光刻胶配方分析成分组成解析
一、项目背景
光刻胶是一类利用光化学反应进行精细图案转移的电子化学品。光刻胶在曝光区域发生化学反应，造成曝光和非曝光部分在碱液中溶解性产生明显的差异，经适当的溶剂处理后，溶去可溶部分，得到所需图像。根据化学反应机理，分负性胶和正性胶两类。经曝光、显影后，发生降解反应，溶解度增加的是“正性胶”;发生交联反应，溶解度减小的是“负性胶”。
通常负性胶的灵敏度高于正性胶，而正性胶的分辨率高于负性胶，正性胶对比度高度负性胶。
二、项目特点
1)感光度，指在胶膜上产生一个良好图形所需一定波长的光的能量值，即曝光量。
2)分辨率，是光刻工艺的一个特征指标，表示在基材上能得到的立体图形良好的最小线路；
3)对比度，指光刻胶从曝光区域到非曝光区域过渡的陡度，对比度越好，得到的图形越好；
4)残膜率，经曝光显影后，未曝光区域的光刻胶残余量；
5)涂布性，光刻胶在基材表面形成无针孔、无气泡、无缺陷、膜厚均一；
6)耐热性，光刻工艺中，经过前烘使光刻胶中的溶剂蒸发，得到膜厚均一的胶膜；经过后烘，进一步蒸发溶剂，提高光刻胶在显影后的致密度，增强胶膜与基板的粘附性。这两个过程都要求光刻胶有一定的耐热性；
7)粘附性，蚀刻阶段，光刻胶有抗蚀刻能力；
8）洁净度，对微粒子和金属离子含量等材料洁净度的影响；
三、项目开发价值
a. 如何提高显影质量，光刻胶在显影过程中，通常会出现显影不足、不完全显影、过显影等问题，如何正确显影至关重要；
b.如何提高对比度，光刻胶形成图形的侧壁越陡峭，对比度越好，质量越高；
c. 如何进一步提高分辨率，光刻胶在集成电路的应用等级，分为普通宽普光刻胶、g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV （＜13.5nm）线水平。等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度就越大，性能越好。
d.如何提高去胶率，无论是湿法去胶还是干法去胶，光刻胶去除工艺都需要在低材料损伤、衬底硅材料损伤与光刻胶及其残留物去除效果之间取得平衡；
我们在现有基础上通过不断深入研究和改进，开发出一款正性光刻胶，分辨率高，对比度高，同时具有残膜率低，耐热性能好等优点。
四、物性指标
五、应用领域
正性光刻胶，稳定性好，一般用于分辨率要求高的先进IC制造，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）\stepper、广泛应用于半导体制造。
六、使用工艺
1）前处理：主要包括wafer表面的杂质微粒清除、晶圆表面烘干干燥以及wafer表面增粘处理（通常采用HMDS六甲基二硅胺烷旋涂或蒸汽处理）。
2）涂料：即在晶圆表面建立薄的、均匀的、并且没有缺陷的光刻胶膜，一般采用静态旋转涂胶或动态喷洒涂胶。
3）软烘烤：主要是使膜内溶剂挥发，增加光刻胶与衬底之间的粘附性、光吸收以及抗腐蚀能力。
4）对准曝光：对准是把所需图形在晶圆表面定位或对准，而曝光的目的是通过光照将图形转移到光刻胶涂层上。
5）PEB：在曝光时由于驻波效应的存在，光刻胶侧壁会有不平整的现象，曝光后应进行烘烤，可使感光与未感光边界处高分子重新分布，最后达到平衡，基本可以消除驻波效应。
6）显影：即用显影液溶解掉不需要的光刻胶。
7）硬烘烤：目的通过溶液的蒸发来固化光刻胶，此处理提高了光刻胶对衬底的粘附性，为下一步工艺做好准备，提高光刻胶抗蚀刻能力。
8）检验：显影检查是为了查找光刻胶中成型图形的缺陷，兵出去有缺陷的晶圆。
七、参考配方（仅供参考）
组分质量百分比
聚羟基苯乙烯11-15
叠氮萘醌酯类光致产酸剂3-6
醇醚溶剂75-85
微量添加剂1~3
为保护核心技术资料的机密性，数据已经过修改处理，仅供参考。本单位对直接照搬配方数据带来的损失，不负法律责任；
八、研发外包优势
1、多年加工液技术研发储备，拥有数个发明专利；了解行业最新发展动向；
2、根据客户要求，提供整套配方技术，同时提供合格小试样品，直至量产服务；
3、禾川化学与多家具备自主研发的原材料供应商保持良好合作；能够最短时间内寻找或合成出特殊功能性助剂；
4、签订严格保密协议，单独项目委托研发，并可提供技术创新方案指导。
各种狗粮配方及营养成分分析精编版
到底哪种狗粮好？给大家提供一些数据，可以进行一下营养成分简单的对比。如数据与包装袋上有偏差，请指正。 ★★★美国爱慕思幼犬配方★★★ 成分： 鸡肉粉、鸡肉、玉米粉、米粉、动物脂肪、甜菜纤维、鸡蛋、干酵粉、鸡肝粉、矿物质及其它添加物、维他命A、B、B 1、B 2、B 6、B 12、C、D 3、K、E、生物素、磷酸二氢钠、氯化钾、盐、DL—甲硫胺酸、氯化胆硷、硫酸铜、抗氧化剂、氧化锌、硫酸锰、氧化亚锰、泛酸钙、肌醇、碘化钾、叶酸、碳酸钴等。 营养成份分析： 粗蛋白——不低于32％ 粗脂肪——不低于21％ 粗纤维——不高于4％ 水份——不高于10％ Ω脂肪酸——不低于3.25％ ★★★宝路怡威成犬配方★★★ 成分： 谷类、鸡肉、牛肉和羊肉及副产品、蔬菜、加碘食盐、纯正植物油、维生素和矿物质，抗氧化剂、山梨酸钾等。 营养成份分析： 粗蛋白——不低于30％ 粗脂肪——不低于14.5％ 粗纤维——不高于5％ 水份——不高于12.0% 矿物质——不低于1.50% 钙——不低于1.0% 磷——不低于0.8% 盐——不高于2.5% ★★★诺瑞比瑞吉成犬配方★★★ 成分：
新鲜鸡肉, 优质大米，玉米粉，肝粉，麦粉，豆粉，鱼蛋白，小麦胚芽，活性酵母，深海鱼油，植物油，禽畜脂肪，多种维生素矿物质，天然香味物质等。 营养成份分析： 蛋白质——不低于24% 脂肪——不低于13% 纤维——不高于4.8% 水分——不高于10% 赖氨酸——不低于1.1% 钙——不低于1.0% 盐——不高于2.5% 灰分——不高于10% 磷——不低于0.8% ★★★成都好主人成犬配方★★★ 成分： 精选鸡肉、鸡蛋、鱼粉、肉粉、膨化大豆、酵母、玉米粉、钙粉、植物油、动物脂肪、抗氧化剂BHT、维生素A、B1、B2、B6、B12、C、D3、K3、E、叶酸、烟酸、泛酸、生物素、胆碱、硫酸亚铁、硫酸锰、硫酸锌、硫酸铜、碘化钾、亚硒酸钠等。 营养成份分析： 粗蛋白质——不低于25.0% 粗脂肪——不低于14.0% 粗纤维——不高于5.0% 水分——不高于10.0% 总赖氨酸——不低于1.00% 钙——不低于2.00% 磷——不低于0.60% 盐——不高于1.00% 灰分——不高于10.0% ★★★法国皇家成犬配方★★★ 成分： 玉米粉，鸡肉和火鸡肉粉，玉米，家禽脂肪，家禽肝臧，鱼蛋白，酵母，甜菜浆，蛋粉，大豆油，微量元素等。
KrF光刻胶浸酸残留缺陷的机理研究及解决方案
KrF光刻胶浸酸残留缺陷的机理研究及解决方案 进入45/40nm技术节点以后，由于受到分辨率的限制，双栅极蚀刻光刻胶由之前通用的i-line （波长365nm）改成KrF（波长248nm）。另一方面，为减少栅极氧化层（Gate Oxide）去除后对硅表面的损伤，业界普遍将栅极氧化层湿法蚀刻药剂由蚀刻率较快的BOE （DHF+NH4F）改为DHF，导致蚀刻率极大的降低，从而导致湿法蚀刻工艺时间成几倍增加。而KrF光刻胶比起i-line光刻胶由于聚合物（polymer）等的不同而更容易被湿法药剂溶解剥落（melt and peeling），在长时间的DHF浸泡后极易形成脱落残留于尚未蚀刻完成的栅极氧化层的表面，从而导致栅极氧化层蚀刻不完全或极差的均匀性最终影响器件良率。 又由于目前业界栅极氧化层湿法蚀刻普遍采用在酸槽(wet bench)中的成套工艺，即在同一个酸槽设备里连续经过去氧化层，去光刻胶和去polymer的工艺流程，最后得到清洁的wafer表面，即使在中间过程(去氧化层)中出现光刻胶脱落残留而导致栅极氧化层蚀刻不完全或极差的均匀性，但由于栅极氧化层通常很薄(50～60A)不会形成色差，所以很难检查得到。
在栅极氧化层湿法蚀刻开发过程中，我们加入中间过程缺陷检测步骤，即在DHF去氧化层后的缺陷检测，结果发现大量的光刻胶脱落残留现象。 根据实验数据和材质特性，我们从不同层面进一步分析了产生光刻胶残留缺陷的机理。一方面是KrF光刻胶本身所具有的疏水性。光酸（PAG）在曝光的作用下产生助剂（Inhibitor），然后助剂经过烘焙产生可溶物最后被溶剂溶解，非曝光的部分也就是最终留下来的光刻胶将被当作湿法刻蚀的非蚀刻区阻挡层。最终这层作为阻挡层的KrF光刻胶含有甲基自由基等而形成疏水性。这种疏水性不利于被酸液浸泡后生成的光刻胶脱落残留的溶解。如前所述，KrF光刻胶比起i-line光刻胶由于聚合物等的不同而更容易被湿法药剂溶解剥落，在长时间的DHF浸泡后极易形成脱落残留于尚未蚀刻完成的栅极氧化层的表面。
水性脱模剂成分组成,水性脱模剂配方分析及技术工艺
水性脱模剂成分分析，配方研制及实用案例 导读：本文详细介绍了水性脱模剂的研究背景，理论基础，参考配方等，本文中的配方数据经过修改，如需更详细资料，可咨询我们的技术工程师。 水性脱模剂广泛应用于模具与橡胶、塑料等制品的脱模，苏州禾川化学引进国外尖端配方解析技术，致力于水性脱模剂成分分析，配方还原，研发外包服务，为脱模剂相关企业提供一整套配方技术解决方案。 一、背景 脱模剂是介于模具与制品之间的功能性物质，在橡胶、塑料制造工业中，制造模型产品时，为了脱模、提高生产效率、延长模具使用寿命，同时使产品光洁、尺寸合格、减少废品，而需使用的必不可少的一种助剂。 在工业生产中，有些塑料如酚、环氧、聚酯、高压聚乙烯等成型时比较难脱模，采用传统的石蜡或硅油，往往不能满足要求，特别是在不饱和聚酯、环氧树脂成型的过程中，新型脱模剂的选择应用已成为不可缺少的重要内容。目前，国产脱模剂多为油类，油类脱模剂原材料少，成本高，易产生油雾，加工现场空气污浊程度高，对操作工人的健康产生危害。而水溶性脱模剂操作安全，无油雾，对环境污染小，对人体健康损害小，且使用方便，逐步发展成油基脱模剂的代替品.现在市场上的水溶性脱模剂大多为进口产品，价格高，因此，开发此类产品有十分重要的意义。与传统的脱模剂相比，新型脱模剂具有选择粘附力强，能优先粘附在模具上而不传递给成型件，同时还能对树脂表面起到改性作用，有利于树脂流动性，提高成型件表面的质量。
另外脱模剂分为内脱模剂和外脱模剂。由于种种原因,内脱模剂使用很少, 目前一般广泛采用的仍然是外脱模剂。外脱模剂一般由介质和脱模活性物质组成。介质一般是有机溶剂或水, 脱模活性物质常见的有硅油、蜡及油脂等。现用的外脱模剂中的介质一般是有机溶剂，如卤代烃及脂肪烃等, 由于所用有机溶剂通常有毒或可燃, 并污染环境，而用水作溶剂则无这些缺点水基脱模剂的研制与应用，国外早已开展，现已有相当产品问世。国内在此领域还在起步阶段，当前水基脱模剂市场用量正在逐渐变大，随着人们环境保护意识的提高，其用量肯定会增加。因此对水基脱模剂的研究与开发，国内应引起足够的关注,因此以水为介质的水基脱模剂受到人们极大关注。 禾川化学技术团队具有丰富的分析研发经验，经过多年的技术积累，可以运用尖端的科学仪器、完善的标准图谱库、强大原材料库，彻底解决众多化工企业生产研发过程中遇到的难题，利用其八大服务优势，最终实现企业产品性能改进及新产品研发。 样品分析检测流程：样品确认—物理表征前处理—大型仪器分析—工程师解谱—分析结果验证—后续技术服务。有任何配方技术难题，可即刻联系禾川化学技术团队，我们将为企业提供一站式配方技术解决方案！ 二、水性脱模剂概述 2.1水基脱模剂种类 按水基脱模剂中有效脱模物质的类别，主要分为硅油型、蜡型等。 1）硅油类水基脱模剂
简述：乳化剂配方成分分析及测试
乳化剂产品及原料分析测试及应用 --青岛科标分析实验室 概述： 乳化剂是乳浊液的稳定剂，是一类表面活性剂。乳化剂的作用是：当它分散在分散质的表面时，形成薄膜或双电层，可使分散相带有电荷，这样就能阻止分散相的小液滴互相凝结，使形成的乳浊液比较稳定。例如，在农药的原药（固态）或原油（液态）中加入一定量的乳化剂，再把它们溶解在有机溶剂里，混合均匀后可制成透明液体，叫乳油。常用的乳化剂有肥皂、阿拉伯胶、烷基苯磺酸钠等。 分类： 乳化剂从来源上可分为天然物和人工合成品两大类。而按其在两相中所形成乳化体系性质又可分为水包油（O/W）型和油包水（W/O）型两类。 衡量乳化性能最常用的指标是亲水亲油平衡值（HLB值）。HLB值低表示乳化剂的亲油性强，易形成油包水（W/O）型体系；HLB值高则表示亲水性强，易形成水包油（O/W）型体系。因此HLB值有一定的加和性，利用这一特性，可制备出不同HLB值系列的乳液。 分析项目 【成分分析】利用定性、定量分析手段，可以精确分析材料的组成成分、元素含量和填料含量。 【配方分析】是指对产品或样品的组成成分、元素或原料等成分进行分析，又称配方还原。【组成部分】确定平衡系统中的所有各项的组成所需要的最少数目的独立物种称为组成部分。 【成分定性】通过对材料进行主成分分析，鉴定材料类别，检验、鉴别材料真实牌号。【图谱分析】指通过谱图对未知成分进行分析的技术方法。
【对比分析】一般是对两个产品的组分进行定性定量的对比，即组分的差别及量的差别。【失效分析】是综合运用各类常量、微量和痕量分析技术，主要成分与杂质成分鉴定并举，有机分析与无机分析并重，成分分析与生产工艺流程分析结合，依靠对分析结果强大的分析和综合判断能力，对产品质量事故原因进行分析诊断。 【材质鉴定】主要是针对相关材料提供的分析服务。 【技术研发】指新品种、新技术从创新构思的产生直至品种、技术审核确定的环节。
国外光刻胶及助剂的发展趋势
应用科技 国外光刻胶及助剂的发展趋势 中国化工信息中心 王雪珍编译 光刻是半导体产业常用的工艺，借助光刻胶可将印在光掩膜上的图形结构转移到硅片表面上。光掩膜制备也是一个光刻过程，不过其所用化学品不同。 每一层集成电路芯片都需要不同图案的光掩膜。在一些高级的集成电路中，硅片经历了50多步非常精细的光刻工艺。在过去10年里，光刻费用飞速上涨，其中最重要的花费在半导体领域。光刻工艺花费了硅片生产大约35%的费用，一个典型的例子是，在一个价格在50万欧元（合65万美元）的90nm 的光掩膜技术中，其光刻机花费是1000万欧元（合 1300万美元）。而这个费用比例在以后的生产装置和工艺中 还将不断提高。 在半导体产业中，常用的光刻胶有正型光刻胶与负型光刻胶两种。正型光刻胶的销售额大概是负型光刻胶的100倍，这是因为正型光刻胶具有更高的分辨率，可以用于微小精细的电路，同时，正型光刻胶与等离子干法刻蚀技术的相容性也更好一些。 光刻胶根据其辐照源进行分类，对于光致抗蚀技术来说，集成电路的最小特征尺寸受光源波长所限。由于集成电路越来越小，因此新光源和光刻胶联合使用以达到这一目的。一项联合了曝光波长为248nm 和193nm 的技术可以得到高分辨率的图案，其结果甚至比90nm 曝光波长的技术要来得好一些。一些光学技术可以扩大这个范围，但是其最终限制条件是光的频率。 光刻胶技术和制造 光刻胶指光照后能具有抗蚀能力的高分子化合物，用于在半导体基件表面产生电路的形状。其配方通常是一个复杂的体系，主要包括感光物质（PAC ）、树脂和一些其他利于使用的材料如稳定剂、阻聚剂、粘度控制剂、染料、增塑剂和化学增溶剂等。 当光刻胶暴露在光源或者是紫外辐照源条件下时，其溶解度发生了改变：负型光刻蚀剂变为不溶，正型光刻胶变为可溶。大多数负型光刻蚀剂可以归为两种类型，一种是二元体系：大量的聚异戊二烯树脂和叠氮感光化合物；另外一种是一元体系：缩水甘油甲基丙烯酯和乙基丙烯酸酯的共聚物。前者是建立在酚醛树脂和重氮萘醌感光物质的基础之上的。使用248nm 曝光波长要求光刻胶使用乙酰氧基苯乙烯单体。通过4-乙酰氧基苯乙烯单体的自由基聚合，醋酸酯选择性地转换成酚醛，以及将其与其他反应性单体的化合，可以制备出许多用于远紫外光刻的聚合物。硅氧烷/硅倍半氧烷和碳氟化合物等材料在157nm 曝光波长时是相对透明的。 预计未来5年，使用聚羟基苯乙烯树脂的化学增幅抗蚀剂将成为主流。远紫外光刻胶也是基于聚甲基丙烯酸甲酯和氟化高分子或者是二者之一。 通常说来，感光化合物例如二芳基叠氮和重氮萘醌是易爆化学制品。所以，光刻胶的生产商一定要足够小心以防爆炸。目前用于负型光刻胶的有机溶剂和显影液对环境具有危害性，以致人们倾向于使用正型光刻胶。并且，其发展趋势是替换掉具有危害的溶剂，而选用对环境无污染的无毒产品。 在低密度远紫外辐照和其他替代i 线和g 线辐照源发展大趋势的刺激下，化学增幅抗蚀剂成为一个发展快速的热点领域。在化学增幅抗蚀剂领域，由于辐照源的匮乏，势必导致一种催化的东西产生，通常为中子源。在曝光的加热处理后，催化剂会引起树脂中组分发生复杂反应，这种反应将最终产生光刻图案。目前正型光刻胶体系和负型光刻胶体系都有了较好的发展。 集成电路 收稿日期：2009-04-23 作者简介：王雪珍（1983-），女，主要从事电子化学品、可降解塑料和食品添加剂的信息研究工作 。 12
氟系脱模剂配方技术解析
氟系脱模剂配方技术解析 氟脱模剂继承了含氟材料的特点，能够显著降低固体的表面能，使其产生难浸润和不粘着性，不易与其他物质溶合，很好的解决了成品与模具之间的粘结问题，配制成脱模剂时，含氟化合物的用量极小。对热固性树脂、热塑性树脂和各种橡胶制件均适用，模制品表面光洁，二次加工性能优良，特别适合于精细电子零部件的脱模。氟系脱模剂脱模性好、对模具的污染也小，但是脱模剂的成本偏高，售价一般在100-300元/kg，属于高档产品，在使用上尚有一定局限性。 有机氟化物是最佳的脱模剂, 隔离性能好, 对模具污染小, 但价格较高。品种主要有: ( 1) 聚四氟乙烯( 相对分子质量1800) ; ( 2) 氟树脂粉末( 低分子PTFE) ; ( 3) 氟树脂涂料( PTFE, FEP, PFA) 。 1.两种有机氟脱模剂举例 1.1 根据分子量来分类 1.1.1 低分子有机氟脱模剂 Neos公司使用低分子量的氟表面活性剂来复配脱模剂，含氟表面活性剂结构式如下： 氟表面活性剂配合聚乙烯蜡、聚乙烯醚非离子表面活性剂、甲醇和环己烷等
助剂配制而成的水性氟脱模剂对聚乙烯、聚氨酯等膜制品脱模，在拉力试验机上模制品的最大剥离力为108N，最小剥离力为8.8N。而不含上述氟表面活性剂的脱模剂的对照例实验，最小剥离力为128N，最大剥离力为196N，含氟脱模剂的效果远优于对照的非氟脱模剂。 1.1.2 氟聚合物脱模剂 Motonobu kubo等发明了下列单体聚合成的水性脱模剂，用于聚氨酯的脱模，最大脱模次数超过80次，且脱模制品的二次加工性能良好。 久本严等发明了如下结构的单体聚合而成的溶剂型氟聚合物脱模剂： 其中，Rf是4-20个碳的氟代烷基，R1是氢原子、碱金属原子、氨基或1-5个碳原子的烷基，R2和R4是1-10个碳原子的亚烷基，R3是1-10个碳原子的我那叫或氢原子等，R5是氢原子或甲基。氟聚物的分子量约在2000-60000，对氨基甲酸酯泡沫塑料的最高脱模次数达到30次以上，而非氟脱模剂在同等条件下的脱模次数只有9次。 久保元伸等将含有多氟代烷基的聚合单体与烃类单体进行共聚，得到的水性脱模剂组合物，聚合物的重均分子量是5000-200000. 氟单体的结构如下：
轮胎配方成分分析
轮胎配方成分分析 ◆轮胎各部件胶料性能要求 一、胎面胶性能要求：胎面胶应具有优越的耐磨性，较高的拉伸强度和撕裂强度，良好的耐老化、耐屈挠、耐热、抗刺扎和抗花纹沟裂口等性能。 二、胎侧胶性能要求：胎侧胶应具有良好的强伸性能及耐屈挠龟裂、耐大气老化等性能。（胎面胶、胎侧胶可用一种胶料制备，但一种胶料难以同时满足各种不同性能的要求，采用分层出形的复合胎面胶，既利于提高产品质量，又可降低成本。） 三、胎体胶料性能要求：（胎体胶料包括缓冲层、外帘布层及内帘布层胶料和油皮胶等） ★缓冲层胶料性能要求：胶料具有较高定伸应力、弹性和抗剪切性能，同时要求生热低、耐热性好。 ★帘布层胶料性能要求：胶料与帘线具有良好的粘合性能，使胎体成为牢固的整体，并要求胶料生热低、耐热及耐屈挠疲劳性好。 ★油皮胶料性能要求：胶料有一定的强伸性能和较好的耐老化性能，而且要求胶料硫化起点较快，可塑性不宜过大，防止在硫化过程中向帘布层迁移影响帘布层的性能。 四、胎圈胶料性能要求：胎圈由多部件组成，有钢丝圈、填充胶条、钢圈包布、胎圈包布和帘布层，要求部件之间胶料有良好的粘合性能，使胎圈形成一个牢固整体。 五、水胎、胶囊胶料性能要求：应具有良好的耐热性、耐老化性、耐高温撕裂和耐屈挠疲劳性能，而且还应有良好的耐水性能。 六、...... ◆轮胎配方设计 科标分析建立完善的一站式服务体系，可针对轮胎各部件的性能要求，提供产品性能改进，新产品研发，材料开发等技术研发服务，帮助客户控产品质量，降低研发成本、周期以及研发风险。 ◆轮胎成分分析 科标分析创建了“光-色-热-质-元-化”联用技术，该项技术在材料分析领域填补了多项国内空白，运用该技术对产品或样品进行成分定性定量分析。根据客户提供的目标样品，分析成分，还原配方，分析各类橡胶成分，精确到橡胶胶种、助剂、填料分布、硫化体系等具体
光刻胶大全之令狐文艳创作
光刻胶产品前途无量（半导体技术天地） 令狐文艳 1 前言光刻胶(又名光致抗蚀剂)是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，近年来也逐步应用于光电子领域平板显示器（FPD）的制作。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行刻蚀、扩散、离子注入等工艺加工，因此是电子信息产业中微电子行业和光电子行业微细加工技术的关键性基础加工材料。作为经曝光和显影而使溶解度增加的正型光刻胶多用于制作IC，经曝光或显影使溶解度减小的负型光刻胶多用于制作分立器件。 2 国外情况随着电子器件不断向高集成化和高速化方向发展，对微细图形加工技术的要求越来越高，为了适应亚微米微细图形加工的要求，国外先后开发了g线（436nm）、i线（365nm）、深紫外、准分子激光、化学增幅、电子束、X射线、离子束抗蚀
剂等一系列新型光刻胶。这些品种较有代表性的负性胶如美国柯达（Kodak）公司的KPR、KMER、KLER、KMR、KMPR等；联合碳化学（UCC）公司的KTI系列；日本东京应化（Tok）公司的TPR、SVR、OSR、OMR；合成橡胶（JSR）公司的CIR、CBR系列；瑞翁（Zeon）公司的ZPN 系列；德国依默克（E.Merk）公司的Solect等。正性胶如：美国西帕来（Shipely）公司的AZ系列、DuPont公司的Waycot系列、日本合成橡胶公司的PFR等等。2000~2001年世界市场光刻胶生产商的收益及市场份额公司2001年收益2001年市场份额（%）2000年收益2000年市场份额（%）Tokyo Ohka Kogyo 150.1 22.6 216.5 25.2 Shipley 139.2 21.0 174.6 20.3 JSR 117.6 17.7 138.4 16.1 Shin-Etsu Chemical 70.1 10.6 74.2 8.6 Arch Chemicals 63.7 9.6 84.1 9.8 其他122.2 18.5 171.6 20.0 总计662.9 100.0 859.4 100.0
脱模剂理化性能检验方法
脱模剂理化性能检验方法浅析 压铸是动态的热力学过程，模具型腔受到金属液的高温高速作用，只有用专用脱模剂才能有效的保护模具，及时修复模具上的微裂纹，延长模具寿命，使压铸件顺利脱模，同时改善铸件表面光亮度。因此对压铸厂来说，检验脱模剂的理化性能是完全必要的。然而，遗憾的是至今我们对脱模剂的检验基本上是搬照对涂料及润滑油的检验内容和指标，如检验密度，粘度，固体含量，闪点，冰点，PH值等。而真正对压铸脱模剂至关重要的性能，如润湿性，结膜特性，耐模温特性，乳化稳定性，高温积碳残留特征，对模具的腐蚀性，原液兑水后的分散性等等，均未受到应有的重视。由于标准不明确，使得压铸厂无法正确识别和选用合宜的脱模剂，一些供应商则投其所好，以次充好，拼价格，而不是比质量，造成当今国内压铸脱模剂市场鱼龙混杂，扰乱了正常的秩序。由于劣质脱模剂的危害要经过一段时间才能显现出来，而且很多工艺因素交织影响压铸的质量，很难一下子分辩和确定是否脱模剂的问题，因此有些小型压铸厂只能凭着经验和感觉走，只要脱模剂看上去很浓，兑水倍率高，脱模效果可以，重要的是价格又便宜就行了。其实这种做法往往是省小钱赔大钱！一般正常压铸一吨铝合金铸件，其优质脱模剂用量不过4-6KG。但如果选用不当，使模具寿命缩短，铸件废品增多，造成的损失就可想而知了，最终受害的毕竟是使用厂家。 目前，行业对脱模剂尚未出台统一标准，国际上包括最权威的北美压铸协会对脱模剂的应用（见NADCA Item 529—Die Release Agents and Their Applications）也没有公布统一的检验标准。这是因为压铸脱模剂的种类繁多，发展很快，不同成分的脱模剂如矿物油基皂质乳液，高分子聚合物系列乳液，微乳化液，固态粉体等需要不同的检验标准和方法。笔者走访了国内外一些技术先进的现代化压铸企业，他们首先是对脱模剂的品牌严格把关，即选用那些声誉好，资金和技术力量雄厚，技术服务水平高，质量稳定的供应厂商。而且，一经选用，很少变动。他们主要依托供应厂商对脱模剂质量的控制和检验，因为只有他们最清楚产品的成分配比，工艺的优劣，性能的好坏。而且检验手段最专业，最先进和最完善。压铸厂则是从使用的角度请供应商提出各种建议，如对某类复杂薄壁件应选用何种型号脱模剂，如何使用？产品出现问题，请供应厂商的技术人员帮助分析查找原因，进行改进。总之他们与供应厂商之间已经形成一种彼此信赖良性互动的合作关系。反观国内的一些中小压铸企业，他们被市场上的假冒伪劣脱模剂搞得草木皆兵，与供应厂商之间缺乏信赖感，只能小心防范，甚至只相信自己的检验标准。由于不可能象供应厂家那么专业，到头来还是防不胜防，难免上当受骗。因此在国内脱模剂市场尚不成熟的今天，压铸厂最重要的关注点应是象选人才一样精选有诚信，有品牌，有实力，有技术的供应厂商。 脱模剂本身属于化工领域，与金属压铸间的知识跨度很大，对检验中出现问题的分析需要很多物理和化学的基础理论。我公司是专业生产压铸脱模剂的厂家，并独家代理销售意大利MARBO-LEVENIT品牌系列脱模剂，十几年来，在与压铸厂交流中，积累了一些经验。下面就一些具体问题作点浅显的分析和说明。 1）关于水基脱模剂固体含量的判定 目前使用厂家普遍采用在110oC将1G原液加热4小时的方法测量脱模剂的固体含量。并以固体含量的高低评判脱模剂的浓度。首先应该肯定该方法对于固定使用某一种型号脱模剂的厂家，以此方法去评定每批产品的浓度是否相对稳定，具有一定的参考价值。但是对于各种型号和成份的脱模剂，不是普适标准。因为该方法只是基于对以矿物油和蜡为主料的水基脱模剂长期测试的经验总结，对于目前新一代以高分子聚合物为主料的水基脱模剂，其有效成份不一定是以固体含量表现出来的。比如，优良的该类脱模剂，为了提高脱模性能，要添加很多能起到特殊效果的助剂，如润湿分散剂，成膜助剂，极压剂，铸件表面光亮剂等。而这些物质的作用不是用固体含量来评定的。因为他们与高分子聚合物相互作用，形成有利于脱模性能的新物质，是真正发挥脱模效力的精华，不是单纯的传统的不挥发残留物。因此不要机械地以固体含量去评定真正的高分子材料。当然，我们也可以为了迎合厂家的评定口味，添加一些纤维素类如缩甲基纤维素钠（CMC），甲基纤维，淀粉，明胶，酪素等天然高分子聚合物和聚乙烯醇，缩甲醛等合成高分子聚合物以及水玻璃等无机高分子聚合物，这些物质可以名正言顺的加进脱模剂中，使成本下降，而且冠冕堂皇地显著提高了固体含量的检测结果。殊不知，它大大降低了脱模剂对模具的保护作用，对提高脱模性能，减少残留有害无益。再如为了提高脱模剂的表观粘度，加入增稠剂，通过水溶性大分子链的架桥作用，形成空间网状结构，使脱模剂看上去很浓，而且增加了固体物质的含量。有些甚至加一些膨润土，石棉等无机超细粉末，利用其强亲水性质，形成触变性凝胶，以提高浓度。这些做法是不道德和缺乏诚信的，对压铸厂的产品质量和模具寿命是一种潜移默化的伤害。事实上，对脱模剂的主要评判标准要看脱模效果和对模具寿命的影响。使用厂家在确定脱模剂使用效果满意后主要是控制其每批产品的稳定性。作为研发和生产脱模剂的单位，我们主要着眼于有效成分的作用和添加的比例。目前国际上的知名高分子聚合物基脱模剂品牌以及我公司新近推出的以高分子聚合物为基，不含任何矿物油，甲基硅油的新型脱模剂，其标识的按常规方法检测的固体含量大多在10-15%左右，但其实际有效成份均在30%以上。而对矿物油或蜡为基的脱模剂，情况正好相反，按常规方法检测固体含量在20-30%左右，但其有效成分却远没有这么多。这也从一个侧面说明，对这两类不同成分的脱模剂，我们不能简单地以传统检验方法去一视同仁。如果一定要这样检验，那么对同一产品，只要控制一个相对值，然后每次检验要有一致性，以此确定产品的稳定性就可以了。 2）对浓度的测量 涂装用涂料浓度目前普遍以称量法测定其不挥发份比重，但这不适宜对脱模剂浓度的测定。因为对脱模剂来说，他的主要功能是隔热和脱模，因此最看重的要求是高温结膜性，高温隔热性和无残留性。而这些性能的优劣与浓度没有正比关系。比如，世界名牌香水，其中95%是水，5%才是他们的关键材料和配方，而一些低劣香水含水量仅80%左右，其所谓香料比例很高，但效果很差，可能还对人体有害。谁优谁劣，不言自明。但是，假如我们一味强调香料的浓度，以浓度作为检验标准，那么结果将南辕
简述：涂料成分配方对比分析
涂料成分配方分析测试---青岛科标分析中心 涂料概述： 涂料：涂于物体表面能形成具有保护、装饰或特殊性能(如绝缘、防腐、标志等)的固态涂膜的一类液体或固体材料的总称。包括油(性)漆、水性漆、木器漆、粉末涂料、木蜡油。油漆：以有机溶剂为介质或高固体、无溶剂的油性漆。 分析项目： 成分分析：利用定性、定量分析手段，可以精确分析材料的组成成分、元素含量和填料含量。配方分析：是指对产品或样品的组成成分、元素或原料等成分进行分析，可以通过采用光谱，色谱，质谱，能谱，热谱等图谱，来对产品或样品进行“配方分析”，俗称“配方还原”。失效分析：综合运用各类常量、微量和痕量分析技术，主要成分与杂质成分鉴定并举，有机分析与无机分析并重，成分分析与生产工艺流程分析结合，依靠对分析结果强大的分析和综合判断能力，对产品质量事故原因进行分析诊断。 图谱分析：指通过谱图对未知成分进行分析的技术方法。因常采用光谱，色谱，质谱，能谱，热谱等谱图。 异物分析：是专门分析产品上的微小嵌入异物或表面污染物、析出物进行之成分的技术。是改善产品最常用的分析方法之一。 技术研发：技术研发指新品种、新技术从创新构思的产生直至品种、技术审核确定的环节。是研发人员或研发机构根据市场现实或潜在的需求，通过一定的材料和技术路线，采用适当的方法和手段，筛选出具有能满足市场需求或能更好地满足市场需求的新品种、新技术，新服务。 主成分分析：是把几个综合变量来代替原来众多的变量，使这些综合变量能尽可能地代表原来变量的信息量，而且彼此之间互不相关的一种数学降维的方法。
全成分分析：是将送检样品中的原材料、填料、助剂等进行定性定量分析。塑料原材料种类，填料种类、粒径，助剂种类都能影响对产品的性能、寿命，通常是同一种原材料、同一种填料，因为助剂种类的不同，造成产品性能大不相同。 产品分析： 油漆：木器漆、水性漆、清漆、稀料、地坪漆、乳胶漆、外墙漆、电泳漆、艺术漆、哑光漆、弹性漆、环保漆等 常见涂层：防腐涂层、光固化涂层、防水涂层、隔热涂层、导电涂层、耐高温涂层等 常见产品：水性涂料、油性涂料、内外墙涂料、导电涂料、硅藻泥涂料、防水涂料、防火涂料、建筑涂料等 仪器设备： 热重分析仪：是一种利用热重法检测物质温度-质量变化关系的仪器。 高效液相色谱仪：是目前应用最多的色谱分析方法，高效液相色谱成为最为常用的分离和检测手段。 扫描电子显微镜：是一种利用电子束扫描样品表面从而获得样品信息的电子显微镜。 马尔文激光粒度仪：可以精确、无损伤地测量从亚微米到几毫米地范围广泛的颗粒粒度。
半导体工艺主要设备大全
清洗机超音波清洗机是现代工厂工业零件表面清洗的新技术,目前已广泛应用于半导体硅 片的清洗。超声波清洗机“声音也可以清洗污垢”——超声波清洗机又名超声波清洗器，以其洁净的清洗效果给清洗界带来了一股强劲的清洗风暴。超声波清洗机（超声波清洗器）利用空化效应，短时间内将传统清洗方式难以洗到的狭缝、空隙、盲孔彻底清洗干净，超声波清洗机对清洗器件的养护，提高寿命起到了重要作用。CSQ 系列超声波清洗机采用内置式加热系统、温控系统，有效提高了清洗效率；设置时间控制装置，清洗方便；具有频率自动跟踪功能，清洗效果稳定；多种机型、结构设计，适应不同清洗要求。CSQ 系列超声波清洗机适用于珠宝首饰、眼镜、钟表零部件、汽车零部件，医疗设备、精密偶件、化纤行业（喷丝板过滤芯）等的清洗；对除油、除锈、除研磨膏、除焊渣、除蜡，涂装前、电镀前的清洗有传统清洗方式难以达到的效果。恒威公司生产CSQ 系列超声波清洗机具有以下特点：不锈钢加强结构，耐酸耐碱；特种胶工艺连接，运行安全；使用IGBT 模块，性能稳定；专业电源设计，性价比高。反渗透纯水机去离子水生产设备之一，通过反渗透原理来实现净水。 纯水机清洗半导体硅片用的去离子水生产设备，去离子水有毒，不可食用。 净化设备主要产品：水处理设备、灌装设备、空气净化设备、净化工程、反渗透、超滤、电渗析设备、EDI 装置、离子交换设备、机械过滤器、精密过滤器、UV 紫外线杀菌器、臭氧发生器、装配式洁净室、空气吹淋室、传递窗、工作台、高校送风口、空气自净室、亚高、高效过滤器等及各种配件。 风淋室：运用国外先进技术和进口电器控制系统, 组装成的一种使用新型的自动吹淋室.它广 泛用于微电子医院制药生化制品食品卫生精细化工精密机械和航空航天等生产和科研单位,用于吹除进入洁净室的人体和携带物品的表面附着的尘埃,同时风淋室也起气的作用 防止未净化的空气进入洁净区域,是进行人体净化和防止室外空气污染洁净的有效设备. 抛光机整个系统是由一个旋转的硅片夹持器、承载抛光垫的工作台和抛光浆料供给装置三大部分组成。化学机械抛光时，旋转的工件以一定的压力压在旋转的抛光垫上，而由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的抛光液在工件与抛光垫之间流动，并产生化学反应，工件表面形成的化学反应物由磨粒的机械作用去除，即在化学成膜和机械去膜的交替过程中实现超精密表面加工，人们称这种CMP 为游离磨料CMP 。 电解抛光电化学抛光是利用金属电化学阳极溶解原理进行修磨抛光。将电化学预抛光和机械精抛光有机的结合在一起，发挥了电化学和机构两类抛光特长。它不受材料硬度和韧性的限制，可抛光各种复杂形状的工件。其方法与电解磨削类似。导电抛光工具使用金钢石导电锉或石墨油石，接到电源的阴极，被抛光的工件（如模具）接到电源的阳极。 光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。①光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发 单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。②光分解型，采用含有叠氮醌类化合
化妆品成分分析 (2)
致癌性成分： 成份：二乙基羟二甲苯（BHT） ［用途］化妆品的防氧化剂、食品添加剂 ［毒性］引起皮肤炎、过敏症。误食会导致血清胆固醇上升。怀疑有致癌性。有报告称会引起体重减轻、脱毛。 成份：山梨酸（山梨酸盐） ［用途］乳霜类的乳化剂、防霉剂、保存剂、湿润剂、稀释剂、食物添加剂 ［毒性］对敏感的皮肤、黏膜有刺激作用、与环境中的亚硝酸反应，有致癌性。 成份：焦油色素 ［用途］用于各种化妆品。一支口红就有10多种焦油色素。 红色：(2、3、102、104、105、106、201、202、203、204、205、206、207、208、213、214、215、218、219、220、221、223、225、226、227、228、230、230(1)、230(2)、231、232、401、404、405、501、502、503、504、505、506号） 橙色：(201、202、203、204、205、206、207、401、402、403号) 黄色：(4、5、201、202(1)、202(2)、203、204、205、401、402、403(1)、404、405、406、407号) 绿色：(3、201、202、204、205、401、404号) 青色：（1、2、201、202、203、204、205、403、404号） 紫色：(201、401号) 偶氮染料 咖啡色：(201号) 黄嘌呤染料 黑色：(401号) ［毒性］大部分的焦油色素都有致癌性。特别是偶氮染料，经皮肤吸收后会引起过敏反应，导致黑皮症。还具有变异性、致癌性。黄嘌呤染料在光照下会刺激皮肤、使皮肤发红。它也有变异原性和致癌性的可能。 成份：滑石粉 ［用途］婴儿爽身粉、胭脂、眼影、保护霜、口红、面膜、粉底、洁面乳等 ［毒性］对皮肤有毒性。以硅酸镁为主要成份的粉末，含有硼酸和氧化锌。吸入会对肺部有刺激性。与水泥一样会引起肺部受损、致癌。 成份：氯化三异丙基苯磺酰 ［用途］洁面乳、洁面霜、粉底、胭脂、眼线、眼影、洗发水、睫毛膏、烫发水、烫发油等的乳化剂、分散剂、湿润剂、稀释剂 ［毒性］由皮肤吸收。与亚硝酸反应生成亚硝酸化合物，有致癌性。 成份：三氯酸 ［用途］。芳香剂、肥皂等化妆品的防腐剂 ［毒性］有报告指出它会变成致癌物质。 成份：石蜡
光刻胶知识简介
光刻胶知识简介 光刻胶知识简介: 一.光刻胶的定义(photoresist) 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。 二.光刻胶的分类 光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。 基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。 ①光聚合型 采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点。 ②光分解型 采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶. ③光交联型 采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品KPR胶即属此类。 三.光刻胶的化学性质 a、传统光刻胶：正胶和负胶。 光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent），保持光刻胶的液体状态，使之具有良好的流动性；添加剂（Additive），用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。 负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一种天然的橡胶；溶剂是二甲苯；感光剂是一种经过曝光后释放出氮气的光敏剂，产生的自由基在橡胶分子间形成交联。从而变得不溶于显影液。负性光刻胶在曝光区由溶剂引起泡涨；曝光时光刻胶容易与氮气反应而抑制交联。 正性光刻胶。树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中；感光剂是光敏化合物（PAC，Photo Active Compound），最常见的是重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
橡胶脱模剂成分组成,配方参考及脱模工艺原理
橡胶脱模剂成分组成，脱模原理及配方参考导读：本文详细介绍了橡胶脱模剂的研究背景，组成机理，参考配方等，本文中的配方数据经过修改，如需更详细资料，可咨询我们的技术工程师。 脱模剂是介于模具与制品之间的功能性物质，禾川化学引进尖端配方破译技术，专业从事脱模剂成分分析、配方还原、研发外包服务，为脱模剂相关企业提供一整套配方技术解决方案。 一.背景 脱模剂是介于模具与制品之间的功能性物质，在橡胶、塑料制造工业中, 制造模型产品时, 为了脱模、提高生产效率、延长模具使用寿命, 同时使产品光洁、尺寸合格、减少废品, 而需使用的必不可少的一种助剂。其主要功能是使脱模操作轻而易举，防止强行取出对产品造成的损伤。脱模剂的隔离性取决于其表面性质，其显著特点就是临界表面张力小，很难被液体润湿，正因如此，才能达到脱模的作用。 橡胶脱模剂指用于防止橡胶产品与模具表面粘连，并能使之顺利出模而不致撕裂的一类物质。使用时将它喷或涂于模腔表面，以形成一层有效的隔离层。对脱模剂的主要要求是：有一定的热稳定性和化学惰性，不腐蚀模腔表面；在模腔表面下残留分解物；不影响产品色泽，但能赋予良好的外观、无毒；易于配制，使用方便。 二.内脱模剂 2.1脱模剂现状
1）产品结构不合理，国内企业主要生产中低档大众化的脱模剂产品，而半永久性、环保型和适合二次加工性能的脱模剂产品发展缓慢、生产较少，特别是含氟的高端脱模剂市场，基本上是由杜邦、大金等国外大型氟化学公司的产品所占据。2）脱模剂的研究开发滞后，拥有自主知识产权的脱模剂品种较少，在一定程度上制约了脱模剂产业和橡塑制品向高端化和高效化的发展。 3）脱模剂的研发生产单位与脱模剂使用单位沟通渠道不够畅通，用户大都满足于已在使用的脱模剂，新型高效的脱模剂推广使用难度较大。 2.2脱模剂的种类 脱模剂一般分为外用型和内用型两种。传统的脱模剂一般为外用型，即涂敷在模腔表面，习惯上也有称作隔离剂的，产品主要有滑石粉、云母粉、皂类、石蜡、聚四氟乙烯及硅油等，它们都有一定的脱模效果，但具有易留下模垢和痕迹、对模具有腐蚀作用、价格较昂贵等缺点。在众多的脱模剂品种中，氟、硅脱模剂因其脱模效果好、适合脱模的模材多，是近年来发展较快的两类脱模剂。 内脱模剂一般都以助剂形式通过混炼进入胶料并分散其中。在硫化时部分迁移到表面，形成薄薄的隔离层。因而无须逐一把脱模剂涂刷在模腔表面。而且，隔离膜不会脱落下来，留下模垢。这样对模具保养有利，同时也给模压操作带来了方便。另外，内脱模剂还有助于胶料的流动，减少由分子内摩擦引起的生热，是名副其实的多功能助剂，因此，在国外被称为“内润滑剂”。目前应用较为普遍的内脱模剂主要有脂肪酸盐、阳离子型表面活性剂、金属皂基混合物、低分子量聚乙烯四类。其中氟橡胶内脱模剂T18 的使用效果较好。它能有效改善胶料的流动，增加未硫化胶料的可塑性，缩短混炼时间，节约能耗，提高生产率。将其用于氟橡胶和丙烯酸酯制品的生产中，脱模效果优良。
胶黏剂配方成分分析—科标分析
胶黏剂配方成分分析—科标分析 产品概述 胶黏剂是指能将同种或两种或两种以上同质或异质的制件（或材料）连接在一起，固化后 具有足够强度的有机或无机的、天然或合成的一类物质，统称为胶黏剂或粘接剂、粘合剂、 习惯上简称为胶。 胶黏剂常见问题 丙烯酸胶黏剂生产过程中出现小胶团怎么解决？ 生产过程中如何控制胶黏剂的固化度？ 如何提高胶黏剂的强度和最悻力学性能？ 胶黏剂对身体有害的物质有哪些？ 解决以上各类胶黏剂问题，到科标分析做胶黏剂配方分析，科标分析帮您提供完美的解决 方案。 各种分析检测胶黏剂的作用 产品出现问题，分析成分，了解问题根源，便于改进。 分析新产品成分，还原配方，便于模仿生产。 对比先进产品和自身成分，便于寻求研发或产品改进。 能够验证产品中是否含有某种物质。 胶黏剂热门分析产品 EVA热熔胶成分剖析环氧胶成分剖析灌封胶剖析压敏胶成分剖析丙烯酸酯胶成分剖析胶黏剂成分种类剖析万能胶案例剖析厌氧胶剖析脲醛树脂胶案例剖析导热胶成分剖析渗透胶剖析防水胶剖析聚酰胺胶剖析硅酮胶案例剖析光敏胶剖析更多 胶黏剂检测分析服务范围 PVC胶：可解除各种难粘的透明或白色塑料制品,对塑料与金属、非金属材料的互粘、交叉
粘接更具有超强的粘接强度。 丙烯酸酯胶：具有干燥成型迅速，透明性好，对多种材料具有良好的黏结性能，且耐候性、耐水性、耐化学药品性亦佳。 导电胶：导电胶粘剂可用于微电子装配，可用于取代焊接温度超过因焊接形成氧化膜时耐受能力的点焊。在铁电体装置中用于电极片与磁体晶体的粘接。 防火胶：适用于电力、电信、邮政、化工、工矿、企业、建筑及地下工程封堵各种贯穿物，具有防火功能。 封口胶：胶膜坚韧，对上光面、薄膜等渗透性好、粘接强度大，涂刷性好。 灌封胶：灌封胶在未固化前属于液体状时具有流动性，固化后可以起到防水防潮、防尘、绝缘、导热、保密、防腐蚀、耐温、防震的作用。 环氧树脂胶：可粘接各种金属及合金，陶瓷、玻璃、木材、纸板、塑料、混凝土、石材、竹材等非金属材料。 胶带：热封胶带广泛应用于防寒服、滑雪衣、羽绒服等防水相关系列用品和太空服、升空气球、防化服等防气系产品。 胶粉：胶粉越细，其性能越好。广泛用于体育塑胶运动场、游乐场、橡胶地砖、防水涂料、公路改性沥青、橡胶制品等领域。 胶浆印花：遮盖力、成膜性好，牢度强，耐光、耐热、耐老化，不泛黄不变色，有良好的机械稳定性和贮藏稳定性。 结构胶：结构胶强度高、抗剥离、耐冲击、施工工艺简便。用于金属、橡胶、木材等同种材料或者不同种材料之间的粘接。 聚酯氨胶粘剂：汽车用聚氨酯胶粘剂、木材用聚氨酯胶粘剂、鞋用聚氨酯胶粘剂、包装用聚氨酯胶粘剂、建筑用聚氨酯胶粘剂、油墨用聚氨酯粘接剂、书籍装订用聚氨酯胶粘剂、铁路建设上的应用 密封胶：可分为弹性密封胶、液体密封垫料和密封腻子，用于建筑、交通运输、电子仪器仪表及零部件的密封。 热熔胶：是一种可塑性的粘合剂，在一定温度范围内其物理状态随温度改变而改变，而化学特性不变，其无毒无味，属环保型化学产品。 压敏胶：压敏胶主要是丙烯酸系和橡胶系的溶剂型或胶乳型胶粘剂。 压氧胶：厌氧胶的组成成分比较复杂，以不饱和单体为主要组成成分，还会有芳香胺、酚类、芳香肼、过氧化物等。
脱模剂MSDS
脱模剂MSDS 化学品安全技术说明书 第一部分化学品及企业标识化学品中文名称:脱模剂(防锈型) 化学品俗名或商品名: 化学品英文名称: 第二部分成分/组成信息混合物 化学品名称:脱模剂(防锈型) 有害物成分含量 LEAD 无无无 第三部分危险性概述危险性类别:环保型不易燃烧 侵入途径:吞服 环境危害:本产品为环保、无毒、无公害产品。 燃爆危险:本产品为水溶性，不烯烧。使用中应远离火源避免阳光直接照和射，没有使用完的产品，桶盖密 闭，以免质变。 第四部分急求措施皮肤接触:用清水彻底冲洗皮肤 吸入:无特殊反应 食入:现时末发现会对健康或生命构成危害。 第五部分消防措施危险特性:遇明火达到一定温度可致使产品燃烧 有害燃烧产物:CO 灭火方法及灭火剂:可用泡沫、二氧化碳、干粉、砂土扑救，用水灭火效。 第六部分泄露应急处理。应急处理:大量物质溢漏应有容器收集后并弃置，小量物质溢漏时，如果当地法规允许，将其冲入下水道。 废物弃置方法:在当地法规允许下，可采用焚化及堆填于泥土中。
第七部分操作处置与储存操作注意事项:防止阳光长时间暴晒。 储存注意事项:储存于阴凉、通风库房。仓温宜5-45?。保持容器密封。应与氧化剂、食用化学品分开存放， 切忌混储。储存区应备有泄露应急入处理设备和合适的收容的材料。 第八部分接触控制/个体防护工程控制:加强通风。 呼吸系统防护:无害物质，无需特别防护。 眼睛防护:无害物质，无需特别防护。 身体防护:无害物质，无需特别防护。 手防护:无害物质，无需特别防护。 其他防护:工作现场禁止吸烟。 第九部分理化特性外观与性状:淡黄色透明液体 粘度:600-1200cps/25? 相对密度(水=1):0.92/20? 固含量:(36?2)% 溶解性:可溶于少量苯 挥发百分率:22% 主要用途:辅助UV上光，可使面没对印品有更高的吸附力。 第十部分稳定性和反应活性稳定性:稳定 禁区配物:防止乙醇混装 避免接触的条件:明火、高热 聚合危害:使物品产生反应 分解产物:一氧化碳、二氧化碳。 第十一部分毒理学资料急性中毒:此项测试无结果 慢性中毒:此项测试无结果