太原金属靶材新建项目可行性分析报告

规划设计/投资分析/产业运营

太原金属靶材新建项目可行性分析报告

溅射是制备薄膜材朴的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材籵，称为溅射靶材。

该金属靶材项目计划总投资2782.52万元，其中：固定资产投资2117.33万元，占项目总投资的76.09%；流动资金665.19万元，占项目总投资的23.91%。

达产年营业收入6350.00万元，总成本费用5067.07万元，税金及附加51.78万元，利润总额1282.93万元，利税总额1511.67万元，税后净利润962.20万元，达产年纳税总额549.47万元；达产年投资利润率

46.11%，投资利税率54.33%，投资回报率34.58%，全部投资回收期4.39年，提供就业职位117个。

本报告所描述的投资预算及财务收益预评估均以《建设项目经济评价方法与参数（第三版）》为标准进行测算形成，是基于一个动态的环境和对未来预测的不确定性，因此，可能会因时间或其他因素的变化而导致与未来发生的事实不完全一致，所以，相关的预测将会随之而有所调整，敬请接受本报告的各方关注以项目承办单位名义就同一主题所出具的相关后

续研究报告及发布的评论文章，故此，本报告中所发表的观点和结论仅供

报告持有者参考使用；报告编制人员对本报告披露的信息不作承诺性保证，也不对各级政府部门（客户或潜在投资者）因参考报告内容而产生的相关

后果承担法律责任；因此，报告的持有者和审阅者应当完全拥有自主采纳

权和取舍权，敬请本报告的所有读者给予谅解。

......

高纯溅射靶材行业是典型的技术密集型行业，要求业内厂商具有较强

的技术研发实力和先进的生产工艺，具有完善的品质控制能力。其主要技

术门槛表现在以下几个方面。纯度和杂质含量控制是靶材质量最重要的指标。靶材的纯度对溅射薄膜的性能有很大影响。若靶材中夹杂物的数量过高，在溅射过程中，易在晶圆上形成微粒，导致互连线短路或断路。靶材

的成分与结构均匀性也是考察靶材质量的关键。对于复相结构的合金靶材

和复合靶材，不仅要求成分的均匀性，还要求组织结构的均匀性。晶粒晶

向控制是产品研发主要攻克的方向。溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅

射靶材受轰击时，由于靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，造成大尺行

业深度研究寸的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子轰击造

成微粒飞溅，这些微粒的出现会降低薄膜品质。例如在极大规模集成电路

制作工艺过程中，每150mm直径硅片所能允许的微粒数必须小于30个。怎

样控制溅射靶材的晶粒，并提高其致密度以解决溅射过程中的微粒飞溅问

题是溅射靶材的研发的关键。靶材溅射时，靶材中的原子最容易沿着密排

面方向优先溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大，最终影响下游产品的品质和性能。需根据靶材的组织结构特点，采用不同的成型方法，进行反复的塑性变形、热处理工艺加以控制。

太原金属靶材新建项目可行性分析报告目录

第一章申报单位及项目概况

一、项目申报单位概况

二、项目概况

第二章发展规划、产业政策和行业准入分析

一、发展规划分析

二、产业政策分析

三、行业准入分析

第三章资源开发及综合利用分析

一、资源开发方案。

二、资源利用方案

三、资源节约措施

第四章节能方案分析

一、用能标准和节能规范。

二、能耗状况和能耗指标分析

三、节能措施和节能效果分析

第五章建设用地、征地拆迁及移民安置分析

一、项目选址及用地方案

二、土地利用合理性分析

三、征地拆迁和移民安置规划方案第六章环境和生态影响分析

一、环境和生态现状

二、生态环境影响分析

三、生态环境保护措施

四、地质灾害影响分析

五、特殊环境影响

第七章经济影响分析

一、经济费用效益或费用效果分析

二、行业影响分析

三、区域经济影响分析

四、宏观经济影响分析

第八章社会影响分析

一、社会影响效果分析

二、社会适应性分析

三、社会风险及对策分析

附表1：主要经济指标一览表

附表2：土建工程投资一览表

附表3：节能分析一览表

附表4：项目建设进度一览表

附表5：人力资源配置一览表

附表6：固定资产投资估算表

附表7：流动资金投资估算表

附表8：总投资构成估算表

附表9：营业收入税金及附加和增值税估算表附表10：折旧及摊销一览表

附表11：总成本费用估算一览表

附表12：利润及利润分配表

附表13：盈利能力分析一览表

第一章申报单位及项目概况

一、项目申报单位概况

（一）项目单位名称

xxx科技发展公司

（二）法定代表人

龚xx

（三）项目单位简介

公司一直秉承“坚持原创，追求领先”的经营理念，不断创造令客户

惊喜的产品和服务。公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念，以“市场为导向、顾客为中心”的企业服务宗旨，竭诚为国内外客户

提供优质产品和一流服务，欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。

公司根据自身发展的需要，拟在项目建设地建设项目，同时，为公司

后期产品的研制开发预留发展余地，项目建成投产后，不仅大幅度提升项

目承办单位项目产品产业化水平，为新产品研发打下良好基础，有力促进

公司经济效益和社会效益的提高，将带动区域内相关行业发展，形成配套

的产业集群，为当地经济发展做出应有的贡献。公司认真落实科学发展观，在国家产业政策、环境保护政策以及相关行业规范的指导下，在各级政府

的强力领导和相关部门的大力支持下，将建设“资源节约型、环境友好型”企业，作为企业科学发展的永恒目标和责无旁贷的社会责任；公司始终坚

持“源头消减、过程控制、资源综合利用和必要的未端治理”的清洁生产

方针；以淘汰落后及节能、降耗、清洁生产和资源的循环利用为重点；以

强化能源基础管理、推进节能减排技术改造及淘汰落后装备、深化能源循

环利用为措施，紧紧依靠技术创新、管理创新，突出节能技术、节能工艺

的应用与开发，实现企业的可持续发展；以细化管理、对标挖潜、能源稽查、动态分析、指标考核为手段，全面推动全员能源管理及全员节能的管

理思想；在项目承办单位全体职工中树立“人人要节能，人人会节能”的

节能理念，达到了以精细管理促节能，以精细操作降能耗的目的；为切实

加快相关行业的技术改造，提升产品科技含量等方面做了一定的工作，提

高了能源利用效率，增强了企业的市场竞争力，从而有力地促进了项目承

办单位的高速、高效、健康发展。

公司通过了ISO质量管理体系认证，并严格按照上述管理体系的要求

对研发、采购、生产和销售等过程进行管理，同时以客户提出的品质要求

为基础，建立了完整的产品质量控制体系，保证产品质量的优质、稳定。

（四）项目单位经营情况

上一年度，xxx有限公司实现营业收入4881.17万元，同比增长29.89%（1123.19万元）。其中，主营业业务金属靶材生产及销售收入为4600.79万元，占营业总收入的94.26%。

根据初步统计测算，公司实现利润总额1031.97万元，较去年同期相

比增长194.71万元，增长率23.26%；实现净利润773.98万元，较去年同

期相比增长116.40万元，增长率17.70%。

上年度营收情况一览表

上年度主要经济指标

二、项目概况

（一）项目名称及承办单位

1、项目名称：太原金属靶材新建项目

2、承办单位：xxx科技发展公司

（二）项目建设地点

xx经济合作区

太原，简称并（bīng），古称晋阳，别称并州、龙城，是山西省省会、太原都市圈核心城市，国务院批复确定的中国中部地区重要的中心城市。

截至2018年，全市下辖6个区、3个县、代管1个县级市，总面积6909平方千米，建成区面积438平方千米，常住人口442.15万人，城镇人口

375.27万人，城镇化率84.88%。2019年常住人口446.19万人。太原地处

中国华北地区、山西中部、太原盆地北端，北接忻州市，东连阳泉市，西

交吕梁市，南邻晋中市，是山西省政治、经济、文化中心，国家可持续发

展议程创新示范区，是中国北方军事、文化重镇，晋商都会，也是中国重

要的能源、重工业基地之一，是中国优秀旅游城市、国家园林城市。太原

是国家历史文化名城，一座有2500多年建城历史的古都，控带山河，踞天

下之肩背，襟四塞之要冲，控五原之都邑的历史古城。全市三面环山，黄

河第二大支流汾河自北向南流经，自古就有锦绣太原城的美誉，太原的城

市精神是包容、尚德、崇法、诚信、卓越。2018年11月，入选中国城市全面小康指数前100名。2019年6月，未来网络试验设施开通运行。2019年

8月13日，入选全国城市医疗联合体建设试点城市。

（三）项目提出的理由

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料

的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，

轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子

离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固

体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的

性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材是溅射过程的关键材料。

靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

（四）建设规模与产品方案

项目主要产品为金属靶材，根据市场情况，预计年产值6350.00万元。

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜

材料的主要技术之一。在电子信息产业的发展过程中，金属薄膜的制

备十分重要。溅射工艺利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成

高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，

使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面，从而形成纳米（或微米）薄膜。被轰击的固体是溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。靶材质量的好坏对薄膜的性能起着至关重要的决定作用，因此，靶材

是溅射过程的关键材料。

靶材主要应用在半导体、平面显示、太阳能电池等领域。其主要

性能表现在纯度、杂质含量、密度、均匀性、尺寸等方面。因应用领

域不同靶材对金属材料的选择和性能要求存在着一定的差异，通常来

说半导体靶材纯度最高，制作工艺最为复杂，平板材料次之，太阳能

电池材料标准最低。

半导体靶材是晶圆制造重要的原材料，主要以铜靶、铝靶、钛靶

和钽靶等为主。半导体芯片行业历经半个世纪，目前仍遵循着“摩尔

定律”向前发展。在晶圆制造方面，芯片尺寸不断减小（目前主流28

纳米以下），同时晶圆尺寸不断增大以进一步降低成本（目前12英寸

是主流）。在集成电路领域主要应用在晶圆制造和先进封装过程中。

为了满足半导体芯片高精度、小尺寸的需求，芯片制造对溅射靶材纯

度要求很高，通常需达99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上，

这在各下游应用中要求是最高的，价格也最为昂贵。

平板显示镀膜用溅射靶材主要品种有：铝、铝合金、钼、铬、铜、铜合金、硅、钛、铌和氧化铟锡（ITO）等。平面显示面板的生产工艺中，屏显玻璃基板要经多次溅射镀膜形成ITO玻璃，然后再经过镀膜、加工组装用于生产LCD面板、PDP面板及OLED面板等。对于触控屏，

则还需将ITO玻璃进行加工处理、经过镀膜形成电极，再与防护屏等

部件组装加工而成。此外，为了实现平板显示产品的抗反射、消影等

功能，还可以在镀膜环节中增加相应膜层的镀膜。平面显示行业一般

要求靶材纯度达99.999%（5N）以上。

太阳能电池用溅射靶材主要品种有铝、铜、钼、铬、氧化铟锡（ITO）、氧化铝锌（AZO）等。太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电

池和薄膜太阳能电池。目前，PVD镀膜工艺主要应用于制备薄膜太阳能电池，靶材纯度一般要求4N以上。其中，铝靶、铜靶用于导电层薄膜，钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。

溅射靶材在制备技术上按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金

法两大类。在靶材制备过程中，在严格控制纯度、致密度、晶粒度、

结晶取向的基础上，通过选择不同的热处理工艺及后续成型加工过程

以确保靶材的质量。

熔融铸造法是制备磁控溅射靶材的基本方法之一，常用的熔炼方

法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。高纯金属

如Al、Ti、Ni、Cu、Co、Ta、Ag、Pt等具有良好的塑性，直接在原有

铸锭基础上进一步熔铸后，进行锻造、轧制和热处理等热机械化处理

技术进行微观组织控制和坯料成型。与粉末冶金法相比，熔融铸造法

生产的靶材产品杂质含量低，致密度高，但材料内部存在一定孔隙率，需后续热加工和热处理工艺降低其孔隙率。

对于难熔金属靶材、熔点和密度相差较大的多种金属合金靶材、

无机非金属靶材、复合靶材的制备而言，熔融铸造法无能为力，需要

采用粉末冶金法。粉末冶金工艺首先进行粉体材料的预处理，包括采

用粒度和形貌合适的高纯金属粉末进行均匀化混合、造粒等，再选择

合适的烧结工艺，包括冷等静压（CIP）、热压(HP)、热等静压(HIP)

及无压烧结成型等。其关键在于：选择高纯、超细粉末作为原料；选

择能实现快速致密化的成形烧结技术，以保证靶材的低孔隙率，并控

制晶粒度；制备过程严格控制杂质元素的引入。粉末冶金工艺还具有

容易获得均匀细晶结构、节约原材料、生产效率高等优点。

采取灵活的定价办法，项目承办单位应当依据原辅材料的价格、加工

内容、需求对象和市场动态原则，以盈利为目标，经过科学测算，确定项

目产品销售价格，为了迅速进入市场并保持竞争能力，项目产品一上市，

可以采取灵活的价格策略，迅速提升项目承办单位的知名度和项目产品的

美誉度。通过对国内外市场需求预测可以看出，我国项目产品将以内销为

主并扩大外销，随着产品宣传力度的加大，产品价格的降低，产品质量的

提高和产品的多样化，项目产品必将更受欢迎；通过对市场需求预测分析，国内外市场对项目产品的需求量均呈逐年增加的趋势，市场销售前景非常

看好。

（五）项目投资估算

项目预计总投资2782.52万元，其中：固定资产投资2117.33万元，

占项目总投资的76.09%；流动资金665.19万元，占项目总投资的23.91%。

（六）工艺技术

投资项目的成品及包装材料分别贮存于各分类仓库内；仓库应符合所

存物品的存放条件、建立责任体系、保证存放安全；项目承办单位建立健

全ISO9000质量管理和质量保证体系和检验手段，确保项目所需物品存储

纳入这一体系统一管理。项目所需原料来源应稳定可靠，建成后应保证原

料的质量和连续供应。项目建成投产后，项目承办单位物资采购部门根据

生产实际需要制定原材料采购计划，掌握原材料的性能、特点，在不影响

产品质量的前提下，对项目所需原辅材料合理地选择品种、规格、质量，

为企业节约使用原材料降低采购成本。

工艺技术节能环境保护与安全生产原则：项目建设中所采用的工艺技

术必须体现“以人为本”的原则，确保安全生产和清洁生产的需要；项目

产品生产工艺技术要有利于环境保护，不会对生产区域内外环境质量构成

危险性或威胁性影响；尽量采用节能、污染少的生产工艺和技术装备，从

源头上消除和控制污染源，严格贯彻“三同时”原则，搞好“三废”治理；项目承办单位要大力采用现代化的生态技术、节能技术、节水技术、循环

技术和信息技术，采纳国际上先进的生产过程管理和环境管理标准，要求

经济效益和环境效益实现最佳平衡。

（七）项目建设期限和进度

项目建设周期12个月。

该项目采取分期建设，目前项目实际完成投资2034.74万元，占计划

投资的73.13%。其中：完成固定资产投资1259.03万元，占总投资的

61.88%；完成流动资金投资775.71，占总投资的38.12%。

项目建设进度一览表

（八）主要建设内容和规模

该项目总征地面积7637.15平方米（折合约11.45亩），其中：净用地面积7637.15平方米（红线范围折合约11.45亩）。项目规划总建筑面积11532.10平方米，其中：规划建设主体工程7101.59平方米，计容建筑面积11532.10平方米；预计建筑工程投资814.38万元。

项目计划购置设备共计70台（套），设备购置费854.59万元。

（九）设备方案

工艺装备以专用设备为主，必须达到技术先进、性能可靠、性能价格比合理，使项目承办单位能够以合理的投资获得生产高质量项目产品的生产设备；对生产设备进行合理配置，充分发挥各类设备的最佳技术水平；在满足生产工艺要求的前提下，力求经济合理；充分考虑设备的正常运转费用，以保证在生产相关行业相同产品时，能够保持最低的生产成本。项目承办单位通过对相关工艺设备、检测设备生产厂家的技术力量及信誉程度进行详细的了解，并通过现场参观、技术交流等方式，对生产厂家的生产设备、质量控制等环节进行较全面的对比和分析，在此基础上，初步确定在交货期、质量保障、价格优惠、售后服务及付款方式等方面都有一定优势的厂家。

项目拟选购国内先进的关键工艺设备和国内外先进的检测设备，预计购置安装主要设备共计70台（套），设备购置费854.59万元。

第二章发展规划、产业政策和行业准入分析

一、发展规划分析

（一）建设背景

靶材是溅射薄膜制备的源头材料，又称溅射靶材。是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。

高纯度溅射靶材主要应用于电子元器件制造的物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition，PVD）工艺。PVD镀膜目前主要有三种形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。

为推动国内靶材产业发展，增强产业创新能力和国际竞争力，带动传统产业改造和产品升级换代，我国制定了一系列靶材行业相关支持政策。

靶材行业产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个靶材产业链中的关键环节。

靶材产业下游包括半导体、光伏电池、平板显示器等等，其中，半导体芯片行业用的金属靶材，主要种类包括：铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯靶材，以及镍铂、钨钛等合金类的靶材。铜靶和钽靶通常配合起来使用。