真空镀膜技术
真空镀膜
2005年上学期期末实验论文
物理学院：王飞
一、镀膜技术的历史
保护膜
化学镀膜
1817年减反射膜
1930年出现了油扩散泵－机械泵抽气系统（条件）
1935年单层减反射膜
1938年双层减反射膜
蒸镀1965年三层减反射膜
真空镀膜1937年通用公司第一盏镀铝灯
1939年介质薄膜型干涉滤管片
1970年出现磁控溅射技术
磁控溅射1975年磁控溅射设备商品化
80年代后磁控溅射技术工业化
二、真空蒸镀铝膜
原理：
即在真空中将蒸镀材料加热蒸发产生蒸气，使其附着在基板上凝聚成薄膜。真空蒸镀属于物理气相沉积法。
内容：
在两块玻璃上镀制高反射铝膜，将其组装成法布里－珀罗干涉仪，并观察氢光谱的干涉条纹。高反射膜镜组成的谐振腔是法布里－珀罗干涉仪的重要组成部分。
三、高反射金属膜
1.金属膜反射原理：
金属中的外壳层电子(自由电子)并没有被原子核束缚, 当金属被光波照射时, 光波的电场使自由电子吸收了光的能
量, 而产生与光相同频率的振荡, 此振荡又放出与原来光线相同频率的光, 称为光的反射。这种电子的振荡随着深度
的增加而减小, 使电子振荡的振幅减小到原来1/e时(e为自然对数)的深度称为穿透深度, 此穿透深度决定了金属是透明还是反射,通常大部份金属的穿透深度只有几十或几百
纳米，穿透深度δ与金属的基本性质的关系如下公式:
δ=sqrt(λ/πcμσ) (1)
λ：真空中光的波长，c：光速，μ：导磁系数，σ：静导电系数。由此公式可以了解,光线的波长愈长愈容易穿
透金属,金属的导电系数σ愈高, 穿透深度越浅反射率愈高。
因此金属反射膜大都使用高导电率的金、银、铝与铜等材料。
2.金属膜的特点
常用的金属反光膜：铝膜、银膜、金膜、铑膜、铬膜等。其中铝膜应用最广泛。
实验镀的铝膜：在整个光谱区域（紫外、可见、红外）都有较高的反射率，对光的入射角和偏振态不敏感，成本低，易于蒸发，与玻璃的结合力强。但其缺点是不耐久，铝膜材质较软而且容易氧化，反射率相对较低。通常用于背反射膜，当用于前反射膜时，一般其表面必需镀上保护膜，也可以镀上金属或非金属膜来提高在特定波长的反射率。
15nm 50%
30nm
70%
3.纳米金属Al 的反射率
膜厚与反射率的关系图
铝膜的厚度决定了铝膜的反射率
四、法布里－珀罗干涉仪
用平面平行空气板产生多光束干涉的光学装置。是法布里和珀罗两人于1899年首次研制的。谐振腔由两块略带楔形的玻璃夹成，相向的两平面镀高反射膜，实验中我们所镀的是一般铝膜，由于铝膜并不外露，所以不需要加保护膜。平行膜面加工精度要求很高，与标准样板的偏差不允许超过1/20～1/50个波长。平行空气板厚度可用准确的厚度为d的环隔开。若该厚度可以改变，则称为法布里―珀罗干涉仪；若不能改变，称为法布里―珀罗标准具或法布里―珀罗光谱仪。
由f-p的光路图可以看出入射光在相对两面上反复反射和折射后产生多束相干涉反射光和透射光，透射光束在透镜L′的焦面上叠加，形成等倾圆环状干涉条纹。
由其光强分布图可以看出，法布里－珀罗干涉仪的主要参数取决于反射面的能量反射率R。能量反射率越高，其干涉条纹越细锐，光谱分辨率越高。而玻璃表面所镀的高反射膜的厚度将直接影响到法布里－珀罗干涉仪的能量反射率。因此在蒸镀过程中监控镀层的厚度是实验成败的关键。
镀膜的厚度与蒸发器温度、形状、距蒸发源的距离，加热的时间等因素有关。
在蒸镀中要知道镀膜的情况还需要有膜厚检测装置。
蒸发器与膜厚检测装置是真空蒸镀实验中比较重要的部件。
五、真空蒸镀的关键部件
1.蒸发器
蒸发器的加热温度要达到膜材料熔化的温度，其加热方式通常为电阻法、电子束法等。
电阻法是用高熔点金属做成适当的形状的加热器，并将膜材料放在上面加热，利用电流的热效应使加热器温度达到材料蒸发的温度，膜材料蒸发并淀积在基板上。
一些金属的蒸发温度
由上表可见大多数金属的蒸发温度都在1000度到2000度之间，而钨、钼的熔点都高于2000度，因此加热的金属材料一般都选钨、钼。
电阻法的缺点是膜材料于加热材料之间产生扩散或反应，使加热材料本身的熔点和蒸发点降低，以致造成镀得的膜层含有杂质。大多数膜材料在熔化后将于加热材料浸润。表面扩张，附着在加热器上形成面蒸发源，蒸发效果比较好。反之，若膜材料于加热材料不侵润，膜材料将融为一个液球，成为点蒸发源，如果加热器的形状不合适液球将从加热器上脱落下来，使蒸镀失败。因此蒸镀时要根据膜材料的性质，注意选择加热器的形状。
常用的几种加热器形状
舟状
丝状
坩埚
用电子束法加热将避免
电阻法的缺点。电子束
法是将热发射的电子在
电场的作用下，经磁聚
焦后形成电子束打在加
热器（坩埚）内的膜材
料上，膜材料在电子束
的轰击下蒸镀到基板
上，形成镀膜。坩埚通
常要水冷。此种方法适
用于多种膜材料，尤其
电子束枪适用于高熔点的物质。
2.膜厚检测装置
现在比较成熟有效的膜厚检测方法主要有两种：光学膜厚检测、石英晶体振荡式检测。
光学膜厚检测：镀层薄膜的透射率和反射率随着膜的厚度d的增加存在极大值和极小值，每增加四分之一波长时，出现透射和反射光强的变化，通过这一变数量计算膜厚。
石英晶体振荡式检测：石英片由一个固有的谐振频率，淀积在它表面的物质质量改变时，谐振频率发生变化，推算淀积层的厚度。
由三四节的分析可知，实验中控制镀膜厚度是最重要的。要控制镀膜的厚度，应该要求膜厚测量仪与膜材料蒸发器统一受控与同一系统，使这两部分装置协调工作、相互配合，当膜厚达到要求时立即停止加热，并冷却。这样才能有效地控制膜厚，使镀膜厚度达到光学仪器的设计要求。
坩埚
基板电脑
加热器
膜厚测量装置
六、真空蒸镀的现阶段的应用和发展 真空蒸镀除了镀制光学薄膜外，还被用于
镀制软包装铝膜，它们以优异的机械物理、导电、光学美学，高阻隔、卫生、无味、
经济、环保等性能被广泛地应用于食品、
医药、种子、农药、通讯、电子、化工及
军工等领域的包装材料。
此外真空蒸镀法还被应用于制备纳米材料。
用真空蒸发、加热、高频感应等方法使原
料气化或形成等粒子体，然后骤冷。其特
点纯度高、结晶组织好、粒度可控，但技
术设备要求高。
真空镀膜在光学领域及轻工包装领域及纳米材料领域里有广泛的适用空间，并且又有许多的新型真空镀膜技术不断出现。因此，真空镀膜将在以后有更大的发展前景。
虽然真空镀膜的装置已经发生了很大的变化，但是它的基本原理及各部分的基本功能仍然没有改变。
真空镀膜的实验原理比较简单，但实验具体操作起来有很多注意事项。另外由于镀膜非常薄，要求的工艺也比较高，除了主要装置真空室外还需要其他较多辅助装置如：测厚装置、清洗装置、冷却装置等等。
七、实验结果的分析
实验镀得的高反射铝膜组装的f-p干涉仪产生的干涉条纹的细锐程度并不是很高，其原因应该是由于铝膜的反射率不是很高。具体原因应该有两个：1.铝膜含有杂质（钨、钼）。2.单独的铝膜无法
达到更高的反射率，由Al厚度与反射率图可以看
到其反射率只能达到70％左右，而较好的f-p干涉仪的反射率要求达到90％。为了进一步提高反射率应该使用电子枪蒸发器和在铝膜表面加镀介质膜堆形成增强铝膜或用反射率更高的银膜代替铝膜，增强其在氢光谱的反射率。提高其条纹的细锐程度。
PVD真空镀膜设备行业分析
目录 （一）PVD真空镀膜技术 (1) （二）真空镀膜技术具体应用领域 (2) （三）行业现状分析 (4) （四）行业市场表现分析 (5) （五）行业竞争格局分析 (6) （六）行业与上下游的关系 (6) （七）行业周期性、区域性、季节性特征 (9) （八）进入本行业的主要障碍 (9) （九）影响行业发展的有利因素和不利因素 (10) （十）行业发展方向 (11) （十一）总结 (12)
PVD真空镀膜机设备行业分析
（一）PVD真空镀膜技术 PVD真空镀膜技术，PVD是Physical Vapor Deposition的缩写，意思是“物理气相沉积”，指在真空条件下，用物理方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。 PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜，三种主要的真空镀膜技术可以满足常生产、生活领域的所有常见基材（塑料、玻璃、金属、薄膜、陶瓷等）的镀膜需要。近十多年来，真空离子镀技术发展最快，已经成为当代最先进的表面处理方法之一。 PVD镀膜技术种类表 类型介绍 蒸发镀膜加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 溅射镀膜利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。 离子镀膜离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离 子体中进行。 其他如真空卷绕镀膜是一种利用物理气相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。 需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材，基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。溅射类镀膜，可以理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了“薄膜”的应用领域，是一项发展迅速、受人青睐的新技术。广义来讲，离子镀膜的特点是：镀膜时，工件（基片）带负偏压，工件始终受高能离子的轰击，形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕
真空镀膜的现状与发展趋势
真空镀膜的现状与发展趋势 发布日期：2010-07-17 <<返回前一页 -------------------------------------------------------------------------------- 薄膜是一种物质形态，它所使用的膜材料非常广泛，可以是单质元素或化合物，也可以是无机材料或有机材料。薄膜与块状物质一样，可以是单晶态的，多晶态的或非晶态的。近年来功能材料薄膜和复合薄膜也有很大发展。镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用非常广泛，尤其是在电子材料与元器件工业领域中占有及其重要的地位。 镀膜方法可以分为气相生成法，氧化法，离子注入法，扩散法，电镀法，涂布法，液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法，化学气相沉积法和放电聚合法等。 真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法，是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境，是镀膜的必要条件。 真空系统的种类繁多。在实际工作中，必须根据自己的工作重点进行选择。典型的真空系统包括：获得真空的设备（真空泵），待抽空的容器（真空室），测量真空的器具（真空计）以及必要的管道，阀门和其它附属设备。 1.真空蒸发镀膜法 真空蒸发镀膜法是在真空室中，加热蒸发容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸汽流，入射到固体（称为衬底或基片）表面，凝结形成固态薄膜的方法。真空蒸发镀膜又可以分为下列几种： 1.1 电阻蒸发源蒸镀法 采用钽，钼，钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。 利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中，迄今为止，在镀铝制镜的生产中仍然大量使用着电阻加热蒸发的工艺。 电阻加热方式的缺点是：加热所能达到的最高温度有限，加热器的寿命液较短。近年来，为了提高加热器的寿命，国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。据日本专利报道，可采用20％～30％的氮化硼和能与其相熔的耐火材料所组成的材料来制作坩锅，并在表面涂上一层含62％～82％的锆，其余为锆硅合金材料。 1.2 电子束蒸发源蒸镀法 将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。 依靠电子束轰击蒸发的真空蒸镀技术，根据电子束蒸发源的形式不同，又可分为环形枪，直枪，e型枪和空心阴极电子枪等几种。 环形枪是由环形的阴极来发射电子束，经聚焦和偏转后打在坩锅内使金属材料蒸发。它的结构较简单，但是功率和效率都不高，基本上只是一种实验室用的设备，目前在生产型的装置中已经不再使用。 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴极发射，聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜材料融化和蒸
真空镀膜试验
真空镀膜实验 一、 实验目的 真空镀膜技术广泛地应用在现代工业和科学技术中，光学仪器的反射镜，增透镜，激光器谐振腔的高反射膜，计算机上存储和记忆用的磁性薄膜，以及材料表面的超硬薄膜。此外在电子学、半导体等其它各尖端学科也都采用了真空技术。 本实验的目的是学习真空蒸发镀膜技术。通过本门实验，要求学生掌握如下几点：①较系统了解真空镀膜仪器的结构；②了解真空系统各组件的功能；③了解石英晶体振荡器测厚原理；④掌握真空蒸镀的基本原理；⑤了解真空镀膜仪器的基本操作。 二、预习要求 要求学生在实验之前对真空系统有一定了解，可以通过以下几本相关书籍获得相关信息。《薄膜材料制备原理、技术及应用》—— 唐伟忠著，冶金工艺出版社出版社；《薄膜物理与技术》—— 杨邦朝，王文生编著，电子科学出版社；《薄膜技术》—— 王力衡，清华大学出版社；《薄膜技术》—— 顾培夫，浙江大学出版社；《真空技术物理基础》—— 张树林，东北工学院出版社；《真空技术》—— 戴荣道，电子工业出版社。 三、实验所需仪器设备 实验过程需要的主要设备为DMDE 450型光学多层镀膜机。 真空镀膜机：本实验使用DMDE-450光学多层镀膜机，其装置结构如图3所示。它主要由真空系统、蒸发设备及膜厚监控系统组成。真空系统由各种真空器件组成，主要包括：真空室；真空泵（机械泵、和分子泵）；真空导管；各种真空阀门和测量真空度的真空计等。高真空阀门为碟式，机械泵与分子泵的连通阀门为三同式，将阀门拉出时，机械泵可以直接对镀膜室抽气，推入时机械泵与分子泵连通，同时也切断了机械泵与镀膜室的连接。 蒸发系统由真空钟罩，蒸发电极（共有二对）， 活动挡板，蒸发源，底盘等组成。蒸发源安装在电 图3镀膜机装置图 1电离管 2高真空碟阀 3分子泵 4机械泵 5低真空磁力阀 6储气桶 7低真空三同阀 8磁力充气阀 9热偶规 10钟罩 11针型阀
真空镀膜机操作指导
真空镀膜实验指导 真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。 1真空镀膜原理： 1.1蒸发镀膜机理 蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。 蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下： 1.2高真空 我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。当然，真空度也不需要绝对地高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式 （d是分子的直径，n是分子数密度） 不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。 1.3材料洁净 材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。这一要求似乎是不言而喻的。如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质，将直接影响膜的均匀性和牢固度；如果混有可融的化学成分，将影响膜的物理性质，如亮度、表面张力、电导率等等。所以，膜材和基底的清洗工作必须认真对待。 2真空技术
真空镀膜技术
真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射，可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法，具体有： 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用，但在最近30年迅速发展，成为一门极具广阔应用前景的新技术。，并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今，在钟表行业，尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下，使金属、金属合金或化合物蒸发，然后沉积在基体表面上，蒸发的方法常用电阻加热，高频感应加热，电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料，使蒸发成气相，然后沉积在基体表面，历史上，真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下，使氩气进行辉光放电，这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+)，氩离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电，称直流(Qc)溅射，射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下，用引弧针引弧，使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电，阴极表面快速移动着多个阴极弧斑，不断迅速蒸发甚至“异华”镀料，使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体，并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑，所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤： (1)镀料的气化：即使镀料蒸发，异华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单，对环境改善，无污染，耗材少，成膜均匀致密，与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。
真空镀膜设备项目规划方案
真空镀膜设备项目规划方案 规划设计/投资分析/产业运营
摘要说明— 真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺（PVD）。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。 该真空镀膜设备项目计划总投资12622.67万元，其中：固定资产投资10101.82万元，占项目总投资的80.03%；流动资金2520.85万元，占项目总投资的19.97%。 达产年营业收入20048.00万元，总成本费用15985.14万元，税金及附加203.63万元，利润总额4062.86万元，利税总额4826.88万元，税后净利润3047.14万元，达产年纳税总额1779.74万元；达产年投资利润率32.19%，投资利税率38.24%，投资回报率24.14%，全部投资回收期5.64年，提供就业职位294个。 报告内容：项目总论、建设背景、产业分析、产品规划方案、项目选址、土建工程、工艺先进性、环境影响分析、生产安全、风险性分析、节能评估、项目进度方案、投资估算与资金筹措、项目经营效益分析、项目评价等。 规划设计/投资分析/产业运营
真空镀膜设备项目规划方案目录 第一章项目总论 第二章建设背景 第三章产品规划方案 第四章项目选址 第五章土建工程 第六章工艺先进性 第七章环境影响分析 第八章生产安全 第九章风险性分析 第十章节能评估 第十一章项目进度方案 第十二章投资估算与资金筹措第十三章项目经营效益分析 第十四章招标方案 第十五章项目评价
真空蒸发镀膜原理
Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］