抛光知识及抛光技能

抛光工序基础知识

一、抛光的本质：

抛光的过程是十分复杂的，经过大量的实验研究，大致可以归纳为

三种理论：机械磨削理论、化学作用理论和热的表面流动理论。迄今为止，一种综合性的观点被人们所承认，即抛光的本质是机械、化学和物

理三种作用的错综复杂的过程。

二、抛光的目的：

光学零件的抛光是获得光学表面最主要的工序。

目的一：去除精磨的破坏层，达到规定的表面质量要求。

目的二：精修面型，达到图纸要求的光圈和局部光圈，最后形

成透明规则的表面。

三、影响抛光效率的工艺因素

1．抛光机转速和压力。在高速抛光中速度和压力的增加与抛光速率的提高近似成线形关系。

2．抛光液的影响。实验表明，对于聚氨酯模，液温在30~35之间为宜；抛光液的浓度从0~15%抛光速率成线形增加，当超过30%时反而降低；抛光液的酸度，对抛光质量、抛光速率和加工表面的腐蚀影响都很大，通常PH值应控制在6~7之间的弱酸性为好；抛光液的供给量，流量过大或过小抛光速率都降低，其大小应与抛光液的浓度和温度等参数配合；抛光粉的粒度，其粒度应根据表面疵病要求选择，一般表面疵病要求较高时，采用粒度较细的抛光粉。

3. 玻璃种类及精磨后的表面粗糙度等，对抛光效率和零件的表面质量都有重要影响。

抛光技能

1．光圈的识别：

a)三个概念：1、被检光学表面的曲率半径相对于参考表面曲率半

径的偏差称半径偏差。

2、被检光学表面与参考光学表面在两个相互垂直方向上产生的光圈

数不等所对应的偏差称像散偏差。

3、被检光学表面与参考光学表面在任一方向上所产生的干涉条纹的

局部不规则程度称局部偏差。

半径偏差像散偏差

局部偏差

b)高低光圈的判定

高光圈：为正

i.周边加压时，光带向边缘移动。

ii.一边加压时，光带中心和施力点一致。

周边加压一侧加压

低光圈：为负

1．周边加压时，光带向中心移动。

2．一边加压时，光带中心和施力点相反。

周边加压一侧加压

2、光圈的度量

1）在光圈数多的情况下，以有效检验范围内直径方向上最多条纹数的一半来度量。

N=3 N=3 N=2

N=1

2) 在光圈数少的情况下，光圈数以通过直径方向上干涉条纹的弯曲量h相对于条纹的间距H的比值来度量。

N=h/H

3) 象散光圈的度量

a、

来度量。

N=3 △N=|3-2|=1

b、象散光圈数少时的判断

在样板的相互垂直方向上作周边加压或一侧加压，当N >1时光圈呈椭圆；当N<1时，两垂直方向上的条纹弯曲程度不同，则有像散光圈。

4）局部不规则光圈

低光圈中心低低光圈中心高

高光圈中心低高光圈中心高