碳化硅生产工艺

碳化硅生产工艺
碳化硅生产工艺

碳化硅的生产工艺和投资估算

碳化硅是人工合成的材料,其化学计量成分以克分子计:Si 50%、C 50%以质量计:Si 70.04%、C 29.96%,相对分子质量为40.09。

碳化硅有两种晶形:β-碳化硅类似闪锌矿结构的等轴晶系;α-碳化硅则为晶体排列致密的六方晶系。β-碳化硅约在2100℃转变为α-碳化硅。

碳化硅的物理性能:真密度α型3.22g/cm3、β型3.21g/cm3,莫氏硬度9.2,线膨胀系数为(4.7~5.0)×10-6 /℃,热导率(20℃)41.76W/(m·K),电阻率(50℃)50Ω·cm,1000℃2Ω·cm,辐射能力0.95~0.98。

碳化硅的合成方法

(一)用二氧化硅和碳(煤)合成碳化硅

工业上合成碳化硅多以石英砂、石油焦(无烟煤)为主要原料,在电炉内温度在2000~2500℃下,通过下列反应式合成:

SiO2+3C SiC+2CO -46.8kJ(11.20kcal)

1. 原料性能及要求

各种原料的性能:石英砂,SiO2>99%,无烟煤的挥发分<5%。

2. 合成电炉

大型碳化硅冶炼炉的炉子功率一般为10000kW,

每1kg SiC电耗为6~7kW·h,生产周期升温时为26~36h,冷却24h。

3. 合成工艺

(1) 配料计算:

式中,C为碳含量,SiO2为二氧化硅含量,M=37.5。碳的加入量允许过量5%。炉内配料的重量比见表3。

表1 炉体内各部位装料的配比

项目上部中部下部

C/SiO20.64~0.65 0.64~0.65 0.59~0.61

食盐% 8~10 8~10 6~9

木屑/L 180 360 180

一般合成碳化硅的配料见表4。

表2合成碳化硅的配料

配料/% 绿SiC 黑SiC 配料/% 绿SiC 黑SiC

硅质材料32~56 44.5~59 食盐2~6 0~8

在碳化硅的生产过程中,回炉料的要求:包括无定形料、二级料,应满足下列SiC>80%,SiO2+Si<10%,固定碳<5%,杂质<4.3%。

焙烧料的要求:未反应的物料层必须配人一定的焦炭、木屑、食盐后做焙烧料。加入量(以100t计)焦炭0~50kg,木屑30~50L,食盐3%~4%。

保温料的要求:新开炉需要配保温料。焦炭与石英之比为0.6。如用乏料代特应符合如下要求:SiC<25%,SiO2+Si>35%,C 20%,其他<3.5%。

加入食盐的目的是为了排除原料的铁、铝等杂质,加人木屑是便于排除生成的一氧化碳。

(2) 生产操作:采用混料机混料,控制水分为2%~3%,混合后料容重为1.4~1.6g/cm3。

装料顺序是在炉底先铺上一层未反应料,然后添加新配料到一定高度(约炉芯到炉底的二分之一),在其上面铺一层非晶形料,然后继续加配料至炉芯水平。

炉芯放在配料制成的底盘上,中间略凸起以适应在炉役过程中出现的塌陷。炉芯上部铺放混好的配料,同时也放非晶质料或生产未反应料,炉子装好后形成中间高、两边低(与炉墙平)。

炉子装好后即可通电合成,以电流电压强度来控制反应过程。当炉温升到1500℃时,开始生成β-SiC,从2100℃开始转化成α-SiC,2400℃全部转化成α-SiC。合成时间为26~36h,冷却24h后可以浇水冷却,出炉后分层、分级拣选。破碎后用硫酸酸洗,除掉合成料中的铁、铝、钙、镁等杂质。

工业用碳化硅的合成工艺流程,如图1所示。

图1合成碳化硅流程图

(四)合成碳化硅的理化性能

1. 合成碳化硅的化学成分

(一)合成碳化硅的国家标准(GB/T 2480—1981)见表5。

表3 碳化硅的国家标准(GB/T 2480—1981)

粒度范围

化学成分/%

SiC(不少于)游离碳(不多于)Fe2O3(不多于)

黑碳化硅12号至80号98.5 0.20 0.60

(2)密度:以46号粒度为代表号绿碳化硅不小于3.18g/cm 3;黑碳化硅不小于3.12g/cm 3。 (3)粒度组成:应符合GB/T 2477—1981《磨料粒度及其组成》的规定; (4)铁合金粒允许含量为零; (5)磁性物允许含量:不大于0.2%。 2. 相组成

工业碳化硅的相组成是以α-SiC Ⅱ型为主,含有一定量的β-SiC 。其总量为92%~99.5%,其中还有少量的α-SiC I 和

α-SiC Ⅲ型。

3. 物理性能

(1)真密度在3.12~3.22 g/cm 3,莫氏硬度为9.2一9.5,开始分解温度为2050℃。 (2)碳化硅试样的线膨胀系数和电阻率见表6,表7。

表4 各种温度SiC 的线膨胀系数

表5各种温度SiC 的电阻率

(3)碳化硅试样的热导率在500℃时,λ=64.4W/(m·K),在875℃时入二41.4W/(m·K)。 (4)碳化硅在1400℃与氧气开始反应。在900~1300℃开始氧化、分离出SiO 2,或产生CO 气体。

(四)制备碳化硅的投资预算

总投资约11500~12000万元,建成年产11万吨左右的碳化硅生产基地。(主要设备:变压器,整流柜,高低压柜,碳化硅冶炼电炉等)

如果投资14000万元,可建成年产12.5 万吨左右的碳化硅生产基地。

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