版图设计入门专题——快捷键汇总(原创)2015.07.23

版图设计入门专题——快捷键汇总(原创)2015.07.23
版图设计入门专题——快捷键汇总(原创)2015.07.23

版图设计入门专题——快捷键汇总(原创)

要画版图,首先要熟悉所有的快捷键。要能熟练的画版图,那就要非常熟练的运用快捷键。运用快捷键越熟练,你画版图的速度就越快,效率就越高!

下面,我将网上最常见的快捷键进行了归纳,同时做出了相应的解释。在原来的基础上做了润色!既然要发原创的东西,肯定会有所不同,也同时肯定会有新的东西贡献给大家,供大家学习参考。

之前我发过有关快捷键的原创东西,现在将有关快捷键的资料汇总到一起,方便大家查看!

前面是大家最常见的快捷键归纳,我做了些润色和解释。

中间是Virtuoso Layout工具栏中的部分命令的解释。

最后是Add Some Special Layout Bindkeys的语法和解释。

Virtuoso Layout Editor快捷键归纳

鼠标快捷键操作

1、单击左键选中一个图形。

2、用左键框选,选中一片图形,某个图形要被完全包围才会被选中。

3、单击中键调出常用菜单命令。

4、右键点击拖放用来放大。放大后经常配合F键使用,恢复到全部显示。配合Tab键或

者方向键,平移视图。

5、Shift+左键加选图形,Ctrl+左键减选图形。(Cadence菜单中大写按Shift+A字母,或者

直接按大小写切换键Caps lock)。

6、右键常用命令(Right mouse):

a.没有命令时重复上次命令;

b.move和Create instance时逆时针旋转,Shift+Right mouse轮流关于x/y轴对称;

c.画path时,L90Xfirst和L90Yfirst之间切换,Ctrl+Right mouse Path自动换层

(Path stitching)切换,只有techfile中有关contact的定义了之后才能使用Path stitching 的功能,Shift+Right mouse换层时通孔旋转;

d.Reshape和split时,右键切换不同的高亮区域,以便下一步的操作;

键盘快捷键操作

F1显示帮助窗口,没反应。

F2保存。

F3控制在选取相应工具后是否显示相应属性对话框的。

F4英文是Toggle Partial Select,就是用来控制是否可以部分选择一个图形。

F5打开。

F6没反应。

F7没反应。

F8Guided Path Create切换至L90XYFirst。

F9是Filter Size。

Ctrl+A全选。

B键(Return To Level)返回上一级,类似Shift+B。

Shift+B(Return)返回到上一级视图。

C键(copy)复制。

Ctrl+C中断某个命令,不常用。一般多按几次Esc键取消某个命令。

Shift+C(Chop)切割,首先调用命令,选中要裁切的图形,后画矩形裁切。

Ctrl+D取消选择。这个也可用鼠标点击空白区域实现。有Shift+D,和D也是取消选择

E键设置display option

Shift+E设置layout editor option

F键满工作区显示

Ctrl+F显示上层等级

Shift+F显示所有等级。

G键(Gravity)开关引力,点击G键打开Gravity,再点击G键关闭Gravity。

Ctrl+G(Zoom To Grid)缩小到格点Grid。

I键(Instance)插入模块。

K键(Ruler)标尺工具。

Shift+K清除所有标尺。

L键(Label)标签工具。标签要加在特定的text层上。

M键(Move)移动工具。

Shift+M(Merge)合并工具。

N键(Diagonal)斜45°对角。

Ctrl+N(L90XFirst)先横后竖。

Shift+N(Orthogonal)直角正交。

O键(Create Contact)插入接触孔。

Shift+O(Rotate)旋转工具。

P键(Create Path)路径。

Ctrl+P(Create Choice Of Pin)插入引脚。

Shift+P(Create Polygon)多边形工具。

Q键图形对象属性。

Shift+Q打开设计属性对话框。选中一个图形先。

R键矩形工具。

Ctrl+R是Redraw重画。

Shift+R是Reshape重定形。就是在原来的图形上再补上一块图形。

S键(Stretch)拉伸工具。

Ctrl+S(Split),添加拐点。配合Stretch命令可以是原来直的Path打弯。

Shift+S(Search)查找。

T键(Layer Tap)层切换。按过T后点击一个图形,就自动切换到刚刚点击图形的的层上去了。有了这个快捷键就不必频繁点击LSW窗口了。

Ctrl+T(Zoom to Set)选中图形放大到全屏

Shift+T(Tree)层次tree。

U键(Undo)撤销。

Shift+U(Redo)返回到撤销前。

V键(Attatch)关联。将一个子图形(child)关联到一个父图形(parent)后。关联后,若移动parent,child也将跟着移动;移动child,parent不会移动。可以将Label关联到Pad上。Ctrl+V(Type in CIW)。

Shift+V打开小窗口。

W键(Previous View)前一视图。

Ctrl+W(close window)关闭窗口。

Shift+W(Next View)下一个视图。

X键(Edit in Place)。进入下一层次编辑。

Ctrl+X(Fit Edit)适合编辑。功能同F键。

Shift+X(Descend)下降一等级。直接进入下一层次编辑。

Y键(Yank)区域复制。和Copy是有区别的,Copy只能复制完整图形对象。

Ctrl+Y(Cycle Select)

Shift+Y(Paste)粘贴。配合Yank使用。

Z键视图放大。

Ctrl+Z(Zoom In by2)视图放大两倍。

Shift+Z(Zoom Out by2)视图缩小两倍。

ESC键(Cancel)取消命令。

Tab键(Pan)平移视图,按Tab,用鼠标点击视图区中某点,视图就会移至以该点为中心。Delete键删除。

BackSpace键撤销上一点。

Enter键确定一个图形的最后一点。也可双击鼠标左键结束。

Ctrl+方向键移动Cell。

Shift+方向键移动鼠标。每次半个格点的距离。

方向键移动视图。

工具栏中的部分命令

Tools

Dracula Interactive调用Dracula工具,对版图进行DRC/LVS/LPE等检查。

Layout版图编辑界面,进行版图操作。

Design

Save As另存为,将版图或者原理图另存为其他名字

Hierarchy层次操作。

Refresh刷新功能,对Cell View的改变更新。

Discard Edits放弃丢弃编辑,就是返回到最初编辑之前,类似U键,但比其更强大。Make Read Only只读模式,无法编辑。

Summary总结版图信息。

Window

Utilities使用工具。

Copy Window复制当前窗口

Show Selected Set显示选中项的信息

Create

Multipart path复合path,配合F3来设置

Conics圆锥曲线

Circle圆形

Ellipse椭圆形

Donut圆环

Layer Generation层生成

Edit

Hierarchy等级、层次

Make Cell创建单元

Flatten打散

Other其他

Modify corner将图形修改成圆角或者切角,radial所需设置的半径大小,chamfer所需设置的切角的大小。

Size尺寸缩放,选择图形,在此基础上增大或者缩小相应尺寸

Align图形对齐。

1、先把Selection Mod设置为Set reference to align preselected objects,然后选择

Alignment Direction,再选择未对齐的图形,然后点击Set New Reference再在

layout窗口选择一个对齐点,所有选择的图形就会对齐。

2、先把Selection Mod设置为Set reference and select objects to be aligned,然后选择

Alignment Direction,再点击Set New Reference,先选择一个图形的边界作为参考边,然后选择其他图形与这个参考边对齐。

Convert to Polygon转化为多边形

Move origin移动到原点

Add Some Special Layout Bindkeys(原创)

对于画版图的朋友们,熟悉virtuoso的快捷键是一项必修课,了解并熟练的运用快捷键很大程度上能够提高Layout的工作效率。如果自己能够根据自己的需求来设置快捷键,那是最好不过的。

常见快捷键的用法网上随便就能够搜到,这里不再详述。版图快捷键存放路径/home/cadence/ic5141/tools/dfII/local/leBindkeys.il。

下面是我自己根据需要,写出来的快捷键语法,经过实践尝试,都是可以运用的。在此分享给大家,让画版图的朋友们体验一下自己设置快捷键的乐趣。当然只要你懂得一些常见的skill语法,那么设置快捷键就是件随心所欲的事情了。

Add some special bindkeys

bk("Layout""1""leHiFlatten()");打散cell

bk("Layout""2""leHiMoveOrigin()");移动坐标原点

bk("Layout""3""leHiConvertShapeToPolygon()");将path转换成多边形bk("Layout""4""leHiCreateMPP()");创建多PATH

bk("Layout""5""leHiMakeCell()");将所选建成cell

bk("Layout""6""leHiModifyCorner()");将直角修成圆角

bk("Layout""7""leHiLayerGen()");所选图层逻辑运算

bk("Layout""8""leHiSize()");所选图层尺寸(放大或缩小)变换bk("Layout""9""leHiAlign()");对准cell或图层

bk("Layout""0""leHiMarkNet()");点亮版图中的某条线bk("Layout""z""leHiUnmarkNet()");取消点亮的版图中的线

bk("Layout""o""geNewWindow()");打开新的窗口

bk("Layout""F4""mgc_calibre_run_drc");calibre run drc

bk("Layout""F7""mgc_calibre_run_lvs");calibre run lvs

bk("Layout""F8""mgc_calibre_start_rve");calibre run rve

bk("Layout""Shift1""geChangeEditMode(\"a\")");改成edit模式

bk("Layout""Shift2""geChangeEditMode(\"r\")");改成read模式

bk("Layout""Ctrl3""ddsHiMakeReadOnly()");改成read only模式

bk("Layout""Ctrl4""geRefreshCellViews(geGetWindowCellView())");刷新bk("Layout""Ctrl5""pipoDisplay(transStreamOutForm)");打开stream out bk("Layout""Shift6""pipoDisplay(transStreamInForm)");打开stream in bk("Layout""Shift7""leHiCreateCircle()");画圆形

bk("Schematics""9""geAddNetProbe()")

bk("Schematics""0""geDeleteAllProbe()")

bk("symbol""0""geDeleteAllProbe()")

bk("Symbol""9""geAddNetProbe()")

bk("Schematics""6""geDeleteNetProbe()")

bk("symbol""6""geDeleteNetProbe()")

蓝色字体部分可以根据自己的实际情况需要来设置快捷键。

异或门版图设计报告

西安科技大学 高新学院 微电子专业实验报告 专业:微电子 班级:1001 姓名:黄升 学号:1001050120 指导老师:王进军

设计软件:tanner软件 实验目的和要求: 1、掌握L-edit软件的基本设定和集成电路工艺和版图的图层关系。 2、根据性能和指标要求,明确设计要求和规则。 3、电路版图实现过程中电源线的走法。 4、掌握L-edit和S-edit仿真环境,完成异或门的仿真。 5、掌握LVS环境变量。 异或门版图的设计方法: 1、确定工艺规则。 2、绘制异或门版图。 3、加入工作电源进行分析。 4、与LVS比较仿真结果。 实验内容: 完成COMS异或门版图设计,COMS异或门原理如下,要求在S-edit 中画出每一电路元件,并给出输入输出端口及电源线和地线。(一)异或逻辑关系式及真值表:F=A⊕B=A′B+ AB′

(二)原理图: (三)版图:

(四)仿真分析: Main circuit:Module0 .include“E:\ProgramFiles\tannerEDA\T-Spice10.1\models\m12_125.md M1 N3 A Gnd Gnd NMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M2 F B N3 Gnd NMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M3 F N3 B Gnd NMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M4 N3 A Vdd Vdd PMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M5 F B A Vdd Vdd PMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u M6 F A B Vdd Vdd PMOS L=2u W=22u AD=66p PD=24u AS=66p PS=24u v7 Vdd Gnd 5.0 v8 B Gnd pulse(0.05.00 In In 100n 200n) v9 A Gnd pulse(0.05.00 In In 100n 400n) .tran In 800n .print tran v(A) v(B) v(F) End of main circuit:Module0

电子科技大学 集成电路原理实验模拟集成电路版图设计与验证 王向展

实验报告 课程名称:集成电路原理 实验名称:模拟集成电路版图设计与验证小组成员: 实验地点:科技实验大楼606 实验时间:2017年6月19日 2017年6月19日 微电子与固体电子学院

一、实验名称:模拟集成电路版图设计与验证 二、实验学时:4 三、实验原理 1、电路设计与仿真 实验2内容,根据电路的指标和工作条件,然后通过模拟计算,决定电路中各器件的参数(包括电参数、几何参数等),EDA软件进行模拟仿真。 2、工艺设计 根据电路特点结合所给的工艺,再按电路中各器件的参数要求,确定满足这些参数的工艺参数、工艺流程和工艺条件。 3、版图设计 按电路设计和确定的工艺流程,把电路中有源器件、阻容元件及互连以一定的规则布置在Candence下的版图编辑器内。并优化版图结构。 四、实验目的 本实验是基于微电子技术应用背景和《集成电路原理》课程设置及其特点而设置,为IC设计性实验。其目的在于: 1、根据实验任务要求,综合运用课程所学知识自主完成相应的模拟集成电路版图设计,掌握基本的IC版图布局布线技巧。 2、学习并掌握国际流行的EDA仿真软件Cadence的使用方法,并进行版图的的设计与验证。 通过该实验,使学生掌握CMOS模拟IC版图设计的流程,加深对课程知识的感性认识,增强学生的设计与综合分析能力。 五、实验内容 1、UNIX操作系统常用命令的使用,Cadence EDA仿真环境的调用。

2、根据实验2所得参数,自主完成版图设计,并掌握布局布线的基本技巧。 3、整理版图生成文件,总结、撰写并提交实验报告。 六、实验仪器设备 (1)工作站或微机终端一台 (2)EDA仿真软件1套 七、实验步骤 1、根据实验指导书掌握Cadence EDA仿真环境的调用。熟悉版图编辑器Layout Editor的使用。了解基本的布局布线方法及元器件的画法。 2、根据实验2所计算验证的两级共源CMOS运放的元器件参数如表1所示,在版图设计器里画出相应的元器件,对V+、V-、V out、V DD、GND的压焊点位置合理化放置,通过金属画线将各个元器件按实验2的电路图合理连接,避免跳线。 表 1运放各器件版图参数

机械设计基础知识点总结

n P t P α γ C D A B ω P 12δδt h s = 12ωδt h v = 2=a 21222δδt h s =12 1 24δδωt h v =22 124t h a δω=2122)(2δδδ-- =t t h h s )(4121 2δδδω-=t t h v 22124t h a δ ω-=绪论:机械:机器与机构的总称。机器:机器是执行机械运动的装置,用来变换或传递能量、物料、信息。机构:是具有确定相对运动的构件的组合。用来传递运动和力的有一个构件为机架的用构件能够相对运动的连接方式组成的构件系统统称为机构。构件:机构中的(最小)运动单元一个或若干个零件刚性联接而成。是运动的单元,它可以是单一的整体,也可以是由几个零件组成的刚性结构。零件:制造的单元。分为:1、通用零件,2、专用零件。 一:自由度:构件所具有的独立运动的数目称为构件的自由度。 约束:对构件独立运动所施加的限制称为约束。运动副:使两构件直接接触并能产生一定相对运动的可动联接。高副:两构件通过点或线接触组成的运动副称为高副。低副:两构件通过面接触而构成的运动副。根据两构件间的相对运动形式,可分为转动副和移动副。F = 3n- 2PL-PH 机构的原动件(主动件)数目必须等于机构的自由度。复合铰链:三个或三个以上个构 件在同一条轴线上形成的转动副。由m 个构件组成的复合铰链包含的转动副数目应 为(m-1)个。虚约束:重复而不起独立限制作用的约束称为虚约束。计算机构的自由度时,虚约束应除去不计。局部自由度: 与输出件运动无关的自由度,计算机构自由度时可删除。 二:连杆机构:由若干构件通过低副(转动副和移动副)联接而成的平面机构,用以实现运动的传递、变换和传送动力。优点:(1)面接触低副,压强小,便于润滑,磨损轻,寿命长,传力大。(2)低副易于加工,可获得较高精度,成本低。(3)杆可较长,可用作实现远距离的操纵控制。(4)可利用连杆实现较复杂的运动规律和运动轨迹。缺点:(1)低副中存在间隙,精度低。(2)不容易实现精确复杂的运动规律。铰链四杆机构:具有转换运动功能而构件数目最少的平面连杆机构。整转副:存在条件:最短杆与最长杆长度之和小于或等于其余两杆长度之和。构成:整转副是由最短杆及其邻边构成。类型判定:(1)如果:lmin+lmax ≤其它两杆长度之和,曲柄为最短杆;曲柄摇杆机构:以最短杆的相邻构件为机架。双曲柄机构:以最短杆为机架。双摇杆机构:以最短杆的对边为机架。(2)如果: lmin+lmax >其它两杆长度之和;不满足曲柄存在的条件,则不论选哪个构件为机架,都为双摇杆机构。急回运动:有不少的平面机构,当主动曲柄做等速转动时,做往复运 动的从动件摇杆,在前进行程运行速度较慢,而回程运动速度要快,机构的这种性质就是所谓的机构的“急回运动”特性。 压力角:作用于C 点的力P 与C 点绝对速度方向所夹的锐角α。传动角:压力角的余角γ,死点:无论我们 在原 动件上施加 多大的力都不能使机构运 动,这种位置我们称为死点γ=0。解决办法:(1)在机构中安装大质量的飞轮,利用其惯性闯过转折点;(2)利用多组机构来消除运动不确定现象。即连杆BC 与摇杆CD 所夹锐角。 三:凸轮: 一个具有曲线轮廓或凹槽的构件。从动件: 被凸轮直接推动的构件。机架: 固定不动的构件(导路)。凸轮类型:(1)盘形回转凸轮(2)移动凸轮 (3)圆柱回转凸轮 从动件类型:(1)尖顶从动件(2)滚子从动件(3)平底从动件(1)直动从动件 (2)摆动从动件 1基圆:以凸轮最小向径为半径作的圆,用rmin 表示。2推程:从动件远离中心位置的过 程。推程运动角δt ;3远休止:从动件在远离中心位置停留不动。远休止角δs ;4回程:从动件由远离中心位置向中心位置运动的过程。回程运动角δh ;5近休止:从动件靠近中心位置停留不动。近休止角δs ˊ;6行程:从动件在推程或回程中移动的距离,用 h 表示。7从动件位移线图:从动件位移S2与凸轮转角δ1之间的关系曲线称为从动件位移 线图。1.等 速运动规 律: 1、特点:设计简单、匀速进给。始点、末点有刚性冲击。适于低速、轻载、从动杆质量不大,以及要求匀速的情况。 2、等加速等减速运动规律: 推程等加速段运动方程: 推 程 等减速段运动方程: 柔 性冲击:加速度发 生有限值的突变(适用于中速场合) 3、简谐运动规律: 柔性冲击 四:根切根念:用范成法加工齿轮时,有时会发现刀具的顶部切入了轮齿的根部,而把齿根切去了一部分,破坏了渐开线齿廓,如图这种现象称为根切。 根切形成的原因:标准齿轮:刀具的齿顶线超过了极限啮合点N 。 不根切的条件可以表示为: 不根切的最少齿数为: 标准齿轮:指m 、α、ha*、c* 均取标准值,具有标准的齿顶高和齿根高,且分度圆齿厚s 等于齿槽宽e 的齿轮。 成型法:加工原理:成形法是用渐开线齿形的成形铣刀直接切出齿形。加工:(a) 盘形铣刀加工齿轮。(b)指状铣刀加工齿轮。缺点:加工精度低;加工不连续,生产率低;加工成本高。优点:可以用普通铣床加工。 范成法:加工原理:根据共轭曲线原理,利 用一对齿轮互相啮合传动时,两轮的齿廓互为包络线的原理来加工。加工:(a)齿轮插刀:是一个齿廓为刀刃的外齿轮。(b)齿条插刀(梳齿刀):是一个齿廓为刀刃的齿条。原理与用齿轮插刀加工相同,仅是范成运动变为齿条与齿轮的啮合运动。(c)滚刀切齿:原理与用齿条插刀加工基本相同,滚刀转动时,刀刃的螺旋运动代替了齿条插刀的展成运动和切削运动。 九:失效:机械零件由于某种原因不能正常工作时,称为失效。类型:(1)断裂。在机械载荷或应力作用下(有时还兼有各种热、腐蚀等因素作用),使物体分成几个部分的现象,通常定义为固体完全断裂,简称断裂。静力拉断、疲劳断裂。(2)变形。由于作用零件上的应力超过了材料的屈服极限,使零 1 1PN PB ≤2 sin sin * α α mz m h a ≤ α 2* min sin 2a h z = )]cos(1[212δδπt h s -=)sin(2112δδπδωπt t h v =)cos(2122122δδπ δωπt t h a =

集成电路版图设计论文

集成电路版图设计 班级12级微电子姓名陈仁浩学号2012221105240013 摘要:介绍了集成电路版图设计的各个环节及设计过程中需注意的问题,然后将IC版图设计与PCB版图设计进行对比,分析两者的差异。最后介绍了集成电路版图设计师这一职业,加深对该行业的认识。 关键词: 集成电路版图设计 引言: 集成电路版图设计是实现集成电路制造所必不可少的设计环节,它不仅关系到集成电路的功能是否正确,而且也会极大程度地影响集成电路的性能、成本与功耗。近年来迅速发展的计算机、通信、嵌入式或便携式设备中集成电路的高性能低功耗运行都离不开集成电路掩模版图的精心设计。一个优秀的掩模版图设计者对于开发超性能的集成电路是极其关键的。 一、集成电路版图设计的过程 集成电路设计的流程:系统设计、逻辑设计、电路设计(包括:布局布线验证)、版图设计版图后仿真(加上寄生负载后检查设计是否能够正常工作)。集成电路版图设计是集成电路从电路拓扑到电路芯片的一个重要的设计过程,它需要设计者具有电路及电子元件的工作原理与工艺制造方面的基础知识,还需要设计者熟练运用绘图软件对电路进行合理的布局规划,设计出最大程度体现高性能、低功耗、低成本、能实际可靠工作的芯片版图。集成电路版图设计包括数字电路、模拟电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路等的版图设计。具体的过程为: 1、画版图之前,应与IC 工程师建立良好沟通在画版图之前,应该向电路设计者了解PAD 摆放的顺序及位置,了解版图的最终面积是多少。在电路当中,哪些功能块之间要放在比较近的位置。哪些器件需要良好的匹配。了解该芯片的电源线和地线一共有几组,每组之间各自是如何分布在版图上的? IC 工程师要求的工作进度与自己预估的进度有哪些出入? 2、全局设计:这个布局图应该和功能框图或电路图大体一致,然后根据模块的面积大小进行调整。布局设计的另一个重要的任务是焊盘的布局。焊盘的安排要便于内部信号的连接,要尽量节省芯片面积以减少制作成本。焊盘的布局还应该便于测试,特别是晶上测试。 3、分层设计:按照电路功能划分整个电路,对每个功能块进行再划分,每一个模块对应一个单元。从最小模块开始到完成整个电路的版图设计,设计者需要建立多个单元。这一步就是自上向下的设计。 4、版图的检查: (1)Design Rules Checker 运行DRC,DRC 有识别能力,能够进行复杂的识别工作,在生成最终送交的图形之前进行检查。程序就按照规则检查文件运行,发现错误时,会在错误的地方做出标记,并且做出解释。

集成电路版图设计笔试面试大全

集成电路版图设计笔试面试大全 1. calibre语句 2. 对电路是否了解。似乎这个非常关心。 3. 使用的工具。 , 熟练应用UNIX操作系统和L_edit,Calibre, Cadence, Virtuoso, Dracula 拽可乐(DIVA),等软件进行IC版图 绘制和DRC,LVS,ERC等后端验证 4. 做过哪些模块 其中主要负责的有Amplifier,Comparator,CPM,Bandgap,Accurate reference,Oscillator,Integrated Power MOS,LDO blocks 和Pad,ESD cells以及top的整体布局连接 5. 是否用过双阱工艺。 工艺流程见版图资料 在高阻衬底上同时形成较高的杂质浓度的P阱和N阱,NMOS、PMOS分别做在这两个阱中,这样可以独立调节两种沟道MOS管的参数,使CMOS电路达到最优特性,且两种器件间距离也因采用独立的阱而减小,以适合于高密度集成,但是工艺较复杂。 制作MOS管时,若采用离子注入,需要淀积Si3N4,SiO2不能阻挡离子注入,进行调沟或调节开启电压时,都可以用SiO2层进行注入。 双阱CMOS采用原始材料是在P+衬底(低电阻率)上外延一层轻掺杂的外延层P-(高电阻率)防止latch-up效应(因为低电阻率的衬底可以收集衬底电流)。 N阱、P阱之间无space。

6. 你认为如何能做好一个版图,或者做一个好版图需要注意些什么需要很仔细的回答~答:一,对于任何成功的模拟版图设计来说,都必须仔细地注意版图设计的floorplan,一般floorplan 由设计和应用工程师给出,但也应该考虑到版图工程师的布线问题,加以讨论调整。总体原则是 模拟电路应该以模拟信号对噪声的敏感度来分类。例如,低电平信号节点或高阻抗节点,它们与输入信号典型相关,因此认为它们对噪声的敏感度很高。这些敏感信号应被紧密地屏蔽保护起来,尤其是与数字输出缓冲器隔离。高摆幅的模拟电路,例如比较器和输出缓冲放大器应放置在敏感模拟电路和数字电路之间。数字电路应以速度和功能来分类。显而易见,因为数字输出缓冲器通常在高速时驱动电容负载,所以应使它离敏感模拟信号最远。其次,速度较低的逻辑电路位于敏感模拟电路和缓冲输出之间。注意到敏感模拟电路是尽可能远离数字缓冲输出,并且最不敏感的模拟电路与噪声最小的数字电路邻近。 芯片布局时具体需考虑的问题,如在进行系统整体版图布局时,要充分考虑模块之间的走线,避免时钟信号线对单元以及内部信号的干扰。模块间摆放时要配合压焊点的分布,另外对时钟布线要充分考虑时延,不同的时钟信号布线应尽量一致,以保证时钟之间的同步性问题。而信号的走线要完全对称以克服外界干扰。 二(电源线和地线的布局问题

集成电路基础工艺和版图设计测试试卷

集成电路基础工艺和版图设计测试试卷 (考试时间:60分钟,总分100分) 第一部分、填空题(共30分。每空2分) 1、NMOS是利用电子来传输电信号的金属半导体;PMOS是利用空穴来传输电信号的金属半导体。 2、集成电路即“IC”,俗称芯片,按功能不同可分为数字集成电路和模拟集成电路,按导电类型不同可分为 双极型集成电路和单极型集成电路,前者频率特性好,但功耗较大,而且制作工艺复杂,不利于大规模集成;后者工作速度低,但是输入阻抗高、功耗小、制作工艺简单、易于大规模集成。 3、金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管即MOS管,是一个四端有源器件,其四端分别是栅 极、源极、漏极、背栅。 4、集成电路设计分为全定制设计方法和半定制设计方法,其中全定制设计方法又分为基于门阵列和标准单元 的设计方法,芯片利用率最低的是基于门阵列的设计方法。 第二部分、不定项选择题(共45分。每题3分,多选,错选不得分,少选得1分) 1、在CMOS集成电路中,以下属于常用电容类型的有(ABCD) A、MOS电容 B、双层多晶硅电容 C、金属多晶硅电容 D、金属—金属电容 2、在CMOS集成电路中,以下属于常用电阻类型的有(ABCD) A、源漏扩散电阻 B、阱扩散电阻 C、沟道电阻 D、多晶硅电阻 3、以下属于无源器件的是(CD ) A、MOS晶体管 B、BJT晶体管 C、POL Y电阻 D、MIM电容 4、与芯片成本相关的是(ABC) A、晶圆上功能完好的芯片数 B、晶圆成本 C、芯片的成品率 D、以上都不是 5、通孔的作用是(AB ) A、连接相邻的不同金属层 B、使跳线成为可能 C、连接第一层金属和有源区 D、连接第一层金属和衬底 6、IC版图的可靠性设计主要体现在(ABC)等方面,避免器件出现毁灭性失效而影响良率。 A、天线效应 B、闩锁(Latch up) C、ESD(静电泄放)保护 D、工艺角(process corner)分析 7、减小晶体管尺寸可以有效提高数字集成电路的性能,其原因是(AB) A、寄生电容减小,增加开关速度 B、门延时和功耗乘积减小 C、高阶物理效应减少 D、门翻转电流减小 8、一般在版图设计中可能要对电源线等非常宽的金属线进行宽金属开槽,主要是抑制热效应对芯片的损害。下面哪些做法符合宽金属开槽的基本规则?(ABCD) A、开槽的拐角处呈45度角,减轻大电流密度导致的压力 B、把很宽的金属线分成几个宽度小于规则最小宽度的金属线 C、开槽的放置应该总是与电流的方向一致 D、在拐角、T型结构和电源PAD区域开槽之前要分析电流流向 9、以下版图的图层中与工艺制造中出现的外延层可能直接相接触的是(AB)。 A、AA(active area) B、NW(N-Well) C、POLY D、METAL1

机械设计基础知识点总结

机械设计基础知识点总结 1、通用零件, 2、专用零件。一:自由度:构件所具有的独立运动的数目称为构件的自由度。 约束:对构件独立运动所施加的限制称为约束。运动副:使两构件直接接触并能产生一定相对运动的可动联接。高副:两构件通过点或线接触组成的运动副称为高副。低副:两构件通过面接触而构成的运动副。根据两构件间的相对运动形式,可分为转动副和移动副。F =3n-2PL-PH机构的原动件(主动件)数目必须等于机构的自由度。复合铰链:三个或三个以上个构件在同一条轴线上形成的转动副。由m个构件组成的复合铰链包含的转动副数目应为(m-1)个。虚约束:重复而不起独立限制作用的约束称为虚约束。计算机构的自由度时,虚约束应除去不计。局部自由度: 与输出件运动无关的自由度,计算机构自由度时可删除。二:连杆机构:由若干构件通过低副(转动副和移动副)联接而成的平面机构,用以实现运动的传递、变换和传送动力。优点: (1)面接触低副,压强小,便于润滑,磨损轻,寿命长,传力大。 (2)低副易于加工,可获得较高精度,成本低。(3)杆可较长,可用作实现远距离的操纵控制。(4)可利用连杆实现较复杂的运动规律和运动轨迹。缺点:(1)低副中存在间隙,精度低。(2)不容易实现精确复杂的运动规律。CDAB铰链四杆机构:具有转换运动功

能而构件数目最少的平面连杆机构。整转副:存在条件:最短杆 与最长杆长度之和小于或等于其余两杆长度之和。构成:整转副 是由最短杆及其邻边构成。类型判定:(1)如果:lmin+lmax≤其它两杆长度之和,曲柄为最短杆;曲柄摇杆机构:以最短杆的相 邻构件为机架。双曲柄机构:以最短杆为机架。双摇杆机构:以 最短杆的对边为机架。(2)如果: lmin+lmax>其它两杆长度之和;不满足曲柄存在的条件,则不论选哪个构件为机架,都为双摇杆机构。急回运动:有不少的 平面机构,当主动曲柄做等速转动时,做往复运动的从动件摇 杆,在前进行程运行速度较慢,而回程运动速度要快,机构的这 种性质就是所谓的机构的“急回运动”特性。 压力角:作用于C点的力P与C点绝对速度方向所夹的锐角α。传动角:压力角的余角γ,死点:无论我们在原动件上施加多大的力都不能使机构运动,这种位置我们称为死点γ=0。解决办法:(1)在机构中安装大质量的飞轮,利用其惯性闯过转折点;(2)利用多组机构来消除运动不确定现象。即连杆BC与摇 杆CD所夹锐角。 三:凸轮: 一个具有曲线轮廓或凹槽的构件。从动件: 被凸 轮直接推动的构件。机架: 固定不动的构件(导路)。凸轮类型:(1)盘形回转凸轮(2)移动凸轮 (3)圆柱回转凸轮从动件类型:(1)尖顶从动件(2)滚子从动件(3)平底从动件(1)直动从动件 (2)摆动从动件1基圆:以凸轮最小向径为半径作的圆,用rmin表示。2

集成电路版图设计_实验三习题

实验三: 1、反相器直流工作点仿真 1)偏置电压设置:Vin=1V;Vdd=2V; 2)NMOS沟道尺寸设置:Wnmos= ;Lnmos= ; 3)PMOS沟道尺寸设置:设置PMOS的叉指数为3,每个叉指的宽度为变量wf;这样Wpmos=3*wf;设置wf=Wnmos;Lpmos= ; 4)直流工作点仿真结果:Ids= ;Vout= ;NMOS工作在工作区域;PMOS 工作在工作区域;该反相器的功耗为; 2、反相器直流工作点扫描设置 1)偏置电压设置:Vin=1V;Vdd=2V; 2)在直流仿真下设置Wnmos= ;Lnmos= ;扫描参数为PMOS的叉指宽度wf,扫描范围为到;扫描步长为;仿真输出wf为横坐标、Vout为纵坐标的波形曲线; 观察wf对Vout的影响; 3)在上述步骤的基础上,记录输出电压Vout=1V时对应的PMOS的叉指宽度wf= ; 3、扫描反相器的直流电压转移特性 1)在上述步骤的基础上,记录Ids= ;该反相器的功耗Pdc= ; 2)扫描参数为Vin,扫描电压范围为到;扫描步长为;仿真输出Vin为横坐标、Vout为纵坐标的波形曲线;观察Vin对Vout的转移特性;结合理论分析在转移特性曲线上标出A、B、C、D、E五个工作区域; 3)扫描参数为Vin,扫描电压范围为到;扫描步长为;仿真输出Vin为横坐标、Ids为纵坐标的波形曲线;观察Vin对Ids的转移特性;结合理论分析反相器的静态功耗和动态功耗; 4、仿真反相器的瞬态特性 1)为反相器设置负载电容为; 2)设置Vin为Vpluse信号源,高电平为;低电平为;Rise time= ;Fall time= ; 周期为; 3)设置瞬态仿真stop time= ;step= ;maxstep= ; 4)观察仿真结果,该反相器的传输延迟= ;

机械设计基础复习重点、要点总结

《机械设计基础》 第1章机械设计概论 复习重点 1. 机械零件常见的失效形式 2. 机械设计中,主要的设计准则 习题 1-1 机械零件常见的失效形式有哪些? 1-2 在机械设计中,主要的设计准则有哪些? 1-3 在机械设计中,选用材料的依据是什么? 第2章润滑与密封概述 复习重点 1. 摩擦的四种状态 2. 常用润滑剂的性能 习题 2-1 摩擦可分哪几类?各有何特点? 2-2 润滑剂的作用是什麽?常用润滑剂有几类? 第3章平面机构的结构分析 复习重点 1、机构及运动副的概念 2、自由度计算 平面机构:各运动构件均在同一平面内或相互平行平面内运动的机构,称为平面机构。 3.1 运动副及其分类 运动副:构件间的可动联接。(既保持直接接触,又能产生一定的相对运动) 按照接触情况和两构件接触后的相对运动形式的不同,通常把平面运动副分为低副和高副两类。 3.2 平面机构自由度的计算 一个作平面运动的自由构件具有三个自由度,若机构中有n个活动构件(即不包括机架),在未通过运动副连接前共有3n个自由度。当用P L个低副和P H个高副连接组成机构后,每个低副引入两个约束,每个高副引入一个约束,共引入2P L+P H个约束,因此整个机构相对机架的自由度数,即机构的自由度为 F=3n-2P L-P H (1-1)下面举例说明此式的应用。 例1-1 试计算下图所示颚式破碎机机构的自由度。 解由其机构运动简图不难看出,该 机构有3个活动构件,n=3;包含4个转 动副,P L=4;没有高副,P H=0。因此, 由式(1-1)得该机构自由度为 F=3n-2P L-P H =3×3-2×4-0=1

版图设计实验报告

版图设计实验报告 课程名称:集成电路版图设计 姓名: 学号; 专业;电子科学与技术 教师;老师

目录 (一)实验目的 (3) (二)实验步骤 (4) 1,搭建环境···································································································· 2,运用ic6151··························································································· 3,作图··········································································································· 4,Run DRC·························································································· 5,画原理图··························································································· 6,Run LVS········································································································(三)实验总结·················································································································

IC版图设计基础

2016年3月7日IC版图设计基础课后作业 孙一川2013141223053 我在自己的电脑上安装了虚拟机,从实验室把红帽Linux IC拷回来在寝室完成这一个课堂作业。前面运行Linux创建file等日常步骤就不一一累述。直接进入正题。 首先看了PDF过后,知道最终目的是完成一个nmos,根据PDF上提供尺寸,先要计算出ndiff的长宽,由于是对称结构,所以长度可以计算一边的在乘二就行,一边的长度是contact的长度加上两个它到niff的距离的是 0.6u+0.9u+0.9u=2.4u,总长度便是4.8u。宽度是device width告诉了是 3.6u。先按照这个尺寸画出标尺。Linux系统必须要做完一部就要按esc来清 除掉之前的功能在去进行接下来的操作,所以要先按esc清除掉标尺操作在按rectangle选中diff-drw依照着之前画好的标尺来画出ndiff。如图: 接下来我们要花poly,这不分要用到path,path有自动适应标尺的功 能,一句PDF给出的poly的场是0.6u宽是4.8u。所以先依照着的poly的宽 画出标尺,在按esc后选中poly-drw,按快捷键p,从上往下拉,与之前不同

的是,这次画的是线,双击后会适应你的标尺来生成poly。如图: 接下来是要在ndiff上画出metal,这一部分可以看做将ndiff和poly这个左右对承德结构从中间分开,它离ndiff每条边的距离都是0.5u,所以他是一个长为1.4u宽为2.6u的矩形。所以画好标尺过后这一部分很容易就画出来了。如图:

画金属上的contact与画金属有异曲同工之处,因为contact到金属三条边的距离都是0.4u,contact本身是一个边长为0.6u的正方形。有了上图所示画好的标尺这一部分就非常好画了。最后如图所示:

机械设计基础重点总结

机械设计基础重点总结 Company number:【0089WT-8898YT-W8CCB-BUUT-202108】

《机械设计基础》课程重点总结 绪论 机器是执行机械运动的装置,用来变换或传递能量、物料、信息。 原动机:将其他形式能量转换为机械能的机器。 工作机:利用机械能去变换或传递能量、物料、信息的机器。 机器主要由动力部分、传动部分、执行部分、控制部分四个基本部分组成,它的主体部分是由机构组成。 机构:用来传递运动和力的、有一个构件为机架的、用构件间能够相对运动的连接方式组成的构件系统。 机构与机器的区别:机构只是一个构件系统,而机器除构件系统外,还含电器、液压等其他装置;机构只用于传递运动和力,而机器除传递运动和力之外,还具有变换或传递能量、物料、信息的功能。 零件是制造的单元,构件是运动的单元,一部机器可包含一个或若干个机构,同一个机构可以组成不同的机器。 机械零件可以分为通用零件和专用零件。 机械设计基础主要研究机械中的常用机构和通用零件的工作原理、结构特点、基本的设计理论和计算方法。 第一章平面机构的自由度和速度分析 1.平面机构:所有构件都在相互平行的平面内运动的机构;构件相对参考系的独立运 动称为自由度;所以一个作平面运动的自由机构具有三个自由度。

2.运动副:两构件直接接触并能产生一定相对运动的连接。两构件通过面接触组成的 运动副称为低副;平面机构中的低副有移动副和转动副;两构件通过点或线接触组成的运动副称为高副; 3.绘制平面机构运动简图;P8 4.机构自由度计算公式:F=3n-2P l-P H 机构的自由度也是机构相对机架具有的独立运动 的数目。原动件数小于机构自由度,机构不具有确定的相对运动;原动件数大于机构自由度,机构中最弱的构件必将损坏;机构自由度等于零的构件组合,它的各构件之间不可能产生相对运动;机构具有确定的运动的条件是:机构自由度F > 0,且F 等于原动件数 5.计算平面机构自由度的注意事项:(1)复合铰链:两个以上构件同时在一处用转动 副相连接(图1-13)(2)局部自由度:一种与输出构件运动无关的的自由度,如凸轮滚子(3)虚约束:重复而对机构不起限制作用的约束 P13(4)两个构件构成多个平面高副,各接触点的公共法线彼此重合时只算一个高副,各接触点的公共法线彼此不重合时相当于两个高副或一个低副,而不是虚约束。 6.自由度的计算步骤:1)指出复合铰链、虚约束和局部自由度;2)指出活动构件、 低副、高副;3)计算自由度;4)指出构件有没有确定的运动。 7.发生相对运动的任意两构件间都有一个瞬心。瞬心数计算公式:N=K(K-1)/2 三心定 理:作相对平面运动的三个构件共有三个瞬心,这三个瞬心位于同一直线上。 第二章平面连杆机构 1.平面连杆机构是由若干构件用低副(转动副、移动副)连接组成的平面机构,又称平面 低副机构;最简单的平面连杆机构由四个构件组成,称为平面四杆机构。按所含移

机械设计基础总结59894

机械设计基础总结 第一章平面机构的自由度和速度分析 1.1 构件——独立的运动单元零件——独立的制造单元 运动副——两个构件直接接触组成的仍能产生某些相对运动的连接。 机构——由两个或两个以上构件通过活动联接形成的构件系统。 机器——由零件组成的执行机械运动的装置。 机器和机构统称为机械。构件是由一个或多个零件组成的。 机构与机器的区别: 机构只是一个构件系统,而机器除构件系统之外还包含电气,液压等其他装置;机构只用于传递运动和力,而机器除传递运动和力之外,还具有变换或传递能量,物料,信息的功能。 1.2运动副——接触组成的仍能产生某些相对运动的联接。 运动副元素——直接接触的部分(点、线、面)运动副的分类: 1)按引入的约束数分有:

I级副(F=5)、II级副(F=4)、III级副(F=3)、IV级副(F=2)、V级副(F=1)。 2)按相对运动范围分有: 平面运动副——平面运动 空间运动副——空间运动 平面机构——全部由平面运动副组成的机构。 空间机构——至少含有一个空间运动副的机构 3)按运动副元素分有: 高副()——点、线接触,应力高;低副()——面接触,应力低 1.3机构:具有确定运动的运动链称为机构 机构的组成:机构=机架+原动件+从动件 保证机构具有确定运动时所必须给定的独立运动参数称为机构的自由度。 24y 原动件<自由度数目:不具有确定的相对运动。原动件>自由度数目:机构中最弱的构件将损坏。1.5局部自由度:构件局部运动所产生的自由度。出现在加装滚子的场合,计算时应去掉Fp。 复合铰链——两个以上的构件在同一处以转动副相联。m个构件, 有m-1转动副 虚约束对机构的运动实际不起作用的约束。 计算自由度时应去掉虚约束。

福州大学集成电路版图设计实验报告

福州大学物信学院 《集成电路版图设计》 实验报告 姓名:席高照 学号:111000833 系别:物理与信息工程 专业:微电子学 年级:2010 指导老师:江浩

一、实验目的 1.掌握版图设计的基本理论。 2.掌握版图设计的常用技巧。 3.掌握定制集成电路的设计方法和流程。 4.熟悉Cadence Virtuoso Layout Edit软件的应用 5.学会用Cadence软件设计版图、版图的验证以及后仿真 6.熟悉Cadence软件和版图设计流程,减少版图设计过程中出现的错误。 二、实验要求 1.根据所提供的反相器电路和CMOS放大器的电路依据版图设计的规则绘制电路的版图,同时注意CMOS查分放大器电路的对称性以及电流密度(通过该电路的电流可能会达到5mA) 2.所设计的版图要通过DRC、LVS检测 三、有关于版图设计的基础知识 首先,设计版图的基础便是电路的基本原理,以及电路的工作特性,硅加工工艺的基础、以及通用版图的设计流程,之后要根据不同的工艺对应不同的设计规则,一般来说通用的版图设计流程为①制定版图规划记住要制定可能会被遗忘的特殊要求清单②设计实现考虑特殊要求及如何布线创建组元并对其进行布局③版图验证执行基于计算机的检查和目视检查,进行校正工作④最终步骤工程核查以及版图核查版图参数提取与后仿真 完成这些之后需要特别注意的是寄生参数噪声以及布局等的影响,具体是电路而定,在下面的实验步骤中会体现到这一点。 四、实验步骤 I.反相器部分: 反相器原理图:

反相器的基本原理:CMOS反相器由PMOS和NMOS构成,当输入高电平时,NMOS导通,输出低电平,当输入低电平时,PMOS导通,输出高电平。 注意事项: (1)画成插齿形状,增大了宽长比,可以提高电路速度 (2)尽可能使版图面积最小。面积越小,速度越高,功耗越小。 (3)尽可能减少寄生电容和寄生电阻。尽可能增加接触孔的数目可以减小接触电阻。(4)尽可能减少串扰,电荷分享。做好信号隔离。 反相器的版图: 原理图电路设计: 整体版图:

《机械设计基础》知识点汇总.

《机械设计基础》知识点汇总 1、具有以下三个特征的实物组合体称为机器。 (1)都是人为的各种实物的组合。 (2)组成机器的各种实物间具有确定的相对运动。 (3)可代替或减轻人的劳动,完成有用的机械功或转换机械能。 2、机构主要用来传递和变换运动。 机器主要用来传递和变换能量。 3、零件是组成机器的最小单元,也是机器的制造单元,机器是由若干个不同的零件组装而成的。 各种机器经常用到的零件称为通用零件。 特定的机器中用到的零件称为专用零件。 4、构件是机器的运动单元,一般由若干个零件刚性联接而成,也可以是单一的零件。若从运动的角度来讲,可以认为机器是由若干个构件组装而成的。 根据功能的不同,一部完整的机器由以下四部分组成: 1.原动部分:机器的动力来源。 2.工作部分:完成工作任务的部分。 3.传动部分:把原动机的运动和动力传递给工作机。 4.控制部分:使机器的原动部分、传动部分、工作部分按一定的顺序和规律运动,完成给定的工作循环。 5、物体间机械作用的形式是多种多样的,力对物体的效应取决于力的大小、方向和作用点,这三者被称为力的三要素。 公理1 二力平衡公理 作用在刚体上的两个力,使刚体保持平衡的必要和充分条件是:这两个力大小相等,方向相反,且作用在同一条直线上。 对于变形体而言,二力平衡公理只是必要条件,但不是充分条件。 公理2 加减平衡力系公理 在已知力系上加上或者减去任意平衡力系,并不改变原力系对刚体的作用。推论1 力的可传性原理 作用在刚体上某点的力,可以沿着它的作用线移动到刚体内任意一点,并不

改变该力对刚体的作用效应。 公理3 力的平行四边形公理 作用在刚体上同一点的两个力,可以合成为一个合力。合力的作用点也在该点,合力的大小、方向,由这两个力为边构成的平行四边形的对角线确定。推论 2 三力平衡汇交原理:作用在刚体上三个相互平衡的力,若其中两个力的作用线汇交于一点,则第三个力的作用线通过汇交点。 公理4 作用与反作用公理 两物体间的作用力与反作用力总是同时存在,且大小相等、方向相反、沿同一条直线,分别作用在这两个物体上。 作用力与反作用力互相依存、同时出现、同时消失,分别作用在相互作用的两物体上。 作用力与反作用力与二力平衡公理中的两个力有着本质的区别。 公理5 刚化原理 变形体在某一力系作用下处于平衡,如将此变形体刚化为刚体,则平衡状态将保持不变。 刚体的平衡条件是变形体平衡的必要条件,而非充分条件。 约束:能限制某些物体运动的其它物体。 约束反力(反力):约束对非自由体的作用。 反力的作用点是约束与非自由体的接触点 反力的方向总是与该约束所能限制的运动方向相反 反力的大小总是未知的。在静力学中可以利用相关平衡条件求出约束反力。 6、约束的基本类型 柔性约束 光滑面约束 光滑铰链约束 固定端约束 7、光滑铰链约束特点:两非自由体相互联接后,接触处的摩擦忽略不计,只能限制两非自由体的相对移动,而不能限制两非自由体的相对转动的约束,包括中间铰链约束、固定铰链约束和活动铰支座三种类型。

版图设计实验报告

实验报告册 课程名称:集成电路版图设计教程姓名: 学号: 院系: 专业: 教师: 2016 年5 月15 日 实验一: OP电路搭建

一、实验目的: 1.搭建实体电路。 2.为画版图提供参考。 3.方便导入网表。 4.熟悉使用cadence。 二、实验原理和内容: 根据所用到的mn管分析各部分的使用方法,简化为几个小模块,其中有两个差分对管。合理运用匹配规则,不同的MOS管可以通过打孔O来实现相互的连接。 三、实验步骤: 1.新建设计库。在file→new→library;在name输入自己的学号;右边选择:attch to……;选择sto2→OK。然后在tools→library manager下就可看到自己建的库。 2.新建CellView。在file→new→CellView;cell栏输入OP,type →选择layout。 3.加器件。进入自己建好的电路图,选择快捷键I进行调用器件。MOS 管,在browse下查找sto2,然后调用出自己需要的器件。

4.连线。注意:若线的终点没有别的电极或者连线,则要双击左键才能终止画线。一个节点只能引出3根线。无论线的起点或是终点,光标都应进入红色电极接电。 5.加电源,和地符号。电源Vdd和地Vss的符号在analoglib库中选择和调用,然后再进行连线。 (可以通过Q键来编辑器件属性,把实验规定的MOS管的width和length数据输入,这样就可以在电路图的器件符号中显示出来) 6.检查和保存。命令是check and save。(检查主要针对电路的连接关系:连线或管脚浮空,总线与单线连接错误等)如果有错和警告,在‘schematic check’中会显示出错的原因,可以点击查看纠正。(画完后查看完整电路按快捷键F,连线一定要尽量节约空间,简化电路) 四、实验数据和结果: 导出电路网表的方法:新建文件OP,file→Export→OP(library browser 选NAND2),NAND.cdl,Analog √

《机械设计基础》本科实验报告汇总

实验一:平面机构认知实验 一、实验目的与要求 目的:通过观察机械原理陈列柜,认知各种常见运动副的组成及结构特点,认知各类常见机构分类、组成、运动特性及应用。加深对本课程学习内容及研究对象的了解。 要求:1、认真观察陈列柜,仔细揣摩分析 2、结合有关的实验展柜与教材的相关章节内容回答下列简答题,完成实验报告。二、实验原理 分批地组织学生观瞧、听讲陈列柜的展出与演示。初步了解《机械设计基础》课程所研究的各种常用机构的结构、类型、组成、运动特性及应用。 三、主要仪器设备及材料 JY-10B型机械原理陈列柜,共10柜,有近80个常用机构。 四、试验方法与步骤 第1柜机构的组成 1 机构的组成:蒸汽机、内燃机 2 运动副模型:平面运动副、空间运动副。 第2柜平面连杆机构 1 铰链四杆机构三种形式:①曲柄摇杆机构;②双曲柄机构;③双摇杆机构 2 平面四杆机构的演化形式 ①对心曲柄滑块机构②偏置取冰滑块机构③正弦机构④偏心轮机构⑤双重偏心机构⑥直动滑杆机构⑦摇块机构⑧转动导杆机构⑨摆动导杆机构⑩双滑块机构 第3柜连杆机构的应用 1 鄂式破碎机、飞剪; 2 惯性筛; 3 摄影机平台、机车车轮联动机构; 4 鹤式起重机; 5 牛头刨床的主体机构; 6 插床模型。 第4柜空间连杆机构 RSSR 空间机构、4R 万向节、RRSRR机构、RCCR联轴节、RCRC揉面机构、SARRUT机构 第5柜凸轮机构 盘形凸轮、移动凸轮、圆柱凸轮、圆锥凸轮、槽状凸轮、等宽凸轮、等径凸轮与主回凸轮等多种形式;移动与摆动从动件;尖顶、棍子与平底从动件等;空间凸轮机构 第6 柜齿轮机构类型 1 平行轴齿轮机构;2相交轴齿轮机构;3交错轴齿轮机构

机械设计基础复习总结

自由度计算小结 自由度计算公式:F =3n -2Pl -Ph 机构自由度=3×活动构件数-(2×低副数+1×高副数) 计算步骤: (1)确定活动构件数目 (2)确定运动副种类和数目 (3)确定特殊结构: 局部自由度、虚约束、复合铰链 (4)计算、验证自由度 例 计算图所示机构的自由度 (若存在局部自由度、复合铰链、虚约束请标出)。 键联接和花键联接 ● 键联接的主要类型有:平键联接、半圆键联接、楔键联接和切向键联接等。 1、平键联接 键工作原理:两侧面是工作面,靠两侧面挤压传递转矩。 成对使用:承载能力不够时采用, 按 180°布置两个键。一对平键按1.5 个键计算。 2、半圆键联接 工作原理: 两侧面是工作面,侧面挤压传递转矩。 3、楔键联接 工作原理: 上下表面为工作面,靠摩擦力传递转矩。 4、切向键联接 工作原理:键的窄面是工作面,靠工作面上的挤压力和轴与轮毂间的摩擦力来传递转矩。 一个切向键只能传递单向力矩,双向力矩时,需要采用两个切向键,两键的夹角为??130~120。 ● 花键联接是有外花键和内花键组成。 花键联接可用于静联接或动联接。按齿形不同可以分为矩形花键和渐开线花键两类,两种花键均已标准化。矩形花键定心方式为小径定心,特点是定心精度高,定心稳定性好。渐开线花键定心方式为齿形定心,具有自动定心作用,有利于各齿间的均匀承载。 螺纹联接 1、螺栓联接按其受力状况不同,分为普通螺栓联接和铰制孔用螺栓联接。 2、普通螺栓,其主要失效形式为螺栓杆和螺纹部分发生断裂(受拉); 铰制孔用螺栓联接,其主要失效形式为螺栓杆和孔壁见压溃或螺栓杆被剪断(受剪)。 3、防松的根本问题是防止螺旋副的相对转动。 (1)摩擦防松 对顶螺母、弹簧垫圈、自锁螺母 (2)机械防松 槽型螺母和开口销、圆螺母和带翘垫圈、止动垫圈、串联钢丝 4、螺纹联接的预紧目的:在于增强联接的可靠性和紧密性,以防止受载后被连接件间出现缝隙或发生相对滑移。 5、提高螺纹联接强度的措施:改善螺纹牙间的载荷分配;减小螺栓的应力幅;采用合理的制造工艺;避免附加弯曲应力;减小应力集中的影响。 7A C 12B 3D E F G H I 456虚约束 局部自由度 118263231 ;8;6=-?-?=--====H H L P P n F P P n L

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