化学镀镍配方成分,化学镀镍配方分析技术及生产工艺

化学镀镍配方成分,化学镀镍配方分析技术及生产工艺
化学镀镍配方成分,化学镀镍配方分析技术及生产工艺

化学镀镍配方成分分析,镀镍原理及工艺技术导读:本文详细介绍了化学镍的研究背景,分类,原理及工艺等,本文中的配方数据经过修改,如需更详细资料,可咨询我们的技术工程师。

禾川化学引进国外配方破译技术,专业从事化学镍成分分析、配方还原、研发外包服务,为化学镍相关企业提供一整套配方技术解决方案。

一、背景

化学镀镍也叫做无电解镀镍,是在含有特定金属盐和还原剂的溶液中进行自催化反应,析出金属并在基材表面沉积形成表面金属镀层的一种优良的成膜技术。化学镀镍工艺简便,成本低廉,镀层厚度均匀,可大面积涂覆,镀层可焊姓良好,若配合适当的前处理工艺,可以在高强铝合金和超细晶铝合金等材料上获得性能良好的镀层,因此在表面工程和精细加工领域得到了广泛应用。

禾川化学技术团队具有丰富的分析研发经验,经过多年的技术积累,可以运用尖端的科学仪器、完善的标准图谱库、强大原材料库,彻底解决众多化工企业生产研发过程中遇到的难题,利用其八大服务优势,最终实现企业产品性能改进及新产品研发。

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二、化学镀工艺

化学镀工艺流程为:试样打磨-清洗-封孔-布轮抛光-化学除油-水洗-硝酸除锈-水洗-活化-化学镀-水洗-钝化-水洗-热水封闭-吹干。

图1 化学镀的工艺流程图

三、化学镀镍分类

化学镀镍的分类方法种类多种多样,采用不同的分类规则就有不同的分类法。

四、化学镀镍原理

目前以次亚磷酸盐为还原剂的化学镀镍的自催化沉积反应,已经提出的理论有羟基-镍离子配位理论、氢化物理论、电化学理论和原子氢态理论等,其中以原子氢态理论得到最为广泛的认同。

该理论认为还原镍的物质实质上就是原子氢。在以次亚磷酸盐为还原剂还原Ni2+时,可以以下式子表示其总反应:

3NaH2PO2+3H2O+NiSO4→3NaH2PO3+H2SO4+2H2+Ni(1)

也可表达为:

Ni2++H2PO2-+H2O→H2PO3-+2H++Ni(2)

其过程可分为以下四步:首先,加热化学沉积镍-磷合金镀液,此时镀液并未马上反应,而是金属首先进行催化,H2PO2-在水溶液中发生脱氧生成了

H2PO3-,同时释放出原子态活性氢。

H2PO2-+H2O→H2PO3-+2H吸附+H+(3)

然后,原子态活性氧被吸附在催化金属表面上而使其活化,把水溶液中的Ni2+还原生成的金属镍同时在催化金属表面上进行沉积。

Ni2++2H吸附→2H++Ni(4)

再后,在催化金属表面上的原子态活性复与H2PO2-反应将其还原为P。与此同时,因为金属的催化作用使次H2PO2-发生了分解,生成了亚磷酸根,并脱附析出氧气分子。

H2PO2-+H→P+H2O+OH-(5)

H2PO2-+H2O→H2PO3-+H2(6)

2H→H2↑(7)

最后,镍原子和磷原子共沉积,并形成镍-磷合金层。

P+3Ni→Ni3P(8)

以上反应全部都需要在较高的温度(一般为60 <95℃)下提供能量,并在催化活性表面上进行。反应除了生成金属ni之外,还还生成了p、h2PO3-和H2,反应过程中生成的H+使镀液pH下降,酸性更强。反应速率与镀液成分、pH和温度以及其他因素都有关系。

从方程(4) (5) (8)可以发现,反应生成的镍与磷结合生成镀层合金。所以实际上若还原剂使用次亚磷酸盐则反应形成的镀层是镍-磷合金,其含磷量约在

3-15%之间。

同时可以看到(2) (5) (6)反应过程相互竞争:

Ni2++H2PO2-+H2O→H2PO3-+2H++Ni(2)

H2PO2-+H→P+H2O+OH-(5)

H2PO2-+H2O→H2PO3-+H2(6)

(2)(5)(6)反应过程表明,若在温度不变,镀液pH值升高,则有利于反应式(2)的进行,即会提高镍的还原速度,同时磷的还原速度反而会下降,因而此时得到了磷含量下降的镀层;反之,降低镀液pH值,对反应(5)、(6) 两过程的进行非常有利,此时镍离子被还原的速度会下降,磷被还原的速度会进一步提高,H2的析出量也升高。

4.化学镀镍液的组成

镀液的组成包括主盐(镍盐),络合剂、缓冲剂、加速剂、还原剂、稳定剂、湿润剂、光亮剂、去应力剂、pH调整剂等。

通过对化工产品的配方分析还原,有利于企业了解现有技术的发展水平,实现知己知彼;有利于在现有产品上进行自主创新,获得知识产权;有利于在生产过程中发现问题、解决问题。通过对化工产品的配方改进,配方研发,可以加快企业产品更新换代的速度,提升市场竞争力,因此,对于化工产品的分析、研发已变得刻不容缓!

1)主盐(镍盐)

主盐即含镀层金属离子的盐,镍盐是化学镀镍溶液中的主盐,主要有

Ni2SO4、NiCl2、醋酸镍、磺酸镍等,其主要作用是提供Ni2+。目前应用最多的就是硫酸镍。由化学反应速率影响因素可知,主盐浓度越小时沉积速率就越慢,生产效率就越低,反之,主盐含量越高时沉积速率越快,生产效率越高,但主盐

浓度过大时会导致反应速度过快,就容易使表面沉积的金属镀层比较粗糙,而且镀液稳定性降低,容易发生自分解现象,降低镀液稳定性。

2)还原剂

还原剂是提供电子以还原主盐离子的试剂。主要有NaH2PO2、NaBH4、二甲基氨硼烷、肼、二乙基氨硼烷等。

镀液还原剂若使用NaBH4、氨基硼烷等硼化物时可得Ni-B合金;若采用N2H4作还原剂,获得的金属镀层的纯度相对较高。在酸性镀镍液中采用的还原剂常采用NaH2PO2,此时得到的镀层为Ni-P合金。NaH2PO2的优点是采购价格便宜、易溶于水、镀液较易控制、镀层性能优良等。一般情况下,NaH2PO2使用量与主盐量的关系为:

溶液中的主盐和还原剂的反应速度受还原剂浓度的影响很大,还原剂浓度越大,其还原能力越强,反应速度就会加快;但是还原剂浓度过高则导致溶液发生自分解反应,工艺控制难度加大,获得的金属沉积镀层的外观也难以达到理想要求。3)络合剂

络合剂具有重要的作用,在化学镀镍工艺中的地位仅次于主盐和还原剂。如果化学镀镍镀液中未添加络合剂,因为镍的氧氧化物的溶解度比较小,当镀液为酸性溶液时,发生水解非常容易生成浅绿色絮状的含水氧氧化镍沉淀所以常在镀液中添加络合剂。

化学镀镍镀液常用的络合剂有:柠檬酸、苹果酸、丙二酸、丁二酸、琥珀酸、羟基乙酸、氨基乙酸、乳酸、酒石酸、EDTA(乙二胺四乙酸)、HEDP(羟基乙叉二膦酸)、ATMP(氨基三甲叉膦酸)、乙二醇酸。

络合剂的主要作用是:络合剂能够与金属离子发生络合反应,生成络合物,从而降低了游离态的金属离子的浓度,能够减少金属离子的水解反应而防止镀液因而产生的自然分解,使镀液的稳定性增强。当然,络合剂浓度也不能太高,因为其浓度过高容易导致游离态的金属离子浓度过低,使反应变慢进而导致金属沉积速率变慢,所以选择合适的络合剂用量也非常关键。不同络合剂在施镀过程中会对施镀反应有一定影响,无论是反应速率还是镀层组成及特征。有时为了得到性能优良的镀层同时保持合适的反应沉积速率,常常将多种络合剂复合使用以期取长补短、相辅相成,从而取得更好的综合效果。

另外,焦磷酸盐、柠檬酸盐和铵盐等可在碱性化学镀镍溶液使用,比如使用柠檬酸钠和氯化铵做络合剂时,以镍盐总量的1. 5倍添加较好。

4)稳定剂

稳定剂其作用是升高镀液的稳定性。其原理是在固体微粒表面有一些催化点,在这些催化点上会有稳定剂的离子进行吸附,从而防止或者减少了镍离子的还原。化学镀镍镀液属于热力学不稳定体系,在施镀过程中镀液容易受到污染,还可能局部过热、pH值变化、存在有催化活性的固体颗粒等异常情况的影响而导致镀液失效。因为稳定剂同时也是毒化剂,所以加入量不能过大,否则将会因为中毒而使镀液失去活性,镀速降低甚至导致施镀失败,因此只需少量添加即可。

化学镀镍的稳定剂主要有四类:①重金属离子如铅、铋、锌、镉、锡、锑、铊、等;②含氧酸盐,如钼酸盐、碘酸盐;③含硫化合物,如硫脲、异硫脲、四

氮唑丙烷磺酸盐、羟基苯并噻唑、黄原酸酯、硫代硫酸盐、硫代邻苯二甲酸酐等;

④有机酸衍生物,如甲基四羟邻苯二甲酸酐、六氯内亚甲醛四羟邻苯二甲酸酐等。稳定剂除了能使镀液稳定外有的还有光亮作用加速作用和提高镀层耐蚀性等作用。要特别注意,即使稳定剂的使用量是微量的,也会影响镀层的各项性质,若使用不合理容易导致镀层出现缺陷(如疏松、小孔、耐蚀性差等),所以其选择和使用必须慎重。一般用Pd2+作为酸性化学镀镍溶液的稳定剂时,其使用量只有数毫克/升,而在碱性镀液中它的使用量反而相对较大。

5)缓冲剂

缓冲剂是由一些弱酸(或弱碱)和它们对应的盐混合而成,其溶液能够抵抗少量外来的强碱(或强酸)或者适当的稀释而保持pH值几乎不变,那么这些弱酸(或弱碱)和它们对应的盐就叫做缓冲剂。

在酸性化学镀镍液中最有效的缓冲剂是有机一元和二元酸的钾盐和钠盐,因为较高相对分子质量的酸会形成不溶性的镍盐,最常用的一元酸是醋酸和丙酸或它们的盐类,二元酸(如丙二酸和丁二酸)是更有效的缓冲剂,但丙二酸价格贵不适于工业应用,有些配方既含有一元酸也含有二元酸。此外硼酸也是有效的缓冲剂。

6)促进剂

促进剂是指加入镀液中能显著提高沉积速度的物质,在加入强配位剂的镀液中Ni2+离子受到强的配位,其还原速度受到抑制,在这种镀液中加入第二种配位剂以减弱镍酸离子的配位状态或改变镍配离子的结构,就可达到加快沉积速度的目的。其中丙酸、丁二酸、氨基乙酸、氟化物、硼酸盐等都是常用的促进剂。7)表面活性剂

在镀液中表面活性剂也被称作湿润剂,其主要作用是提高镀件表面的浸润性,有利于使气体逸出,改善镀层的孔隙率,常采用阴离子或非离子表面活性剂。

一般情况下,表面活性剂的添加较适宜的数量为镀液总质量的0.1%-0.15%。目前化学镀镍工艺中常采用烷基苯磺酸钠、烷基磺酸钠和十二烷基脂肪酸钠等,它们都属于阴离子型表面活性剂;非离子表面活性剂有6501净洗剂、TX-9和TX-10等。

8)光亮剂

光亮剂的作用是增强化学镍层的光亮度,使镀件具有一定装饰效果。化学镀镍层刚镀出时通常就是半光亮的,可以添加一些光亮剂来提高镀层的光亮度,如萘二磺酸钠、对甲苯磺酰胺、硫脲等。在酸性化学镀镍液中均能产生光亮沉积层,硒酸、镉离子、碲和铅离子也都是有效的光亮剂,而且这些物质的加入量也有像有机化合物那样严格。除此之外,化学镀镍镀液有时还可添加适量的应力剂(降低镀层的内应力,提高镀层与基体的结合力)和pH值调整剂(如H2SO4、HCl、NaOH、氨水等),以提高施镀效果。

化学镀镍配方成分,化学镀镍配方分析技术及生产工艺

化学镀镍配方成分分析,镀镍原理及工艺技术导读:本文详细介绍了化学镍的研究背景,分类,原理及工艺等,本文中的配方数据经过修改,如需更详细资料,可咨询我们的技术工程师。 禾川化学引进国外配方破译技术,专业从事化学镍成分分析、配方还原、研发外包服务,为化学镍相关企业提供一整套配方技术解决方案。 一、背景 化学镀镍也叫做无电解镀镍,是在含有特定金属盐和还原剂的溶液中进行自催化反应,析出金属并在基材表面沉积形成表面金属镀层的一种优良的成膜技术。化学镀镍工艺简便,成本低廉,镀层厚度均匀,可大面积涂覆,镀层可焊姓良好,若配合适当的前处理工艺,可以在高强铝合金和超细晶铝合金等材料上获得性能良好的镀层,因此在表面工程和精细加工领域得到了广泛应用。 禾川化学技术团队具有丰富的分析研发经验,经过多年的技术积累,可以运用尖端的科学仪器、完善的标准图谱库、强大原材料库,彻底解决众多化工企业生产研发过程中遇到的难题,利用其八大服务优势,最终实现企业产品性能改进及新产品研发。 样品分析检测流程:样品确认—物理表征前处理—大型仪器分析—工程师解谱—分析结果验证—后续技术服务。有任何配方技术难题,可即刻联系禾川化学技术团队,我们将为企业提供一站式配方技术解决方案! 二、化学镀工艺 化学镀工艺流程为:试样打磨-清洗-封孔-布轮抛光-化学除油-水洗-硝酸除锈-水洗-活化-化学镀-水洗-钝化-水洗-热水封闭-吹干。

图1 化学镀的工艺流程图 三、化学镀镍分类 化学镀镍的分类方法种类多种多样,采用不同的分类规则就有不同的分类法。 四、化学镀镍原理 目前以次亚磷酸盐为还原剂的化学镀镍的自催化沉积反应,已经提出的理论有羟基-镍离子配位理论、氢化物理论、电化学理论和原子氢态理论等,其中以原子氢态理论得到最为广泛的认同。 该理论认为还原镍的物质实质上就是原子氢。在以次亚磷酸盐为还原剂还原Ni2+时,可以以下式子表示其总反应: 3NaH2PO2+3H2O+NiSO4→3NaH2PO3+H2SO4+2H2+Ni(1) 也可表达为: Ni2++H2PO2-+H2O→H2PO3-+2H++Ni(2)

化学镀镍液的主要组成及其作用

化学镀镍液的主要组成及其作用 优异的镀液配方对于产生最优质的化学镀镍层是必不可少的。化学镀镍溶液应包括:镍盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、促进剂、稳定剂、光亮剂、润湿剂等。 主盐 化学镀镍溶液中的主盐就是镍盐,如硫酸镍、氯化镍、醋酸镍等,由它们提供化学镀反应过程中所需要的镍离子。早期曾用过氯化镍做主盐,但由于氯离子的存在不仅会降低镀层的耐蚀性,还产生拉应力,所以目前已很少有人使用。同硫酸镍相比用醋酸镍做主盐对镀层性能是有益的。但因其价格昂贵而无人使用。其实最理想的镍离子来源应该是次磷酸镍,使用它不至于在镀浴中积存大量的硫酸根,也不至于在使用中随着补加次磷酸钠而带入大量钠离子,同样因其价格因素而不能被工业化应用。目前应用最多的就是硫酸镍,由于制造工艺稍有不同而有两种结晶水的硫酸镍。因为硫酸镍是主盐,用量大,在镀中还要进行不断的补加,所含杂质元素会在镀液的积累,造成镀液镀速下降、寿命缩短,还会影响到镀层性能,尤其是耐蚀性。所以在采购硫酸镍时应该力求供货方提供可靠的成分化验单,做到每个批量的质量稳定,尤其要注意对镀液有害的杂质尤其是重金属元素的控制。 还原剂 用得最多的还原剂是次磷酸钠,原因在于它的价格低、镀液容易控制,而且合金镀层性能良好。次磷酸钠在水中易于溶解,水溶液的pH值为6。是白磷溶于NaOH中,加热而得到的产物。目前国内的次磷酸钠制造水平很高,除了国内需求外还大量出口。 络合剂 化学镀镍溶液中除了主盐与还原剂以外,最重要的组成部分就是络合剂。镀液性能的差异、寿命长短主要取决于络合剂的选用及其搭配关系。 络合剂的第一个作用就是防止镀液析出沉淀,增加镀液稳定性并延长使用寿命。如果镀液中没有络合剂存在,由于镍的氢氧化物溶解度较小,在酸性镀液中便可析出浅绿色絮状含水氢氧化镍沉淀。硫酸镍溶于水后形成六水合镍离子,它有水解倾向,水解后呈酸性,这时即析出了氢氧化物沉淀。如果六水合镍离子中有部分络合剂存在则可以明显提高其抗水解能力,甚至有可能在碱性环境中以镍离子形式存在。不过,pH值增加,六水合镍离子中的水分子会被OH根取代,促使水解加剧,要完全抑制水解反应,镍离子必须全部螯合以得到抑制水解的最大稳定性。镀液中还有较多次磷酸根离子存大,但由于次磷酸镍溶液度较大,一般不致析出沉淀。镀液使用后期,溶液中亚磷酸根聚集,浓度增大,容易析出白色的NiHPO3.6H2O沉淀。加入络合剂以后溶液中游离镍离子浓度大幅度降低,可以抑制镀液后期亚磷酸镍沉淀的析出。 络合剂的第二个作用就是提高沉积速度,加络合剂后沉积速度增加的数据很多。加入络合剂使镀液中游离镍离子浓度大幅度下降,从质量作用定律看降低反应物浓度反而提高了反应速度是不可能的,所以这个问题只能从动力学角度来解释。简单的说法是有机添加剂吸附在工件表面后,提高了它的活性,为次磷酸根释放活性原子氢提供更多的激活能,从而增加了沉积反应速度。络合剂在此也起了加速剂的作用。 能应用于化学镀镍中的络合剂很多,但在化学镀镍溶液中所用的络合剂则要求它们具有较大的溶解度,存在一定的反应活性,价格因素也不容忽视。目前,常用的络合剂主要是一些脂肪族羧酸及其取代衍生物,如丁二酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸及甘氨酸等,或用它们的盐类。在碱浴中则用焦磷酸盐、柠檬酸盐及铵盐。不饱和脂肪酸很少使用,因不饱和烃在饱和时要吸收氢原子,降低还原剂的利用率。而常见的一元羧酸如甲酸、乙酸等则很少使用,乙酸常用作缓冲剂,丙酸则用作加速剂。 稳定剂 化学镀镍溶液是一个热力学不稳定体系,由于种种原因,如局部过热、pH值提高,或

碱性化学镀镍液配方

碱性化学镀镍液配方(2011/11/06 10:18) 目录:公司动态 浏览字体:大中小配方l 低温化学刷镀镍 硫酸镍20g/L 次磷酸钠30g/L 柠檬酸钠l0g/L 氯化铵30g/L 氢氧化铵适量 水加至1L 工艺条件:pH值8.5~9.5,温度30℃。 化学镀镍是以钯为催化剂,以次磷酸盐为还原剂的氧化还原过程,所获得的金属层实质 上是镍磷合金层。 本剂用于刷镀技术的化学镀镍。 配方2 低温化学镀镍 硫酸镍30g/L 次亚磷酸钠20g/L 柠檬酸铵50g/L 水加至lL 工艺条件:pH值8.5—9.5,温度30—40℃。 配方3 化学镀镍(一) 次亚磷酸钠l0g/L 氯化镍30g/L 氯化铵50g/L 水加至1L 工艺条件:pH值8—10,温度90℃。 配方4 化学镀镍(二) 氯化镍30.00g/L 乙二胺62.00g/L 巯基乙酸l.00g/L 氯化铅0.01g/L 硼氢化钠0.50g/L 水加至1.00L 工艺条件:pH值12,温度50℃。 配方5 ZLl04铸铝化学镀镍 工艺流程:ZLl04铸件→除油→热水洗→冷水洗→流动水洗→烘干→酸蚀去膜→水洗→流 水洗→浸锌镍合金→水洗→水洗→镀碱性镍→水洗→水洗→化学镀镍→水洗→水洗→热水烫 干→烘干→检验→成品。 主要工艺配方如下: ① 除油 碳酸钠30—50g/L 磷酸钠30—40g/L 洗涤剂5—15mL /L 温度70一80℃ 采用弱碱性化学除油,除去高压压铸过程中铸件表面的石墨和少量油脂,除油后表面发 灰。 ② 酸蚀去膜 硝酸75% 氢氟酸25% 工艺条件:温度常温,时间l~3s。 酸蚀可除去表面灰膜,使其暴露出银白色基体。 ③ 浸锌镍合金 氢氧化钠lg /L 酒石酸钾钠50g/L 氯化镍16g/L 三氯化铁4g/L 硝酸钠2g/L 氧化锌16g/L 工艺条件:温度20—45℃,时间8—14s。 酸蚀去膜后,带水状态转入浸锌镍合金,铸铝表面迅速生成一层发灰的锌镍合金层。 ④ 镀碱性镍 硫酸镍26g/L 次亚磷酸钠26g/L 焦磷酸钠50g/L 氨水24mL/L

电镀镍故障的影响与原因分析1

电镀镍故障的影响与原因分析 2009-8-12 1.镀镍层表面针孔 镀镍层(包括电镀镍和化学镀镍)表面出现针孔是镀镍中最常见的故障之一,对于镀镍层来说,有针孔就不能有效的防护基体材料,环境中的水分子或其他腐蚀介质就会通过镀层针孔发生腐蚀(图4-1)。针孔大多是镀镍过程中气体(氢气)在镀件表面上停留造成的。针孔既属于麻点,但又不同于麻点,它像流星一样,往往带有向上的"尾巴",而麻点仅仅是镀层上微小的凹坑,一般没有向上的"尾巴",针孔有深有浅,有人把针孔分为三种类型:①基体缺陷型(非圆形凹孔),与基体材料表面缺陷状态有关;②氢气析出型(蝌蚪式针孔),是零件表面析氢痕迹造成的;③氢气停留型(针孔较大,像无柄的梨),是阴极析出氢气停留造成的,一般是镀镍液中表面活性剂太少的原因。图4-1镀镍层表面出现的针孔 造成镀镍层表面针孔原因主要有:零件镀前处理不良,镀液中有油或有机杂质过多,镀液中含有固体微粒,镀液中没有加防针孔剂或防针孔剂太少,镀液中铁等杂质过多,镀液的pH 值太高或阴极电流密度过大,镀液中硼酸含量太少和镀液温度太低等。这些因素都有可能导致镀镍层表面产生针孔缺陷。 由于不同原因引起的针孔现象略有不同,所以在分析故障时,首先要观察故障现象。如镀前处理不良,它仅仅使镀件局部表面上的油或锈未彻底除去,造成这些部位上气体容易停留而产生针孔,所以这种因素造成的针孔现象是局部密集的,无规则的;镀液中有油或有机杂质过多引起的针孔往往出现在零件的向下面和挂具上部的零件上;镀液中固体微粒产生的镀镍层针孔较多出现在零件的向上面;镀液中防针孔剂太少造成的针孔在零件的各个部位都有;镀液中铁杂质过多、pH值过高和阴极电流密度较大引起的针孔较多地出现在零件的尖端和边缘(即高电流密度处),硼酸含量太少产生的针孔较多地出现在零件的下部,镪液温度过低造成的针孔是稀少的,在零件的各个部位都有可能出现。硼酸作为镀镍液中的缓冲剂,含量过低时pH值容易升高,导致形成金属氢氧化物或碱式盐夹杂于镀镍层内,从而使镀层产生针孔、粗糙和发雾等故障,所以镀镍液中硼酸含量,一般不应低于309/L。

钢铁的化学镀镍磷

钢铁的化学镀镍磷 金属1002 陈浩 3100702039 摘要:本文简要介绍了钢铁化学镀镍磷的原理与工艺流程,简述了镀层的性能及技术指标,随之分析了影响镀层性能的主要因素,并据此给出了工艺中的除锈配方和镀液配方,最后对试验参数进行了测定与比较,得出了一定的结论。 关键词:化学镀镀镍磷表面强化耐磨耐腐蚀性 一.前言 化学镀镍磷工艺是近年来迅速发展起来的一种新型表面保护和表面强化技术手段,具有广泛的应用前景。目前化学镀镍磷合金已广泛地应用在石油化工、石油炼制、电子能源、汽车、化工等行业。石油炼制和石油化工是其最大的市场,并且随着人们对这一化学镀特性的认识,它的应用也越来越广泛,主要用在石油炼制、石油化工的冷换设备上,化学镀镍磷能够显著提高设备的耐磨、耐蚀性能,延长其寿命,性能优于目前使用的有机涂料,而且适用于碳钢、铸铁、有色金属等不同基材。 二.实验原理 化学镀镍磷合金是一种在不加电流的情况下,利用还原剂在活化零件表面上自催化还原沉积得到镍磷镀层的方法。其主要反应为应用次亚磷酸钠还原镍离子为金属镍,即在水溶液中镍离子和次亚磷酸根离子碰撞时,由于镍触媒作用析出原子态氢,而原子态氢又被催化金属吸附并使之活化,把水溶液中的镍离子还原为金属镍形成镀层,另外次亚磷酸根离子由于在催化表面析出原子态氢的作用,被还原成活性磷,与镍结合形成Ni-P合金镀层。 以次磷酸钠为还原剂的化学镀镍磷工艺,其反应机理,现普遍被接受的是“原子氢态理论”和“氢化物理论”。下面介绍“原子氢态理论”,其过程可分为以下四步: 1、化学沉积镍磷合金镀液加热时不起反应,而是通过金属的催化作用,次亚磷酸根在水溶液中脱氢而形成亚磷酸根,同时放出初生态原子氢。 H 2PO 2 -+H 2 O→HPO 3 -+2H+H-

化学镀镍溶液的组成及其作用

化学镀镍溶液的组成及其作用 主盐: 化学镀镍溶液中的主盐就是镍盐,一般采用氯化镍或硫酸镍,有时也采用氨基磺酸镍、醋酸镍等无机盐。早期酸性镀镍液中多采用氯化镍,但氯化镍会增加镀层的应力,现大多采用硫酸镍。目前已有专利介绍采用次亚磷酸镍作为镍和次亚磷酸根的来源,一个优点是避免了硫酸根离子的存在,同时在补加镍盐时,能使碱金属离子的累积量达到最小值。但存在的问题是次亚磷酸镍的溶解度有限,饱和时仅为35g/L。次亚磷酸镍的制备也是一个问题,价格较高。如果次亚磷酸镍的制备方法成熟以及溶解度问题能够解决的话,这种镍盐将会有很好的前景。 还原剂: 化学镀镍的反应过程是一个自催化的氧化还原过程,镀液中可应用的还原剂有次亚磷酸钠、硼氢化钠、烷基胺硼烷及肼等。在这些还原剂中以次亚磷酸钠用的最多,这是因为其价格便宜,且镀液容易控制,镀层抗腐蚀性能好等优点。 络合剂: 化学镀镍溶液中的络合剂除了能控制可供反应的游离镍离子的浓度外,还能抑制亚磷酸镍的沉淀,提高镀液的稳定性,延长镀液的使用寿命。有的络合剂还能起到缓冲剂和促进剂的作用,提高镀液的沉积速度。化学镀镍的络合剂一般含有羟基、羧基、氨基等。 在镀液配方中,络合剂的量不仅取决于镍离子的浓度,而且也取决于自身的化学结构。在镀液中每一个镍离子可与6个水分子微弱结合,当它们被羟基,羟基,氨基取代时,则形成一个稳定的镍配位体。如果络合剂含有一个以上的官能团,则通过氧和氮配位键可以生成一个镍的闭环配合物。在含有0.1mol的镍离子镀液中,为了络合所有的镍离子,则需要含量大约0.3mol的双配位体的络合剂。当镀液中无络合剂时,镀液使用几个周期后,由于亚磷酸根聚集,浓度增大,产生亚磷酸镍沉淀,镀液加热时呈现糊状,加络合剂后能够大幅度提高亚磷酸镍的沉淀点,即提高了镀液对亚磷酸镍的容忍量,延长了镀液的使用寿命。 不同络合剂对镀层沉积速率、表面形状、磷含量、耐腐蚀性等均有影响,因此选择络合剂不仅要使镀液沉积速率快,而且要使镀液稳定性好,使用寿命长,镀层质量好。 缓冲剂: 由于在化学镀镍反应过程中,副产物氢离子的产生,导致镀液pH值会下降。试验表明,每消耗1mol的Ni2+同时生成3mol的H+,即就是在1L镀液中,若消耗0.02mol的硫酸镍就会生成0.06mol的H+。所以为了稳定镀速和保证镀层质量,镀液必须具备缓冲能力。缓冲剂能有效的稳定镀液的pH值,使镀液的pH

最新上海市高三一模化学试卷(含答案)

最新高考化学精品资料 高三化学试卷 考生注意: 1.本试卷满分150分,考试时间120分钟。 2.本考试设试卷和答题纸两部分,试卷包括试题与答题要求;所有答案必须涂或写在答题纸上;做在试卷上一律不评分。 3.答题纸与试卷在试题编号上是一一对应的,答题时应特别注意,不能错位。 相对原子质量:H-1 C-12 N-14 O-16 Na-23 S-32 Cl-35.5 Ca-40 Fe-56 第I卷(共66分) 一、选择题(本题共10分。每小题2分,每题只有一个正确选项) 1.不属于“雾霾”等灾害性天气治理的措施是 A.外出时使用PM2.5口罩,减少有害物质的吸入 B.改燃煤为燃气,可减少废气中SO2等有害物质的量 C.利用太阳能、潮汐能、风力发电,以获取清洁能源 D.使用“乙醇汽油”,减少汽车尾气中有害气体的排放 2.2-氯丁烷常用于有机合成等,有关2-氯丁烷的叙述正确的是 A.分子式为C4H8Cl2 B.与硝酸银溶液混合产生不溶于稀硝酸的白色沉淀 C.微溶于水,可混溶于乙醇、乙醚、氯仿等多数有机溶剂 D.与氢氧化钠、乙醇在加热条件下的消去反应有机产物只有一种 3.在陆地生态系统研究中,2H、13C、15N、18O、34S等常用作环境分析指示物。下列说法正确的是A.34S原子核内中子数为16 B.16O2比18O2沸点更低 C.2H+的酸性比1H+的酸性更强D.13C和15N原子核内的质子数相差2 4.某种解热镇痛药的结构简式为: 当它完全水解时,可能得到的产物有 A.2种B.3种C.4种D.5种 5.“碳捕捉技术”是指通过一定的方法将工业生产中产生的CO2分离出来并利用。如可利用NaOH 溶液来“捕捉”CO2,其基本过程如下图所示(部分条件及物质未标出)。

配制化学镍

化学镍配伍 硫酸镍400-460g/L A剂 次磷酸钠180-200g/L+络合剂+稳定剂+促进剂 B 剂 次磷酸钠480-520g/L+光剂+稳定剂 C剂 化学镀镍 化学镀镍已成为国际上表面处理领域中发展最快的工业技术之一,以其优良的性能,在几乎所有的工业部门都得到了广泛应用,每年总产值达10亿美元,而且每年还以5%~7%的速度递增。 一、性质和用途 用次磷酸钠作还原剂获得的镀层实际上是镍磷合金。依含磷量不同可分为低磷(1%~4%)、中磷(4%~10%)和高磷(10%~12%)。从不同pH值的镀液中可获得不同含磷量的镀层,在弱酸性液(pH=4~5)中可获得中磷和高磷合金;从弱碱性液(pH=8~10)中可获得低磷

和中磷合金。含磷为8%以上的Ni-P合金是一种非晶态镀层。因无晶界所以抗腐性能特别优良。经过热处理(300~400℃)变成非晶态与晶态的混合物时硬度可高达HV=1155;化学复合镀层硬度更高,如Ni-P-SiC,镀态HV=700,350℃热处理后可达到HV=1300。非晶态合金是开发新材料的方向,现已成为工程学科的一大热门。 近年低磷化学镀镍是研究开发的又一热点,含磷1%~4%的Ni-P合金,镀态的HV=700,热处理后接近硬铬的硬度,是替代硬铬层的理想镀层,又是可在铝上施镀的好镀种。 化学镀层的种类、性质和主要用途,列于表3-1-2。 化学镀镍层与电镀镍层的性能比较,列于表3-1-3。 表3-1-2 化学镀镍种类性质和主要用途

表3-1-3 化学镀镍与电镀镍的性能比较 化学镀镍的脆性较大,在钢上仅能经受2.2%的塑性变形而不出现裂

详谈pcb钻孔孔壁镀铜开裂问题及解决方案-豆丁

详谈pcb钻孔孔壁镀铜开裂问题及解决方案 -豆丁 篇一:镀铜的工艺过程 体钯活化液过早聚沉。因此,在活化处理前要先在含有Sn2+的酸性溶液中进行预浸处理1~2min,取出后直接浸入胶体钯活化液中进行活化处理。配制时应首先将盐酸与水相混合,然后再加入SnCl2?2H2O ,搅拌溶解,这样可防止SnCl2水解。 酸基胶体钯预浸液配方: 氯化亚锡() 70~100g/L 盐酸37%(体积) 200-300ml/L 盐基胶体钯预浸液配方: 30g/L HCl 30ml/l NaCl200g/l O ║ H2N-C-NH250g/l b.活化处理-在室温条件下处理3~5min,在处理过程中应不断移动覆铜箔板,使活化液在孔内流动,以便在孔壁上形成均匀的催化层。c.解胶处理-活化处理后,在基材

表面吸附着以钯粒子为核心,在钯核的周围,具有碱式锡酸盐的胶体化合物。在化学镀铜前,应将碱式锡酸盐去除,使活性的钯晶核充分暴露出来,从而使钯晶核具有非常强而均匀的活性。经过解胶处理再进行化学镀铜,不但提高了胶体钯的活性,而且也显著提高化学镀铜层与基材间的结合强度。常用的解胶处理液是5%的氢氧化钠水溶液或1%氟硼酸水溶液。解胶处理在室温条件下处理1~2min,水洗后进行化学镀铜。 d.胶体铜活化液简介: 明胶 2g/l /l DMAB(二甲胺基硼烷)5g/l 水合肼 10 g/l 钯20ppm 配制过程:首先分别将明胶和硫酸铜用温水(40度C)溶解后将明胶加入至硫酸铜的溶液中,用25%H2SO4将PH值调至2..5当温度为45度C时,将溶解后DMAB在搅拌条件下缓慢加入上述的混合溶液中,并加入去离子稀释至1升,保温40~45度C,并搅拌至反应开始(约5~10分钟)溶液的颜色由蓝再变成绿色。放置24小时颜色变成红黑色后加入水合肼。 篇二:PCB线路板镀铜表面粗糙问题原因分析

化学镀镍溶液的各种成分

化学镀镍溶液的各种成分 优异的化学镀镍溶液产生优异的化学镀镍层是必不可少的。化学镀镍溶液应包括:镍盐、还原剂、络合剂、缓冲剂、加速剂、稳定剂、光亮剂、润湿剂等。 主盐 化学镀镍溶液中的主盐就是镍盐,如硫酸镍、氯化镍、醋酸镍等,由它们提供化学镀反应过程中所需要 的镍离子。早期曾用过氯化镍做主盐,但由于氯离子的存在不仅会降低镀层的耐蚀性,还产生拉应力,所以目前已很少有人使用。同硫酸镍相比用醋酸镍做主盐对镀层性能是有益的。但因其价格昂贵而无人使用。其实最理想的镍离子来源应该是次磷酸镍,使用它不至于在镀浴中积存大量的硫酸根,也不至于在使用中随着补加次磷酸钠而带入大量钠离子,同样因其价格因素而不能被工业化应用。目前应用最多的就是硫酸镍,由于制造工艺稍有不同而有两种结晶水的硫酸镍。因为硫酸镍是主盐,用量大,在镀中还要进行不断的补加,所含杂质元素会在镀液的积累,造成镀液镀速下降、寿命缩短,还会影响到镀层性能,尤其是耐蚀性。所以在采购硫酸镍时应该力求供货方提供可靠的成分化验单,做到每个批量的质量稳定,尤其要注意对镀液有害的杂质尤其是重金属元素的控制。 还原剂 用得最多的还原剂是次磷酸钠,原因在于它的价格低、镀液容易控制,而且合金镀层性能良好。次磷酸钠在水中易于溶解,水溶液的PH值为6。是白磷溶于NaOH中,加热而得到的产物。目前国内的次磷酸钠制造水平很高,除了国内需求外还大量出口。 络合剂 化学镀镍溶液中除了主盐与还原剂以外,最重要的组成部分就是络合剂。镀液性能的差异、寿命长短主要取决于络合剂的选用及其搭配关系。 络合剂的第一个作用就是防止镀液析出沉淀,增加镀液稳定性并延长使用寿命。如果镀液中没有络合剂存在,由于镍的氢氧化物溶解度较小,在酸性镀液中便可析出浅绿色絮状含水氢氧化镍沉淀。硫酸镍溶于水后形成六水合镍离子,它有水解倾向,水解后呈酸性,这时即析出了氢氧化物沉淀。如果六水合镍离子中有部分络合剂存在则可以明显提高其抗水解能力,甚至有可能在碱性环境中以镍离子形式存在。不过,pH 值增加,六水合镍离子中的水分子会被OH根取代,促使水解加剧,要完全抑制水解反应,镍离子必须全部螯合以得到抑制水解的最大稳定性。镀液中还有较多次磷酸根离子存大,但由于次磷酸镍溶液度较大,一般不致析出沉淀。镀液使用后期,溶液中亚磷酸根聚集,浓度增大,容易析出白色的NiHPO3.6H2O沉淀。加入络合剂以后溶液中游离镍离子浓度大幅度降低,可以抑制镀液后期亚磷酸镍沉淀的析出。络合剂的第二个作用就是提高沉积速度,加络合剂后沉积速度增加的数据很多。加入络合剂使镀液中游离镍离子浓度大幅度下降,从质量作用定律看降低反应物浓度反而提高了反应速度是不可能的,所以这个问题只能从动力学角度来解释。简单的说法是有机添加剂吸附在工件表面后,提高了它的活性,为次磷酸根释放活性原子氢提供更多的激活能,从而增加了沉积反应速度。络合剂在此也起了加速剂的作用。 能应用于化学镀镍中的络合剂很多,但在化学镀镍溶液中所用的络合剂则要求它们具有较大的溶解度,存在一定的反应活性,价格因素也不容忽视。目前,常用的络合剂主要是一些脂肪族羧酸及其取代衍生物,如丁二酸、柠檬酸、乳酸、苹果酸及甘氨酸等,或用它们的盐类。在碱浴中则用焦磷酸盐、柠檬酸盐及铵盐。不饱和脂肪酸很少使用,因不饱和烃在饱和时要吸收氢原子,降低还原剂的利用率。而常见的一元羧酸如甲酸、乙酸等则很少使用,乙酸常用作缓冲剂,丙酸则用作加速剂。 稳定剂 化学镀镍溶液是一个热力学不稳定体系,由于种种原因,如局部过热、pH值提高,或某些杂质影响,不可避免的会在镀液中出现一些活性微粒—催化核心,使镀液发生激烈的均向自催化反应,产生大量Ni—P

化学镀镍废水处理

废水来源: 化学镀镍工艺在当下已广泛应用在电子计算机、航天航空、汽车工业、食品加工等行业。如图,其本质为化学反应,在不通电情况下,依靠氧化还原反应原理,在含有金属镍离子的溶液中加入还原剂次磷酸钠,实现不同材料镀件表面镍离子沉积,进而形成致密镀层的现象。 同时,反应过程中还需加入含镍主盐、还原剂之外的络合剂与缓冲剂,常见络合剂有苹果酸、乳酸、柠檬酸等,常用缓冲剂为氨水,较复杂的反应环境使废水指标涵盖了总磷、氨氮、重金属镍、COD等四项严控污染物。 苏州毅达机电工程有限公司可根据您的需求提供废水低温蒸发浓缩解决方案。 处理方案: 采用蒸发浓缩处理,废水进入低温真空蒸发器,在真空低温条件下蒸发,水蒸气在抽真空过程中冷凝形成蒸馏水,收集至清水储存罐中;剩余的微量废物做下一步处理。 经过废水处理系统真空蒸馏后残留物最低可减少到原有废水量的5%,水蒸气冷凝后几乎不含任何杂质,可作为工艺水送回到生产过程中。

蒸发处理优势: 1、相较于传统蒸发技术,热泵蒸发技术在能耗上可以节约90%以上; 2、其唯一的热源为电。无需任何蒸汽供热或者作为辅助热源,因而大大节省设备的配套设施的投资及消耗; 3、由于热泵其自身可以同时输出冷媒对物料产生的蒸汽进行冷凝,所以无需任何外部的冷却水供应,因而大大节省设备的配套设施及冷却水和电的消耗; 4、模块化设计。设备结构更加紧凑,占地面积小,组装运行快速方便; 5、超低温蒸发。真空度达45mbar,蒸发温度最低可达32℃。更加适合热敏性物料。对于腐蚀性物料对设备的腐蚀程度降到最低,延长设备的寿命; 6、全自动化控制及运行。相较于MVR蒸发器,其操作简单,控制点少,自动化程度更高,故障率低,运行稳定,维修及保养成本极低; 7、由于其规模效应,热泵蒸发器适用于蒸发量低于1000公斤/小时的工况。这很好的解决了中小型企业在污水处理方面投资大,运行维护成本高等的窘境,为我们中小型企业长远健康发展提供了一个非常经济有效的解决方案;

【化学】河南省郑州市八市重点高中2015届高三模拟试卷.docx

河南省八市重点高中2015 届高考化学模拟试卷 一、选择题:本题共7 小题,每小题 6 分.在每小题给出的四个选项中,只有一项是符合 题目要求的. 1.化学与生产、生活密切相关,下列说法正确的是( ) A.焰火的五彩缤纷是某些金属元素化学性质的展现 B.将煤气化后再作为能源,可减少PM2.5 引起的危害 C.用激光笔分到照射盛有蓝墨水、FeCl 3溶液的玻璃杯均出现光亮的通路 D.氨气液化时能吸收大量的热,常用来做冷冻剂 2.分子式为C5H8O2的有机物,能使溴的CCl4溶液褪色,也能与 NaHCO3溶液反应生成气体,则符合上述条件的同分异构体(不考虑立体异构)最多有( ) A. 8 种B. 7 种C. 6 种D.5 种 3.下列实验能达到预期目的是( )

A. 用于判断SO2能否与钡盐反应 B. 用于判断硼酸、碳酸的酸性强弱 C. 用于判断甲中发生的是加成反应 D. 用于 AlCl 3的蒸发结晶 4.下列有关说法中错误的是( ) A.用 NaOH溶液滴定醋酸时,可用酚酞试液作指示剂 B.花生油、菜子油漕油等水解时可碍到一种共同的产物 C. NH3+HCl=NH4Cl 能自发进行,其△H一定小于零 D.甲烷和氯气反应与苯和硝酸反应的反应类型不同 5. X、 Y、 Z、 W是原子序数依次增大的四种短周期主族元素,已知Z 的最高正价与最低负价 的代数和为4,Y 能形成两种常见的液体二元化合物M、Q,其中 M是生物生存必需的物质.x 能形成多种单质,其中有两种单质硬度差异极大,下列说法中错误的是( ) A.最高价氧化物对应水化物的酸性:w> Z>x B.化合物Q中存在两种类型的共价键

化学镀镍配方汇编

简述电镀槽液加料方法与溶液密度测定方法 1.电镀生产现场工艺管理的主要内容: 1)控制各槽液成分在工艺配方规范内。遵守规定的化学分析周期。 2)保持电镀生产的工艺条件。如温度、电流密度等。 3)保持阴极与阳极电接触良好。 4)严格的阴极与阳极悬挂位置。 5)保持镀液的清洁和控制镀液杂质。 6)保持电镀挂具的完好和挂钩、挂齿良好的电接触。 2.电镀槽液加料方法:加料要以“勤加”“少加”为原则。 2.1固体物料的补充,某些有机固体料先用有机溶剂溶解,再慢慢加入以提高增溶性。若直接加入往往会使镀液混浊。一般的固体物料,可用镀槽中的溶液来分批溶解。即取部分电镀液把要加的料在搅拌下慢慢加入,待静止澄清,把上层清液加入镀槽。未溶解的部分,再加入镀液,搅拌溶解。这样反复作业,直到全部加完。在不影响镀液总体积的情况下,也可以用去离子水或热的去离子水搅拌溶解后加入镀槽。有些固体料易形成团状,影响溶解过程。可以先用少量水调成稀浆糊状,逐步冲稀以避免团状物的形成。 2.2液体物料的补充,可以用去离子水适当稀释或用镀液稀释后在搅拌下慢慢加入。严禁将添加剂光亮剂的原液加入镀槽。 2.3补充料的时机,加料最好是在停镀时进行。加入后经过充分搅匀再投入生产。在生产中加料,要在工件刚出槽后的“暂休”时段加入。可在

循环泵的出液口一方加入,加入速度要慢,药料随着出液口的冲击力很快分散开来。 2.4加料方法不当可能造成的后果: 2.4 1)如果加入的是光亮剂,则易造成此槽工件色泽差异。 2.4.2)如果加入的是没有溶解的固体料,则易造成镀层毛刺或粗糙。 2.4.3)如果是加入酸调节pH,会造成槽液内部pH不均匀而局部造成针孔。 3.镀液及其它辅助溶液密度的测试方法: 3.1要经常测定溶液的密度,新配制的镀液或其它辅助液,都要测定它的密度并作为档案保存起来供以后对比。镀液的密度一般随着槽龄增加而增加。这是由于镀液中杂质离子、添加剂分解产物等积累的结果,因此可以把溶液密度与溶液成分化验数据一起综合进行分析,判断槽液故障原因以利排除。 3.2溶液密度测定方法,在电镀生产中,常用密度计或波美计测试溶液密度。密度与波美度可以通过下列公式转换。对重于水的液体密度 =145/(145-波美度),波美度=(145x145)/密度,在用波美计测试时,其量程要从小开始试测,若波美计量程选择不当,会损坏波美计。 测试密度不要在镀槽内进行,应取出部分镀液在槽外进行。在镀槽中测试,当比重计或波美计万一损坏,镀液会被铅粒污染。应将待测液取出1.5L左右(用2000mL烧杯),热的溶液可用水浴冷却。然后将样液转移至1000mL直形量筒中,装入量为距筒口约20mm处,就可用比重计测量。 脉冲电镀电源使用须知

钴基合金铝化物涂层的高温氧化行为

钴基合金铝化物涂层的高温氧化行为(内容提要、目录) 内容提要 《钴基合金铝化物涂层的高温氧化行为》一书介绍钴基超合金及其铝化物涂层的高温氧化行为,重点介绍钴基超合金铝化物涂层的氧化退化特点和特征规律,以及对该类涂层氧化寿命的估算、主要退化方式的判断等内容。本书可作为能源工程和航空、航天工程等领域从事动力系统设计的科研人员、工程技术人员以及广大材料工作者的参考书,也可供高等院校材料类及其相关专业的师生参阅。 在现代能源业和航空、航天业等领域,高温合金(超合金)以及高温防护涂层(高温涂层)是不可或缺的要素,而且在一些关键方面显得极其重要。同时,高温氧化问题又是上述用途中热端部件失效的主要因素之一。 铝及铝合金表面氧化是铝材重要的处理工艺。《铝合金表面氧化问题处理问答》根据当前铝业生产需要,结合作者几十年的生产经验,以问答的形式,对铝材氧化的毛坯件接收与检验、氧化前的浸蚀、机械精饰、化学抛光和电化学抛光、氧化前的防护、工件的装夹、阳极氧化工艺、阳极氧化膜染色与着色、化学转化及阳极氧化膜的封闭等技术进行了全面介绍,给出了工艺操作要点和故障处理方法。 目录 1金属高温氧化概述 1.1引言 1.2高温氧化基本知识 1.2.1金属高温氧化的概念 1.2.2高温氧化的基本过程 1.2.3高温氧化热力学基本原理 1.3高温氧化动力学及其测试 1.3.1高温氧化动力学 1.3.2动力学测试方法 1.4金属高温氧化的基本理论 1.4.1抛物线生长动力学的wagner理论 1.4.2抛物线速率常数的影响因素 1.4.3Mott理论 1.4.4金属氧化膜的生长 1.4.5关于金属氧化理论的一点说明 1.5氧化物的基本性质 1.5.1氧化物的物理性质 1.5.2氧化物的结构与缺陷 1.5.3氧化膜中的应力与应力松弛 1.6结束语 参考文献 2高温合金和高温涂层简介 2.1引言 2.2高温合金概述 2.2.1高温合金的发展

化学镀镍相关知识.doc

一、化学镀镍溶液的成分分析 为了保证化学镀镍的质量,必须始终保持镀浴的化学成分、工艺技术参数在 最佳范围(状态),这就要求操作者经常进行镀液化学成分的分析与调整。 1.Ni2+浓度 镀液中镍离子浓度常规测定方法是用EDTA络合滴定,紫脲酸胺为指示剂。 试剂 (1)浓氨水(密度:0.91g/ml)。 (2)紫脲酸胺指示剂(紫脲酸胺:氯化钠=1:100)。 (3)EDTA容液0.05mol,按常规标定。 分析方法: 用移液管取出10ml冷却后的化学镀镍液于250ml的锥形瓶中,并加入100ml蒸馏水、15ml浓氨水、约0.2g指示剂,用标定后的EDTA溶液滴定, 当溶液颜色由浅棕色变至紫色即为终点。 镍含量的计算: C Ni2+= 5.87 M·V (g/L) 式中M——标准EDTA溶液的摩尔浓度; V——耗用标准EDTA溶液的毫升数。 2.还原剂浓度 次亚磷酸钠NaH2PO2·H2O浓度的测定 其原理是在酸性条件下,用过量的碘氧化次磷酸钠,然后用硫代硫酸钠溶液反滴定自剩余的碘,淀粉为指示剂。 试剂 (1)盐酸1:1。 (2)碘标准溶液0.1mol按常规标定。 (3)淀粉指示剂1%。 (4)硫代硫酸钠0.1mol按常规标定。 分析方法: 用移液管量取冷却后的镀液5ml于带盖的250mL锥形瓶中;加入盐酸 25mL碘标准溶液于此锥形瓶中,加盖,置于暗处0.5h(温度不得低于25℃); 打开瓶盖,加入1mL淀粉指示剂,并用硫代硫酸钠标准溶液滴定至蓝色消 失为终点。 计算: C NaH2PO2·H2O = 10.6(2M1V1-M2V2) (g/L) 式中M1——标准碘溶液的摩尔浓度; V1——标准碘溶液毫升数;

15 电机铁芯冲片毛刺产生原因分析

重庆市电机工程学会2012年学术会议论文 288 电机铁芯冲片毛刺产生原因分析 陈元志 (重庆赛力盟电机有限责任公司,重庆401329) 摘要:电机铁芯冲片的质量对整台电机产品质量将产生很大影响:电机铁芯冲片毛刺过大,在铁芯叠压成型后,冲片毛刺会引起铁芯的片间短路,增大电机铁芯的铁损和造成铁芯温升,对电机的正常工作和使用寿命造成严重的影响;同时,由于冲片毛刺的存在,还会使同等长度、重量的铁芯冲片数量减少,引起激磁电流增加和效率降低;冲片槽内的毛刺还会刺伤绕组绝缘,引起齿部外胀;电机转子冲片轴孔处毛刺过大时,可能引起孔尺寸的缩小或椭圆度增大,致使铁芯轴上的装压困难,直接影响电机质量。因此,分析铁芯冲片毛刺产生的原因并采取相应的预防措施,对提高电机的质量,增加电机使用寿命至关重要。本篇论文主要介绍了大型电机铁芯冲片产生毛刺的几个主要因素,并提出一些相应处理办法。简明阐述现代电机冲制行业模具新材料的进展。 关键词:毛刺,模具间隙,电工硅钢片,冲模材料 1 冲片产生毛刺大的原因分析 目前,我公司大中型电机铁芯冲片主要是采用0.5mm或0.35mm的薄电工硅钢片冲制。在冲制过程中,冲片毛刺问题长期困扰我们,严重影响到电机质量。在冲制过程中产生毛刺大的原因,一般说来主要是以下几方面原因造成的。 1.1 冲裁间隙的影响。 冲模的冲裁间隙过大、过小或不均匀这三种情况对冲片断面质量及表面质量影响很大。从冲裁变形过程分析可以知道,冲模冲裁时,裂纹不一定从凸、凹模刃口处同时发生,上、下裂纹是否重合与凸、凹模刃口间隙的大小有很大关系。从板料的冲裁变形过程分析可知凸模和凹模之间的间隙过小时,最初从凹模刃口附近产生裂纹,裂纹指向凸模下面的高压应力区。在继续冲裁过程中,产生的裂纹的成长受到抑制,不能达到凸模刃口处,形成滞裂纹。当裂纹口开得相当大的时候,两裂纹中间的一部分材料随着冲裁进行将被第二次剪切,继而被凸模挤入凹模腔内。由于凹模刃口的挤压作用,在断裂面上形成第二光亮带,在两光亮带间形成撕裂的毛刺和夹层。其挤压毛刺或带锯齿状边缘并呈倒锥形。间隙过大时,由于板材在光亮带形成之前,已形成较大的圆角带,所以实际的间隙就显得更大。在这种情况下,凸模刃口附近的剪裂纹较正常时向里错开一段距离,材料受到很大拉深力,产生很大的圆角带,断面的垂直度也很差,硅钢片易产生被拉长的毛刺,见图1c。又由于加工条件的不同,裂纹也不一定在上、下两刃口处同时发生,所以有时也可能由一个刃口带发生裂纹使材料分离。当这个裂纹从一个刃口的尖端出发,扩展到另一个刃口的侧面时,就会在断面上留下很大的毛刺。因此,间隙过大时,材料的断面上的光亮带就会减少,圆角带、毛刺及斜度会变大。此外,当冲模间隙分布不均匀时,将使制件产生局部毛刺,在间隙大的地方产生拉长毛刺,在间隙小的地方产生挤压毛刺,并加快模具刃口变钝,使用寿命减短。

化学镀镍工艺

化学镀镍工艺 化学镀镍机理: 1)原子氢析出机理。原子氢析出机理是1946年提出的,核心是还原镍的物质是原子氢,其反应过程如下: H2P02-+H20→HP032-+H++2H Ni2++2H→Ni+2H+ H2P02-+H++H→2H20+P 2H→H2 水和次磷酸根反应产生了吸附在催化表面上的原子氢,吸附氢在催化表面上还原镍离子。同时,吸附氢在催化表面上也产生磷的还原过程。原子态的氢相互结合也析出氢气。2)电子还原机理(电化学理论)电子还原机理反应过程如下: H2P02-+H20→HP032-+H++2e Ni2++2e→Ni H2P02-+2H++e→2H20+P 2H++2e→H2 酸性溶液中,次磷酸根与水反应产生的电子使镍离子还原成金属镍。在此过程中电子也同时使少部分磷得到还原。 3)正负氢离子机理。该理论最大特点在于,次磷酸根离子与磷相连的氢离解产生还原性非常强的负氢离子,还原镍离子、次磷酸根后自身分解为氢气。 H2P02-+H20→HP032-+H++H- Ni2++2H-→Ni+H2 H2P02-+2H++H-→2H20+P +1/2H2 H-+H+→H2 分析上述机理,可以发现核心在于次磷酸根的P-H键。次磷酸根的空间结构是以磷为中心的空间四面体。空间四面体的4个角顶分别被氧原子和氢原子占据,其分子结构式为: 各种化学镀镍反应机理中共同点是P-H键的断裂。P-H键吸附在金属镍表面的活性点上,在镍的催化作用下,P-H键发生断裂。如果次磷酸根的两个P-H键同时被吸附在镍表面的活性点上,键的断裂难以发生,只会造成亚磷酸盐缓慢生成。对于P-H键断裂后,P-H间共用电子对的去向,各种理论具有不同的解释。如电子在磷、氢之间平均分配,这就是原子氢析出理论;如果电子都转移至氢,则属于正负氢理论;而电子还原机理则认为电子自由游离出来参与还原反应。因此,可以根据化学镀镍机理的核心对各种宏观工艺问题进行分析解释。 化学镀镍工艺过程 化学镀镍前处理工艺 一:除油:

材料表面处理技术之化学镀

材料表面处理技术 ——化学镀 摘要:介绍了化学镀技术的作用原理、工艺特点、分类。总结了化学镀技术的应用状况。 关键词:化学镀;表面处理技术;展望 表面科学是20世纪60年代迅速发展起来的一门新兴边缘学科,它包括表面物理、表面化学和表面工程技术三大分支它从原子、分子角度阐明固体表面的组成、结构和电子状态及其与固体表面物理、化学性质的关系,为表面工程技术提供科学的基础。高新技术的飞速发展对提高金属材料的性能、延长仪器设备中零部件的使用寿命提出了越来越高的要求。而这两个方面的要求又面临高性能结构材料成本逐年上升的问题。为了满足日益快速发展的对材料表面特殊性能的高要求,现在发展了许多表面处理的方法,其中化学镀就是其中一种。 化学镀是指在没有外电流通过的情况下利用化学方法使溶液中的金属离子还原为金属并沉积在基体表面,形成镀层的一种表面加工方法,也成为不通电镀(electroless plating)。美国材料试验协会(ASTMB-347)已推荐使用自催化镀(autocatalytic plating)代替化学镀或不通电镀,即在金属或合金的催化作用下,用控制的化学还原所进行的金属的沉积。习惯上,仍称自催化镀为化学镀。化学镀是以其工艺简便、节能、环保日益受到人们的关注。化学镀使用范围很广,镀层均匀、装饰性好。在防护性能方面,能提高产品的耐蚀性和使用寿命;在功能性方面,能提高加工件的耐磨导电性、润滑性能等特殊功能,因而成为全世界表面处理技术的一个新发展。下面我们就发展,现状,前景等方面做简要介绍。 发展历史 化学镀的发展历史实际上主要是化学镀镍的发展史。1844年,Wurtz首先注意到了次磷酸盐的还原机理。1916年,Roux首次使用次磷酸盐的化学镀镍取得第一个美国专利。但以上这些工作并未引起人们的足够重视。直到1944年,美国国家标注局的Brenner和Qiddell 发现并在1946年和1947年发表了相关研究报告,才被认作真正奠基了化学镀基础。他们在研究报告中指出:从次磷酸钠的溶液中进行电

镍钯金技术

电子产品一直趋向体积细小及轻巧,同时包含更多功能而又有更快速的运作效率。为了达到以上要求,电子封装工业便发展出多样化及先进的封装技术及方法,使之能在同一块线路版上增加集成电路(IC)的密度,数量及种类。 增加封装及连接密度推动封装方法从通孔技术(THT)到面装配技术(SMT)的演化,它导致了更进一步的应用打线接合的方法(Wire bonding)。缩小了的连接线间距和应用芯片尺寸封装技术(CSP),使得装置的密度增大,而多芯片组件(MCM)及系统级封装技术(SiP)使得在同一芯片上嵌入更多功能从不可能变成现实。 至今,当半导体工业多年来从缩小线宽来致力于增进装置的性能时,很少有涉及这样的想法,也就是在一个电子系统中,装置间应该通过包含这个系统的封装来传递信息。大量的I/O需求及讯号传送质量已成为半导体工业重要考虑的因素,无论在IC内部的连接或把装置封装在线路版上,为了达到可靠的连接,封装过程的要求及线路版最终表面处理技术同样重要。 本文章描述影响连接可靠性的主要因素,尤其侧重在打金线接合的应用中表面处理的性能。 表面处理打线接合的选择 虽然电镀镍金能提供优良的打金线接合的性能,它有着三大不足之处,而每一不足之处都阻碍着它在领先领域中的应用。 较厚的金层厚度要求使得生产成本上升。 在通常所用的厚的金层情况下,由于容易产生脆弱的锡金金属合金化合物(IMC),焊点之可靠性便下降。而为了增加焊点之可靠性,可在需要焊锡的地方使用不同的表面处理,然而却会造成生产成本上升。 电镀工艺要求使用导线连通每个线路,这样就限制了封装载板的最高线路密度。 因为这些限制,使用化学镀的优势表露出来。化学镀的技术包括化学镀镍浸金(ENIG),化学镀镍化学镀金(ENEG)及化学镀镍钯浸金(ENEPIG)。 在这三种选择中,ENIG是基本上不用考虑的,因为它不具备提供高可靠性打金线接合的工 艺条件(尽管它被用在不重要的消费产品的应用中),而ENEG具有和电镀镍金同样高的生产成本,在制程方面亦充满了复杂性的挑战。 当化学镀镍钯浸金(ENEPIG)在90年代末出现时,但因为2000年时,钯金属价格被炒卖到不合理的高位,使ENEPIG在市场上的接受延迟了。但是,ENEPIG能够解决很多新封装的可靠性问题及能够符合ROHS的要求,因此在近年再被市场观注。 除了在封装可靠性的优势上, ENEPIG的成本则是另一优势。当近年金价上升超过US$800/oz,要求厚金电镀的电子产品便很难控制成本。而钯金属的价格(US$300/oz)则相对于金价来说远低于一半,所以用钯代替金的优势便显露出来。 表面处理的比较 在现在的市场,适合用在线路板上细小引脚的QFP/BGA装置,主要有4种无铅表面处理 化学浸锡(Immersion Tin) 化学浸银(Immersion Silver) 有机焊锡保护剂(OSP) 化学镀镍浸金(ENIG) 下表列举出这4种表面处理跟ENEPIG的比较。在这4种表面处理中,没有一种表面处理能满足无铅组装工艺的所有需求,尤其是当考虑到多重再流焊能力、组装前的耐储时间及打线接合能力。相反,ENEPIG却有优良耐储时间,焊点可靠度,打线接合能力和能够作为按键触碰表面,所以它的优势便显示出来。而且在置换金的沉积反应中,化学镀钯层会保护镍层防止它被交置换金过度腐蚀。

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