光波导

光波导
光波导

西安邮电大学

专业课程设计报告书

院系名称:电子工程学院

学生姓名:刘寒

学号05103073

专业名称:光信息科学与技术班级:光信息1003

实习时间:2013年4月22日至2013年5月3日

课程设计题目:直波导和弯曲波导的耦合

一.课程设计的任务和要求

1. 学习使用OptiBPM软件

2. 运用BPM仿真直波导和弯曲波导的耦合

二.设计步骤

1.阅读OptiBPM提供的操作指南,了解和学习光波导的参数设置,以及各种波

导的画法。

2.先尝试画一条直波导,观察光在光波导中的能量分布,模拟出古斯汉欣位移

效应,并做出分析,选取不同的折射率观察对光能量有何影响。分析讨论古斯汉欣位移距离的量级。

3.做直波导与弯曲波导的耦合,改变波导的折射率、波导间距离、波导宽度等

参数,观察光波的传播规律。

三.仿真结果分析

1.直波导通入光后,古斯-汉欣位移效应,光波导宽度40um,纤芯折射率:3.3,

包层折射率:3.27.仿真图(图1-1)如下:

图1-1

光在波导中的光强度在波导中,从中心处向两边缘逐渐减小,可是光强的分布范围很明显大于40um的光波导宽度,多余出来的距离就是古斯-汉欣位移。所谓的古斯-汉欣位移,即就是实际的反射点与理想的反射点之间存在一定的距离D,可用公式表示为:

()

212

22

1

22

sin n

n

cn D -=

θλ 式中,c 为常数,n1=3.3,n2=3.27,则C=0.03,λ为光波长。这个现象出现是基于实际光线都具有一定的空间谱宽,也即实际的光线由一光速构成,它们指向同一入射点,但入射角有一定的宽度??

。接着在其他参数不改变的情况下,改变光波导的纤芯或者包层的折射率,然后再次观察古斯-汉欣位移的变化,如下

图1-2

虽然变化量很小,但依然可以看见,当包层折射率减小到3.15,古斯-汉欣位移减小了。之后再次改变纤芯的折射率到4.0,再次观察其位移的变化,与前两次

的进行比较,如图1-3

图1-3

这三次仿真结果对比,可以看出,无论纤芯的折射率还是包层的折射率的减小都会导致古斯-汉欣位移的减小。而且可以从图中看出古斯-汉欣位移的大小是um

量级的。

2.实际的波导永远不会是理想的,在结构上都或多或少地存在一定不完整,如介质的不均匀性和界面的不平整性,这些不完整性将是引起波导模式之间的相互耦合。由于这种耦合作用,在波导始端入射的某一个导模在波导中传输时,将激发出其他的导模和辐射模,并且其功率将转移到这些所激发的模式上,造成信号的失真和功率损耗,还有,当多个波导相互临近是,这些波导中所传输的导模在芯外的倏逝场也要相互作用而产生耦合,其结果将引起波导间模式功率的相互转移。

直波导和弯曲波导的耦合。波导参数:宽度4um,间距6.36um ,纤芯折射率:1.5,包层折射率:1.49,仿真图样(图2-1)如下:

图2-1 光从上面的直波导入射(λ=1.55um ),现在直波导和弯曲波导处,出现了耦合现象,实现了能量在直波导和弯曲中的能量分布。光在弯曲波导中的传输时,因为波能量从波导弯曲处辐射到周围空间中而产生辐射损耗。这种损耗与波导参数有关,在波导参量确定的情况下,与弯曲波导的曲率半径密切相关,曲率半径越小,辐射的损耗就越小。所以在设计这类波导时,曲率半径是需要首先考虑的参数。 弯曲波导的场分布(非对称弯曲平板波导):

设波导薄膜的厚度是2d ,波导中心轴的弯曲半径R ,为简单起见,只讨论TE 波,采用极坐标(?ρ,)系统,径向距离ρ从曲率中心算起,且假定与(?ρ,)平面垂直的方向上场是均匀的。在波导外侧(R+d )<ρ<∞区域中,麦克斯韦方程的解由下给出:

)(20)

1()(wt m i m

y e n k BH E -=θρ (2.01)

)

(20)1(2

00)(wt m i m e n k H m k w B

H -=θρρρ

ε ( 2.02) )(20)

1(002)(wt m i m e n k H m k w n iB

H --=θθρρ

ε ( 2.03)

在波导薄膜(R-d )<ρ<(R+ d)中,麦克斯韦方程的解是贝塞尔函数与诺依曼函数的线性叠加;而在波导内侧(0<ρR+d,但小于某个临界长度时,场的形式必须是指数衰减函数;2.当ρ大于这一临界长度时,场的形式必须是辐射函数。如果用直波导的坐标系统来描述弯曲波导,则直波导系统的z 轴是弯曲的,于是得到如下关系:θR z = (2.04)

函数EXP(im θ)等效于直波导的传播因子exp(i βz),由此可得到的近似关系

R

m

=

β ( 2.05) 因为R 远大于光波长,故m 是一个很大的数。为了建立振幅因子与导模携带功

率之间的关系,需要第一类汉开尔函数加以简化,对于ρ20n k m >区域,第一类汉开尔函数可近似为

α

π

ρααt anh 2

)()

tanh (20)

1(m e i

n k H m m

-= (2.06)

式中

ρα20cosh n k m

=

(2.07) 而双曲正切函数由下式给出:

β

β

βα

αα2

122

022

12

])([cosh )1(cosh tanh R

n k u -=

-== ( 2.08)

在波导轴附近,利用近似式1≈R ρ,以及R p m 2tanh =α (2.09) 下面考虑该式中指数函数,为此采用X 坐标系来表示离开波导薄膜中心轴的距离,即有

R

x

R

+

=1ρ

( 2.10) ])(1[]

)(2[22202212

202

2R

x p n k p R x n k p u -≈-≈

ββ

(2.11 )

利用反双曲正切函数与必然对数之间关系,可得

)1ln(

2tanh u

u ar -==α ( 2.12) 另外,可近似得 l

l p R x p n k l p u l )()(

)(

222202

β

β

-= (2.13) 代入,有

.....]

)()(1[)(......)(51)(313

22

2222

222

22222052322

++++-+++=

β

ββββ

ββαp p p p R x p n k p

p p (2.14) 上式中第一级数可以用一个对数函数表示,第二部分中包含一个简单的几何级

数,于是可得一下关系:

R x p p n k p p 2

2

2222022

11)(]11ln[21β

ββ

β

α---+= ( 2.15) R

x P P p p u βββ

β

ααα2222]11[21tanh ---+=-=- (2.16)

可以把电磁分量y E 写成如下形式:

x i x p y e e R

P R p p p p iB

E βπ

β

ββ2222

2

2

2

}

]1)11ln(21exp{[---+= (2.17)

在R 趋近于∞时,直波导TE 模在d

)(2d x p Ae Ey --= ( 2.18) 式中,指数衰减长的振幅因子可以有场所携带的功率P 来表示

2122212

001])

)(1

12([

2p p p d p

w A +++=κβμκ (2.19)

在R 很大的情况下,使弯曲波导外侧,靠近薄膜处的场近似用直波导相应区域的长来代替。比较(2.17)和(2.18),并利用(2.19),可以确定长的振幅系数

}

]1)11ln(21[exp{])

)(112(2[2222

2

212

2212

02012R p p p p p p p d e

i B d

p --

+

-+++-=β

β

βκβκ (2.20)

对于远离波导薄膜的区域,第一类汉开尔函数可表示为大宗量的近似形式,于是,根据是(2.01)表示的场分量可写成如下形式:

z i m i n ik e e e n k B

Ey βρπρ

π?=+-42

)12(2020 (2.21)

上式表明,在远离波导薄膜区域,弯曲波导和直波导的长是全区不同的,弯曲波导外侧的场由指数衰减形式变为弯曲辐射的形式,这种性质解释了弯曲波导因辐射而损失功率的原因。

3.波导其他参数不改变,只改变波导之间的间距,

c Const NumIterations = 10 Delta=1.0/(NumIterations-1) For x = 1 to NumIterations

Linear1.SetPosition 0, 3.0+Delta*(x-1),2500, 3.0+Delta*(x-1) ParamMgr.Simulate Next

仿真如下:

让其连续的变化10次,而只取了其中2次,清晰的展现了,由于间距的改变,而改变了光在直波导和弯曲波导之间的能量分配。

4.只改变波导的尺寸,宽度6um,的同时,也让其间距微调10次,只取其中间2次,依然可以明了的光能量在波导中的分布,情况以及散射情况,上述已经陈述

过,光在经过弯曲波导时会有教大的损耗。如下图所示

c Const NumIterations = 10

Delta=1.0/(NumIterations-1)

For x = 1 to NumIterations

Linear1.SetPosition 0, 3.0+Delta*(x-1),2500, 3.0+Delta*(x-1)

ParamMgr.Simulate

Next

在改变其间距后,可以明显的看到了,波导的耦合现象,以及光能量的从新分配5.在改变其折射率以后,纤芯折射率为:1.5,包层折射率:1.487

仿真图像如下:

再次改变,纤芯折射率1.65,包层折射率为1.487

此时也会出现耦合现象,但现象却并非相同,说明折射率也是会影响耦合。因为对于非对称光波导需要一定的厚度才能容纳一个导模,因此第一个导模的有效折射率对应的波导深度一般距离表面至少有两个波长,在这个范围内,由于没有任何有关折射率的分布的信息,因而在波导表面折射率的测量是至关重要的。四.设计过程中发生的问题及解决的方法

在最初接触OptiBPM这个软件,让人真的是很痛苦,全英文的界面以及全英文的使用说明,在熟悉软件的时候是一边查单词,一边仿真,不过这样做是有效果的,经过这样的4-5天,那说明书我是可以大致读过去了。

在仿真直波导和弯曲波导的耦合的时候,由于理论的困乏,无法精确的计算出波导的各个参数,只能运用最为原始或者说是最为笨拙的方法,就是慢慢的去用个个数据尝试,而且也不会去编程,只能手动拖拽,经过一晚上的努力,完成了直波导和弯曲波导的耦合,而且同时也初步的了解了波导间耦合所需要的条件以及各个因素对波导耦合的影响,只因为这种了解只停留于初步了解,无法用合理的公式做出精确的数学表示。

在仿真中我只改变了波导的参数,而没有改变入射光的参数,后来我也尝试的去改变了一下入射光的,振幅,相位,波长,由于当时没有及时的记录下来相应的耦合情况,而无法做出清晰的说明。

五.分析和总结

这次课程设计,对于我而言是个全新的东西,基本了解了波导耦合的原理,但对导波光学却知之甚少,以前确实是没有关注过的,不过,通过这次课程设计,让我对本专业或者是光学有了更为浓厚的兴趣。在此期间了解到了该领域的前沿内容(快光,慢光,光开关,),以及波导耦合的作用,还阅读了几篇学术论文,为自己的专业道路打下了基础。

六.参考文献

《导波光学》曹庄琪科学出版社

《光波导模式理论》马春生刘式墉吉林大学出版社

西安邮电大学电子工程学院专业课程设计过程考核表学生姓名刘寒班级/学号光信息1003(05103073)承担任务实验室(单位)光信息科学与技术所在部门光电子技术系实施时间2013年4月22 日—2013年5月3日

具体内容第一周

集中讲解设计的目的及要求;介绍系统设计的一般方法和步骤;介绍软件及其应用;布置课程设计题目;分析设计中可能

出现的问题。学生选题,查阅资料,设计光路;在教师指导下学

生通过几个不同的例子学习软件的使用。学生进行初始结构设

计并进行组内讨论。

第二周

改变波导的折射率、波导间距离、波导宽度、入射光波振幅、相位、波振面形状等参数,观察光波的传播规律。检查设

计结果。召开课程设计总结交流会,总结交流学生在课程设计

中具有特色的设计思想和先进的调试方法。

指导教师(师傅)姓名时坚职务或职称讲师

指导教师(师傅)对学生的评价学习态度□认真□一般□不认真

学习纪律□全勤□偶尔缺勤□经常缺勤实践能力□很强□一般□较差

指导教师(师傅)对学生

专业知识或社会实践能

力等情况的意见

指导教师(师傅)签字

年月日

西安邮电大学电子工程学院专业课程设计成绩鉴定表

学生姓名刘寒班级/学号光信息1003(05103073)进行时间2013年4月22 日—2013年5月3日

成绩鉴定学习内容

(20分)

与教学任务计划结合程度(10分)

与专业培养结合程度(6分)

其它(4分)

接受单位

评价

(20分)

实践能力(10分)

学习态度(6分)

学习纪律(4分)

报告鉴定

(60分)

报告内容与实践过程紧密结合(15分)

报告内容与教学计划内容紧密结合(15分)

报告质量(主题、结构、观点、逻辑、资料、字数30

分)

评阅教师姓名时坚职称讲师成绩

评语

评阅教师签字

年月日

光波导传输损耗的测量

南昌大学实验报告 学生姓名:刘vv 学号:55023110vv 专业班级:vvvvvv 实验日期:2014/9/24 实验成绩: 光波导传输损耗的测量 波导薄膜中导波光的传输损耗是评价介质平板波导的一个重要参数。传统的测量光波导传输损耗的方法如截断法(Cut-Off Method)和滑动棱镜法(Prism Sliding Method)在测量准确性和方便性方面均存在着较大的问题,难以获得广泛的应用。采用CCD数字成像器件,通过数字成像对光波导内部的传输光强进行测量,可计算得到波导的传输损耗,该方法具有无损、高精度快速测量等优点。 [实验目的] 1.了解CCD数字成像法测量波导传输损耗的原理及实际的测量光路; 2.掌握用于去除散粒噪声的中值滤波图像处理技术; 3.通过传输曲线的拟合计算传输衰减系数。 [实验原理] 1.损耗机理 光波导器件传输损耗主要由以下因素产生:波导材料的散射和吸收引起的损耗;基片的表面光洁度受到抛光工艺的限制;界面的不规则导致导模与辐射模间的耦合而引起的损耗;波导表面弯曲,引起能量辐射造成损耗。 2.测量原理 真实波导由于界面不平整以及波导内部杂质散射,使导模转变为辐射模。可以认为:某一位置散射出来的光强主要受到该点的传输光强、界面不平整程度、杂质多少的影响。整块波导是在特定条件下一次性制备,后两个因素的影响可以认为在整块波导中平均分布,即使由于杂质大小有涨落而出现某点散射光特别强,也可以在后期图像处理中采用数字滤波技术加以消除。因此,散射光强将只和该处的实际传输光强成正比。据此,可以采用数字成像器件CCD对传输线上各点的散射光强进行记录,转换成内部传输光强,拟合出传输衰减曲线并计算衰减系数。 CCD摄像头介绍

平面光波导(PLC, planar Lightwave circuit)技术

平面光波导(PLC, planar Lightwave circuit)技术 随着FTTH的蓬勃发展,PLC(Planar Lightwave Circuit,平面光路)已经成为光通信行业使用频率最高的词汇之一,而PLC的概念并不限于我们光通信人所熟知的光分路器和AWG,其材料、工艺和应用多种多样,本文略作介绍。 1.平面光波导材料 PLC光器件一般在六种材料上制作,它们是:铌酸锂(LiNbO3)、Ⅲ-Ⅴ族半导体化合物、二氧化硅(SiO2)、SOI(Silicon-on-Insulator, 绝缘体上硅)、聚合物(Polymer)和玻璃,各种材料上制作的波导结构如图1所示,其波导特性如表1所示。 图1. PLC光波导常用材料 铌酸锂波导是通过在铌酸锂晶体上扩散Ti离子形成波导,波导结构为扩散型。 InP波导以InP为称底和下包层,以InGaAsP为芯层,以InP或者InP/空气为上包层,波导结构为掩埋脊形或者脊形。 二氧化硅波导以硅片为称底,以不同掺杂的SiO2材料为芯层和包层,波导结构为掩埋矩形。 SOI波导是在SOI基片上制作,称底、下包层、芯层和上包层材料分别为Si、SiO2、Si和空气,波导结构为脊形。 聚合物波导以硅片为称底,以不同掺杂浓度的Polymer材料为芯层,波导结构为掩埋矩形。 玻璃波导是通过在玻璃材料上扩散Ag离子形成波导,波导结构为扩散型。

表1. PLC光波导常用材料特性 2.平面光波导工艺 以上六种常用的PLC光波导材料中,InP波导、二氧化硅波导、SOI波导和聚合物波导以刻蚀工艺制作,铌酸锂波导和玻璃波导以离子扩散工艺制作,下面分别以二氧化硅波导和玻璃波导为例,介绍两类波导工艺。 二氧化硅光波导的制作工艺如图2所示,整个工艺分为七步: 1)采用火焰水解法(FHD)或者化学气相淀积工艺(CVD),在硅片上生长一层SiO2,其 中掺杂磷、硼离子,作为波导下包层,如图2(b)所示; 2)采用FHD或者CVD工艺,在下包层上再生长一层SiO2,作为波导芯层,其中掺杂锗离 子,获得需要的折射率差,如图2(c)所示; 3)通过退火硬化工艺,使前面生长的两层SiO2变得致密均匀,如图2(d)所示。 4)进行光刻,将需要的波导图形用光刻胶保护起来,如图2(e)所示; 5)采用反应离子刻蚀(RIE)工艺,将非波导区域刻蚀掉,如图2(f)所示; 6)去掉光刻胶,采用FHD或者CVD工艺,在波导芯层上再覆盖一层SiO2,其中掺杂磷、 硼离子,作为波导上包层,如图2(g)所示; 7)通过退火硬化工艺,使上包层SiO2变得致密均匀,如图2(h)所示。 图2. 二氧化硅光波导的制作工艺 玻璃光波导的制作工艺如图3所示,整个工艺分为五步: 1)在玻璃基片上溅射一层铝,作为离子交换时的掩模层,如图3(b)所示; 2)进行光刻,将需要的波导图形用光刻胶保护起来,如图3(c)所示;

平面集成光波导器件综述

平面集成光波导器件综述 1 引言】 光纤通信网络中使用了多种光器件和光电器件.这些器件中的光学部分通常为三种结构:微光学结构、纤维光学结构和集成光学结构。1969年https://www.360docs.net/doc/2017087974.html,ler首先提出集成光学器件的设想,即在一个细小的基片上实现光发射、光探测、光耦合、光分支、光波分复用、光滤波、光开关等一种和几种功能,达到器件的微型化和实现高功能密度。平面光波导技术和平面微制造技术的成功结合使这一设想变为现实。历经三十年的研究开发,目前已有一些平面集成光波导器件达到了商用化。 【2 制作器件的主要材料】 制备这些光器件和光电器件的主要材料有:InGaAsP/InP、SiO2、Si、LiNbO3和某些聚合物材料。表1 给出这几种材料的基本特性。 InGaAsP/InP是其中唯一的兼有有源和无源功能的材料,因而一直是单片集成光/光电器件研究开发的首选对象。以Si光波导为基础的混合集成收发信机已商品化。Si波导除了有很好的无源光学特性外,还具备载流子控制型的光电调制特点。聚合物材料波导光开关已产品化,聚合物材料波导无源器件也已取得重大进展。SiO2波导可用于制作性能优良的无源器件,由于制备器件所必须的理论设计、技术设备、工艺水平、材料来源等均已成熟或基本成熟,因而已形成以SiO2波导平面光波导线路(PLC)为基础的光集成器件规模生产。同时SiO2波导可以实现与有源器件的混合集成。SiO2 PLC的应用价值越来越受到关注,下面主要就SiO2 PLC器件和制造方法作一些基本介绍。 【3 二氧化硅波导基本工艺】 有几种代表性的二氧化硅波导制备技术,分别是:火焰水解(FHD)+反应离子刻蚀(RIE),化学气相沉积(CVD)+RIE,物理气相沉积(PVD)+RIE。其中FHD采用SiCl4、GeCl4为主要原料,通过氢氧焰提供的高温,与氧反应生成SiO2、GeO2微细粉末层,而后在1300℃左右的高温中退火形成光学薄膜,其中GeO2等作为掺杂物质控制导波的折射率。CVD采用硅烷、锗烷或SiCl4、GeCl4,通过射频源激活与氧在等离子体状态下反应形成光学薄膜。PVD以电子束蒸发或溅射方法沉积SiO2光学薄膜。RIE 对波导膜进行导波线路的刻制。薄膜必须具有高的光学质量,因为光波是平行于薄膜表面传播的,路径通常有几厘米。薄膜尤其要有很好的折射率均匀性,因为控制光传输方向的导波层折射率n+苙与覆盖层(n)的折射率的差(苙)是很小的,苙/n在一定范围是单模条件所要求的,如n=1.46, 苙=0.0037,由此可知, 折射率均匀性要高,否则波导的质量无法保证。 【4 二氧化硅光波导器件】 4.1 SiO2 PLC的基本单元 平面波导器件的线路可以设计得很复杂,但基本上是由以下的基本单元构成的(图1)。直条、分支、弯曲、交叉是最简单和常用的。间隙是指在波导路径上刻出一段10祄左右的空间,插入滤波片等微小元件,以提高器件的指标。耦合是相距几祄的两波导间通过模场的相互作用,使光传输路径或强度发生改变。相移单元是利用SiO2折射率的热敏特性n(T),通过局部加热电极使n改变从而改变光的有效光程也即改变相位,热光开关就是根据这一原理制作的,例如dn/dT=1×10-5时,10mm长的波导升温6.5℃,即产生180度相移(1.55祄)。应力单元是指在一波导的附近刻出沟槽或镀膜,使该波导局部所受应力发 生变化,从而调节器件的性能。

平面光波导分路器

平面光波导平面光波导分路器分路器分路器(PLC SPLITTER)(PLC SPLITTER)(PLC SPLITTER) 产品参数产品参数 2005年6月

1平面 的分类 波导分路器((PLC SPLITTER PLC SPLITTER))的分类 平面光 光波导分路器 1.1SPLITER按端口数分为以下几种: 1X4、1X8、1X16、1X32 1.2端口连接器分类为: 无、SC、FC 1.3 封装形式分类为: 盒式、裸光纤 2定义 定义 2.1 端口及尺寸定义 a. 1X4 SPLITTER b. 1X4 SPLITTER Box Type with 0.9mm or 2mm Cable c. 1X8 SPLITTER

d. 1X8 SPLITTER Box Type with 0.9mm or 2mm Cable e. 1X16 SPLITTER f. 1X16 SPLITTER Box Type with 0.9mm or 2mm Cable g. 1X32 SPLITTER

h. 1X32 SPLITTER Box Type with 0.9mm or 2mm Cable 3技术 技术要求 要求 要求 3.1 产品光学参数要求 3.1.1 测试条件:1310nm和1550nm。 3.1.2 产品光学参数应满足表1、表2的要求 表1 参数允许偏差 (无连接器) Parameters 1 X 4 1 X 8 1 X 16 1 X 32 1 Operating Wavelength (nm) 1260-1650 2 Insertion Loss (dB) Max. 7.2 10.8 14 17.0 3 Uniformity (dB) Max. 0.6 0.8 1.2 1.7 4 Return Loss (dB) Min. 5 5 55 55 55 5 PDL (dB) Max. 0.25 0.3 0.3 0.3 6 Directivity (dB) Min. 55 55 55 55 7 Temperature Stability (-40 to 85 °C) (dB) Max. 0.6 0.6 0.8 1.0 8 Operating Temperature (℃) -40 ~ 85 9 Wavelength Dependence Loss (WDL) (dB) Max. 1.0 1.0 1.0 1.0

光波导

西安邮电大学 专业课程设计报告书 院系名称:电子工程学院 学生姓名:刘寒 学号05103073 专业名称:光信息科学与技术班级:光信息1003 实习时间:2013年4月22日至2013年5月3日

课程设计题目:直波导和弯曲波导的耦合 一.课程设计的任务和要求 1. 学习使用OptiBPM软件 2. 运用BPM仿真直波导和弯曲波导的耦合 二.设计步骤 1.阅读OptiBPM提供的操作指南,了解和学习光波导的参数设置,以及各种波 导的画法。 2.先尝试画一条直波导,观察光在光波导中的能量分布,模拟出古斯汉欣位移 效应,并做出分析,选取不同的折射率观察对光能量有何影响。分析讨论古斯汉欣位移距离的量级。 3.做直波导与弯曲波导的耦合,改变波导的折射率、波导间距离、波导宽度等 参数,观察光波的传播规律。 三.仿真结果分析 1.直波导通入光后,古斯-汉欣位移效应,光波导宽度40um,纤芯折射率:3.3, 包层折射率:3.27.仿真图(图1-1)如下: 图1-1 光在波导中的光强度在波导中,从中心处向两边缘逐渐减小,可是光强的分布范围很明显大于40um的光波导宽度,多余出来的距离就是古斯-汉欣位移。所谓的古斯-汉欣位移,即就是实际的反射点与理想的反射点之间存在一定的距离D,可用公式表示为:

() 212 22 1 22 sin n n cn D -= θλ 式中,c 为常数,n1=3.3,n2=3.27,则C=0.03,λ为光波长。这个现象出现是基于实际光线都具有一定的空间谱宽,也即实际的光线由一光速构成,它们指向同一入射点,但入射角有一定的宽度?? 。接着在其他参数不改变的情况下,改变光波导的纤芯或者包层的折射率,然后再次观察古斯-汉欣位移的变化,如下 图1-2 虽然变化量很小,但依然可以看见,当包层折射率减小到3.15,古斯-汉欣位移减小了。之后再次改变纤芯的折射率到4.0,再次观察其位移的变化,与前两次 的进行比较,如图1-3 图1-3 这三次仿真结果对比,可以看出,无论纤芯的折射率还是包层的折射率的减小都会导致古斯-汉欣位移的减小。而且可以从图中看出古斯-汉欣位移的大小是um

1平面光波导技术

光波导是集成光学重要的基础性部件,它能将光波束缚在光波长量级尺寸的介质中,长距离无辐射的传输。平面波导型光器件,又称为光子集成器件。其技术核心是采用集成光学工艺根据功能要求制成各种平面光波导,有的还要在一定的位置上沉积电极,然后光波导再与光纤或光纤阵列耦合,是多类光器件的研究热点. 按材料可分为四种基本类型:铌酸锂镀钛光波导、硅基沉积二氧化硅光波导、InG aAsP/InP光波导和聚合物(Polymer)光波导。 LiNbO3晶体是一种比较成熟的材料,它有极好的压电、电光和波导性质。除了不能做光源和探测器外,适合制作光的各种控制、耦合和传输元件。铌酸锂镀钛光波导开发较早,其主要工艺过程是:首先在铌酸锂基体上用蒸发沉积或溅射沉积的方法镀上钛膜,然后进行光刻,形成所需要的光波导图形,再进行扩散,可以采用外扩散、内扩散、质子交换和离子注入等方法来实现。并沉积上二氧化硅保护层,制成平面光波导。该波导的损耗一般为0.2-0.5dB/cm。调制器和开关的驱动电压一般为10V左右;一般的调制器带宽为几个GHz,采用行波电极的LiNbO3光波导调制器,带宽已达50GHz以上。 硅基沉积二氧化硅光波导是20世纪90年代发展起来的新技术,主要有氮氧化硅和掺锗的硅材料,国外已比较成熟。其制造工艺有:火焰水解法(FHD)、化学气相淀积法(CVD,日本NEC公司开发)、等离子增强CVD法(美国Lucent公司开发)、反应离子蚀刻技术RIE多孔硅氧化法和熔胶-凝胶法(Sol-gel)。该波导的损耗很小,约为0.02dB/cm。 基于磷化铟(InP)的InGaAsP/InP光波导的研究也比较成熟,它可与InP基的有源与无源光器件及InP基微电子回路集成在同一基片上,但其与光纤的耦合损耗较大。

实验二十七、光波导传输损耗的测量

实验二十七、光波导传输损耗的测量 波导薄膜中导波光的传输损耗是评价介质平板波导的一个重要参数。传统的测量光波导传输损耗的方法如截断法(Cut-Off Method )和滑动棱镜法(Prism Sliding Method )在测量准确性和方便性方面均存在着较大的问题,难以获得广泛的应用。采用CCD 数字成像器件,通过数字成像对光波导内部的传输光强进行测量,可计算得到波导的传输损耗,该方法具有无损、高精度快速测量等优点。 [实验目的] 1. 了解CCD 数字成像法测量波导传输损耗的原理及实际的测量光路; 2. 掌握用于去除散粒噪声的中值滤波图像处理技术; 3. 通过传输曲线的拟合计算传输衰减系数。 [实验仪器] 1.半导体激光器(650nm )、偏振棱镜、透镜; 2.待测离子交换光波导片; 3.数字成像器件CCD 和数据采集系统。实验中使用的是自带视频信号输出的CCD 。 [预习提示] 1.光波导的损耗有哪些? 2.什么是数字滤波技术? [实验原理] 损耗机理 光波导器件传输损耗主要由以下因素产生:波导材料的散射和吸收引起的损耗;基片的表面光洁度受到抛光工艺的限制;界面的不规则导致导模与辐射模间的耦合而引起的损耗;波导表面弯曲,引起能量辐射造成损耗。 2.测量原理 真实波导由于界面不平整以及波导内部杂质散射,使导模转变为辐射模。可以认为:某一位置散射出来的光强主要受到该点的传输光强、界面不平整程度、杂质多少的影响。整块波导是在特定条件下一次性制备,后两个因素的影响可以认为在整块波导中平均分布,即使由于杂质大小有涨落而出现某点散射光特别强,也可以在后期图像处理中采用数字滤波技术加以消除。因此,散射光强将只和该处的实际传输光强成正比。据此,可以采用数字成像器件CCD 对传输线上各点的散射光强进行记录,转换成内部传输光强,拟合出传输衰减曲线并计算衰减系数。 3.图像噪声的消除 在波导传输线静态数字照片上,对传输光强分布进行研究,发现波导杂散光十分明显,如图1,杂散光相当于噪声必须消除,否则将给传输衰减系数的计算带来很大的误差。 消除数字图像噪声的方法有很多种,本文采用的是均值滤波算法。该算法相当于一个低通滤波器,图像上的每一点均被周围点的加权平均值来代替。即: R e l a t i v e I n t e n s i t y

基于AWG的平面光波导技术

基于AWG的平面光波导技术 采用平面光波導(Planar Lightwave Circuit,PLC)技术制作的阵列波导光栅(Arrayed Wave-guide Grating, AWG)是应用于光网络中的支撑技术波分复用(Wave Division Multiplexing, WDM)的重要器件。本文介绍了国内外AWG的应用现状和发展前景。 标签:平面光波导阵列波导光栅波分复用 1 平面光波导(Planar Light Circuit,PLC)技术的市场分析 伴随着光通信的发展,在金融危机影响下的亚太地区正成为全球光通信市场中最活跃的一部分,目前所面临的问题主要有:①运营商投资重心从SONET/SDH 转移到WDM的趋势将会持续高涨;②3G网络正式商用化带动了移动与固网宽带市场新旧技术的转换;③受市场驱动和政策面的影响,光纤到户(Fiber to the Home, FTTH)更加深入市场;④系统设备商们将持续兼并收购,以实现技术优势和资源整合。 基于PLC技术开发的光器件在光网络的组网中占据重要地位。波分复用(Waveguide Division Multiplexing, WDM)系统是当前最常见的光层组网技术,它通过复用/解复用器实现多路信号传输。早期的WDM系统并没有实现真正意义上的光层组网,难以满足业务网络IP化和分组化的要求,这种情况直到可重构光分插复用器(Reconfigurable Optical Add Drop Multiplexer, ROADM)的出现才得以改善。平面光波导ROADM是近年来广泛采用的ROADM子系统之一。PLC的ROADM上下路通道是彩色光,这意味着只有预定义的彩色波长可以在每个端口上下,也可以配合可调滤波器和可调激光器使用。由于PLC的集成特性,使其成为低成本的ROADM解决方案之一。目前的光波导,一般都是以玻璃、LiNbO3、GaAs 单晶等做衬底,再用扩散或外延技术制成的。PLC可以集成多种器件,例如:韩国的Byung Sup Rho等人用PLC研制的WDM双向模块[1],我国的浙江大学也研制出一种利用PLC的高集成化的PMD补偿器[2][3]。 2 AWG的结构及其工艺简介 阵列波导光栅(Arrayed Waveguide Grating, AWG)是第一个将PLC技术商品化的元器件。它是基于干涉原理形成的波分复用器件,通过集成的AWG可以实现波长复用和解复用,这种技术已被用于WDM系统中。目前平面波导型WDM器件有多种实现方案,其做法为在硅晶圆上沉积二氧化硅膜层,再利用光刻工艺(Photolithography)及反应式离子蚀刻法(RIE)制作出AWG。该类器件通路数大、紧凑、易于批量生产,但带内频响尚不够平坦。由于AWG采用与一般半导体相同的制作过程,多通道数与低通道数的制作成本相差不多,但更适合生产,而且整合度较高,因此应用在DWDM上具有相当的潜力。北美市场在2008年初呈现活跃状态,比如:美国加州的PLC设备供应商ANDevices在一月份签订协议,提供价值$13.5百万的产品给FTTH发展商Enablence Technologies Inc[4]。在我国,以PLC

平面光波导分路器封装技术

光分路器 与同轴电缆传输系统一样,光网络系统也需要将光信号进行耦合、分支、分配,这就需要光分路器来实现,光分路器是光纤链路中最重要的无源器件之一,是具有多个输入端和多个输出端的光纤汇接器件,常用M×N来表示一个分路器有M个输入端和N个输出端。在光纤CATV系统中使用的光分路器一般都是1×2、1×3以及由它们组成的1×N光分路器。 1.光分路器的分光原理 光分路器按原理可以分为光纤型和平面波导型两种,光纤熔融拉锥型产品是将两根或多根光纤进行侧面熔接而成;光波导型是微光学元件型产品,采用光刻技术,在介质或半导体基板上形成光波导,实现分支分配功能。这两种型式的分光原理类似,它们通过改变光纤间的消逝场相互耦合(耦合度,耦合长度)以及改变光纤纤半径来实现不同大小分支量,反之也可以将多路光信号合为一路信号叫做合成器。熔锥型光纤耦合器因制作方法简单、价格便宜、容易与外部光纤连接成为一整体,而且可以耐孚机械振动和温度变化等优点,目前成为市场的主流制造技术。 熔融拉锥法就是将两根(或两根以上)除去涂覆层的光纤以一定的方法靠扰,在高温加热下熔融,同时向两侧拉伸,最终在加热区形成双锥体形式的特殊波导结构,通过控制光纤扭转的角度和拉伸的长度,可得到不同的分光比例。最后把拉锥区用固化胶固化在石英基片上插入不锈铜管内,这就是光分路器。这种生产工艺因固化胶的热膨胀系数与石英基片、不锈钢管的不一致,在环境温度变化时热胀冷缩的程度就不一致,此种情况容易导致光分路器损坏,尤其把光分路放在野外的情况更甚,这也是光分路容易损坏得最主要原因。对于更多路数的分路器生产可以用多个二分路器组成。 2.光分路器的常用技术指标 (1)插入损耗。 光分路器的插入损耗是指每一路输出我相对于输入光损失的dB数,其数学表达式为:Ai=-10lg Pouti/Pin ,其中Ai是指第i个输出口的插入损耗;Pouti是第i个输出端口的光功率;Pin是输入端的光功率值。 (2)附加损耗。 附加损耗定义为所有输出端口的光功率总和相对于输入光功率损失的DB数。值得一提的是,对于光纤耦合器,附加损耗是体现器件制造工艺质量的指标,反映的是器件制作过程的固有损耗,这个损耗越小越好,是制作质量优劣的考核指标。而插入损耗则仅表示各个输出端口的输出功率状况,不仅有固有损耗的因素,更考虑了分光比的影响。因此不同的光纤耦合器之间,插入损耗的差异并不能反映器件制作质量的优劣。对于1*N单模标准型光分路器附加损耗如下表所示: 分路数 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 16 附加损耗DB 0.2 0.3 0.4 0.45 0.5 0.55 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0 1.2 (3)分光比。 分光比定义为光分路器各输出端口的输出功率比值,在系统应用中,分光比的确定是根据实际系统光节点所需的光功率的多少,确定合适的分光比(平均分配的除外),光分路器的分光比与传输光的波长有关,例如一个光分路在传输1.31 微米的光时两个输出端的分光比为50:50;在传输1.5μm的光时,则变为70:30(之所以出现这种情况,是因为光分路器都有一定的带宽,即分光比基本不变时所传输光信号的频带宽度)。所以在订做光分路器时一定要注明波长。 (4)隔离度。 隔离度是指光分路器的某一光路对其他光路中的光信号的隔离能力。在以上各指标中,

光波导器件研究的新进展剖析

光波导技术课程论文题目:光波导器件研究的最新进展 院系武汉光电国家实验室专业班级硕士 01 姓名张加凯 学号 M201572516 2015年 10月 光波导器件研究的新进展 摘要 :如今, 在这个计算机技术以及通信技术被迅猛发展的时代, 光波导材料与器件作为光通信系统中的必不可少的组成部分, 自然得到了人们越来越多的重视和发展, 并且已经广泛的应用与现今的各种光通信系统中了。其中, 光开关作为光网络和数字光信息处理的核心器件, 人们对其的研究可以追溯到上个世纪六十年代。由于新的技术不断的涌现, 使得光开关的集成化和规模化得到了大大的发展,本文将主要介绍光开关的发展现状以及其研究的最新进展。 关键字 :光网络,机械光开关,电光开关,热光开关,全光开关 1. 光开关概述 光开关是一种具有一个或多个可选的传输端口并且可以对光传输线路或集成光路中的光信号进行相互转换或逻辑操作的光学器件。 1.1光开关的典型应用 光开关在光纤通信系统中的应用十分广泛。它不仅可以用来保护,测试和监控光网络的实时通信情况。还能够组成个复杂的光器件, 例如光交叉连接器 (OXC 和光分插复用器 (OADM 来完成选择不同波长的选择以及复用功能。下面将详细的介绍:

(1光开关的保护和检测功能 当光通信网络出现故障的时候, 光开关能将报错地点的光路切换到备用线路上,从而实现整个光网络的保护功能。同理,当我用来检测光网络时,可以将检测节点接入检测光路实现检测的目的。 (2光交叉连接(OXC 光开关是组成光交叉连接(OXC 的基本单元。而由光开关阵列构成的 OXC 具有带宽管理功能,同时也能对光网络起到保护和恢复的作用。 (3光分插复用器(OADM 同样,光分插复用器(OADM 也是又光开关阵列所构成,它可以在光网络的某一节点上随意复用或下载任意波长的光信号。这种强大的功能使其在光通信的复用系统中的应用十分的广泛。 1.2光开关的分类及其现状 如今的主要的光开关根据其工作原理可以分为机械光型开关, 声光型光开关, 热光型光开关,电光型光开关,全光开关。 1.2.1机械型光开关 传统的机械光开关仍是目前应用的最为广泛的光开关,它通过机械的方法将光纤移动来产生开和关的功能, 这种光开关损耗较低, 串扰较少, 而且还不受偏振和波长的影响, 但是由于这种机械的控制方法限制了光开关的体积大小, 使得其在器件集成方面受到很大的限制。而后来发展的微机电系统光开关 (MEMS 虽然在尺寸方面优化了许多, 但是长期使用后机械部分的稳定性使其在应用方面得到了限制。 1.2.2声光型光开关和热光型光开关

有机聚合物光波导有效折射率的测量

1 光波导薄膜厚度和折射率的测量 有效折射率是表征光波导的重要参数,知道了有效折射率,才能计算波导的传播常数,进而根据光波导的色散方程计算波导介质的厚度、介电系数等其它参数。因此,通过测量光波导的有效折射率计算波导波膜厚度和折射率对波导器件的设计具有十分重要的意义。 [实验目的] 1. 了解聚合物光波导结构,学习介质平板波导理论; 2. 掌握测量有机聚合物光波导有效折射率的方法; 3. 熟悉棱镜耦合激发导模的实验方法。 [实验原理] 1.介质平板波导理论 如图1所示的三层平板波导的TM 模色散方程可写为: ??? ? ??+???? ??+=--κκπκq n n p n n m h 232 1122211 tan tan 式中: ()2 122120βκ-=n k ()2 12 2202n k p -=β ( ) 12 3 202n k q -=β 其中β为传播常数。0k 为真空中的波矢,λπ 20=k ,λ为实验中所用激光的波长 (λ=650nm )。1n 、2n 分别为波导薄膜、衬底(空气)的的折射率,3n 为覆盖层(银膜) 的复折射率,1723-=n 。h 为薄膜厚度。导模有效折射率eff n 定义为: 0k n eff β= 因而测得了eff n ,便知道了传播常数β。对于多模波导,若知道了三个模的1-m β、m β、1+m β,便可联立当模序数为m-1、m 、m+1时的超越方程(1), ??? ?? ??? ??????? ??+???? ??++=??? ? ??+???? ??+=? ??? ??+???? ??+-=++-++-+---------112321111222111232112221111232 1111222111tan tan )1(tan tan tan tan )1(m m m m m m m m m m m m m m m q n n p n n m h q n n p n n m h q n n p n n m h κκπκκκπκκκπκ 求出波导薄膜的厚度h 和折射率1n (1) (2) (3) (4) (5) 3n 波导层n 衬底2n n k Fig.1 三层平板波导结构 (6) κ β

光波导理论与技术 大学课件

光波导理论与技术大学课件 06 年复习题 x E y x t Ay cos t1. 已知一平面电磁波的电场表达式为 c , 写出与之相联系的磁场表达式。(提示:利用麦克斯韦尔方程,注意平面波的特点) 2E 1 2E2. 证明平面电磁波公式 E A cost kx 是波动微分方程 0 的解。 x 2 v 2 t 23. 在直角坐标系任意方向上以角频率传播的平面波为 E A exp j t k r ,根据波动方程 2 2E ,导出用角频率、电容率、导磁率0 表示平面波的传 E 0 2 0 播常数 k。 t4. ?璧ド矫娌ㄓ?E A exp j t kz 表示,求用电容率、导磁率0 表 示的该平面波传播速度。(提示:考虑等相位面的传播速度)5. 用文字和公式说明电磁场的边界条件。6. 设时变电磁场为 A xt A x sin ωt ,写出该电磁场的复振 幅表示式,它是时间的函数还是空间的函数,7. 分别写出麦克斯韦尔方程组和波动方程的时域与频域的表达式。8. 说明平面波的特点和产生的条件。9. 写出平面波在下列情况下的传播常数或传播速度表示式: 1 沿任意方向的传播速度; 2 在折射率为 n 的介质中的传播常数; 3 波矢方向与直角坐标系 z 轴一致的传播常数。10. 平面波波动方程的解如下式,说明等式右边两项中正负号和参数 k 的物理意义。 E x z , t E e j t kz E e j t kz11. 说明制成波片材料的结构特点,如何使波片成为 1/4 波片和 1/2 波片12. 如果要将偏光轴偏离 x 轴度的线偏振光转变 成 x 偏振光,应将/2 波片的主轴设定为偏离 x 轴多大角度13. 什么是布儒斯特 起偏角,产生的条件是什么14. 光波在界面反射时,什么情况下会产生半波损失15. 如何利用全反射使线偏振光变成园偏振光,16. 什么是消逝波,产生消逝波的条件是什么,17. 什么是相位梯度,它与光波的传输方向以及介质折射率是什么关系,18. 在非均匀介质中如何表示折射率与光线传播方向的关系,19. 光纤的数值孔径表示 什么,如何确定它的大小20. 在下列情况下,计算光纤数值孔径和允许的最大入射 角(光纤端面外介质折射率n1.00): 1 阶跃折射率塑料光纤,其纤芯折射率 n1

光波导的一些基本概念

平面光波导,英文缩写PLC是英文Planar Lightwave Circuit的缩写,翻译成中文为: 平面光波导(技术)。所谓平面光波导,也就是说光波导位于一个平面内。正如大家所熟悉的单层电路板,所有电路都位于基板的一个平面内一样。因此,PLC是一种技术,它不是泛指某类产品,更不是分路器!我们最常见的PLC分路器是用二氧化硅(SiO2)做的,其实PLC技术所涉及的材料非常广泛,如玻璃/二氧化硅(Quartz/Silica/SiO2)、铌酸锂(LiNbO3)、III-V族半导体化合物(如InP, GaAs等)、绝缘体上的硅 (Silicon-on-Insulator, SOI/SIMOX)、氮氧化硅(SiON)、高分子聚合物(Polymer)等。 基于平面光波导技术解决方案的器件包括:分路器(Splitter)、星形耦合器(Star coupler)、可调光衰减器(Variable Optical Attenuator, VOA)、光开关(Optical switch)、光梳(Interleaver)和阵列波导光栅(Array Waveguide Grating, AWG)等。根据不同应用场合的需求(如响应时间、环境温度等),这些器件可以选择不同的材料体系以及加工工艺制作而成。值得一提的是,这些器件都是光无源器件,并且是独立的。他们之间可以相互组合,或者和其他有源器件相互组合,能构成各种不同功能的高端器件,如:VMUX = VOA + AWG、WSS = Switch + AWG等(图2)。这种组合就是PLC技术的未来发展方向-光子集成(Photonic Integrated Circuit, PIC

光波导的理论以及制备方法介绍

光波导的理论以及制备方法介绍 摘要 由光透明介质(如石英玻璃)构成的传输光频电磁波的导行结构。光波导的传输原理是在不同折射率的介质分界面上,电磁波的全反射现象使光波局限在波导及其周围有限区域内传播。 光波导的研究条件与当前科技的飞速发展是密不可分的,随着技术的发展,新的制备方法不断产生,从而形成了各种各样的制备方法,如离子注入法、外延生长法、化学气相沉淀法、溅射法、溶胶凝胶法等。重点介绍离子注入法。 光波导简介如图所示为光波导结构 图表1光波导结构 如图中共有三层平面相层叠的光学介质,其对应折射率n0,n1,n2。其中白色曲折线表示光的传播路径形式。可以看出,这是依靠全反射原理使光线限制在一层薄薄的介质中传播,这就是光波导的基本原理。为了形成全反射,图中要求n1>n0,n2。 一般来讲,被限制的方向微米量级的尺度。 图表2光波导模型 如图2所示,选择适当的角度θ(为了有更好的选择空间,一般可以通过调整三层介质的折射率来取得合适的取值),则可以将光线限制在波导区域传播。 光波导具有的特点光波导可以用于限制光线传播光路,由于本身其尺寸在微米量级,就使得其有很多较好的特点: (1)光密度大大增强 光波导的尺寸量级是微米量级,这样就使得光斑从平方毫米尺度到平方微米尺度光密度增大104—106倍。 (2)光的衍射被限制 从前面可以看出,图示的光波导已经将光波限制在平面区域内,后面会提到稍微变动一下技

术就可以做成条形光波导了,这样就把光波限制在一维条形区域传播,这就限制了光波的衍射,有一维限制(一个方向),二维限制(两个方向)区分(注:此处“一维”与“二维”的说法并不是专业术语,仅仅指光的传播方向的空间自由度,不与此研究专业领域的说法相混同)。 (3)微型元件集成化 微米量级的尺寸集成度高,相应的成本降低 (4)某些特性最优化 非线性倍频阈值降低,波导激光阈值降低 综上所述,光波导本身的尺寸优势使得其有很好的研究前景以及广泛的应用范围。 光波导的分类一般来讲,光波导可以分为以下几个大类别: 图表3平面波导(planar) 图表4光纤(fiber)

光波导原理及器件简介

包层n 2 芯区n 1 图1. 三层平面介质波导 图2. 矩形波导 图3. 圆光波导 图4. 椭圆光波导 光波导原理及器件简介 摘要:20世纪60年代激光器的出现,导致了半导体电子学、导波光学、非线性光学等一系列新学科的涌现。20世纪70年代,由于半导体激光器和光纤技术的重要突破,导致了以光导纤维通信、光信息处理、光纤传感、光信息存储与显示等为代表的光信息科学技术的蓬勃发展,而导波光学理论是光通信技术的基础,同时也是集成光学、光纤传感等学科的基础。本文简述了光波导的原理,并着重介绍光波导开关。 关键词:光波导,波导光学,平面光波导,光波导开光 1.引言 1.1光波导的概念 波导光学是一门研究光波导中光传输特性及其应用的学科。以光的电磁理论和介质光学特性的理论为基础,研究光波导的传光理论、调制技术及光波导器件的制作与应用技术。导波光学系统是由光源、光波导器件、耦合器、光调制器及光探测器等组成的光路系统。 光波导是将光波限制在特定介质内部或其表面附近进行传输的导光通道。简单的说就是约束光波传输的媒介,又称介质光波导。介质光波导的三要素是:“芯/包”结构,凸形折射率分布(n1>n2),低传输损耗。光波导常用材料有:LiNbO3、Si 基(SiO2、SOI )、Ⅲ-Ⅴ族半导体、聚合物等。 1.2光波导的分类 按几何结构分类,光波导可分为:平面(平板)介质波导,矩形(条形)介质波导,圆和非圆介质波导。

按波导折射率在空间的分布分类,光波导可分为:非线性光波导(n=n(x,y,z,E)),线性光波导(n=n(x,y,z))。线性光波导又可分为:纵向均匀(正规)光波导 (n=n(x,y)),纵向均匀(正规)光波导(n=n(x,y))。 2.光波导的原理简介 一种为大家所熟知的介质光波导就是通常具有圆形截面的光导纤维,简称为光纤。然而,集成光学所注重的光波导往往是平面薄膜所构成的平板波导和条形波导,这里,我只讨论平面光波导。 最简单的平板波导由三层材料所构成,中间一层是折射率为 n1的波导薄膜,它沉积在折射率为 n2的基底上,薄膜上面是折射率为 n3的覆盖层,一般都为空气。薄膜的厚度一般在微米数量级,可与光的波长相比较。薄膜和基底的折射率之差一般在10-1和10-3之间。为了构成真正的光波导,要求n1必须大于 n2和 n3,即 n1>n2>=n3。这样,光能限制在薄膜之中传播。 假定导波光是相干单色光,并假定光波导由无损耗,各向同性,非磁性的无源介质构成。 光在平板波导中的传播可以看作是光线在薄膜—基底和薄膜—覆盖层分界面上发生全反射,在薄膜中沿 Z 字形路径传播。光在波导中以锯齿形沿Z 方向传播,光在x 方向受到约束,而在y 方向不受约束。 在平板波导中,n1>n2且 n1>n3,当入射光的入射角θ1超过临界角θ0时: 入射光发生全反射,此时,在反射点产生一定的位相跃变。我们从菲涅耳反射公式: 出发,推导出反射点的位相跃变φTM 、φTE 为:

光波导材料与制备

波导的传输特性进行了分析。数值计算与电磁仿真软件结果能很好地符合。研究了不同尺寸对脊波导带宽的影响,对这类结构的优化具有指导意义。图6参15(于晓光) TN2522008021545溶胶-凝胶条波导Sagnac环的乙醇蒸气传感特性=Sensing char acter istics to ethano l vapor o f so-l g el st ripe wav eg uides inco rpor ated in a Sagnac lo op[刊,中]/初凤红(中科院上海光机所信息光学实验室.上海(201800)),庞拂飞,//中国激光.―2007,34(9).―1263-1266 采用有机/无机混合溶胶-凝胶法制作条形光波导,并将条波导接入光纤Sag nac环中,测量了输出光功率随环境气氛中乙醇蒸气体积分数变化的特性,表明在实验研究的范围内,输出信号与乙醇蒸气体积分数呈正弦变化。根据Sagnac环结构输出特性的基本关系,反映了溶胶-凝胶条波导在乙醇蒸气气氛下产生了双折射效应。图5参14 (严寒) 光波导材料与制备 TN2522008021546氟化聚酰亚胺光波导材料制备工艺及性能研究=Invest-i g atio n o n preparat ion and pro per ties of f luor inat ed polyim-ide fo r w aveguide[刊,中]/董林红(华中科技大学光电子科学与工程学院.武汉,武汉(430074)),朱大庆,//激光技术.―2007,31(4).―370-373 为合成较大分子量的氟化聚酰亚胺光波导材料,采用了几种不同制备工艺,找到了较好的合成大分子量氟化聚酰亚胺的工艺,利用智能傅里叶红外光谱仪测量了合成的氟化聚酰亚胺的红外光谱,证实了材料的结构。对材料做了热重分析和差示扫描量热测试,材料在530e左右才会分解,说明材料具有良好的热稳定性。图7表1参11(王淑平) 光电集成与器件 TN2562008021547新型低损耗级联式1@4光分路器的优化设计=O pt imized desig n o f a new low-loss cascaded1@4optical splitter[刊,中]/佟西周(江苏大学机械工程学院光信息科学与技术系.江苏,镇江(212013)),周骏,//光电工程.―2007,34 (10).―134-138 采用激模波导结构设计新型Y分支波导和由3个分支级联的新型Y分支波导构成低损耗1@4光分路器。设计中利用辐射模和本征基模的叠加来修正光波场,通过改善模匹配来降低分支耦合损耗,同时在1@4光分路器中加入直波导来改善和优化分路器的输出均匀性,并用有限差分光束传播法对该Y分支波导和1@4光分路器进行数值模拟。模拟结果表明,该结构具有均匀性好、损耗小和结构简单等优点。图12参9(杨妹清) TN2562008021548光纤与有机聚合物脊形波导的耦合损耗分析=A naly sis of co upling lo ss betw een optical fiber and po ly meric rib wav eg uide[刊,中]/陆荣国(电子科技大学光电信息学院.四川,成都(610054)),刘永智,//光电工程.―2007,34 (9).―140-144 利用广角有限差分束传播法和有效折射率法对光纤与有机聚合物脊形波导的耦合损耗进行分析,得出了如下结论:耦合损耗随着错位、间隙、夹角的增大而增大;因错位而引起的耦合损耗在所有耦合损耗中占有主要位置。图11参6(杨妹清) TN2562008021549基于中心积分法的11维集成光波导芯片封装系统=11D integr ated o ptic w aveg uide chip packaging system based o n cent er-integ ratio n algo rithm[刊,中]/隋国荣(上海理工大学光学与电子信息学院.上海(200093)),陈抱雪,//光学精密工程.―2007,15(11).―1649-1655 研制了基于中心积分法的集成光波导芯片封装系统,在空间11维上实现了光波导器件的位置调节,通过高精度对准和改进后的中心积分法快速准确地实现芯片对准。在单芯光纤-条波导-单芯光纤系统的封装测试实验中,端面耦合损耗的平均值为0.1136dB,单次耦合损耗的最大值<0.13dB,标准偏差<0.02dB,单次耦合时间<2min。在单芯光纤列阵-1@8波导分支耦合器-8芯光纤列阵的封装生产中,各通道插入损耗均<10.5dB,均匀性指标<0.4dB,单次耦合时间<5min。图6表2参9(杨妹清) T N2562008021550阵列波导光栅中心波长温度稳定性的研究=Analytical solut ions for temper atur e stabilit y of centr al w aveleng th in ar ray ed w aveguide gr atings[刊,中]/黄华茂(武汉光电国家实验室.湖北,武汉(430074)),刘文,//光学学报.―2007,27(10).―1725-1729 为了设计温度不敏感阵列波导光栅,结合弹性多层板热应力理论和应力集中效应给出掩埋波导芯层应力的解析解,利用等效折射率法计算阵列波导的有效折射率及其温度系数,考虑波导材料折射率和波导长度随温度的变化得到了硅基二氧化硅阵列波导光栅中心波长的温度系数。研究了贴有应力板的阵列波导光栅中心波长的温度特性,结果表明在芯片底部贴有0.37mm厚的铝板时,T E模和T M模中心波长的温度系数分别是5.9pm/e和8.0 pm/e。图5表1参17(杨妹清) T N2562008021551具有单一复合调制区的多模干涉效应耦合器1@3光开关的分析=A naly sis on multimode interference co upler-based 1@3optical swit ch w ith mono-compound mo dulat ion re-g ion[刊,中]/周海峰(浙江大学信息与电子工程系.浙江,杭州(310027)),江晓清,//光学学报.―2007,27(9).―1691-1694 基于多模干涉自映像原理,分析了一种仅含一个复合调制区的1@3光开关。该开关处于不同工作状态时,调制臂上所加相位调制量之间存在倍数关系,可将调制臂上的相移器组合成一个复合调制区,通过连续改变复合调制区的折射率变化量,可以将来自任一输入端的光场轮流切换到任意输出端口。以Al0.07Ga0.93A s/G aAs脊形波导结构为例,采用BEA M PR OP软件,对该开关进行了优化和理论验证。消光比高达30.3dB;相邻通道之间的串扰低于-29.8dB;在1.31L m工作波长处约50nin的波谱范围内,串扰低于-20dB。图4参11(严寒) T N2562008021552掺铒玻璃波导放大器中抽运光信号光重叠因子分析=A-nalysis o f o ver lap facto r betw een pump-and signa-l lig ht in-tensity pro files in Er-doped w aveg uide amplif ier[刊,中]/顾浩然(上海交通大学物理系,先进光通讯系统与网络国家重点实验室.上海(200240)),金国良,//光学学报.―2007,27(9).―1643-1648 通过分析掺铒(Er3+)玻璃波导放大器(EDWA)的放大增益机理,提出抽运光与信号光光模场分布之间的归一化重叠积分因子( ),并引入到掺铒波导放大器增益模拟计算中,使理论模型更切合实际。以A g+-N a+二次离子交换工艺制作的具有埋入型渐变折射率分布的掺铒波导放大器为例,计算了不同工艺参量设置下的 大小,讨论 对放大器增益的影响。计算结果显示,在一定条件下, 从0.5增至0.8,每厘米长度掺铒波导放大器的放大增益可提高近1.5dB。图5表1参11(严寒) T N256M O436.12008021553误差扩散法设计用于惯性约束聚变驱动器的色分离光栅-光束采样光栅集成元件=Design o f co mbined co lor-sepa-rat ion g rating and beam-sampling g r ating element used in ) 60 )

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