀刻的保护层,也是有IC铝线压焊和按键式印制板的最终表面镀层。 2)插头镀金:插头镀金也称镀硬金,俗称"金手指"。它是含有Co、Ni、Fe、Sb等合金元素的合金镀层,它的硬度、耐 磨性都高于纯金镀层。硬金镀层具有层状结构。用于印制板的插头镀金层一般0.5~1.5μm或更厚。合金元素含量 ≤0.2%。插头镀金用于高稳定、高可靠的电接触的连接;对镀层厚度、耐磨、孔隙率均有要求。 硬金镀层以低应力镍为阻挡层,防止金铜之间的相互扩散。为了提高硬金镀层的结合力和减少孔隙率,也为了保护镀 液减少污染,在镍层和硬金层之间需镀以0.02~0.05p,m的纯金层。 c、锡:PCB裸铜板化学镀锡也是近年来受到普遍重视的可焊性镀层。 铜基体上化学镀锡从本质上讲是化学浸锡,是铜与镀液中的络合锡离子发生置换反应,生成锡镀层,当铜表面被锡完 全覆盖,反应即停止。 d、银:化学镀银层既可以锡焊又可"邦定"(压焊),因而受到普遍重视。化学镀银层其本质也是浸银,铜的标准电极电 位0Cu+/Cu=0.51 V,银的标准电极电位0Ag+/Ag=0.799 V,故而铜可以置换溶液中的银离子而在铜表面生成 沉积银层:Ag++Cu→Cu++Ag为控制反应速度,溶液中的Ag+会以络离子状态存在,当铜表面被完全覆盖或溶液中 Cu达到一定浓度,反应即告结束。 e、钯:化学镀Pd是PCB板上理想的铜、镍保护层,它既可焊接又可"邦定"。它可直接镀在铜上,而且因为Pd具有自催 化能力,镀层可以长厚。其厚度可达0.08~0.2μm,它也可以镀在化学镍镀层上。Pd层耐热性高,稳定,能经受 多次热冲击。 在组装焊接时,对Ni/Au镀层,当镀金层与熔化焊料接触后,金被熔与焊料中形成AuSn4,当焊料中重量比达3%, 焊料会发脆影响焊点可靠性,但被熔的焊料不与Pd形成化合物,Pd漂浮在焊料表面,很稳定。 由于Pd的价格贵过金,在一定程度上限制了它的应用。随着IC集成度的提高和组装技术的进步,化学镀Pd在芯片极组 装(CSP)上将发挥更有效的作用。

《HDI流程PCB》PPT课件

《HDI流程PCB》PPT课件
板翹量測﹕ 100%板翹檢驗(大理石平台)
包裝﹕小包裝 外包裝
Micro Via Design Rule ( HDI)
--- Blind via Design rule and capability --- Buried via Design rule and capability
Why we need HDI process
HDI制程及設計介紹
順達電腦(廣東) Jan, 2002
HDI PCB的應用
HDI: High Density Interconnection HDI PCB用在商品上較大宗的有3大類﹕ 1. 資訊類﹕超大型電腦、筆記型電腦、IC Substructure
(FCPGA-Flee Chip Pin Grid Area)等 2. 通訊類﹕手機、通訊系統、網際網絡等 3. 消費產品﹕數碼相機
Preferred Dimension
A
Micro Via Diameter 4~10
B
Capture Pad
A+10
C
Target Pad
A+12
Unit: mil
Capability Dimension
4 ~10 A+8 (Cpk: 1.00) A+10.5 ( Cpk :1.00)
Dimension on Buried via and PTH Stack-up(1+N+1)
F
PTH Inner Layer (N) land Diameter
Preferred Dimension A + 10 A+8 A+8 A + 10 A + 12
“A” = Drill diameter ; * unit : mil

2024年度HDI板制作的基本流程课件

2024年度HDI板制作的基本流程课件
2024/2/2
将改进成果进行标准化,形成文件化的管理 制度或操作规范,并总结经验教训,为后续 的持续改进提供参考。
22
06
安全生产与环境保护要求
2024/2/2
23
安全生产责任制落实
建立安全生产责任体系
明确各级管理人员和操作人员的 安全生产职责,形成全员参与的 安全生产氛围。
制定安全生产规章制度
风险评估与分级管控
对辨识出的危险源进行风险评估,确定风险等级,并采取 相应的管控措施,降低风险发生的可能性。
制定应急预案
针对可能发生的重大危险源事故,制定完善的应急预案, 明确应急组织、通讯联络、现场处置等方面要求,确保事 故发生时能够及时、有效地应对。
25
环境保护法规遵守和污染治理方案
遵守环境保护法规
HDI板制作的基本流程课件
2024/2/2
1
目录
• HDI板简介 • 原材料选择与准备 • 制作工艺流程详解 • 设备选型与操作指南 • 质量管理体系建立与实施 • 安全生产与环境保护要求 • 总结回顾与展望未来
2024/2/2
2
01
HDI板简介
2024/2/2
3
HDI板定义与特点
2024/2/2
2024/2/2
6
02
原材料选择与准备
2024/2/2
7
核心原材料介绍
1 2
基板材料
HDI板的核心材料,通常采用高性能的聚酰亚胺 或聚酯薄膜作为基板,具有良好的绝缘性、耐热 性和机械强度。
铜箔
用于制作电路导线的关键材料,铜箔的厚度、导 电性和表面处理工艺对HDI板的性能有重要影响 。
阻焊层
3
覆盖在铜箔表面,用于保护电路并防止焊接时短 路,通常采用环氧树脂或聚酰亚胺等耐高温材料 制成。
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涂胶膜铜箔(Resin Coated Copper): 一般来说,HDI 板 的激光钻孔都是在涂胶膜铜箔
上面成孔。孔径的形状与一般机械钻孔的孔的形状不完全一样。激光钻孔的孔的形 状为一个倒置的梯形。而一般的机械钻孔,孔的形状为柱形。考虑到激光钻孔的
能量与效率,镭射孔的孔径大小不能太大。一般为0.076-0.10毫米。
前言
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一.概述:
HDI板,是指High Density Interconnect,即高密度互连板。是PCB行业在 20世纪末发展起来的一门较新的技术。传统的PCB板的钻孔由于受到钻刀影 响,当钻孔孔径达到0.15mm时,成本已经非常高,且很难再次改进。而HDI 板的钻孔不再依赖于传统的机械钻孔,而是利用激光钻孔技术。(所以有
流程
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1.开料(CUT)
开料是把我们采购回来的敷铜板切割成能在生产线上制作的板 子的过程。
首先我们来了解几个概念: 1. 2. 3. UNIT:UNIT是指客户设计的单元图形。 SET :SET是指客户为了提高效率、方便生产等原因,将多个UNIT拼 在一起成为的一个整体图形。它包括单元图形、工艺边等等。 PANEL:PANEL是指PCB厂家生产时,为了提高效率、方便生产等原 因,将多个SET拼在一起并加上工具板边,组成的一块板子。
Feb.28,2003
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前言
由于高科技的发展迅速,大部分的电子产品都开始向轻薄短 小的方向发展,而高密度互连板(HDI)适应市场的要求,走 到了PCB技术发展的前沿。HDI采用激光成孔技术,分为红外 激光、紫外激光(UV光)两类。CO2红外激光成孔技术凭借其 高效、稳定的特点广泛应用于4---6MIL盲孔的制作。 SYE在2000年开始着手HDI制品的开发与研究,并于2001 年购入Hitachi via machine的CO2激光钻机,开始HDI产品的 生产,经过一段时间的摸索,HDI制品的生产已经稳定,工艺 也逐渐成熟。经过3年多的生产,现总结出一些有关HDI制作 的整个工艺流程和CO2激光盲孔制造的经验,在这里和大家探 讨研究。
时又被称为镭射板。)HDI板的钻孔孔径一般为3-6mil(0.076-0.152mm),
线路宽度一般为3-4mil(0.076-0.10mm),焊盘的尺寸可以大幅度的减小所 以单位面积内可以得到更多的线路分布,高密度互连由此而来。HDI技术的 出现,适应并推进了PCB行业的发展。使得在HDI板内可以排列上更加密集 的BGA、QFP等。
我们采购回来的大料有以下几种尺寸:36.5 INCH × 48.5 INCH、 40.5 INCH而我公司目前能制作 的最大尺寸为23 INCH × 41 INCH,而且考虑到利用率等原因,实际制板 尺寸根据不同的板子而不同。所以开料就是将我们采购回来的大料切割成 一个个PANEL大小的板子的过程。
材料
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下图是SYE 制作的一个16层HDI板的结构
材料
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三.能力
SYE HDI板制程能力
项目 层数 最大完成板尺寸 最大完成板厚 最小完成板厚 最小通孔钻孔孔径 最小盲孔钻孔孔径 制程能力 4-32层 21”*27” 4.0mm 0.40mm 0.25mm 0.10mm 项目 镀通孔纵横比 激光盲孔纵横比 通孔孔位公差 盲孔孔位公差 外层最小线宽/间距 内层最小线宽/间距 制程能力 12:1 1:1 +/-3mil +/-20um 3mil/3mil 3mil/3mil
HDI板所需要的其他的材料如:板料;半固化片和铜箔等则没有特别的要求。由于 镭射板的电流一般不会太大,所以线路的铜的厚度一般不太厚。内层一般为1盎司, 外层一般为半盎司的底铜镀到1盎司的完成铜厚 。板料的厚度一般较薄。并且由于 RCC中也仅含树脂,不含玻璃纤维,所以使用RCC的HDI板的硬度/强度一般比同 厚度的其他PCB要差。 材料
概述
3
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二.材料:
1、HDI绝缘层材料
1.1 常用 HDI绝缘材料一览表 规格 60T12、 65T12 、80T12、 60T18、 80T18 1080、106
材料类别 RCC材料 普通FR4
材料
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1.3 特殊材料的介绍:
最小外层底铜厚度
最大外层底铜厚度
1/3oz
3oz
蚀刻公差
盲孔加工孔径

+/-20%
0.100um—0.200um
最小内层底铜厚度
最大内层底铜厚度
1/2oz
3oz
阻抗公差
mask对位能力 11
+/-7%
比内层pad大5mil
能力
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四.流程:
下面我们将以一个1+4+1的6层板为例来简单说明一下HDI的 制作流程:
HDI绝缘层所使用的特殊材料 RCC : 涂胶膜铜箔(Resin Coated Copper) 涂胶膜铜箔(Resin Coated Copper) 是指将特别的树脂膜层涂在电镀铜箔上。 这层膜可以完全覆盖内层线路而成绝缘层. 主要有两种: B stage (Mitsui)和 B+C stage(Polyclad) B stage B+C stage 铜箔 铜箔 树脂 ( C stage) 树脂(B stage) 树脂 ( B stage) 特点: *不含玻璃介质层,易于镭射以及等离子微孔成形. *薄介电层. *极高的抗剥离强度. *高韧性,容易操作. *表面光滑,适合微窄线路蚀刻. 材料
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1.4 不同HDI绝缘层材料的效果
这些是不同类型的一阶盲孔切片图(A)
RCC
FR4(1080)
材料
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这些是不同类型的一阶盲孔切片图 ( B )
2×1080
2×106
材料
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1.42 “2+n+2”HDI板一般结构:
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