硅的化学方程式
硅和氯气反应的化学方程式
硅和氯气反应的化学方程式
硅和氯气反应的化学方程式是Si + 2Cl2 → SiCl4。
硅是一种非金属元素，化学符号为Si，原子序数为14。
它是地壳中最丰富的元素之一，占地壳总质量的27.7%。
硅具有高熔点、高硬度、良好的导电性和热导性等特点，被广泛应用于电子、光电子、化学等领域。
氯气是一种黄绿色气体，化学符号为Cl2，是常见的卤素之一。
氯气具有刺激性气味，是一种强氧化剂。
它在工业上被广泛用于消毒、漂白、制备化学品等方面。
硅和氯气反应的化学方程式表明，硅与氯气反应会生成硅四氯化物（SiCl4）。
在反应中，硅原子失去4个电子，形成Si4+离子，氯原子失去1个电子，形成Cl-离子，然后它们通过共价键结合形成硅四氯化物分子。
这个反应是一个氧化还原反应。
硅原子从0价被氧化成+4价，而氯原子从0价被还原成-1价。
硅的氧化状态从低到高，氯的氧化状态从高到低，反应发生了电子转移和共价键形成。
硅和氯气反应是一个剧烈的反应，会放出大量的热量和光线。
这是因为硅和氯气之间的化学键能很高，反应生成的硅四氯化物分子稳定性很高。
硅四氯化物是一种无色液体，具有刺激性气味。
它是一种重要的中间体化合物，在化学工业中被广泛用于制备硅橡胶、硅油、硅树脂等有机硅化合物。
硅四氯化物还可以用作脱水剂、催化剂和制备硅材料的前体。
总的来说，硅和氯气反应生成硅四氯化物，是一种重要的化学反应。
硅四氯化物在化学工业中有广泛的应用，对于推动现代科技的发展起到了重要的作用。
高纯硅的制备化学方程式
高纯硅的制备化学方程式高纯硅是指纯度超过99.999%的硅，其中其他杂质的含量都非常低。
高纯硅主要用于电子行业和光学行业，具有非常重要的应用价值。
为了得到高纯度的硅，需要经过多个步骤的制备，其中化学方法也是其中之一。
下面介绍一下高纯硅的制备化学方程式：1、热解三氯化硅三氯化硅（SiCl3）是一种常见的、可用于产生高纯硅的原材料。
首先，将三氯化硅气体放入高温环境中进行热解，产生硅气体（Si）和氯气体（Cl2），其化学方程式如下：SiCl3(g) →Si(s) + 3Cl2(g)在这个过程中，硅气体的纯度可以达到99.9%以上。
但这个纯度远远不够高，无法满足实际应用的需要。
2、化学还原法在热解三氯化硅的基础上，可以继续使用还原剂，如纯金属硅或者金属铝等，对硅气体进行化学还原，得到更高纯度的硅。
这个过程中，还原剂会将硅气体中的杂质还原为固体物质，使其聚集在一起，方便采取除杂操作。
化学还原法的化学方程式为：SiCl4(g) + 2Li(s) →Si(s) + 2LiCl(s)化学还原要求还原剂本身就是非常纯的，以确保所得到的高纯硅的纯度。
3、氧化还原法在化学还原法的基础上，可以进一步采用氧化还原法对硅气体进行处理，以得到更高纯度的硅。
在这个过程中，硅气体被加热，与氧气接触，产生二氧化硅（SiO2）和水蒸气（H2O）。
然后，还原剂将SiO2还原为硅。
这个过程的化学方程式为：SiO2(s) + 2C(s) →Si(l) + 2CO(g)通过氧化还原法，可以得到更高纯度的硅，纯度可达到99.9999%以上，足以满足大多数电子行业和光学行业的应用需求。
综上所述，高纯硅的制备化学方程式有多种方法，包括热解三氯化硅、化学还原法和氧化还原法等。
通过不同的方法结合使用，可以获得极高纯度的硅。
高三化学方程式总结：硅及其化合物方程式
方程式6 硅及其化合物方程式1. Si与氧气反应的化学方程式：Si + O2高温SiO22.Si与氟气反应的化学方程式：Si + 2F2∆SiF43. Si与Cl2反应的化学方程式：Si + 2Cl2高温SiCl44. Si与NaOH溶液反应化学方程式：Si + 2NaOH + H2O =Na2SiO3 + 2H2 ↑离子方程式：Si + 2OH- + H2O =SiO32- + 2H2 ↑5.Si与HF反应化学方程式：Si + 4HF = SiF4↑ + 2H2↑6.工业制粗硅的化学方程式：SiO2 + 2C高温Si + 2CO↑7.工业由SiCl4制纯硅的化学方程式：SiCl4 + 2H2高温Si + 4HCl8.SiO2与氢氟酸反应的化学方程式：SiO2 + 4HF = SiF4↑ + 2H2O9.SiO2与碱性氧化物（CaO）反应的化学方程式：SiO2 + CaO 高温CaSiO310.SiO2与石灰石反应的化学方程式：S iO2 + CaCO3高温CaSiO3 + CO2↑11.SiO2与强碱NaOH溶液反应的化学方程式：SiO2 + 2NaOH = Na2SiO3 + H2O离子方程式：SiO2 + 2OH -= SiO32-+ H2O12.工业制玻璃的两个反应化学方程式：SiO2 + CaCO3高温CaSiO3 + CO2↑SiO2 + Na2CO3高温Na2SiO3 + CO2↑13.H2SiO3与强碱NaOH溶液的反应：化学方程式：H2SiO3+2NaOH=Na2SiO3+ H2O离子方程式：H2SiO3+2OH-=SiO32-+ H2O14.硅酸的热稳定性很弱，受热分解：化学方程式：H2SiO3∆H2O + SiO215.向硅酸钠溶液中通入足量的CO2的反应：化学方程式：Na2SiO3 + 2CO2 + 2H2O =H2SiO3↓+2NaHCO3离子方程式：SiO32- + 2CO2 + 2H2O =H2SiO3↓+2HCO3-16.向硅酸钠溶液中通入少量的CO2的反应：化学方程式：Na2SiO3 + CO2 + H2O=H2SiO3↓+Na2CO3离子方程式：SiO32- + CO2 + H2O=H2SiO3↓+CO32-17. 向硅酸钠溶液中滴加稀盐酸的反应：化学方程式：Na2SiO3 + 2HCl =H2SiO3↓+2NaCl离子方程式：SiO32- + 2H+=H2SiO3↓方程式7 铝及其化合物方程式1.铝在氧气中燃烧化学方程式4Al + 3O2点燃2Al2O32.铝在氯气中燃烧化学方程式2Al + 3Cl2点燃2AlCl33.铝与硫共热化学方程式2Al + 3S2AlCl34.铝和盐酸反应化学方程式2Al + 6HCl = 2AlCl3 + 3H2↑离子方程式2Al + 6H+ = 2Al3++ 3H2↑硅、铝方程式1。
硅和水反应
硅和水反应硅和水反应是一种重要的化学反应，它可以产生硅酸和氢气。
这个反应在工业中被广泛应用，因为硅酸是一种重要的化学原料，可以用于制造玻璃、陶瓷、电子器件等。
一、硅和水反应的化学方程式硅和水反应的化学方程式如下：Si + 2H2O → Si(OH)4 + H2其中，Si代表硅，H2O代表水，Si(OH)4代表硅酸，H2代表氢气。
这个方程式表明，在这个反应中，每一个硅原子会与两个水分子发生反应，并且会生成一个硅酸分子和一个氢分子。
二、硅和水反应的机理硅和水反应的机理比较复杂。
首先，当硅与水接触时，它会形成一个薄薄的二氧化硅层。
这个层可以保护内部的金属不被进一步蚀刻。
然后，在这个二氧化硅层下面，水分子开始与金属表面上的活性位点发生作用。
这些位点是由于金属表面上存在着未被完全覆盖住的原子而形成的。
水分子中的氢离子会与这些位点上的自由电子形成化学键，从而将水分子吸附在金属表面上。
接下来，硅原子开始与已经被吸附在金属表面上的水分子发生反应。
这个反应可以分为两个步骤：第一步：Si + 2H2O → Si(OH)4 + 4H+ + 4e-第二步：4H+ + 4e- → 2H2↑在第一步中，硅原子会将两个水分子中的氢离子和一个氧离子结合起来，形成一个硅酸分子和四个电子。
这些电子会被传递给金属表面上的未被完全覆盖住的原子，从而使它们变得更加稳定。
在第二步中，这些电子又会被传递回到已经被吸附在金属表面上的水分子中去。
这个过程会产生氢气，并且使得金属表面上的活性位点重新变得可用。
三、硅和水反应的影响因素硅和水反应受到很多因素的影响，包括温度、压力、pH值等等。
以下是一些常见因素对硅和水反应影响的具体情况：1. 温度：硅和水反应的速率随着温度的升高而增加。
这是因为在高温下，水分子中的氢离子和氧离子更容易被激发，从而更容易与硅原子发生化学反应。
2. 压力：硅和水反应的速率与压力没有直接关系。
3. pH值：硅和水反应的速率随着pH值的升高而增加。
碳、硅及其化合物的化学方程式和离子方程式
碳硅及其化合物的化学方程式和离子方程式碳及其化合物的化学方程式和离子方程式一、碳1、碳在少量的氧气中燃烧：2C＋O22CO2、碳在足量的氧气中燃烧：C＋O2CO23、碳和硫蒸气高温反应：C＋2S CS24、碳和氧化铁在高温下反应：2Fe2O3＋3C2Fe＋3CO2↑5、碳粉与氧化铜共热：2CuO＋C2Cu＋CO2↑6、碳和水蒸气高温反应：C＋H2O CO＋H27、碳和二氧化碳在高温下反应：C＋CO22CO8、碳与浓硫酸共热：C＋2H2SO4CO2↑＋2SO2↑＋2H2O9、碳与浓硝酸共热：C＋4HNO3CO2↑＋4NO2↑＋2H2O10、碳与稀硝酸共热：3C＋4HNO33CO2↑＋4NO ↑＋2H2O11、工业上制备粗硅：SiO2＋2C Si＋2CO↑12、工业上制备金刚砂：SiO2＋3C SiC＋2CO↑13、工业上制备碳化钙：CaO＋3C CaC2＋CO↑二、一氧化碳1、一氧化碳在氧气中燃烧：2CO＋O22CO22、一氧化碳气体和氧化铁在高温下反应：Fe2O3＋3CO2Fe＋3CO23、一氧化碳通过灼热的氧化铜：CuO＋CO Cu＋CO24、一氧化碳和水蒸气反应：CO＋H2O CO2＋H2三、二氧化碳1、镁在二氧化碳中燃烧：2Mg＋CO22MgO＋C2、碳和二氧化碳在高温下反应：C＋CO22CO3、氧化钠与二氧化碳反应：Na2O＋CO2Na2CO34、氧化钙与二氧化碳反应：CaO＋CO2CaCO35、过氧化钠与二氧化碳反应：2Na2O2＋2CO22Na2CO3＋O2↑6、二氧化碳和水反应：CO2＋H2O H2CO37、向氢氧化钠溶液中通入少量的二氧化碳：2NaOH＋CO2Na2CO3＋H2O2OH－＋CO2CO32－＋H2O8、向氢氧化钠溶液中通入过量的二氧化碳：NaOH＋CO2NaHCO3OH－＋CO2HCO3－9、工业上生产碳铵：NH3＋CO2＋H2O NH4HCO310、向澄清石灰水中通入二氧化碳：Ca(OH)2＋CO2CaCO3↓＋H2OCa2＋＋2OH－＋CO2CaCO3↓＋H2O11、碳酸钠溶液中通入二氧化碳气体：Na2CO3＋CO2＋H2O2NaHCO3CO32－＋CO2＋H2O2HCO3－12、向饱和的碳酸钠溶液中通入二氧化碳气体：Na2CO3＋CO2＋H2O2NaHCO32Na＋＋CO32－＋CO2＋H2O2NaHCO3↓13、向偏铝酸钠溶液通入少量二氧化碳气体：2NaAlO2＋CO2＋3H2O2Al(OH)3↓＋Na2CO32AlO2－＋CO2＋3H2O2Al(OH)3↓＋CO32－14、向偏铝酸钠溶液通入足量二氧化碳气体：NaAlO2＋CO2＋2H2O Al(OH)3↓＋NaHCO3AlO2－＋CO2＋2H2O Al(OH)3↓＋HCO3－15、向硅酸钠通入中通入少量的二氧化碳：Na2SiO3＋CO2＋H2O H2SiO3↓＋Na2CO3SiO32－＋CO2＋H2O CO32－＋H2SiO3↓16、向硅酸钠通入中通入过量的二氧化碳：Na2SiO3＋2CO2＋2H2O H2SiO3↓＋2NaHCO3SiO32－＋2CO2＋2H2O2HCO3－＋H2SiO3↓17、向碳酸钙的悬浊液通入二氧化碳气体：CaCO3＋CO2＋H2O Ca(HCO3)2CaCO3＋CO2＋H2O Ca2＋＋2HCO3－18、向苯酚钠溶液中通入二氧化碳气体：C6H5ONa＋CO2＋H2O C6H5OH＋NaHCO3C6H5O－＋CO2＋H2O C6H5OH＋HCO3－19、向次氯酸钠溶液中通入二氧化碳气体：NaClO＋CO2＋H2O HClO＋NaHCO3ClO－＋CO2＋H2O HClO＋HCO3－20、向次氯酸钙溶液中通入二氧化碳：Ca(ClO)2＋CO2＋H2O CaCO3↓＋2HClOCa2＋＋2ClO－＋CO2＋H2O CaCO3↓＋2HClO四、碳酸钙1、碳酸钙溶于稀盐酸：CaCO3＋2HCl CaCl2＋CO2↑＋H2OCaCO3＋2H＋Ca2＋＋CO2↑＋H2O2、碳酸钙溶于醋酸：CaCO3＋2CH3COOH(CH3COO)2Ca＋CO2↑＋2H2OCaCO3＋2CH3COOH2CH3COO－＋Ca2＋＋CO2↑＋H2O3、碳酸钙溶于氯化铁溶液：3CaCO3＋2FeCl3＋3H2O2Fe(OH)3＋3CaCl2＋3CO2↑3CaCO3＋2Fe3＋＋3H2O2Fe(OH)3＋3CO2↑＋3Ca2＋4、碳酸钙高温条件下与二氧化硅反应：CaCO3＋SiO2CaSiO3＋CO2↑5、高温分解碳酸钙：CaCO3CaO＋CO2↑6、向碳酸钙的悬浊液通入二氧化碳气体：CaCO3＋CO2＋H2O Ca(HCO3)2CaCO3＋CO2＋H2O Ca2＋＋2HCO3－五、碳酸氢钙1、碳酸氢钙与盐酸反应：Ca(HCO3)2＋2HCl CaCl2＋2CO2↑＋2H2OHCO3－＋H＋CO2↑＋H2O2、向碳酸氢钙溶液中加入少量氢氧化钠溶液：Ca(HCO3)2＋NaOH CaCO3↓＋NaHCO3＋H2OCa2＋＋HCO3－＋OH－CaCO3↓＋H2O3、向碳酸氢钙溶液中加入足量氢氧化钠溶液：Ca(HCO3)2＋2NaOH CaCO3↓＋Na2CO3＋2H2OCa2＋＋2HCO3－＋2OH－CaCO3↓＋CO32－＋2H2O4、向碳酸氢钙溶液中加入石灰水：Ca(HCO3)2＋Ca(OH)22CaCO3↓＋2H2OCa2＋＋HCO3－CaCO3↓＋H2O5、加热碳酸氢钙：Ca(HCO3)2CaCO3↓＋CO2↑＋H2O6、碳酸氢钙溶液与碳酸钠溶液反应：Ca(HCO3)2＋Na2CO3CaCO3↓＋2NaHCO3Ca2＋＋CO32－CaCO3↓硅及其化合物的化学方程式和离子方程式一、硅1、硅和氟气反应：Si＋2F2SiF42、硅和氯气加热：Si＋2Cl2SiCl43、硅与氧气加热：Si＋O2SiO24、硅溶于氢氧化钠溶液中：Si＋2NaOH＋H2O Na2SiO3＋2H2↑Si＋2OH－＋H2O SiO32－＋2H2↑5、硅和氢氟酸反应：Si＋4HF SiF4＋2H2↑二、二氧化硅1、工业上用二氧化硅制备粗硅：SiO2＋2C Si＋2CO↑2、工业上二氧化硅制备金刚砂：SiO2＋3C SiC＋2CO↑3、碳酸钙高温条件下与二氧化硅反应：CaCO3＋SiO2CaSiO3＋CO2↑4、碳酸钠高温条件下与二氧化硅反应：Na2CO3＋SiO2Na2SiO3＋CO2↑5、将二氧化硅溶于氢氧化钠溶液中：2NaOH＋SiO2Na2SiO3＋H2O2OH－＋SiO2SiO32－＋H2O6、将二氧化硅溶于氢氟酸：SiO2＋4HF SiF4＋2H2O7、二氧化硅高温与生石灰反应：CaO＋SiO2CaSiO3三、硅酸1、硅酸溶于氢氧化钠溶液：H2SiO3＋2NaOH Na2SiO3＋2H2OH2SiO3＋2OH－SiO32－＋2H2O2、加热硅酸：H2SiO3SiO2＋H2O四、硅酸钠1、硅酸钠溶液加入氯化钙溶液：Na2SiO3＋CaCl2CaSiO3↓＋2NaClSiO32－＋Ca2＋CaSiO3↓2、硅酸钠溶液呈碱性：Na2SiO3＋H2O NaHSiO3＋NaOHSiO32－＋H2O HSiO3－＋OH－3、向硅酸钠溶液中加入盐酸：Na2SiO3＋2HCl2NaCl＋H2SiO3↓SiO32－＋2H＋H2SiO3↓4、向硅酸钠通入中通入少量的二氧化碳：Na2SiO3＋CO2＋H2O H2SiO3↓＋Na2CO3SiO32－＋CO2＋H2O CO32－＋H2SiO3↓5、向硅酸钠通入中通入过量的二氧化碳：Na2SiO3＋2CO2＋2H2O H2SiO3↓＋2NaHCO3SiO32－＋2CO2＋2H2O2HCO3－＋H2SiO3↓6、硅酸钠溶液与氯化铵溶液混合：Na2SiO3＋2NH4Cl2NaCl＋H2SiO3↓＋2NH3↑SiO32－＋2NH4＋H2SiO3↓＋2NH3↑8、这个世界并不是掌握在那些嘲笑者的手中，而恰恰掌握在能够经受得住嘲笑与批忍不断往前走的人手中。
工业制单质硅化学方程式
工业制单质硅化学方程式工业制单质硅是一种重要的化工生产过程，其中涉及到硅的化学方程式。
硅是一种广泛应用于电子、半导体、玻璃等工业领域的重要材料，因此其生产过程具有重要的工业意义。
在工业制单质硅的生产过程中，通常采用的方法是通过硅矿石的冶炼和纯化来获得单质硅。
下面将介绍工业制单质硅的化学方程式，并解释其反应过程。
工业制单质硅的化学方程式如下：SiO2 + 2C → Si + 2CO在这个化学方程式中，SiO2代表硅矿石中的二氧化硅，2C代表碳，Si代表单质硅，2CO代表一氧化碳。
这个方程式描述了硅矿石经过冶炼和还原反应后得到单质硅的过程。
硅矿石中的二氧化硅与碳在高温条件下发生反应，生成单质硅和一氧化碳。
这个反应是一种还原反应，碳起到还原剂的作用，将二氧化硅中的氧气还原成气体状态的一氧化碳，同时使硅原子脱氧成为单质硅。
在工业生产过程中，通常采用电石炉或电弧炉等设备进行冶炼和还原反应。
这些设备能够提供高温条件，促使反应快速进行，从而提高生产效率。
工业制单质硅的生产过程中还需要考虑控制反应条件和提高产品纯度。
通过控制反应温度、压力和反应时间，可以调节反应速率和产物选择性，从而提高产率和产品质量。
此外，还需要对产物进行纯化处理，去除杂质和残留物，以获得高纯度的单质硅产品。
在工业制单质硅的生产过程中，化学工程师和技术人员需要不断优化生产工艺，提高生产效率和产品质量，以满足市场需求。
通过不断改进设备和工艺，可以降低生产成本，提高竞争力，促进工业发展。
总的来说，工业制单质硅是一项重要的化工生产过程，其中涉及到硅的化学方程式和反应过程。
通过对反应条件和工艺的控制，可以实现高效、高纯度的单质硅生产，促进工业发展和技术进步。
硅的化学方程式
硅的化学方程式下面是硅的化学方程式：1. 硅的氧化反应：2Si + O2 → 2SiO22. 硅的还原反应：SiO2 + 2C → Si + 2CO3. 硅的氟化反应：Si + 2F2 → SiF44. 硅的氯化反应：Si + 2Cl2 → SiCl45. 硅的溶解反应：Si + 4HF → SiF4 + 2H2O6. 硅的加热反应：Si + 2H2O → SiO2 + 2H2硅是一种非金属元素，化学符号为Si，原子序数为14，属于第4主族元素。
硅的熔点为1414°C，沸点为3265°C，在常温下为固体，具有类似金属和非金属的性质，是一种重要的材料。
硅的氧化反应是硅的最常见反应。
在高温下，硅和氧反应生成二氧化硅（SiO2），这种反应通常用于制备硅的纯化过程。
硅的还原反应是将SiO2还原为硅的过程。
在高温条件下，硅和碳反应产生Si和二氧化碳（CO2），这种反应通常用于制备金属硅和硅钢等。
硅的氟化反应是将硅和氟气反应的过程。
硅和氟气反应生成四氟化硅（SiF4），这种反应通常用于制备氟化硅等化合物。
硅的氯化反应是将硅和氯气反应的过程。
硅和氯气反应生成四氯化硅（SiCl4），这种反应通常用于制备氯化硅等化合物。
硅的溶解反应是硅和氢氟酸溶液反应的过程。
硅和氢氟酸反应生成四氟化硅（SiF4），这种反应通常用于制备氟化硅等化合物。
硅的加热反应是硅和水反应生成二氧化硅和氢气的过程。
这种反应在制备制氢和二氧化硅等材料中经常使用。
总之，硅的化学方程式包括氧化反应、还原反应、氟化反应、氯化反应、溶解反应和加热反应。
这些反应在制备硅和其它硅化合物时都有广泛应用。
硅有关的化学方程式
硅有关的化学方程式1 硅的基本性质硅是第14元素，化学符号为Si。
它是一种非金属元素，常见于许多岩石、矿物和土壤中。
硅的外层电子排布为2, 8, 4，它在化学反应中常以+4氧化态出现。
硅具有一些独特的化学性质，它是一种良好的半导体材料，被广泛地应用于电子领域中。
硅的化学性质主要体现在硅的氧化反应、还原反应和与其他元素的化合反应中。
下面我们就详细介绍硅的相关化学方程式。
2 硅的氧化反应硅和氧气可以进行反应，产生二氧化硅。
Si + O2 → SiO2这是一个放热反应，它具有很高的热稳定性和化学惰性。
二氧化硅是一种普遍存在于自然界中的化合物，它是许多岩石和矿物的主要成分。
另外，二氧化硅还是一种重要的工业原料，被广泛地应用于制造玻璃、搪瓷等材料中。
二氧化硅是目前工业上最重要的无机非金属材料之一。
3 硅的还原反应硅可以被还原为元素硅，其中最常用的还原剂是氢气或氢气和铝的混合物。
SiO2 + 2H2 → Si + 2H2O这是一种放热进动的反应，它通常在高温下进行。
还原后的硅可以被用于制造半导体、太阳能电池、光电转换器等电子产品中。
硅在电子工业中的应用十分广泛。
4 硅与其他元素的化合反应硅可以和许多元素发生反应，其中最常见的是与氢气和氧气的反应。
同时，硅还可以与卤素、碳、氧化物等元素发生化合反应。
Si + 2HCl → SiCl4 + 2H2这是一种放热进动的反应，它通常在高温下进行。
SiCl4是一种有机化合物，在工业上广泛用作催化剂和硅橡胶的原料。
此外，硅还可以和氟、溴、碘等卤素元素发生化合反应，产生相应的硅卤化物。
硅卤化物广泛用作有机合成和油井重整剂的原料。
5 总结硅是一种非金属元素，具有良好的半导体性能，广泛应用于电子领域。
硅的化学性质主要体现在氧化反应、还原反应和与其他元素的化合反应中。
硅的化学方程式不仅包括二氧化硅的生成和硅的还原反应，还包括与氢气、卤素、碳、氧化物等元素的反应。
这些反应都具有广泛的工业应用价值。
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一分耕耘 一分收获 璇仔化学
1 4.1硅的化学方程式
1、写出硅与氢氟酸反应的化学方程式：Si ＋4HF===SiF 4↑＋2H 2↑。
2、写出硅与氟气反应的化学方程式：Si ＋2F 2===SiF 4
3、写出硅与氢氧化钠溶液反应的化学方程式： Si+2NaOH+H 2O===Na 2SiO 3+2H 2↑
4、写出硅与氯气反应的化学方程式Si ＋2Cl 2=====加热SiCl 4
5、写出硅与氧气反应的化学方程式： Si+O 2=====加热SiO 2
6、写出硅与碳单质反应的化学方程式： Si+C=====加热SiC
7、用碳还原二氧化硅制备粗硅，反应的化学方程式是 SiO 2＋2C=====高温电炉
Si(粗)＋2CO ↑ 8、粗硅提纯的化学方程式是：
Si(粗)＋2Cl 2=====加热SiCl 4 、 SiCl 4＋2H 2=====高温Si(纯)＋4HCl
9、写出二氧化硅和氢氟酸反应的化学方程式：SiO 2+4HF===SiF 4↑+2H 2O
10、写出二氧化硅与氢氧化钠反应的化学方程式：SiO 2+2NaOH==Na 2SiO 3+H 2O
11、写出二氧化硅与氧化钙反应的化学方程式：SiO 2+CaO=====高温CaSiO 3
12、写出二氧化硅制玻璃的反应方程式：
SiO 2+Na 2CO 3=====高温Na 2SiO 3+CO 2↑ 、 SiO 2+CaCO 3=====高温
CaSiO 3+CO 2↑
13、Na 2SiO 3溶液与盐酸反应其化学方程式为：Na 2SiO 3＋2HCl===H 2SiO 3↓＋2NaCl
其离子方程式是：SiO 32-＋2H ＋===H 2SiO 3↓ 14、将CO 2通入Na 2SiO 3溶液中化学方程式为：Na 2SiO 3＋CO 2＋H 2O===H 2SiO 3↓＋Na 2CO 3 其离子方程式是：SiO 32-＋2H 2O+CO 2===H 2SiO 3↓+CO 32-
15、写出硅酸与氢氧化钠溶液反应的化学方程式：H 2SiO 3+2NaOH==Na 2SiO 3+2H 2O
16、写出硅酸受热分解的化学方程式：H 2SiO 3=====加热
SiO 2+H 2O。