11级电子制造技术基础 提纲 辰宇出品 必属精品1
2011级电子制造技术知识顺序
第一章电子制造概述
1 封装的定义、功能及分级
(PPT)把零级和一级封装称为电子封装(Electronic Packaging)
(技术);
把二级和三级封装称为电子组装(Electronic Assembly)
(技术)。
二级封装主要有两大技术:通孔组装技术(THT,
Through Hole Technology)和表面安装技术(SMT,
Surface Mounting Technology)。
2 电子封装的4个功能(PPT)
为半导体芯片提供机械支撑和环境保护;
•硅芯片免于受外力与水/湿气之破坏与腐蚀等
•接通半导体芯片的电流通路;
•利用封装体为一个引接的接口, 使用内部电气讯号
可以透过封装材料将之连接到系统主机板
•提供信号输入和输出通路;
•提供热通路,散逸半导体芯片产生的热。
3 缩写
CSP: chip scale package芯片尺寸级封装
MCM: multi chip module多芯片模块
QFP: quad flat package 扁平封装
MEMS:Micro Electronic Mechanical system; 微机电系统
第二章芯片设计与制造技术
1半导体工艺流程
(ppt)前道工序
如何从硅原材料制作成带有不同功能的晶片的过程,
包括的半导体工艺有:
晶圆(Wafer)制作;氧化(Oxidation);
化学气相淀积(Chemical Vapor Deposition);
光刻(Lithography);掩模(Mask)制作
离子注入(Ion Implanting);扩散(Diffusion);
溅射(Spluttering);
前道工序中各工艺的执行顺序是什么?他们在半导体工
艺中具体起到什么作用?请用自己的语言描述。(PPT)
(网络)光刻、外延、薄膜淀积、氧化、扩散、注入、溅射、蒸镀、刻蚀、划片和封装
第三章元器件的互连封装技术
1 引线键合方法比较
2球形键合过程
1 引线键合的缺陷和产生原因(PPT)
1固有缺陷
引线键合技术由于受到自身特征的制约存在一些固有
技术缺陷,包括:
多根引线并联会产生邻近效应,导致同一硅片的键合线
之间或同一模块内的不同硅片的键合线之间电流分布不
均;
键合引线的寄生电感很大,会给器件带来较高的开关过
电压;
引线本身很细,又普遍采用平面封装结构,传热性能不
够好等
2 键合失效形式–焊盘产生弹坑
超声键合中常见的一种缺陷,指焊盘金属化下面的半导体玻璃
或者其他层的破坏。原因多种:
过高的超声能导致Si晶格点阵的破坏积累。
太高或者太低的键合压力。
键合头运动到焊盘的速度太大。
球太小导致坚硬的键合头接触了焊盘
1-3 微米厚的焊盘发生破坏的可能性小,小于0.6微米厚的焊盘容易破坏。
丝线和焊盘硬度匹配可达到最优的效果。
在Al的超声键合中,丝线太硬容易导致弹坑的产生
3 键合失效- 键合点开裂和翘起
键合点的后部过分地被削弱,而前部过于柔软会导致开
裂。在弧度循环中丝线太柔软也是一个导致这种现象产
生的原因。这种开裂常常发生在Al楔形键合第一点和球
形键合的第二点。
开裂原因
使用的截断工具太尖。
对位工具的移动。
当键合头提起时候机器的振动。
过度的变形。
第一键合点完成后工具移动太快。
键合的弧度太高,如果第二键合点低于第一点
,开裂现象会加剧。
4键合失效- 键合点尾部不一致
楔形键合容易发生这种问题,又极其不容易解决。原因有:丝线的通道不干净。
丝线的进料角度不对。
劈刀有部分堵塞。
丝线夹太脏。
不正确地丝线夹距或者夹力。
丝线张力不对。
尾部太短会导致键合力加在过小的面积上,产生较大的变形;太长又会导致焊盘间的短路。
5键合点剥离
当键合头将丝线部分拖断而不是截断的时候会发
生这种情况。常常由于工艺参数选择不对或者是工具已经老化失效的原因。
6可靠性失效—IMC的形成
可靠性失效- 键合点翘起
可靠性失效-键合点腐蚀
键合失效-引线框架腐蚀
可靠性失效-金属迁移
可靠性失效—振动疲劳
2载带自动焊技术
TAB关键工艺
关键工艺有:
•芯片凸点制作
•TAB载带制作
•内、外引线焊接
载带引线和芯片凸点的内引线焊接与外引线焊接技术
载带自动焊优缺点
优点
1. 半导体上芯片的键合只需较少的键合区域,比丝焊更小的
焊区间距。这就在节约了芯片面积的同时使得芯片间的互
连可容纳更多的终端(最高可达到1000左右)。
2. 相对于普通的组装而言,外引线键合对电路板的空间要求
要少的多;也要比丝焊芯片互连要求的空间小。组装比丝
焊更简单也更快。
3. 每个键合区域的金凸点给下面的Al金属镀层提供了一个密
封的空间。这降低了被腐蚀的可能性,提高了可靠性。因
此,TAB适用于不需要另外包装的场合。
4. 引线键合(丝焊)每次只能键合一个焊点,而群体焊
操作起来的效率则高得多,并且有更高的产品收益。
5. TAB载带还可以用作单独的,灵活的小印刷电路板,
在小印刷电路板上同样可以组装其它元件。
缺点
1. 它要求非标准的的Si芯片工艺(沉积金凸点)。
2. 它要求特殊的载带与导体图案之间的装配,这很昂贵而
且费时。
3. PCB上的组装要求专门的设备,每个不同几何图案的组
件要有专门的工具。对每个组件进行单独组装/焊接不
仅浪费时间而且昂贵。
4. 对印刷电路板进行修理(替换一个缺陷元件)要求很苛刻。
5. 很少标准电路可用于TAB形式。很少有公司在中间商的基
础上提供产品。
6. 有关尺寸与加工的标准很少,这就增加了成本。
1 倒装芯片FC flip chip 引线键合WB wire bonding 载带自动焊TAP tape automated bonding 之间的比较
2 倒装芯片的优缺点
优点
小尺寸: 小的IC引脚图形(只有扁平封装的5%)减小了高度和重量。
功能增强: 使用倒装芯片能增加I/O 的数量。I/O 不像引线键合中处于四周而受到数量限制,面阵列使得在更小的空间
里进行更多信号、功率以及电源等的互连。一般的倒装芯片
焊盘可达400个。
性能提升:短的互连减小了电感、电阻以及电容,保证了信号延迟减少、较好的高频率以及从晶片背面较好的热通道。
可靠性提高:环氧填充确保了高可靠性,倒装芯片可减少2/3 的互连引脚数。
低成本:在晶圆上批量的凸点制作降低了成本。
缺点
裸芯片很难测试
凸点芯片适应性有限
随着间距减小和引脚数增多
导致PCB技术面临挑战
必须使用X射线检测设备检测
不可见的焊点
操作夹持裸晶片比较困难
要求很高的组装精度
目前使用底部填充要求一定的固化
时间
维修很困难或者不可能
3倒装芯片工艺步骤
主要工艺步骤:
•第一步:晶片凸点底部金属化(UBM)
•第二步:晶片凸点回流形成凸点
•第三步:已制备凸点的晶片组装到基板/板卡上
•第四步:使用非导电材料填充芯片底部孔隙
4 不同的倒装芯片的连接方法
1. 焊料连接
2. 热压连接
3. 热超声连接
4. 再流焊
5. 导电胶连接
倒装焊互连基板的金属焊区要求:
焊区与芯片凸点金属具有良好的
浸润性;
基板焊区:Ag/Pd、Au、Cu(厚膜)
Au、Ni、Cu(薄膜)
5 再流焊FC技术(C4技术)
将做好凸点的芯片与基板上的焊区对应键合在一起。对于低熔
点的凸点,一般采用该方法,即在对准以后加热,使焊料融化,
冷却后形成牢固的电气机械互连。是目前国际最流行、且具有发
展潜力的FCB技术。
技术特点:
可于多种基板互连;
不同熔点,可弥补基板缺陷;
Pb/Sn焊料熔化再流,自对准效应,对精度要求降低;
可采用SMT设备,达到规模化生产。
自对准效应
6 ICA ACA 的工作原理并进行比较
(各向异性导电胶和各向异性导电胶膜可实现迄今为止最高密度的互连)各向异性导电胶(Anisotropic Conductive Adhesive,ACA)是膏状或者薄
膜状的热塑性环氧树脂,加入了一定含量的金属颗粒或金属涂覆的高分子颗粒。在连接前,导电胶在各个方向上都是绝缘的,但是在连接后它在垂直方
向上导电。金属颗粒或高分子颗粒外的金属涂层一般为金或者镍。
各向同性导电胶(Isotropic Conductive Adhesive,ICA)是一种膏状的高
分子树脂,加入了一定含量的导电颗粒,因此在各个方向上都可以导电。通
常高分子树脂为环氧树脂,导电颗粒为银。
7 底部填充
作用
Si的CTE为2.8ppm/ ℃、FR4的为15.8ppm/ ℃,在功率循环与热循环工
作中,CTE失配导致焊点热应力而发生疲劳失效。
底部填充材料将集中的应力分散到芯片的塑封材料中去。
还可阻止焊料蠕变,并增加倒装芯片连接的强度与刚度。
保护芯片免受环境的影响(湿气、离子污染等)
使得芯片耐受机械振动与冲击
方式
焊接前焊接后
固化时间(WB中的塑封有固化时间吗?)
填充完毕后,在烘箱中分段升温,达到130 ℃左右的固化温度后,保持
3到4h即可达完全固化
3倒装芯片技术特点
芯片以凸点阵列结构与基板直接安装互连的一种方法
优点:ⅰ.小尺寸ⅱ.功能增强ⅲ.性能增加ⅳ.提高了可靠性ⅴ.提高了散热能力(背面直接与空气接触散热提高↑)ⅵ.低成本ⅶ.与表面贴装技术相容,可同时完成贴装与焊接
缺点:ⅰ.裸芯片难测试ⅱ.凸点芯片适应性有限ⅲ.随着间距减小和引脚数增多导致PCB技术面临挑战ⅳ.必须用x射线检测不可见焊点ⅴ.操作夹持裸芯片比较困难ⅵ.要求很高的组装精度ⅶ.目前使用底部填充要求一定的固化时间ⅷ.维修困难或不可能
7,凸点的制造方法;
ⅰ.焊料凸点(蒸镀焊料凸点、电镀焊料凸点、印刷凸点工艺)ⅱ.钉头凸点ⅲ.植球凸点ⅳ.凸点转移ⅴ.化学镀凸点ⅵ.柔性凸点ⅶ.微球法(详见阿生倒装芯片技术1ppt)
8,UBM的分层功能及各部分代表成分;
扩散阻挡/粘附层:Cr、Ti、Ti/W、Ni、Al、Cu、Pd、Mo
润湿层:Cu、Ni、Pd
氧化阻挡层:Au
元器件封装
IC Package (IC的封装形式)
IC Package种类很多,按以下标准分类:
‧依IC晶片数目:
SCP(Single Chip Packages)
MCM (Multi-chip Chip Mudule)
•按封装材料划分为:
金属封装、陶瓷封装、塑料封装、裸片
•按照和PCB板连接方式分为:
PTH封装和SMT封装
•按照封装外型可分为:
SOT、SOIC、TSSOP、QFN、QFP、BGA、CSP等目前世界上产量较多的几类封装SOP 55~57%
PDIP 14%
QFP (PLCC) 12%
BGA 4~5%
DIP(dual in-line package)
双列直插式封装
PGA(针阵列引脚)
Plastic Pin Grid Array
小尺寸封装
SOJ(Small Out-Line J-Leaded Package) J 形引脚小外型封装。
四侧引脚扁平封装
也称QFJ
(PBGA封装防潮性不好)“爆米花”效应:由于存放过程中基板从外
界吸潮,当再熔焊快速加热时内部的潮气迅速蒸发而产生很大的压力,造成内部开裂纹,这一现象称为爆米花效应;
第四章无源元件制造技术
1 无源器件定义:不能区分正负极,也不能产生任何增益和放大的元器件;
(电阻电容电感)
区分有源器件,无源器件标准:是否有增益
2 无源器件三种类型:分立式、集成式、嵌入式;
3 集成电路三大制造技术:半导体集成、薄膜技术、厚膜技术;
4 薄膜成膜技术真空蒸发离子溅射
厚膜成膜技术厚膜浆料制备印制烧结法等离子喷涂
第五章光电子封装技术
1 光电子封装的结构形式;双列直插式封装DIP、蝶形封装BP、微型化双列直插式封装Mini-DIL;
2 光电子模块封装的主要工艺技术(耦合工艺);
胶合工艺共晶焊接工艺引线键合工艺封焊工艺
光纤金属化与耦合封装工艺
光电子器件封装的关键工艺之一是光线金属化
封装的重要技术之一是耦合封装工艺
第六章微机电系统工艺技术
MEMS:Micro Electronic Mechanical system; 微机电系统
封装陶瓷封装金属封装塑料封装
主要工艺固相键合芯片贴片气密性封装
第八章电子组装技术
2,SMD和SMT有什么不同?比较THT与SMT技术。
SMD表面贴装原件,SMT为表面贴装技术;
SMT表面贴装技术和THT通孔技术组装工艺角度组要区别:
①所用元器件、PCB的外形不完全相同;
②前者“贴装”,元器件装在PCB表面;后者“插装”,将长引脚元器件插装进入PCB焊盘内。
③前者预先将焊料——焊膏印刷或涂覆在焊盘上,贴片后一次加热而完成焊接过程;后者是通过波峰焊机利用熔融的焊料流,实现升温与焊接。
3回流焊定义
回流焊又称再流焊(Reflow),它的本意是通过重新熔化预
先放置的焊料而形成焊点,在焊接过程中不再添加任何额
外焊料的一种焊接方法。早期预置的是片状和圈状焊料,
随着片式元器件的出现,膏状焊料应运而生,并取代了其
他形式的焊料,回流焊技术成为SMT的主流工艺。
回流焊与传统的波峰焊相比,具有下列优点:
(1) 焊膏能定量分配,精度高,焊料受热次数少、不易混入
杂质且使用量相对较少。
(2) 适用于焊接各种高精度、高要求的元器件,如0603电
阻电容以及QFP,BGA和CSP等芯片封装器件。
(3) 焊接缺陷少,不良焊点率小于1010‐6。
2 表面贴装技术的特点
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2011级电子制造技术知识顺序 第一章电子制造概述 1 封装的定义、功能及分级 (PPT)把零级和一级封装称为电子封装(Electronic Packaging) (技术); 把二级和三级封装称为电子组装(Electronic Assembly) (技术)。 二级封装主要有两大技术:通孔组装技术(THT, Through Hole Technology)和表面安装技术(SMT, Surface Mounting Technology)。 2 电子封装的4个功能(PPT) 为半导体芯片提供机械支撑和环境保护; •硅芯片免于受外力与水/湿气之破坏与腐蚀等 •接通半导体芯片的电流通路; •利用封装体为一个引接的接口, 使用内部电气讯号 可以透过封装材料将之连接到系统主机板 •提供信号输入和输出通路; •提供热通路,散逸半导体芯片产生的热。 3 缩写 CSP: chip scale package芯片尺寸级封装 MCM: multi chip module多芯片模块 QFP: quad flat package 扁平封装
MEMS:Micro Electronic Mechanical system; 微机电系统
第二章芯片设计与制造技术 1半导体工艺流程 (ppt)前道工序 如何从硅原材料制作成带有不同功能的晶片的过程, 包括的半导体工艺有: 晶圆(Wafer)制作;氧化(Oxidation); 化学气相淀积(Chemical Vapor Deposition); 光刻(Lithography);掩模(Mask)制作 离子注入(Ion Implanting);扩散(Diffusion); 溅射(Spluttering); 前道工序中各工艺的执行顺序是什么?他们在半导体工 艺中具体起到什么作用?请用自己的语言描述。(PPT) (网络)光刻、外延、薄膜淀积、氧化、扩散、注入、溅射、蒸镀、刻蚀、划片和封装 第三章元器件的互连封装技术
《电工电子应用技术》复习提纲
《电工电子应用技术》复习提纲 说明:本复习提纲适用于11级机械制造与自动化1-6班和 11级数控技术1-2班共8个班级。所附复习题是为了巩固学生对知识点的掌握情况。 第一章 直流电路 知识点一:基础知识:电路、电压与电位、功率、利用功率判断元件性质等。 知识点二:基尔霍夫定律:基尔霍夫电流定律、基尔霍夫电压定律、支路电流法。 知识点三:叠加原理:只适用于电压电流的计算,只适用于线性电路。 知识点四:电压源、电流源。理想电压源符号,内阻是0,理想电流源的符号,内阻是 。理想电压源与理想电流源并联,对外部电路而言,它等效于?理想电压源与理想电流源串联,对外部电路而言,它等效于? 实际电源模型:实际电压源模型可以用一个理想电压源串联一个电阻来表 示;实际电流源模型可以用一个理想的电流源并联一个电阻来表示;一个电压为U S 、内阻为R 0的电压源可以等效为一个I S =U S / R 0并联上一个内阻为R 0电流源。实际电源才能进行等效变换,电源等效变换是对外电路(负载)而言。 知识点五:电工测量基础知识:测量电流将电流表____接在电路中,电压表____接在电路中。万用表的使用。 复习题:1、电路的组成及各部分作用。 2、两点间的电压是绝对的,某点的电位是相对的,电位和参考点有关。 3、电路的三种工作状态。 4、如右图所示的电路中,已知U=5V ,U 1=10V ,I= —2A , 5、某电路有3个节点和6条支路,采用支路电流法求解各支路电流时,应列出电流方程和电压方程的个数分别为( ) 。 6、已知1102a b c I mA I mA I mA ===,,,d I =( ) 7、已知:U S =9V ,I S =6A ,R 1=6Ω,R 2=4Ω,R 3=3Ω,试求各支路中的电流。 8、将“110V40W ”和“110V100W ”的两盏白炽灯串联在220V 电源上使用,则 9、下图所示电路中,已知E 1=40V ,E 2=5V ,E 3=25V ,R 1=5Ω,R 2=R 3=10Ω,试求各支路的电流I 1、I 2、I 3。 E 3 3 题9
高一化学必修一二知识点及方程式总结归纳总复习提纲(良心出品必属精品)
高一化学必修一二知识点及方程式总结归纳总复习 提纲 【爱文库】核心用户上传 高一化学必修二知识点总结归纳总复习提纲 第一章物质结构元素周期律 一、原子结构 质子(Z个) 原子核注意: 中子(N个) 质量数(A),质子数(Z),中子数(N) 1. 原子序数=核电荷数=质子数=原子的 核外电子(Z个) ?熟背前20号元素,熟悉1,20号元素原子核外电子的排布: H He Li Be B C N O F Ne Na Mg Al Si P S Cl Ar K Ca 2.原子核外电子的排布规律:?电子总是尽先排布在能量最低的电子层里;?各电子层 2最多容纳的电子数是2n;?最外层电子数不超过8个(K层为最外层不超过2个),次 外层不超过18个,倒数第三层电子数不超过32个。 电子层: 一(能量最低) 二三四五六七 对应表示符号: K L M N O P Q 3.元素、核素、同位素 元素:具有相同核电荷数的同一类原子的总称。 核素:具有一定数目的质子和一定数目的中子的一种原子。
:质子数相同而中子数不同的同一元素的不同原子互称为同位素。(对于原子来说) 同位素 二、元素周期表 1.编排原则: ?按原子序数递增的顺序从左到右排列 ?将电子层数相同的各元素从左到右排成一横行。(周期序数,原子的电子层数) (((((((( ?把最外层电子数相同的元素按电子层数递增的顺序从上到下排成一纵行。 (((((((((( 主族序数,原子最外层电子数 2.结构特点: 核外电子层数元素种类 第一周期 1 2种元素 短周期第二周期 2 8种元素 周期第三周期 3 8种元素 元 7第四周期 4 18种元素 素 7第五周期 5 18种元素 Jay_h1218 奉上 【爱文库】核心用户上传 周长周期第六周期 6 32种元素期 第七周期 7 未填满(已有26种元素) 表主族:?A,?A共 7个主族