近场扫描光学显微术

近场扫描光学显微术
近场扫描光学显微术

近场扫描光学显微术

由于衍射极限,光学显微术的基本原理使得其成像的空间分辨率为所使用光的波长及所使用光学系统的物镜和聚光镜的数值孔径所限制。近场扫描光学显微术(NSOM)——也经常称之为扫描近场显微术(SNOM)是基于这样一种需求而开发的。其成像具有由光学显微术成像中的各种衬度结构,而空间分辨率高于典型的光学衍射极限。

近场扫描光学显微术被归类一个大类的仪器中,这类仪器被称之为扫描探针显微镜(SPMs)。所有的SPMs实质上均根据IBM的研究人员Gerd Binning和Heirich Rohrer于1980年前所发明的扫描遂道显微镜(STM)发展起来的。普通光学成像方法的理论极限(对可见光为200-300纳米)是刺激现代高分辨率扫描探针显微术发展的主要因素,例如STM和原子力显微术(AFM),较早期的透射式电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)。这类技术和其后开发的技术使分辨率得以很大的提高,甚至可分辨单个原子。虽然,在近场扫描光学方法发明之前,超高的分辨能力可利用光学显微术中的各种各样的衬度放大装置来实施。对大多数高分辨技术来说,标本的制备方式限制了它在很多场合下的应用,特别是生物学研究中的动态检测及器皿中试样的检测。近场扫描光学显微术综合了AFM技术中极高的地形地貌状分辨率特性,很多类型光学显微术中有效的现行分辨率、偏光特性,光谱特性,灵敏度及灵活性等。

物体与光的作用,例如显微标本,其结果会产生近场和远场两种方式。远场光是透过一个非限制方式的空间进行传播的,作为一种“普通”光在一般的显微术中应用。而近场(趋于零)光则是由一个非传播场构成。这个非传播场存在于标本的表面附近,其距离小于光波的波长。在近场内的光在标本表面几十纳米的范围内携带了更高频率的信息并具有最大的幅度。因为近场光在一个光波长的距离内是安指数衰减的,通常是趋于不易探测。事实上,当光由标本表面传播致到远场区间,高频率空间信息已被过滤掉了,在这种情况下即“衍射光的阿贝极限”产生作用了。在产生衍射前探测利用近场光,NSOM全部利用了远场光学中使用较高空间分辨率中应用到的衬度放大机理。除了无衍射极限、高分辨率的光学

成像之外,通过小于100纳米的分辨率光谱仪分析,近场光学技术可应用于化学和结构的分析。

大多数现代商品化的NSOM仪器,具备普通光学显微术的光探测能力并结合了AFM的扫描力技术。根据特殊研究场合的需要,所有的NSOM设计得十分有效。最为常见的结构是将NSOM附加在倒置式荧光显微镜上。在普通显微镜上借助NSOM,许多显微镜使用者所熟悉的显微成像的类型,均可在近场显微镜的高分辨能力下呈现出来。除了光学信息之外,NSOM可建立类似原子力显微术中标本的地形地貌状图形或力的数据。两个独立的数据系(光学的和地形地貌的)可相互的比较,进行物理和光学衬度之间的校正。NSOM技术最实在的能力在于,它的地形地貌状数据系与之相应的光学数据系在分辨率上远远高于对光调焦的衍射极限。

Figure 1所示的为一台现代的倒置式光学显微镜上加装的NSOM系统。这样的配置使NSOM头,包括探针及探针的定位机构方便地安装在标本载物台的上方,而物镜安装于载物台的下方。图中的配置包括一个提供照明的外置激光器,一个收集光信号的光电倍增管及相应的用来管理标本、探针定位、图像采集的计算机和电子控制装置。

虽然扫描探针显微镜家族的专业化极强,其结构上的变化也很大,但共同的操作特点为都要使用一个与标本之间的间隙非常小的探针。典型SPM的探针尺寸为纳米级,探针与标本之间的间隙可由各种机构控制和和记录。不同型号的SPM由探针的特殊性质及它与标本表面之间隙的性质来表征。

典型的NSOM成像原理参见Figure 2。图中开孔直径小于一个光波长的照明探针置于标本表面的近场范围内。为了实施无衍射极限,标本与探针之间的间隔需小于一个光的波长,所有的SPMs需要一个反馈伺服系统精确地控制标本与探针之间的物理间隔。此外,需要借助一个X-Y-Z方向的扫描器(一般为压电式)来控制探针在标本表面上的移动。在Figure 2 NSOM的示图中,物镜置于远场状态,即常规状态,用来采集图像形成的光学信号。

借助于特殊仪器的设计,X-Y-Z方向的扫描可加载到探针或标本上。如果扫描器加载在标本上,则标本可在固定探针尖端的下方按栅状路径扫描,这样便可生成由标本相关点产生的信号组成的图像。成像面的尺寸仅由扫描器的最大位移量来决定。计算机同时判断出探针的位置、以及从反馈伺服机构获取的数椐,控

制探针尖(或标本)的扫描动用及探针与标本表面之间的间隔。在作栅状路径的扫描过程中,计算机对标本与探针之间的相关信息逐点采集、记录,生成两维的数据系(线性的)。

由NSOM收集到的二维数据系随后被编码,在计算机的监视器上重现三维图像。典型的由扫描探针显微镜测量生成的图像之像素尺寸可从原子级(小于1纳米)到100微米。扫描探针显微镜家族组成形式有磁力、电子力、电化学效应、机械效应、电容、离子传导、霍尔系数,热特性及光学特性(如NSOM)。NSOM 图像为一典型的由标本上方的亚波长尺寸光孔作两维栅状路径扫描,并由远场系统逐点采集的光幅射而生成。

早期开发的高分辨率技术,例如扫描电子显微镜、透射电子显微镜、扫描隧道显微镜及原子力显微镜,均无法获得与光学显微镜类似的有丰富衬度细节的图像,在大多数的情况下只局限于对标本的表面研究。加之现有染色法增衬技术,荧光、偏光、相衬、及微分干涉相衬,光学方法仍据有其固有的光谱特性和现时的分辨能力。电子显微镜高分辨率的获得是受到标本适用性及对标本制备等高要求,高成本限制的,这包括真空兼容性的要求,透射光显微镜术中薄剖面的制备,对非导体标本镀制导电镀层等(STM就有这种要求)。对于生物材料,这类预处理显得更为重要,需要先期对其进行完全的脱水才能进行切片和镀制。虽然原子力显微镜对这类的标本制备无过多的要求,并能在一般的环境条件下获得原子级的分辨率,但该方法不能获得标本光谱特性的信息。AFM还存在另一个局限性,它不能有效的利用荧光显微术中广泛使用的荧光染料的特征。

NSOM技术对纳米技术的研究人员(物理学研究人员、材料科研人员、化学及生物研究人员)特别有用处,他们的科研工作中需要了解各种材料的超高分辨率空间信息。不过还没有近场检测技术开发到可对三维空间系进行成像。NSOM受限于安装在扫描头上的标本探针能探测到的范围。

Figure 3 画出了配置了NSOM的倒置光学显微镜的图示及信息流程。激光激发源用光纤偶合到光探针上作为标本的照明;利用聚焦在探针上的第二激光通

过一个反馈伺服回路对探针的运动进行监视。探针的运动,透射载物台的移动及光学的、地貌状(或其它的力)图像的获得与显示均通过外加的电子控制器和计算机实施。

NSOM的历史

Edward H. Synge 于1928 发布一系列的著作,首次提出了超高分辨率光学显微镜的概念。Synge提出了一种新型的光学显微镜,该显微镜可回避衍射极限,但需要在一个不透明的屏幕上制作一个10纳米的小孔(比一个光的波长小很多)。一个染色的嵌入标本要磨制到光学级平整性,并以与小孔差不多的距离对标本扫描。在这种扫描中,光照明屏幕的一边,透过小孔的光受到小孔尺寸的限制,在光未衍射之前照明标本。保持标本的距离小于小孔的距离,标本成像的分辨率会达10纳米。Synge准确地提出了当时制造近场显微镜的困难。包括如何制造这样小的孔,如何获得足够强的光强度,标本如何定位在纳米级的范围内,标本与小孔如何保持这样小的距离等。这种建议在当时的技术能力条件下是不可接受的。

Synge的建议直到1972年被E. A. Ash和Nicholls在微波波长范围内的电磁谱中得到了证实.(参见Figure 4)。利用波长为3厘米的微波穿过直径为1.5毫米的探针孔,探针扫描整个周期性间隔的金属栅格线,栅格上0.5毫米的线和0.5毫米的间隔均可分辨,证实了亚波长分辨率达光波波长的0.017。

将Synge的概念延伸到波长更短的可见光谱范围内,对现代的制造工艺来说是一个很大的挑战(在小孔的制作及定位上)。1984年IBM公司的Zurich实验室在光学仪器测量的亚衍射级分辨率报告中仍未得到克服。一个在Cornell大学工作的独立小组则报告他们在技术上接近实现可见光光谱内的近场成像,于是两个小组开始了近代NSOM的开发工作。IBM小组采用在石英晶体上镀金属的方法在尖端制作小孔的探针,并命名为扫描近场光学显微术(SNOM)。Cornell小组则采用电子束在硅或金属上制作一个小于50纳米的小孔。IBM小组要求最高的分辨率达25纳米,或488纳米幅射波的1/20,以利用它测量精密金属线光栅之类的标本。虽然在可见光范围内无衍射成像的实现证实了近场光孔扫描技术的可行性,但是在1992年之前该技术仍未作为一种仪器在科学研究上得到广泛应用。一直到剪切力反馈伺服系统开发成功和单模光纤作为NSOM的探针后,才由在AT&T Bell实验室工作的Eric Betzig在近场技术上加以应用。

NSOM装置

在光孔扫描NSOM仪器中,在近场中定量的点扩散函数可由高斯曲线决定,

其1/e强度值与NSOM探针尖端小孔的半径差不多。当照明源的半径小于成像光波长的1/3,光的传播之初是无限小的(平行于标本的表面)。为了实现光学分辨率高于衍射极限(普通光学显微镜的分辨极限),光探针必需保持在近场的区间内。在NSOM中,光探针与标本之间的间隔应保持在几个纳米的距离内。在目标源附近,幅射保持在近场区间内,但时离开标本表经过几个波长的传播距离,幅射将产生明显的衍射,并进入远场状态。

近场与远场光学显微术之间有两个基本上的差异:被照明的标本面积尺寸;幅射源与标本之间的距离。在普通的远场光学显微术中,光源与标本之间的距离远远大于投射到标本上光的波长;然而在NSOM中,必备的条件是,光源与标本之间的距离要小于照明光波长。

X-Y-Z扫描

所有扫描探针显微术的核心均为扫描系统。在设计和性能上的主要要求是达到其扫描的分辨率。扫描器必需具备低的噪声(很小的定位波动)及精确的定位能力(典型值要小于1纳米)。探针定位要求的精度通常需要将整个的仪器放置于一个防振工作台上,或者采用其它的方式悬挂起来,避免整个建筑内的机械振动传递到仪器上。为了实施探针和标本的扫描定位,必需配置大动态范围,低噪声,高电压的放大器来驱动压电执行器。在整个的移动范围内,压电器往往需要0-150V或者-150V-+150V的电压。

在多数使用情况下,NSOM要求探针在被成像的标本上方保持稳定的反馈伺服状态。为了保证探针在很窄的近场状态而不与标本接触,需要对探针进行非常精确的控制。要严格的保持探针与标本之间的间隙,需要有一个实时反馈系统来控制。这种系统还有很多优点。最为重要的是考虑到保护探针或标本不至于损坏,这种情况在标本与探针相碰时极有可能发生。再则,如果控针与标本已经相碰,在扫描时探针上也在可能累积很多标本的碎片。虽然这种情况并不多见,探针在反馈控制状态下也可能出现这种现象,特别是反馈的起始点选择得不正确时。

更为重要的是,利用这种反馈系统来控制探针对标本进行扫描,可以消除由于探针与标本之间的间隔发生变化而引起的光信号的指数性变化。这种由探针与标本之间隔变化而引起的指数性信号变化可使得出的图像上出现与标本实际光学特性不一致的虚假点。为了获得高分辨率的,无人为的虚假点的光学成像,近场技术的最基本要求是探针与标本表面要保持几纳米的间距。不使用某种反馈伺服机构是不可能实现的。

有几种不同的技术可用来监视探针尖与标本表面的间隙。现将这类技术如下述:

1 采用双光束干涉仪或纤维干涉仪检测探针尖的位置;

2 电子遂道现象(仅限于导电标本);

3 检测通过探针尖的光发射(可用于透射或反射)和光子遂道现象;

4 衡定力(原子力反馈)为一种最为常见的方法,它以可分为如下两种:

a 被探针尖分离光源的衍射;

b 加在探针尖的机械传感器(例如石英音叉)

5 电容检测

如今,对探针尖进行定位有两种最为常用的方法。一种是光学法,这种方法的基本原理是监视探针尖的振动幅度(通常为干涉测量法),另一种为非光学的方法,即音叉技术。这两种方法均称之为剪切力反馈法。更详细的内容其后介绍。

振荡反馈法

对于反馈信号,为了改善其信噪比,几乎所有的NSOM的针尖均在探针的共振频率下进行振动。应用这种同步检测技术(基于一个中心频率设定在相应的振荡频率上的带通滤波器)可消除由于低频噪声和漂移所带来的定位探测问题。当振动的针尖逼近标本的表面,针尖与标本表面之间的力将会使针尖的振动幅度减小。

机械(或电的)振动子的质量测量是由一个称之为品质因素的参数决定的。这个参数简称为Q。品质因素定义为振动器的谐振频率除以它的带宽。为了获得更大的稳定性和探针的高灵敏的调整性。振动探针的Q值越低则信噪比就越低,这就意味着从反馈机构取得的标本的表面信息的质量越差。本来,字母Q是用来表示电路器件阻力的反作用比率的,此处人为借用作为振荡器的“品质因数”的表示符号。

通常,共振峰值和品质因数均要随探针尖与标本表面之间的逼近而发生变化。探针尖的振动幅度与频率可用几种方法进行监视,这类方法可分为两类。剪切力法利用横向(平行于标本表面)振动时探针尖与标本表面之间产生的剪切力来控制成像标本与探针尖之间的间隔;而导出法则依赖探针尖垂直于标品表面的振动时产的原子力来产生反馈信号。两种振动均有各的优点及缺点。

剪切力反馈

在剪切力伺服反馈法中,探针尖在标本表面附近以机械的共振频率进行振动。为了避免对光学成像的不利影响,针尖的振动幅度一般均很小(小于10纳米)。为了获得最佳的成像,剪切力反馈技术通常限制使用表面平整度不好的标本片;相对于原子力显微术,剪切力显微镜需要较长的扫描时间。剪切力反馈通

常使用直探针,这种探针容易制作,价格也比弯探针低。

在光的通过性能上,直探针也优于弯探针,这是因为它有很小的传播损耗。但是直探针很难在流体标本上应用。这是因为流体的粘性将很明显的降低探针的振动幅度。在应用中,当振动的探针逼近标本的表面时,由于其损耗和存在于探针尖的绝热力,探针的振幅、相位及频率均要发生变化。探针振动是随针尖标本间距的减小,两者之间的相互影响成非线性的上升而减小的。

剪切力的实质是:当要检测的标本目标逼近探针尖时让验振动衰减。有一个科研小组在剪切力反馈法中对金属化探针与标本之间的遂道电子电流进行了测量,评估在探针逼近标本表面最后瞬间探针的振动。测量标本逼近针尖时,针尖与标本刚要接触并开始进行反馈而继续轻微地接触标本那个周期的遂道电子流。测量表明,为了减小标本与探针之间的物理间隙, 最有效的逼近方法是使反馈的设定值尽可能高(例如:原非衰减信号的99.5%)。事实上,反馈设定值的上限取决于反馈信号的信噪比。光学反馈法为早期NSOM中剪切力反馈中最常用的监视探针振动幅度的一种方法,并可在导出法中应用。在这种方法中,无论是直探针或弯探针,一束激光应尽可能的汇聚在NSOM探针的最前端。在使用直探针时,照射在探针上的激光会在分裂式光电二极管上投射一个阴影:在使用弯探针时,激光会被探针的顶部反射到分裂式光电二极管上(类似于AFM技术中的光学反馈技术),当激光反馈的建立,无论是导出法或剪切力法,探针会在振动压电装置的驱动下按已知的频率产生振动(见Figure 7)。分裂式光电二极管收集到激光信号,由于分裂式光电二极管各边收集的激光强度不同,便产生了差异。采用同步锁定放大器来选择选择与压电振动频率相同的信号可获得高信噪比。

在这类反馈机构中主要存在的问题是:用来检测光探针振动频率、相位及幅度的光源(例如激光)可能成为对NSOM信号检测的干扰源。一种解决这个问题使它的影响减小的方法是:使这种探针的探测光的波长与近场光的波长不同,一般情况下,探测光的波长大于近场光的波长。这种方式需要在检测器前加装一个滤光器,选择性的阻断从反馈系统发出的光子。在一般的情况下,这种附加的滤波器应对近场光的阻挡作用应很小,以免降低信号电平。非光学反馈方法就无这种特性,也就是这类方法(例如音叉技术)使用的主要原因。

压电石英音叉最早使用于扫描探针显微术中的近场扫描声学显微镜。其后,由于其低成本和制作简单的特点,被NSOM采用作为一种非光发射和探测的距离控制装置中。石英晶体具备在压力下产生电场或在电场中产生尺寸改变的特性。这种特性称之为压电性。由于它在价格上相对低廉,因此被广泛的应用来作为精密振荡器(数字时钟)及高选择性的波过滤器上。当石英音叉在反馈回路中作为调整器件时,由于它非常高的机械品质因数Q(大约10000)以及相当高的增益,提供了在一个非常小的作用力(大约需一个微微牛顿)下的高灵敏度系统。

音叉使用在剪切力探针反馈法中的基本结构是:一个单模光纤安装在石英晶体音叉的一个臂上,并按音叉的共振频率振动。音叉的等效电路是一个并联了密封电容的串联式RLC谐振器。最常用的音叉共振频率是32768赫兹(Hz),但本装置使用的共振范围从10kHz到几十个MHz。NSOM头上嵌入的单模光纤与晶体音叉物理偶合,该音叉可由内部的(电气的)或外部刚性固定在音叉上的压电器驱动。音叉的振荡依靠激发,如果音叉是由电气(直接)驱动,则音叉的双臂成相反方向的振动;如果是由外部驱动,则音叉的双臂振动方向是相同的。

Figure 5所示为一石英音叉上附有用于剪切力探测光纤的图形。压电电势是由音叉上的电极提供,然后由一个增益大约为100的放大器放大产生几十微伏的信号。此信号送同步放大器并与振动音叉的驱动信号进行对比。同步放大器输出(幅度、相位或者幅度与相位的复合信号,例如X、Y的信号)与控制回路中使用者规定的参考信号进行对比,保持标本上面的探针进入反馈。

Figure 6所示为一个其上附有NSOM光纤的32.7KHz音叉产生的同步曲线示例。音叉的测量频率是从31KHz到33KHz,同时测量了信号的幅度和相位。在加载了光纤时同步频率产生漂移,同步的品质因数Q从20000到小于1000。Q定义为:

fr/Δf

此处f(r)是最大幅度时的频率,Δf为同步峰的宽度,该宽度由幅度峰值幅度除2 的平方根的点来决定,即大约为峰值幅度70.7%。

音叉法具备很多优点,使它在探针调整上的应用比光学法更为广泛。因为它不是采用光学的方式,所以不可能产生杂散光干扰NSOM的信号。此外音叉光法不需要烦琐的对外部激光器进行调试和对光学元器件进行调焦的程序。因为它的紧凑及相对容易使用的特点,使音叉方法常常应用在需要进行监视操作的场合,例如真空系统,环境控制箱内。

导出法反馈

导出法反馈是另一种常用于探针与标本距离的控制方法在好几种不同的探针上应用。一种有效的设计是由一个改进的ASM悬臂和透明的探针组成,此探针通常用硅的氮化物制成,其探针尖的下部镀制了金属。导出法中常用的探针是在靠近其尖部的光孔折弯了大约90度的普通光纤探针。应用于NSOM有代表性的弯光学探针见Figure 7。

导出法近场扫描显微术的图像分辨率不仅由探针尖的半径决定,而且与探针在标本表面垂直方向的振动幅度有关。这是由于光学信号敏锐的灵敏度与探针与标本之间的间距有关。为了保持高的近场分辨率,要求保持振动幅度比探针孔径尺寸小,或者对较大的振动幅度进行补偿。用来改善分辨率的机构使采集到的光信号与探针的振动周期同步。对偶合到探针尖的光信号进行调制,把相位调整到与探针最靠近标本时被照亮时的一点相同。这样便可在较大的振幅情况下保持高的分辨率。

弯的光学探针存在的一些缺点,均为本身的弯曲而引起的。最大的问题是增加了制作的难度,特别是制作针尖的金属镀层。其次是折弯了的探针增加了光学

信号的损失。这个损失对输出的影响是明显的。某些公布的测量指明,这种损失相对于普通的直探险针至少大于一个数量级。在一定的NSOM操作方法中,光的损失并不需要严格的规定,这是因为可增加进入光纤的光强进行补偿,使之获得预定的激光强度。光学损失,例如产生在弯曲处而不是在探针光孔处的发热是现存的一个主要问题,增加进入光探针的偶合量就是一种有效的选择。使用弯探针的另一个潜在的缺陷是,由于探针的弯曲使其特性发生了改变,例如采用偏振光测量时就增加了耗损率。在远场测量中使用弯探针的损失率约为70:1,与直探针比可大于100:1。

在弯探针伺服反馈法中,探针类似于AFM导出法一样在垂直于标本表面的方向振动。振动的幅度可用类似石英音叉压电装置之类的机械方法或用悬臂探针表面反射的激光检测之类的光学法来监视。探针按其固有的方式进行振动,探针与标本之间的距离则记录下来作为动态伺服反馈的信号。为了避免由于振动使探针与标本发生粘连,需要提供短的接触时间及反向驱动力。这种反馈伺服的成功率取决于由探针振动共振放大而带来的探针标本间距控制灵敏度的提高。探针的敏锐和灵敏度取决于悬臂的Q值(与剪切力振荡中的Q值相同)。此Q值随探针周围的液体的粘度增加而下降,通常伴随着很大的共振频率漂移。

导出法相对剪力法的优点是:相对容易获得纳米级的地貌图像,甚至当标本和探针浸在水或其它的流体介质中。有多个科研小组采用导出法,在生物系统的研究中,与其它的应用方式一道,在水中对单一的分子进行了探测。当振动的探针逼进标本的表面,音叉或光学反馈伺服信号均为发生衰减。这种衰减至今未完全了解其原因,但是已提出了好几种机理,包括表面张力、Van der Waals 力、和存在于探针尖与标本间的接触力等。

在探针尖部的衰减力可想象为标本的表面复盖了一层薄的水份(实际上,当标本置于环境条件下就是如此)。当标本往下进给时进入这一表层水中时,就象探针进入水中的情况一样,探针尖就会受到粘力的作用。随着粘力的增加,探针尖的振幅将会降低,并使针尖的共振频率发生漂移。这两种变化降低了音叉上的输出信号(非光学方法)。当这个衰减的信号低于参考信号的阈值时,反馈伺服系统将调整探针尖在标本上方的高度(按照使用者规定的参考信号)。

近场扫描光学显微术正在继续发展,尤其是对需要获得最高可能分辨能力光

学分辨率的显微工作者。但是NSOM不只是作为一种成像的显微仪器,它可用于微米组级标本的操作,制作和处理。NSOM超出成像目的的发展包括:精密的激光制作、纳米级的光学制版和封闭器件的局部释放。

近场扫描光学显微镜的有限性表现为:

1 实际上的零工作距离和极小的视场深度;

2 对大的标本面积和高分辨率需要长的扫描时间;

3 光孔小于所使用光波长,透过率极低;

4 标本的表面的研究只能在今后才能实现;

5 由于材料的弹性,光纤探针对软材料还存在一些问题,特别是剪切力法。

NSOM目前正处于它的发展初期,还需要更多的进行研究,发展改善探针的制作技术及更高灵敏度的反馈伺服机构。更进一步的发展可能要依靠无光孔近场方法(包括干涉压力),有的研究已达到1纳米的分辨率。但是对大多数的NSOM来说,它的典型分辨率为50纳米,这也比扫描共焦显微镜高出5或者6倍了。适度的增加分辨率需要花费时间对仪器进行调整及更复杂的操着。NSOM 的最大优点在于它可以提供高空间分辨率的稳定的光学和光谱数椐,及同步的地形地貌信息。原子力测量和近场扫描光学显微术在特定的研究场合有力的证明了,它们所获得的新的有关各种标本类型的信息,远场显微术是无法获得的。

三维光学扫描仪

3维光学扫描仪 三维光学扫描仪也称为结构光三维扫描仪。三维光学扫描仪是一种高速高精度的三维扫描测量设备,采用的是目前国际上先进的结构光非接触照相测量原理。 结构光三维扫描仪的基本原理是:采用一种结合结构光技术、相位测量技术、计算机视觉技术的复合三维非接触式测量技术。采用这种测量原理,使得对物体进行照相测量成为可能,所谓照相测量,就是类似于照相机对视野内的物体进行照相,不同的是照相机摄取的是物体的二维图象,而研制的测量仪获得的是物体的三维信息。与传统的三维扫描仪不同的是,该扫描仪能同时测量一个面。测量时光栅投影装置投影数幅特定编码的结构光到待测物体上,成一定夹角的两个摄像头同步采得相应图象,然后对图象进行解码和相位计算,并利用匹配技术、三角形测量原理,解算出两个摄像机公共视区内像素点的三维坐标。 结构光便携式照相测量仪的特点 1)精度高,扫描速度极快 2)一次得到一个面,测量点分布非常规则 3)单次测量范围大 4)便携,可搬到现场进行测量 6)可对无法放到工作台上的较重、大型工件(如模具、浮雕等)进行测量

7)大型物体分块测量、自动拼合 8)大景深 结构光三维扫描仪的典型应用 可用于包含下列应用的广泛领域: 逆向工程(RE)/快速成型(RP) 1)扫描实物,建立CAD数据;或是扫描模型,建立用于检测部件表面的三维数据。 2)模具设计 3)对于不能使用三维CAD数据的部件,建立数据。 4)个性化设计,如服装CAD。 5)使用由RP创建的真实模型,建立和完善产品设计。 6)有限元分析的数据捕捉。 威布三维https://www.360docs.net/doc/967975728.html,,3D打印综合解决方案供应商。每时每刻,我们的用户都在使用我们的3D打印解决方案来开启各种创意之旅,并充满自信的攀登上专业与科技。 我们奋斗在3D打印领域的前沿已超过4年。我们帮助科研人员攻克一个又一个的技术难关让创新成为前进的动因。我们在教育领域让莘莘学子的科技视野与全球同步。我们在制造业让工业4.0与智能制造的理念深入人心。我们深受教师、设计师、制造商、服务者的广泛信赖。作为国际的创新合作伙伴,我们将智能科技与行业应用融为一体,并提供更加灵活多样的定制化方案,成就客户所需一直是我们致力于达成的使命。每一个行业的需求都是千变万化的。无论你的下

近场光学

第十九章光学显微镜、近场光学显微镜与近场光学第三节近场光学 一、超分辨与近场光学概论 (一)细光束的极值 1、海森伯不确定性原理 2、传输光束中光子的空间不确定性极值 (二)突破分辨极限成像的关键 (三)近场光学的定义 二、近场光学显微镜(NOM) (一)NOM的发展历史 1、早期NOM的设想与研究 2、扫描隧道显微镜(STM)的发明促进A-SNOM发展 3、尖散射型扫描近场光学显微镜(S-SNOM ) 4、隧道结光发射扫描近场光学显微镜(TE-SNOM) 5、光子扫描隧道显微镜(PSTM) (1)早期的光子扫描隧道显微镜(PSTM) (2)原子力与光子扫描隧道组合显微镜(AF/PSTM) (二)NOM综述 1、NOM基本类型 (1)基本类型 (2)基本结构 (3)有代表性的研究成果 (4)NOM的适用范围 2、NOM超分辨成像的基本条件 (1)隐失光成像 (2)超分辨尺度的光探测尖 (3)光探测尖与样品表面间距的精确反馈控制

(4)三维超衍射极限精度的扫描机构和高灵敏度记录系统 3、NOM的产业化现状 三、近场光学理论模拟方法 (一)理论基础与方法 1、近场、远场和隐失波、传输波概念的数学表述 2、理论基础与其早期的研究 3、近场光学理论方法 (二)时域有限差分法 1、时域有限差分法特点 2、叶(Y ee)氏网格 3、麦克斯韦(Maxwell)方程的差分形式 4、数值稳定性问题 5、数值色散问题 6、吸收边界条件 (1)莫尔(Mur)二阶吸收边界 (2)PML理想匹配层吸收边界 7、散射场计算方法 (1)总场和散射场方法 (2)分离场公式 8、色散介质中的时域有限差分方程(FD)2TD 9、举例 (1)A-SNOM实验结果 (2)S-SNOM模拟结果 (3)PSTM模拟演示 (三)格林并矢方法 1、李普曼-施温格(Lippmann-Schwinger)积分方程 2、求解李普曼-施温格积分方程 (1)介质样品“OPTICS”字符的PSTM 等高光场分布模拟

扫描电子显微镜在材料研究中的应用

扫描电子显微镜在材料研究中的应用 宋啸 北京石油化工学院高063班 摘要:介绍了扫描电子显微镜的工作原理及特点,阐述了扫描电子显微镜在材料科学领域中的应用。 关键词:扫描电子显微镜材料应用 二十世纪60年代以来,出现了扫描电子显微镜(SEM)技术,这样使人类观察微小物质的能力发生质的飞跃。依靠扫描电子显微镜的高分辨率、良好的景深和简易的操作方法,扫描电子显微镜(SEM)迅速成为一种不可缺少的工具,并且广泛应用于科学研究和工程实践中。1扫描电子显微镜的原理 扫描电镜(Scanning ElectronMicroscope),简写为SEM,是一个复杂的系统,浓缩了电子光学技术、真空技术、精细机械结构以及现代计算机控制技术。扫描电镜是在加速高压作用下将电子枪发射的电子经过多级电磁透镜汇集成细小的电子束,在试样表面进行扫描,激发出各种信息,通过对这些信息的接收、放大和显示成像,以便对试样表面进行分析。入射电子与试样相互作用产生如图1所示的信息种类。 图1电子束探针照射试样产生的各种信息 这些信息的二维强度分布随试样表面的特征而变(这些特征有表面形貌、成分、晶体取向、电磁特性等),是将各种探测器收集到的信息按顺序、成比率地转换成视频信号,再传送到同步扫描的显像管并调制其亮度,就可以得到一个反应试样表面状况的扫描图。如果将探测器接收到的信号进行数字化处理即转变成数字信号,就可以由计算机做进一步的处理和存储。扫描电镜主要是针对具有高低差较大、粗糙不平的厚块试样进行观察,因而在设计上突出了景深效果,一般用来分析断口以及未经人工处理的自然表面。 扫描电子显微镜中的各种信号及其功能如表1所示。 表1扫描电镜中主要信号及其功能 收集信号类别功能 二次电子形貌观察 背散射电子成分分析 特征X射线成分分析 俄歇电子成分分析

光学扫描

光学扫描:快速扫描应用驱动反射镜设计 成功的扫描需要将反射镜,镜座和电机集成于”M Cubed”系统中-这一过程需要权衡考虑材料,机械装夹,和各种扫描参数来获得最佳工作性能. 在扫描应用中使用的反射镜必须满足动态平面度的需要,同时具备低惯性和满足充分散热的要求-这项工作很棘手.快速移动意味着高带宽,这也需要整个移动系统具有抗扰性.为了满足这些需求,最理想的扫描需要反射镜,镜座,和电机集成在”M Cubed”系统中.而成功的集成,涉及到反射镜基底材料,电机和电机连接装置,最小惯性结构,散热设计和激光损伤阈值,必须仔细考虑权衡这些因素获得最佳的效果. 反射镜表面和基底 一般来说,反射镜用于扫描来自或者出射到相关场景中(或两者)的光束.光束移动而不是场景本身移动是由于光子比较轻,因此移动快得多.然而,反射镜或者反射镜组相对于光子来说有大得多的质量,并且他它们的质量和适用与一组给定的反射镜设计规则的口径体积成比例,.因此,设计必须想方设法减小反射镜的口径. 反射镜镜表面的各种传统参数-平面度,反射率,表面质量,耐久性和散射(按照参数的重要性排列)-都具有密切关系.然而如今越来越受到关注的是高能量本身和表面承受的高能量密度这两者的权衡考虑.

图1.商业使用的反射镜基底材料按照动态稳定度大小分级-动态稳定度对于提高性能来说是一个尽可能大的理想化参数 传统基底材料,除了镜用合金之外,就是典型的玻璃材料.尽管玻璃的硬度,弹性,和非晶结构可以满足需要,但是它们也带有我们不想要的特性,比如低导热性,低热膨胀系数和脆性.一些玻璃-特别是石英玻璃—具有低损耗正切角,这个特性表明振动无法很好地得到抑制.扫描系统要求的高加速度导致了陡峭的阶梯函数.结果,系统中元件比如反射镜的振动模式可以被模拟出来.除非在振动零件中存在或者关联于显著的固有阻尼,系统的反应才会减慢.因此理想的反射镜基底材料具有非晶体特性或者至少是无纹理的各向同性结构,同时具有高硬度,无限高坚硬度,无质量,无限大的热传导性和无限大的低损耗切角. 动态稳定度-用张量模度除以反射镜材料密度恰好得到-是两个用来度量动态反

光学显微镜与扫描电镜的区别(2)

光学显微镜与扫描电镜的区别(二) cyh(2010-07-13 11:59:00) 光源不同: 光学显微镜采用可见光作为光源,电子显微镜采用电子束作为光源。 成像原理不同: 光学显微镜利用几何光学成像原理进行成像,电子显微镜利用高能量电子束轰击样品表面,激发出样品表面的各种物理信号,再利用不同的信号探测器接受物理信号转换成图像信息。 分辨率不同: 光学显微镜因为光的干涉与衍射作用,分辨率只能局限于0.2-0.5um之间。电子显微镜因为采用电子束作为光源,其分辨率可达到1-3nm之间,因此光学显微镜的组织观察属于微米级分析,电子显微镜的组织观测属于纳米级分析。 景深不同: 一般光学显微镜的景深在2-3um之间,因此对样品的表面光滑程度具有极高的要求,所以制样过程相对比较复杂。扫描电镜的景深则可高达几个毫米,因此对样品表面的光滑程度几何没有任何要求,样品制备比较简单,有些样品几乎无需制样。体式显微镜虽然也具有比较大的景深,但其分辨率却非常的低。 应用领域: 光学显微镜主要用于光滑表面的微米级组织观察与测量,因为采用可见光作为光源因此不仅能观察样品表层组织而且在表层以下的一定范围内的组织同样也可被观察到,并且光学显微镜对于色彩的识别非常敏感和准确。电子显微镜主要用于纳米级的样品表面形貌观测,因为扫描电镜是依靠物理信号的强度来区分组织信息的,因此扫描电镜的图像都是黑白的,对于彩色图像的识别扫描电镜显得无能为力。扫描电镜不仅可以观察样品表面的组织形貌,通过使用EDS、WDS、EBSD等不同的附件设备,扫描电镜还可进一步扩展使用功能。通过使用EDS、WDS辅助设备,扫描电镜可以对微区化学成分进行分析,这一点在失效分析研究领域尤为重要。使用EBSD,扫描电镜可以对材料的晶格取向进行研究。 断口分析 研究金属断裂面的学科,是断裂学科的组成部分。金属破断后获得的一对相互匹配的断裂表面及其外观形貌,称断口。断口总是发生在金属组织中最薄弱的地方,记录着有关断裂全过程的许多珍贵资料,所以在研究断裂时,对断口的观察和研究一直受到重视。通过断口的形态分析去研究一些断裂的基本问题:如断裂起因、断裂性质、断裂方式、断裂机制、断裂韧性、断裂过程的应力状态以及裂纹扩展速率等。如果要求深入地研究材料的冶金因素和环境因素对断裂过程的影响,通常还要进行断口表面的微区成分分析、主体分析、结晶学分析和断口的应力与应变分析等。随着断裂学科的发展,断口分析同断裂力学等所研究的问题更加密切相关,互相渗透,互相配合;断口分析的实验技术和分析问题的深度将会取得新的发展。断口分析现已成为对金属构件进行失效分析的重要手段。 断口的宏观和微观观察断口分析的实验基础是对断口表面的宏观形貌和微观结构特征进行直接观察和

场发射扫描电子显微镜S-4800操作规程

场发射扫描电子显微镜(S-4800)操作规程 开机 1. 检查真空、循环水状态。 2. 开启“Display”电源。 3. 根据提示输入用户名和密码,启动电镜程序。 样品放置、撤出、交换 1. 严格按照高度规定高样品台,制样,固定。 2. 按交换舱上“Air”键放气,蜂鸣器响后将样品台放入,旋转样品杆至“Lock”位,合上交换舱,按“Evac”键抽气,蜂鸣器响后按“Open”键打开样品舱门,推入样品台,旋转样品杆至“Unlock”位后抽出,按“Close”键。 观察与拍照 1. 根据样品特性与观察要求,在操作面板上选择合适的加速电压与束流,按“On”键加高压。 2. 用滚轮将样品台定位至观察点,拧Z轴旋钮(3轴马达台)。 3. 选择合适的放大倍数,点击“Align”键,调节旋钮盘,逐步调整电子束位置、物镜光阑对中、消像散基准。 4. 在“TV”或“Fast”扫描模式下定位观察区域,在“Red”扫描模式下聚焦、消像散,在“Slow”或“Cssc”扫描模式下拍照。 5. 选择合适的图像大小与拍摄方法,按“Capture”拍照。

6. 根据要求选择照片注释内容,保存照片。 关机 1. 将样品台高度调回80mm。 2. 按“Home”键使样品台回到初始状态。 3. “Home”指示灯停止闪烁后,撤出样品台,合上样品舱。 4. 退出程序,关闭“Display”电源。 注意 1. 每天第一次加高压后,进行灯丝Flashing去除污染。 2. 冷场发射电镜一般不断电,如遇特殊情况需要大关机时,依次关闭主机正面的“Stage”电源、“Evac”电源,半小时后关闭离子泵开关和显示单元背面的三个空气开关,关闭循环水。开机时顺序相反。 3. 每半个月旋开空压机底阀放水一次。 4. 待测样品需烘干处理,不能带有强磁性,不能采用铁磁性材料做衬底制样。 5.实验室温度限定在25±5℃,相对湿度小于70% 。 仪器维护 1. 每月进行电镜离子泵及灯丝镜筒烘烤。 2. 每半年进行一次机械泵油维护或更新。 3. 每年进行一次冷却水补充,平时每月检查一次水位。

光学显微镜、SEM、TEM的比较

光学显微镜、TEM、SEM成像原理比较 (一)、透射电子显微镜 1、基本原理 在光学显微镜下无法看清小于0.2μm的细微结构,这些结构称为亚显微结构(submicroscopic structures)或超微结构(ultramicroscopic structures;ultrastructures)。要想看清这些结构,就必须选择波长更短的光源,以提高显微镜的分辨率。1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜(transmission electron microscope,TEM),电子束的波长要比可见光和紫外光短得多,并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比,也就是说电压越高波长越短。 目前TEM的分辨力可达0.2nm。电子显微镜(图2-12)与光学显微镜的成像原理基本一样,所不同的是前者用电子束作光源,用电磁场作透镜。另外,由于电子束的穿透力很弱,因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。这种切片需要用超薄切片机(ultramicrotome)制作。电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成。 表2-2不同光源的波长 名称可见光紫外光X射线α射线电子束 0.1Kv10Kv 波长(nm)390~76013~3900.05~130.005~10.1230.0122 扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)于20世纪60年代问世,用来观察标本的表面结构。其工作原理是用一束极细的电子束扫描样品,在样品表面激发出次级电子,次级电子的多少与电子束入射角有关,也就是说与样品的表面结构有关,次级电子由探测体收集,并在那里被闪烁器转变为光信号,再经光电倍增管和放大器转变为电信号来控制荧光屏上电子束的强度,显示出与电子束同步的扫描图像。图像为立体形象,反映了标本的表面结构。为了使标本表面发射出次级电子,标本在固定、脱水后,要喷涂上一层重金属微粒,重金属在电子束的轰击下发出次级电子信号。 目前扫描电镜(SEM)的分辨力为6~10nm,人眼能够区别荧光屏上两个相距0.2mm的光点,则扫描电镜的最大有效放大倍率为0.2mm/10nm=20000X。 电子显微镜技术 目前,电子显微镜技术(electron microscopy)已成为研究机体微细结构的重要手段。常用的有透射电镜(transmission electron microscope,TEM)和扫描电子显微镜 (scanning electron microscope,SEM)。与光镜相比电镜用电子束代替了可见光,用电磁透镜代替了光

场发射扫描电子显微镜参数

场发射扫描电子显微镜参数: 1.工作条件: 1.1电源: 230V (-6%/+10%) / 50Hz (±1%) 1.2 主机功耗:< 3.0 kV A 1.3运行环境温度: 17-23 C 1.4运行环境:相对湿度< 80% (无冷凝) 1.5残余交流磁场<100nT (非同步频率);<300nT (同步频率) 1.6噪音:< 60 dBC 1.7干燥无油压缩空气4-6 bar 1.8仪器运行的持久性:可连续运行 2.设备用途: 2.1高分辨扫描电子显微分析系统主要用于纳米材料的超高分辨微观形貌观察和微区分析。独特的双物镜设计以及低电压成像技术,对导电性不好的样品等适用性更强。具有低真空功能,对不导电样品进行更全面的分析。 3.技术规格 3.1 电子光学系统 3.1.1 分辨率:二次电子(SE)像 * kV时优于1.0 nm;1 kV时优于1.4 nm(非减速模式) * 低真空模式:30kV时优于1.5nm * nm 3.1.3 放大倍率范围:1 ~1,000,000倍(根据加速电压和工作距离的改变,放大倍数自 动校准) 3.1.4 着陆电压:50V 至30 kV 3.1.5 电子枪:高稳定度Schottky肖特基场发射电子枪 * ~200 nA,连续可调,既保证对高分子纳米材料高分辨成像所需的低速流,也要保证EDS和EBSD分析所需的高束流高效率。 3.1.7 束流稳定性:每10小时< 0.4% *3.1.8 具有双物镜系统(电磁透镜和静电透镜),保证对纳米材料、不导电有机无机材料、合金、磁性材料的全方位分析 *3.1.9 物镜光阑:物镜光栏应能自加热自清洁;无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。至少6孔光阑设计 电子束位移范围:不小于±110um 3.2 样品室和样品台 3.2.1 样品室尺寸:不小于360mm×360mm

扫描器光学系统

掃描器光學系統 講師:張榮喬、周明德

1. 掃描器光學系統簡介 (a) 透鏡 光學成像之用 (b) 反射鏡 正面鏡 (c) 光源 冷陰極管(CCFL) (d) 光感測器 CCD(Charge couple device), CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) , CIS(Contact Image Sensor) 掃描器光學結構 以Carriage來組合所有光學元件 2. 元件特性 (a) Lens(透鏡) 何謂透鏡﹖簡單來說,就是一個使得光線可以改變其前進方向的成像系統,而當我們使用一個透鏡元件時,有一些特性是我們應該去注意了解的: a. 光程總長(Total Track) T.T.在設計光路時是一個相當重要的參數,它可以讓決定整個光路系統的大致上的大小,並且可以決定整個光路系統中他的光程應該設計為多少時,可以得到最佳結果。 b. 有效焦距長(Effect Focal Length) EFL為一個透鏡元件之有效焦距長,其定義為從透鏡的主點面至焦點之長。此為透鏡元件之重要參數。

c. FNO (F-Number) FNO 為一個透鏡元件之重要參數之一,此參數的定義為EFL/孔徑直徑,此參數在光路設計中扮演一個重要角色,就是它可以決定此光路系統之進入光量大小,FNO愈大,就代表可以進入的光量愈少,而得到的影像會較暗。而FNO也分為兩種,分別為Infinite和Working Distance,這兩個的不同處在於Infinite FNO 為平行光系統使用的FNO,而Working Distance FNO為當T.T.距離系統時使用的FNO。 d. 物件大小(Object Size) 此為一個光路系統中,當符合T.T.時,可以放的物件大小。 e. 放大/縮小率(Magnification/Reduction) 放大縮小率為當物件的光經過一個透鏡元件時,最後到成像面(Image)時的大小比率,其公式為Image size/Object size,但是另外有個方法可以較輕易計算出大約的放大/縮小率,其公式為像距/物距。 f. 光源(Light Source) 光源為一透鏡元件適用之範圍,而不同的光源範圍就需要使用不同的透鏡元件材料。 g. Spot Size Lens聚光時的像點大小,為配合CCD的pixel size,其影像面上的spot size 必須小於pixel size。 h. 主面位置(Position of Principle Plane) 一個透鏡元件均會有兩個主面,分為首主面和次主面,而主面便是由各個主點連接起來的面,而主點便是當一個透鏡系統不管內部如何折射,而將平行入射光線及往焦點方向的光面作延長線,此兩條延長線相交之處變是其主點,而將每條光線均利用此方法找出其主點,而將這些主點連接起來,就成為主面。 i. 入射光瞳及出射光瞳(Entrance and Exit Pupil) 在透鏡系統中,都會有所謂的孔徑或是光闌(Aperture Stop),而這些會將光線阻擋的結構,在透鏡中扮演相當重要的角色,因為它可以阻擋所謂雜散光的進入,而所謂入射光瞳和出射光瞳,分別是指當我從物件面和成像面去看光闌時其呈現出來的光闌孔徑大小。另外主光線(Chief Ray) 決定入射光瞳與出射光瞳的位置,而主光線通常為物件的光線會通過光閘中心點的那條光線,而入射光瞳及出射光瞳位置分別為此線之延長線與光軸相交之位置。 j. 相對亮度(Relative Illuminance) 相對亮度主要是指中心與邊緣的相對亮度而言,在一個成像系統裡,中心的 cos比例的衰減,所以相對亮度直就是要提醒我們中心亮度與兩旁的亮度會有 4 及兩旁的亮度值不同,若要成像面整體亮度均勻,就需要將物件面上作補光或削光的動作。 k. 變形(Distortion) 變形在透鏡成像系統中是屬於像差的一種,而此種像差會造成在成像面上使

扫描电子显微镜入门

扫描电子显微镜入门 1. 光学显微镜以可见光为介质,电子显微镜以电子束为介质,由于电子束波长远较可见光小,故电子显微镜分辨率远比光学显微镜高。光学显微镜放大倍率最高只有约 1500倍,扫描式显微镜可放大到10000倍以上。 2. 根据de Broglie波动理论,电子的波长仅与加速电压有关: λe=h / mv= h / (2qmV)1/2=12.2 / (V)1/2 (?) 在 10 KV 的加速电压之下,电子的波长仅为0.12?,远低于可见光的4000 - 7000?,所以电子显微镜分辨率自然比光学显微镜优越许多,但是扫描式电子显微镜的电子束直径大多在50-100?之间,电子与原子核的弹性散射 (Elastic Scattering) 与非弹性散射 (Inelastic Scattering) 的反应体积又会比原有的电子束直径增大,因此一般穿透式电子显微镜的分辨率比扫描式电子显微镜高。 3. 扫描式显微镜有一重要特色是具有超大的景深(depth of field),约为光学显微镜的300倍,使得扫描式显微镜比光学显微镜更适合观察表面起伏程度较大的样品。 4. 扫描式电子显微镜,其系统设计由上而下,由电子枪发射电子束,经过一组磁透镜聚焦 (聚焦后,用遮蔽孔径选择电子束的尺寸后,通过一组控制电子束的扫描线圈,再透过物镜聚焦,打在样品上,在样品的上侧装有讯号接收器,用以择取二次电子或背向散射电子成像。 5. 电子枪的必要特性是亮度要高、电子能量散布要小,目前常用的种类计有三种,钨(W)灯丝、六硼化镧(LaB6)灯丝、场发射 (Field Emission),不同的灯丝在电子源大小、电流量、电流稳定度及电子源寿命等均有差异。 6. 热游离方式电子枪有钨(W)灯丝及六硼化镧(LaB6)灯丝两种,它是利用高温使电子具有足够的能量去克服电子枪材料的功函数(work function)能障而逃离。对发射电流密度有重大影响的变量是温度和功函数,但因操作电子枪时均希望能以最低的温度来操作,以减少材料的挥发,所以在操作温度不提高的状况下,就需采用低功函数的材料来提高发射电流密度。 7. 价钱最便宜使用最普遍的是钨灯丝,以热游离 (Thermionization) 式来发射电子,电子能量散布为 2 eV,钨的功函数约为4.5eV,钨灯丝系一直径约100μm,弯曲成V形的细线,操作温度约2700K,电流密度为1.75A/cm2,在使用中灯丝的直径随着钨丝的蒸发变小,使用寿命约为40~80小时。 8. 六硼化镧(LaB6)灯丝的功函数为2.4eV,较钨丝为低,因此同样的电流密度,使用LaB6只要在1500K 即可达到,而且亮度更高,因此使用寿命便比钨丝高出许多,电子能量散布为 1 eV,比钨丝要好。但因LaB6在加热时活性很强,所以必须在较好的真空环境下操作,因此仪器的购置费用较高。 9. 场发射式电子枪则比钨灯丝和六硼化镧灯丝的亮度又分别高出 10 - 100 倍,同时电子能量散布仅为 0.2 - 0.3 eV,所以目前市售的高分辨率扫描式电子显微镜都采用场发射式电子枪,其分辨率可高达 1nm 以下。 10. 场发射电子枪可细分成三种:冷场发射式,热场发射式,及萧基发射式 11. 当在真空中的金属表面受到108V/cm大小的电子加速电场时,会有可观数量的电子发射出来,此过程叫做场发射,其原理是高电场使电子的电位障碍产生Schottky效应,亦即使能障宽度变窄,高度变低,因此电子可直接"穿隧"通过此狭窄能障并离开阴极。场发射电子系从很尖锐的阴极尖端所发射出来,因此可得极细而又具高电流密度的电子束,其亮度可达热游离电子枪的数百倍,或甚至千倍。

热场发射扫描式电子显微镜JEOL JSM7000F

國立中央大學地球科學系 熱場發射掃描式電子顯微鏡J E O L J S M7000F 使用申請表 使用者:申請日期: 隸屬單位:聯絡電話: E-mail: 研究計畫名稱: 計畫主持人或指導教授簽名: 申請事項F委託操作 F自行操作 F申請自行操作訓練 申請 使用之儀器Coating F Pt _________sec. F Carbon F SEM(JEOL JSM-7000F) F BSI F EDS F Standard ____________________________________ 預約時段:年月日時分至時分使用者研究計畫(請簡述利用本SEM欲探討之研究內容) 請“詳述”試片製作方式、材料種類及特性 (請含括添加物、析出物、溶劑、製備溫度等相關細節)

收費情形(由本實驗室填寫): 經辦人: 申請人(簽名) 計畫主持人或指 導教授(簽名) 儀器負責人員 (簽名) 儀器負責教授 (簽名) 欲使用本設備者,請先至儀器介紹網頁詳讀【JEOL-7000F SEM管理辦法】,以明瞭本設備之功能與使用規範。 注意事項 1. 儀器預約後若不克使用,請於使用前三日取消預約,以便他人使用。 2. 儀器使用完畢,請確實登記使用時間及使用情形,儀器若出現狀況應盡速通知管理人並 詳細記錄儀器狀況。 3. 離室前請確實檢查實驗室門窗及儀器之水、電安全,並維持室內整潔。 非地科系(院)委託服務辦法 1. 本服務採取序號預約。詳填使用者與試片資訊後,並以電話03-4227151ext. 65642或 E-mail: basin@https://www.360docs.net/doc/967975728.html,.tw與儀器管理者洽詢使用時段及確認實驗條件與試片製備。 2. 申請人於預約時段前將試片送交儀器操作技術員。 3. 預約操作申請人於操作時須親自在現場共同進行實驗。 自行操作訓練與考核辦法 1.本實驗室提供SEM上機訓練課程,通過考核後,即可自行操作機台。SEM上機訓練與 考核辦法見JEOL-7000F SEM管理辦法。 2. 詳填使用者與試片資訊後,本實驗室將回覆您的使用申請。請於申請核可後以電話或 E-mail與儀器負責人洽詢使用時段及確認實驗條件與試片製備。 樣品規範 請詳讀【JEOL-7000F SEM管理辦法】 ※委託操作者上機之前,技術員會再次要求確認您送來檢測的樣品種類,請您誠實申報。如果發現申報不實,本實驗室將取消您的使用資格。 ※若因違反上述規定或因操作不當而造成儀器污染或損壞時,所隸屬單位及其計畫主持人或指導教授須負責賠償。賠償費用由原廠評估,再由儀器負責教授決議。 若您已詳讀並同意接受以上所有辦法與規範,請在此簽名,並於實驗時繳交本單給儀器負責人。 申請人簽名: 日期:

扫描器光学系统

掃描器光學系統 1. 掃描器光學系統簡介 2. 元件特性 3. 元件選取與系統效能計算 4. 影像品質與光路設計 講師:張榮喬、周明德

1. 掃描器光學系統簡介 (a) 透鏡 光學成像之用 (b) 反射鏡 正面鏡 (c) 光源 冷陰極管(CCFL) (d) 光感測器 CCD(Charge couple device), CMOSCompleme ntaryMetal Oxide Semico nductor) ,CIS(Co ntact Image Se nsor) 掃描器光學結構 以Carriage來組合所有光學元件 2. 元件特性 (a) Len s(透鏡) 何謂透鏡?簡單來說,就是一個使得光線可以改變其前進方向的成像系統,而當我們使用一個透鏡元件時,有一些特性是我們應該去注意了解的: a. 光程總長(Total Track) T.T.在設計光路時是一個相當重要的參數,它可以讓決定整個光路系統的大致上的大小,並且可以決定整個光路系統中他的光程應該設計為多少時,可以得到最佳結果。 b. 有效焦距長(Effect Focal Length) EFL為一個透鏡元件之有效焦距長,其定義為從透鏡的主點面至焦點之長。此為透

鏡元件之重要參數。 c. FNO (F-Number) FNO為一個透鏡元件之重要參數之一,此參數的定義為EFL/孔徑直徑,此 參數在光路設計中扮演一個重要角色,就是它可以決定此光路系統之進入光量大小,FNO 愈大,就代表可以進入的光量愈少,而得到的影像會較暗。而FNO也分為兩種,分別為Infinite和Working Distanee這兩個的不同處在於Infinite FNO 為平行光系統使用的FNO,而Working Distanee FNO為當T.T.距離系統時使用的FNO。d. 物件大小(Object Size) 此為一個光路系統中,當符合T.T ?時,可以放的物件大小。 e. 放大/縮小率(Magnification/Reduction) 放大縮小率為當物件的光經過一個透鏡元件時,最後到成像面(Image)時的 大小比率,其公式為Image size/Object size但是另外有個方法可以較輕易計算出大約的放大/縮小率,其公式為像距/物距。 f. 光源(Light Source) 光源為一透鏡元件適用之範圍,而不同的光源範圍就需要使用不同的透鏡元件材料。 g. Spot Size Lens聚光時的像點大小,為配合CCD的pixel size,其影像面上的spot size 必須小於pixel size。 h. 主面位置(Position of Principle Plane) 一個透鏡元件均會有兩個主面,分為首主面和次主面,而主面便是由各個主點連接起來的面,而主點便是當一個透鏡系統不管內部如何折射,而將平行入射光線及往焦點方向的光面作延長線,此兩條延長線相交之處變是其主點,而將每條光線均利用此方法找出其主點,而將這些主點連接起來,就成為主面。 i. 入射光瞳及出射光瞳(Entrance and Exit Pupil) 在透鏡系統中,都會有所謂的孔徑或是光闌(Aperture Stop),而這些會將光線阻擋的結構,在透鏡中扮演相當重要的角色,因為它可以阻擋所謂雜散光的進入,而所謂入射光瞳和出射光瞳,分別是指當我從物件面和成像面去看光闌時其呈現出來的光闌孔徑大小。另外主光線(Chief Ray)決定入射光瞳與出射光瞳的位置,而主光線通常為物件的光線會通過光閘中心點的那條光線,而入射光瞳及出射光瞳位置分別為此線之延長線與光軸相交之位置。 j. 相對亮度(Relative Illuminance) 相對亮度主要是指中心與邊緣的相對亮度而言,在一個成像系統裡,中心的亮度與兩旁的亮度會有cosj比例的衰減,所以相對亮度直就是要提醒我們中心及兩旁的亮度值不同,若要成像面整體亮度均勻,就需要將物件面上作補光或削光的動作。 k. 變形(Distortio n) 變形在透鏡成像系統中是屬於像差的一種,而此種像差會造成在成像面上使

(完整版)扫描电子显微镜的发展及展望

扫描电子显微镜的发展及展望 1、分析扫描电镜和X射线能谱仪 目前,使用最广的常规钨丝阴极扫描电镜的分辨本领已达 3.5nm左右,加速电压范围为0.2—30kV。扫描电镜配备X射线能谱仪EDS后发展成分析扫描电镜,不仅比X射线波谱仪WDS分析速度快、灵敏度高、也可进行定性和无标样定量分析。EDS发展十分迅速,已成为仪器的一个重要组成部分,甚至与其融为一体。但是,EDS也存在不足之处,如能量分辨率低,一般为129—155eV,以及Si(Li)晶体需在低温下使用(液氮冷却)等。X射线波谱仪分辨率则高得多,通常为5—10eV,且可在室温下工作。1972年起EDAX公司发展了一种ECON系列无窗口探测器,可满足分析超轻元素时的一些特殊需求,但Si(Li)晶体易受污染。1987年Kevex 公司开发了能承受一个大气压力差的ATW超薄窗,避免了上述缺点,可以探测到B,C,N,O等超轻元素,为大量应用创造了条件。目前,美国Kevex公司的Quantifier,Noran公司的Extreme,Link公司的Ultracool,EDAX公司的Sapphire等Si(Li)探测器都属于这种单窗口超轻元素探测器,分辨率为129eV,133eV等,探测范围扩展到了5B—92U。为克服传统Si(Li)探测器需使用液氮冷却带来的不便,1989年Kevex公司推出了可不用液氮的Superdry探测器,Noran公司也生产了用温差电制冷的Freedom探测器(配有小型冷却循环水机),和压缩机制冷的Cryocooled探测器。这两种探测器必须昼夜24小时通电,适合于无液氮供应的单位。现在使用的大多还是改进的液氮冷却Si(Li)探测器,只需在实际工作时加入液氮冷却,平时不必维持液氮的供给。最近发展起来的高纯锗Ge探测器,不仅提高了分辨率,而且扩大了探测的能量范围(从25keV扩展到100keV),特别适用于透射电镜:如Link的GEM型的分辨率已优于115eV(MnKα)和65eV(FKα),Noran的Explorer Ge探测器,探测范围可达100keV等。1995年中国科学院上海原子核研究所研制成了Si(Li)探测器,能量分辨率为152eV。中国科学院北京科学仪器研制中心也生产了X射线能谱分析系统Finder-1000,硬件借鉴Noran公司的功能电路,配以该公司的探测器,采用Windows操作系统,开发了自己的图形化能谱分析系统程序。 2、X射线波谱仪和电子探针仪 现代SEM大多配置了EDS探测器以进行成分分析。当需低含量、精确定量以及超轻元素分析时,则可再增加1到4道X射线波谱仪WDS。Microspec公司的全聚焦WDX-400,WDX-

§8.3 扫描光学系统

§8.3 扫描光学系统 光束传播方向随时间变化而改变的光学系统称其为扫描光学系统。扫描光学系统在现代光学和光电技术中具有极其重要作用,例如使用激光束扫描装置可实现以时间为顺序的图像电信号转变为二维目视图像。此外,在激光存储器、激光打印机和高速摄影系统中都使用扫描光学系统,因此有必要介绍扫描光学系统的特性及扫描物镜的设计要求。 一、扫描方程式 光束扫描的形式可由多种方法得到,如光学透镜扫描、棱镜扫描、反射镜扫描、全息扫描和声光扫描等。但不管其扫描方式如何,表征其扫描特性的只有三个参数,即扫描系统的孔径大小D、孔径的形状因子a和最大扫描角θ。根据瑞利衍射理论,扫描系统的衍射极限分辨 角为 由上式可见,孔径大小D和形状因子决定了扫描系统的极限分辨角,即决定了扫描系统的扫描光点大小和成像质量。 对不同的扫描系统,其扫描孔径是不一样的。例如透镜扫描系统,其扫描孔径的形状是圆形的,棱镜扫描系统,其扫描孔径的形状是矩形或梯形的。因此它们的孔径形状因子a值是不同的。为了能准确地描述各种扫描系统的衍射分辨角,表给出了各种不同扫描孔径的形 状因子a的数值。 扫描孔径形状因子 孔径形状矩形圆形梯形三角形 形状因子a 1 1.22 1.5 1.67 若扫描系统的最大扫描角(扫描范围)为,则扫描系统的扫描点数N为 称为扫描系统的扫描方程式,它表明扫描系统的扫描点数与扫描光束的波长和扫描系统的三个参数(a、和D)有关。 二、光学扫描系统 扫描光学系统的种类很多,为简单起见,本节只讨论光学扫描系统。光学扫描系统分为物

镜扫描、物镜前扫描和物镜后扫描三种形式,其中以物镜扫描的扫描形式最为简单,只要运动物镜即可达到光束扫描的目的。一束平行光平行于物镜L的光轴入射,且平行光束的中心距物镜光轴为x,当物镜L严格校正像差后,平行光通过物镜L后一定聚焦于焦平面上的光轴处。若物镜L绕平行光束的中心轴线转动,则平行光束的聚焦点在物镜L的焦平面上扫描出半径为x的圆,当调整物镜光轴与平行光束中心轴线间的距离时,任意半径的扫描圆均可得到,所得扫描圆的最大直径应小于物镜L的直径。 物镜后扫描系统扫描反射镜位于物镜之后,其优点是物镜口径相对较小(只要满足扫描光束的口径要求),且扫描物镜只要求校正轴上点像差即可。物镜后扫描系统的缺点是扫描像面为一曲面,不利于图像的接收与转换。 地校正轴上点和轴外点像差,即可获得很好的扫描成像,且扫描成像面为一平面。因此一般的光学扫描系统多采用物镜前扫描形式。 为了保证物镜前扫描系统在扫描像面上得到均匀的像面照度和尺寸一致的扫描像点,扫描物镜一般设计成像方远心光路,使其像方主光线始终垂直于扫描像平面,如图8-14所示,这种扫描系统又称其为远心扫描系统。若要保证远心扫描特性,除扫描物镜作远心物镜设计要求外,对提供给扫描物镜的成像光束也必须满足远心光路的要求,即只有扫描反射镜的转动轴心与扫描物镜的物方焦点重合时,才能使轴外扫描光束的中心光线(主光线)通过物镜的物方焦点,构成像方远心光路。 三、扫描物镜物镜 物镜前扫描光学系统的光束入射角是随时间而变化的,且通过扫描物镜在垂直于光轴的像平面上成像,因此像平面上的成像位置应为光束入射角的函数,一般可表示为 两边对微分,可得 当光束入射角以等角速度变化时,应为常量,若想在扫描成像面上作等速扫描 成像,则也应为常量,可知,也必为常量,则函数的表达式可写 成下式 得 引入成像关系的条件,并略去常数项,则有

激光扫描共聚焦显微镜的原理和应用-17954讲解

激光扫描共聚焦显微镜的原理和应用 Tina(2007-10-23 09:40:17 一、激光扫描共聚焦显微镜的原理 传统的光学显微镜使用的是场光源,标本上每一点的图像都会受到邻近点的衍射或散射光的干扰;激光扫描共焦显微镜(Laser Scanning Confocal Microscope,LSCM采用点光源照射样本,在焦平面上形成一个轮廓分明的小的光点,该点被照射后发出的荧光被物镜搜集,并沿原照射光路回送到由双色镜构成的分光器。分光器将荧光直接送到探测器。光源和探测器前方都各有一个针孔,分别称为照明针孔和探测针孔。照明针孔与探测针孔相对于物镜焦平面是共轭的,焦平面上的点同时聚焦于照明针孔和发射针孔,焦平面以外的点被挡在探测针孔之外不能成像,这样得到的共聚焦图像是标本的光学切面,避免了非焦平面上杂散光线的干扰,克服了普通显微镜图像模糊的缺点,因此能得到整个焦平面上清晰的共聚焦图像。 原理图

二、激光扫描共聚焦显微镜组成特点 LSCM由显微镜光学系统,激光光源,扫描装置和检测系统构成,整套仪器由计算机控制,各部件之间的操作切换都可在计算机操作平台界面中方便灵活地进行。显微镜是LSCM的主要组件,它关系到系统的成像质量。通常有倒置和正置两种形式,前者在切片、活细胞检测等生物医学应用中使用更广泛。 三、激光扫描共聚焦显微镜的应用 一)细胞的三维重建

普通荧光显微镜分辨率低,显示的图像结构为多层面的图像叠加,结构不够清晰。LSCM 能以0.1μm的步距沿轴向对细胞进行分层扫描,得到一组光学切片,经A/D转换后作为二维数组贮存。这些数组通过计算机进行不同的三维重建算法,可作单色或双色图像处理,组合成细胞真实的三维结构。旋转不同角度可观察各侧面的表面形态,也可从不同的断面观察细胞内部结构,测量细胞的长宽高、体积和断层面积等形态学参数。通过模拟荧光处理算法,可以产生在不同照明角度形成的阴影效果,突出立体感。通过角度旋转和细胞位置变化可产生三维动画效果。LSCM 的三维重建广泛用于各类细胞骨架和形态学分析、染色体分析、细胞程序化死亡的观察、细胞内细胞质和细胞器的结构变化的分析和探测等方面。 二)静态结构检测:原位鉴定细胞或组织内生物大分子、观察细胞及亚细胞形态结构 1.细胞原位检测核酸 用于细胞核定位及其形态学观察、检测细胞内DNA的复制及断裂情况以及染色体定位观察。 2.原位检测蛋白质、抗体及其他分子 原位检测蛋白质、抗体及其他分子 免疫荧光标记技术 检测荧光蛋白 3.检测细胞凋亡

扫描电子显微镜场发射扫描电子显微镜 样品登记及实验须知

扫描电子显微镜 场发射扫描电子显微镜样品登记及实验须知 (自2010年11月24日起试行) 为保证样品观察实验的有序进行,样品登记前请仔细阅读本须知,并在实验登记表上签名并注明“已阅读须知”。 1.做实验(含形貌观察、背散射、成份分析)前必须了解相应实验仪器及相 关理论知识,并清楚知道实验目的。对所测样品的微观形貌特征结构具备相应的知识。建议事先阅读相关资料书籍。 2.磁性样品、易挥发样品、腐蚀性样品、油性样品、低熔点样品、酥松 或松软无法在样品台固定的样品不能实验,请勿登记。如违规登记,实验室老师有权予以取消。 3.需要使用能谱仪进行微区成份分析的样品表面应平整并且尺寸大小应在 1~2微米以上,建议送样前要对样品进行磨抛处理。 4.实验登记时间为每周三开始登记隔周的实验,额满为止。在登记表的右上 角写明登记时的日期和时间。 5.样品应在实验登记的同时送到实验室,如遇特殊情况,可与实验室老师商 定送样的具体时间,并在登记表上签字确认。样品逾期没有送达,则不安排实验,原登记作废。 6.实验时间由实验室老师统筹安排,将在实验前2至3个工作日电话通知本 人。请提前安排好工作,按约定的时间,准时前来进行实验,勿迟到。不按约定时间前来实验的,则取消本次实验,重新登记排队。由此造成的损失由其本人承担。 7.扫描电子显微镜每个样品形貌观察实验的标准单位时间为1小时,场发射 扫描电子显微镜每个样品形貌观察实验的标准单位时间为0.5小时。如出现超时观察则按照标准单位时间累计,不足一个标准单位时间的记为一个标准单位时间。以对样品室开始抽气为计时开始。 8.试验结果将通过电邮输送,本实验室不对U盘等移动介质输送实验结果。 实验结果仅对本次实验所提供的样品有效。 材料学院材料测试中心 2010年11月

浅析光学显微镜机械结构设计

浅析光学显微镜机械结构设计 摘要:光学显微镜(Optical Microscope,简写OM)是利用光学原理,把人眼所 不能分辨的微小物体放大成像,以供人们提取微细结构信息的光学仪器。光学显 微镜的使用范围非常的广泛,发展至今,也衍生出了非常多的类型,本文结合光 学显微镜的结构组成,从人体工程视角探索光学显微镜的机械结构设计,从使用 的安全性、科学性、可靠性的角度分析了光学显微镜的机械结构设计的规范和标准。 关键词:光学显微镜;机械结构;人体工程学 光学显微镜的结构主要有光学结构和机械结构组成,机械结构的部分不仅能 对光学结构有很好的固定作用,还起着关键性的调节作用,机械结构能够发挥光 学系统的最大功效,辅助光学系统完成相关的显微镜观察工作。光学显微镜的机 械结构的部分主要在载物台、物镜转换器以及调焦装置等,这些机械结构的设计 不仅要遵循基本的机械结构设计原则,还要保证在光学显微镜中的具体的光学操作,除此之外,设计的原则还要迎合人体操作的需求,使得光学显微镜的机械结 构更加的吻合人体工程学的设计要求,使得光学显微镜使用更加的舒适方便。 一、光学显微镜的基本构造 对于光学显微镜的机械设计,我们首先要了解光学显微镜的构造组成部分, 而且还要知道这些零部件的作用,只有熟知了这些零部件的作用和使用规范,我 们才能更加合理的设计光学显微镜的机械结构部分,光学显微镜一般是由载物台、聚光照明系统、物镜,目镜和调焦机构组成。载物台的作用是放置被观察的物体,使用调焦旋钮来驱动调焦机构能完成对载物台的调节工作。聚光灯照明系统由聚 光灯和光源组成,聚光灯的作用能够让光更多的聚集到被观察的部位。物镜距离 载物台比较近,是第一级的放大装置。目镜则是于人眼靠近的第二级放大镜头。 这三部分是光学显微镜的重要组成部分,构成了光学显微镜的主要工作原理。 那么机械装置有哪些呢?一般光学显微镜的机械装置有镜座、镜臂、载物台、镜筒、物镜转换器、与调焦装置。这些机械装置的主要作用是固定和调节光学镜头,调节标本的位置等。其中镜座是支撑整个显微镜的装置,而镜臂则用来支撑 精通和载物台。 二、基于人体工程学的光学显微镜的机械结构设计 人体工程学的设计原理主要是考虑到人体结构和机械结构尺寸,并且综合考 虑到人们劳动、工作效果、工作效能等方面,利用系统工程、控制理论、统计学 的原理设计出一系列的设计方法。具体到光学显微镜的机械结构设计中,我们就 要考虑到人们的身体尺寸和应用习惯,首先我们从有关部分获得了我国成年人的 人体部分尺寸的表格(表-1),以此为根据设计光学显微镜结构部分。 1、载物台的设计 从上面的介绍中我们知道,载物台的作用是用来放置被观察物体的,并且式 样能够在载物台上自由的移动,以获取最佳的观察效果。一般的移动范围是 30mm*70mm和50mm*70mm,主要的设计标准就是,载物台距离工作底面的距 离于载物台和人体的水平距离,分别设为B1和B2,考虑到人在调节使用载物台 的过程中的行为习惯,得出计算式。 其中y1和y2分别衣着修正指数和身体活动余量修正。同理得出B2的表达式。经过计算得出: B1=307~357mm

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