真空镀膜机构成
JN-CLD系列真空磁控溅射镀膜机型号及技术参数
性能型号JN-CLD-700 JN-CLD-900 JN-CLD-1000 JN-CLD-1250 JN-CLD-1400 JN-CLD-1600
镀膜室尺寸Ф700×H900
mm
Ф900×H1100m
m
Ф1000×H1200
mm
Ф1250×H1350
mm
Ф1400×H1600
mm
Ф1600×H1800m
m
电源类型灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源、射频磁控电源、线性离化源
真空室结构立式双开门、立式前开门结构、后置抽气系统
真空室材质优质不锈钢材质腔体
极限真空 6.0×10-4Pa
抽气时间
(空载）
从大气抽至8.0×10-3Pa≤15分钟
真空获得系
统
扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（具体型号可根据客户的要求进行配置）
镀膜方式磁控溅射镀膜
制膜种类金属膜、反应膜、化合物膜、多层膜、半导体膜
磁控靶类型矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶
磁控电源功
率及磁控靶
数量
根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配
偏压电源10KW/1台20KW/1台20KW/1台30KW/1台40KW/1台50KW/1台工件转架
转动方式行星式公自转、变频调速（可控可调）
工艺气体3路或4路工艺气体流量控制及显示系统选配自动加气系统
冷却方式水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机或深冷系统。（客户提供）
控制方式手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制
整机总功率30KW 35KW 40KW 50KW 65KW 80KW
报警及保护对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警，并执行相应保护措施及电气联锁功能。设备占地面
积
W2m×L3m W2.5m×L3.5m W3m×L4m W4m×L5m W4.5m×L6m W5m×L7m 其他技术参水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa
数
ZZ-560型射频磁控溅射真空镀膜设备
一、用途及特点
1.为单室立式结构的高真空多功能真空镀膜设备，射频磁控
溅射真空镀膜、直流磁控溅射真空镀膜的组合，既能满足
各类膜层的实验研究，又能减少射频辐射的机会，当溅射
金属材料时，可采用直流磁控溅射真空镀膜;当溅射非金属
材料时,可采用射频磁控溅射真空镀膜.
2.可真空镀膜膜层:金属单质膜(如Al、Ni)、合金膜、氮化物
膜、碳化物膜、氧化物膜、其它非金属化合物膜.
二、主要技术指标和外部设施要求
(一)技术指标:
1.真空镀膜室型式: 立式圆筒形、间歇工作
2.真空镀膜室尺寸: φ600×400
3.极限真空度: 5×10-3Pa
4.压升率: ≤2Pa/h
5.靶数量: 2个
6.靶功率: 单靶2KW
7.加热温度: 室温~150℃
8.工件最大尺寸:垂直方向最大尺寸≤100mm
9.总功率: 25KW
（二）外部设施要求: (用户自备)
1.电源: 380V
2.气源:
压缩空气: 净化干燥,使用压力0.4~0.6Mpa
高纯氩气: 99.999%
高纯氮气: 99.999%
其它气体
3.冷却用水
压力: 1.5~2.5Kg/cm2、水温＜20℃
4.占地面积: 20m2
三、主要组成部分:真空镀膜室、真空系统、充气系统、气动系统、
水路系统、电控系统
1.真空镀膜室
真空镀膜真空室体、靶装置、传动系统、加热器、观察窗、靶挡板机构、隔热屏、放气阀.
1).真空镀膜室体:为立式园筒形侧开门不锈钢结构.
2).靶装置:靶体及其零部件、磁体、屏蔽罩
靶型式:园形平面靶
靶面有效尺寸:φ120
靶位排布:侧面对放
靶特点:采取2个同心环磁体,每个同心环均由若干个磁
柱
组成环状,可拓宽靶刻蚀区和改善靶原子的沉
积分
布,从而提高膜厚的均匀度.
靶-基距:靶与基片的距离为50~80连续可调
3).传动系统:电机、主轴、密封箱、轴承、水冷箱等等.
4).加热器: 管状加热器
2.真空系统:
扩散泵: K-200T
罗茨泵: ZJ-30
旋片泵: 2X-8
冷阱: DN200
气动高真空挡板阀: 2个
电磁真空带充气阀
波纹管: 3套
不锈钢连接管道: (1Cr18Ni9Ti )若干套
泵架:
3.充气系统:采用双路质量流量控制器自动充气.
流量显示仪: D08-2C/ZM
质量流量控制器: D07-7A/ZM 2个
电磁截止阀: DJ2B-301 2个
充气管: 00Cr17Ni14Mo2不锈钢管
三通及四通若干:
真空胶管及托架:
4.气动系统:气动三联件、电磁换向阀、阀板、气管、气嘴、支架
等
5.水冷系统:进水总管、回水总管、支架、球阀、水管及附件、电
接点压力表.
6.电控系统:
靶电源、加热控制电源、传动系统控制、真空测量控制系统及
各类仪表、按钮、电控柜柜体等。
真空度单位换算表
真空度单位换算表 真空表读数与真空度换算 ◇真空度用“绝对真空度”、“ 绝对压力” ，即比“ 理论真空” 高多少压力标识；" 绝对真空度 " 是指被测对象的实际压力值。在实际情况中，真空泵的绝对压力值介于 0 ～ 101.325KPa 之间。绝对压力值需用绝对压力仪表测量，在 20℃，海拔高度= 0 的地方，用于测量真空度的仪表 (绝对真空表)的初始值为 101325Pa( 即一个标准大气压) 。 ◇真空度用“ 相对真空度” 、“ 相对压力”，即比“ 大气压” 低多少压力来标识；" 相对真空度 " 是指被测对象的压力与测量地点大气压的差值。用普通真空表可测量。在没有真空的状态下，表的初始值为 0 ，当测量真空时，它的值介于 0 到-101325Pa （即-0.1MPa)之间。真空表上“0” 表示正一个大气压即101325Pa , “-0.1” 表示绝对真空（即为0）。真空表上的指示值不表示真空度的绝对值，只表示了真空度的相对值。 ◇真空度的绝对值与相对值可用下式换算：P≈100000 ×（1－Φ/0.1 ）P a ；Φ为真空表的读数示值的绝对数。 ◇真空表的读数示值为 0，则P≈100000×（1-0/0.1 ）=10000Pa 为 1 个大气压。 ◇真空表的读数示值为 0.1，则P≈1100000× （1-0.1/0.1） = 0 Pa 为绝对真空。 ◇真空表的读数示值为 0.075，则P≈100000×（1-0.075/0.1）= 25000 Pa。 ◇真空表的读数示值为 0.08，则P≈100000×（1-0.08/0.1）= 20000 Pa。 ◇真空表的读数示值为 0.09，则P≈100000×（1-0.09/0.1）= 10000 Pa。 ◇真空表的读数示值为 0.095，则P≈100000×（1-0.095/0.1）= 5000 Pa。 ◇真空表的读数示值为 0.097，则P≈100000×（1-0.097/0.1）= 3000 Pa。 ◇真空表的读数示值为 685mmHg，则P≈100000×（1-685/760）= 10000 Pa。 ◇真空表的读数示值为 700mmHg，则P≈100000×（1-700/760）= 8000 Pa。
真空镀膜基础知识
学校：龙岩学院 院系：物理与机电工程学院 专业：机械设计制造及其自动化 班级： 11级机械（本）1班 姓名：柯建坤 学号： 2011043523 简介 真空镀膜 在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。 蒸发镀膜的类型 蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质（图1[蒸发镀膜设备示意图]
）电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。 蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。 为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置如图2[ 分子束外延装置示意图 ]。喷射炉中装有分子束源，在超高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜最慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。 溅射镀膜 用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面，沉积在基片上。溅射现象于1870年开始用于镀膜技术，1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用的二极溅射设备如图3[ 二
真空镀膜实验报告
真空镀膜实验报告 摘要：本实验在获得真空环境的基础上，在真空室内进行镀膜。在实验中需要复习获得真空的步骤和注意事项，学会使用蒸发镀膜设备，和在玻璃上镀锡的操作方法。 关键词：真空镀膜 蒸发镀膜 引言： 真空镀膜又叫物理气相沉积，它是利用某种物理过程，如物质的热蒸发或在受到粒子束轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质从源物质到薄膜的可控的原子转移过程。物理气相沉积技术中最为基础的两种方法就是蒸发法和溅射法。在薄膜沉积技术发展的最初阶段，由于蒸发法相对于溅射法具有一些明显的优势，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度以及由此导致的较高的薄膜质量等，因此蒸发法受到了相对教大程度的重视。但另一方面，溅射法也有自己的优势，包括在沉积多元合金薄膜时化学成分容易控制，沉积层对衬底的附着力较好等。 真空镀膜的操作是将固体材料置于真空室内，在真空条件下，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。 正文： 一、实验原理 1、真空泵简介 （1）机械泵 机械泵通过不断改变泵内吸气空腔的容积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀压缩从而获得真空，常用的是旋片式机械泵。它主要由定子、转子、旋片、弹簧等组成。机械泵的极限真空度为Pa 1 10 ，它主要由机械泵油的饱和蒸汽压和泵的机械加工精度决定的。当达到极限真空度时，抽气和漏气的速度相等，真空度不再变化。如果将两个机械泵组合起来，可以将真空度提高一个数量级。
旋片式机械泵使用注意： 1） 检查油槽中油液面的高度是否符合规定，机械泵转子的转动方向与规定方向是否一 致； 2） 机械泵停止工作时，要立即使进气口与大气相通，防止回油现象。这步由机械泵上 的电磁阀自动进行。 3） 机械泵不宜工作过长，否则会影响使用寿命。 （2）扩散泵 扩散泵利用气体扩散现象来抽气的。利用高速定向喷射的油分子在喷嘴出口处的蒸汽流中形成一低压，将扩散进入蒸汽流的气体分子带至泵口被前级泵抽走。 扩散泵使用注意： 启动压强低于1Pa ，保证绝大部分的气体分子以定向扩散形式进入高速蒸汽流，高压会导致一些副反应的发生，影响真空的形成。扩散泵一般能达到－5到－7的压强数量级。 2、真空的测量 测量真空的装置称为真空计，常用的油热耦真空计和电离真空计。 热耦真空计可以测量0.1～10Pa 的压强，利用低压下气体的热传导与压强成正比的原理；电离真空计利用电子与气体分子碰撞产生电离电流随压强变化的原理制成，可测量范围是10的－1～－6数量级。注意，电离真空计必须在0.1Pa 一下使用，否则会损坏装置。 3、蒸发镀膜 蒸发镀膜是在真空中通过电流加热，电子束轰击加热和激光加热等方法，使薄膜材料蒸
常用真空单位换算表
常用真空单位换算表 1标准大气压=760毫米汞柱=76厘米汞柱=1.013×10^5帕斯卡=10.336米水柱 公斤不是单位，一般我们通常说的，事实上是一种非标准单位，名称叫：公斤力/平方厘米[Kgf/cm^2]1标准大气压=0.1MPa[兆帕]=101KPa=[千帕]左右=1bar[巴]=760mmHg（毫米汞柱）=14.696磅/英寸2(psi)≈1工程大气压 ≈1Kgf/cm^2[千克力/平方厘米] 千克：是质量单位，千克力：是作用在单位体积上一千克的力一个标准大气压一般约等于101千帕即0.1兆帕，约等于一工程大气压约等于一千克力每平方厘米工程大气压是比标准大气压小一点的1物理大气压＝1标准大气压(atm) 为什么会多一个工程大气压我也不清楚但是工程大气压通常按千克力等，用一种质量作用力对单位面积获得的压强。而标准大气压(atm)则为标准的大气压强，比工程大气压精确，但他们是约等于的。没必要那么精确，除非你是在某些特定领域使用 饱和水蒸汽的压力与温度的关系( 摘自范仲元: "水和水蒸气热力性质图表 " p4～10 )
真空计算常用公式 1、玻义尔定律 体积V，压强P，P·V＝常数（一定质量的气体，当温度不变时，气体的压强与气体的体积成反比。 即P1/P2＝V2/V1） 2、盖·吕萨克定律 当压强P不变时，一定质量的气体，其体积V与绝对温度T成正比：（V1/V2＝T1/T2＝常数）当压强不变时，一定质量的气体，温度每升高(或P降低)1℃，则它的体积比原来增加(或缩小)1/273。3、查理定律 当气体的体积V保持不变，一定质量的气体，压强P与其他绝对温度T成正比，即：P1/P2＝T1/T2在一定的体积下，一定质量的气体，温度每升高(或降低)1℃，它的压强比原来增加(或减少)1/273。 4、平均自由程： λ＝(5×10-3)/P (cm) 5、抽速： S＝dv/dt (升/秒)或S＝Q/P Q＝流量(托·升/秒) P＝压强(托)V＝体积(升) t＝时间(秒) 6、通导：C＝Q/(P2-P1) (升/秒) 7、真空抽气时间： 对于从大气压到1托抽气时间计算式：t＝8V/S (经验公式) （V为体积，S为抽气速率，通常t在5~10分钟内选择。） 8、维持泵选择： S维＝S前/10 9、扩散泵抽速估算： S＝3D2 (D＝直径cm）
超高真空镀膜
超高真空镀膜 1.历史与发展 化学镀膜最早用于在光学元件表面制备保护膜。随后，1817年，Fraunhofe 在德国用浓硫酸或硝酸侵蚀玻璃，偶然第一次获得减反射膜，1835年以前有人用化学湿选法淀积了银镜膜它们是最先在世界上制备的光学薄膜。后来，人们在化学溶液和蒸气中镀制各种光学薄膜。50年代，除大快窗玻璃增透膜的一些应用外，化学溶液镀膜法逐步被真空镀膜取代。真空蒸发和溅射这两种真空物理镀膜工艺，是迄今在工业能够制备光学薄膜的两种最主要的工艺。它们大规模地应用，实际上是在1930年出现了油扩散泵---机械泵抽气系统之后。 1935年，有人研制出真空蒸发淀积的单层减反射膜。但它的最先应用是1945年以后镀制在眼镜片上。1938年，美国和欧洲研制出双层减反射膜，但到1949年才制造出优质的产品。1965年，研制出宽带三层减反射系统。在反射膜方面，美国通用电气公司1937年制造出第一盏镀铝灯。德国同年制成第一面医学上用的抗磨蚀硬铑膜。在滤光片方面，德国1939年试验淀积出金属—介质薄膜Fabry---Perot型干涉滤光片。 在溅射镀膜领域，1842年格洛夫（Grove）在实验室中发现了阴极溅射现象。他在研究电子管阴极腐蚀问题时，发现阴极材料迁移到真空管壁上来了。但是，真正应用于研究的溅射设备到1877年才初露端倪。迄后70年中，由于实验条件的限制，对溅射机理的认同长期处于模糊不请状态，所以，在1950年之前有关溅射薄膜特性的技术资料，多数是不可靠的。19世纪中期，只是在化学活性极强的材料、贵金属材料、介质材料和难熔金属材料的薄膜制备工艺中，采用溅射技术。1970年后出现了磁控溅射技术，1975年前后商品化的磁控溅射设备供应于世，大大地扩展了溅射技术应用的领域。到了80年代，溅射技术才从实验室应用技术真正地进入工业化大量生产的应用领域。现有两极溅射、三极溅射、反应溅射、磁控溅射和双离子溅射等淀积工艺。 2.真空镀膜技术原理[1] 真空镀膜技术是指在真空条件下将金属,金属化合物和其他镀膜材料沉积到基材表面上的技术。塑料真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。
真空镀膜的现状与发展趋势
真空镀膜的现状与发展趋势 发布日期：2010-07-17 <<返回前一页 -------------------------------------------------------------------------------- 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1.真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1.1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。 利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1.2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸
真空镀膜技术
真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有： 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
真空度单位换算表
字体大小：大- 中- 小dgbowei17发表于11-02-15 11:15 阅读(227) 评论(0)分类：产品展示 真空表读数与真空度换算 ◇真空度用“绝对真空度”、“ 绝对压力” ，即比“ 理论真空” 高多少压力标识；" 绝对真空度" 是指被测对象的实际压力值。在实际情况中，真空泵的绝对压力值介于0 ～101.325KPa 之间。绝对压力值需用绝对压力仪表测量，在20℃，海拔高度= 0 的地方，用于测量真空度的仪表(绝对真空表)的初始值为101325Pa( 即一个标准大气压) 。 ◇真空度用“ 相对真空度” 、“ 相对压力”，即比“ 大气压” 低多少压力来标识；" 相对真空度" 是指被测对象的压力与测量地点大气压的差值。用普通真空表可测量。在没有真空的状态下，表的初始值为0 ，当测量真空时，它的值介于0 到-101325Pa （即-0.1MPa)之间。真空表上“0” 表示正一个大气压即101325Pa , “-0.1” 表示绝对真空（即为0）。真空表上的指示值不表示真空度的绝对值，只表示了真空度的相对值。 ◇真空度的绝对值与相对值可用下式换算：P≈100000 ×（1－Φ/0.1 ）P a ；Φ为真空表的读数示值的绝对数。 ◇真空表的读数示值为0，则P≈100000× （1-0/0.1 ）=10000Pa 为 1 个大气压。 ◇真空表的读数示值为0.1，则P≈1100000× （1-0.1/0.1）= 0 Pa 为绝对真空。 ◇真空表的读数示值为0.075，则P≈100000×（1-0.075/0.1）= 25000 Pa。 ◇真空表的读数示值为0.08，则P≈100000×（1-0.08/0.1）= 20000 Pa。 ◇真空表的读数示值为0.09，则P≈100000×（1-0.09/0.1）= 10000 Pa。 ◇真空表的读数示值为0.095，则P≈100000×（1-0.095/0.1）= 5000 Pa。 ◇真空表的读数示值为0.097，则P≈100000×（1-0.097/0.1）= 3000 Pa。
真空蒸发镀膜原理
Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］