真空镀膜机基础知识

真空镀膜机安全管理规定

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真空镀膜机安全管理规定真空镀膜设备是电阻加热式蒸发真空镀膜设备。操作人员必须详细阅读该机说明书，了解设备结构、工作原理、操作程序并由专业人员指导培训，熟练掌握各操作要领。经有关专业人员确认符合操作规范，方能独立上岗操作。一、该机开机前应先检查电控柜的接线是否有松脱现象，接上电源，并检查真空室内电极绝缘性，钨丝接触是否可靠，工件架转动是否自如。联轴器，输入电极接触是否良好，各密封处特别是动密封处是否良好。还需检查扩散泵、旋片泵、罗茨泵、滑阀泵等的油量是否满足要求。提供的电源、气源，各种机械泵转向都应正确。注意：试验罗茨泵转向一定要在真空状态下进行。经过上述检查，各项性能良好，才能进行抽气试机。如果镀膜室长期暴露大气，还必须进行“炼气”，就是按照操作规程，不进行镀膜，只让机械泵、扩散泵等连续抽气，察看真空度上升的稳定情况，若真空度保持稳定，才能进行下一步操作。一般“炼气”时间要达10小时以上。调试时主要检查： 1.真空检漏 2.检查极限压强 3.抽气时间二、满足以上各项检查后，进入操作和使用： 1.在非特殊情况下，请勿以断拉闸(断电)方式停机。 2. 本设备通电及运行过程中，请勿触摸电气控制柜内部和外部用第 2 页共 2 页

电器件，注意安全。 3. 确认安全无误时才能操作设备。 4. 不要将设备交给非本设备操作人员操作。 5. 设备及电源控制柜必须良好接地。 6. 非专业人员请不要维修本设备。三、工作中还必须注意以下几点： 1.平时，整个系统要保持真空状态，工作前才充入气体，不要使真空室长期暴露在大气中; 2.真空室镀膜200-250次后，要清洗真空室和工作支撑架; 3.经常检查胶封是否良好，特别是动密封圈，定期给动密封圈加上真空脂; 4.定期检查电气元件，清除灰尘，更换烧坏的电器元件; 5.在真空状态下不得拆卸扩散泵和阀门; 6.罗茨泵、粗抽泵、维持泵要定期加油，换油(保持油面在油镜中心为佳); 7.充气阀门充气动作失灵时，必须进行检修; 8.镀膜完毕时先关闭真空测量计，再关闭精抽、前置阀，待精抽阀、前置阀完全关闭后才能充入大气，否则会烧坏电离规管，氧化扩散泵油第 2 页共 2 页

真空镀膜机安全操作规程

真空镀膜机安全操作规程一．开机前作到： 1.检查工作环境清洁、干净。 2.检查电线无破损，接地牢固。 3.检查真空室、镀膜转架及工位器具清洁、无油污。 4.机械泵、罗茨泵油位过半。 5.检查四只阀加注满3#真空脂，真空室转轴加注满3#真空脂。 6.罗茨泵转轴处油杯加满机械泵油。 7.准备相关工位器具，适量J-7钨丝、ABOO型99.99％的铝丝。 8.接通水、气、电，气压0.5-0.6Mpa，水压0.3-0.4Mpa。二．操作要点： 1.通电，开启机械泵，3分钟后开启阀3，开扩散泵，预热1-1.5小时。 2.镀膜转架装夹产品、铝丝、钨丝，转架进烘箱预热（温度、时间符合工艺）。 3.开阀4，开启真空室，转架进真空室，卡销定位，试转动平稳无异常振动。 4.关闭真空室，关阀4，关阀3，开阀2，开始抽气，开启复合真空计。 5.当真空度达至-0.1Mpa时，开启罗茨泵。

6.当真空度达到1-1.5Pa（52-64格）时，关阀2，开阀3，开阀1。 7.当真空度达到2×10-2Pa时，开启转动（转速符合工艺），分二次进行蒸镀（电压、时间符合工艺），蒸镀结束关复合真空计。 8.停止蒸镀0.5-1分钟后关转动，关阀1，关罗茨泵。 9.开阀4，开真空室，拉出镀膜转架，取下成品，换装待镀产品，装上铝丝，进行下次工作。 10.严守开关阀、泵的顺序步骤，防止损坏设备。 11.生产中注意产品安装到位牢固。 12.注意转架电极、紧固件是否松脱，及时加固补全。 13.及时更换断裂、积球、老化的钨丝。三．关机及保养： 1.拉出转架后，关扩散泵，冷却1-1.5小时，后关阀3，关机械泵。 2.关整机电源，关冷却水、关高压空气。 3.每星期检查清洁镀膜转架工装。 4.每三个月检查更换机械泵油。 5.每六个月检查更换罗茨泵油、扩散泵油。制定：王思忠审批：时间：2002.09.10 时间：

真空镀膜技术

真空镀膜技术磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有：物理气相沉积(PVD)技术第一节概述物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

真空蒸发镀膜原理

Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］