绝缘引线键合技术的应用

绝缘引线键合技术的应用
绝缘引线键合技术的应用

绝缘引线键合技术的应用

作者:Robert Lyn (rlyn@https://www.360docs.net/doc/18589562.html,)、William (Bud) Crockett,Microbonds 公司

随着半导体封装持续朝着多引脚、小间距及多列多层叠的方向发展,引线键合技术正面临越来越大的挑战。被称为X-wire的绝缘引线键合技术已经在2006年ITRS路线图上被提出,作为一种可行的、经济的解决方案实现复杂封装,提高封装性能和高密度封装的成品率。要成功实施绝缘引线键合技术,必须做到将此技术以低成本集成到现有的封装基础设备中。具体来说,就要求绝缘引线键合技术能在现有的引线键合平台上达到现有的标准、规范和性能。

绝缘引线键合的优势

电子连接重要的第一步是芯片级别连接,也被称为第一级连接。这一连接将在很大程度上决定可以从芯片上获得多少性能。性能虽然很关键,但是IC产品经理也不会因此就忽视其他经济因素。对封装技术而言一个全面的利益/成本分析必须包括以下几个方面,即对成本、性能、尺寸/密度、和上市时间的评估。

芯片到芯片或芯片到基板的第一级连接技术中,有两种方式一直在工业中占主导地位,即引线键合和倒装芯片。其中引线键合,由于其灵活性和经济性,在市场中占90%以上。

但是,在绝缘引线键合出现之前,引线键合的局限性在于连接被限制在芯片的四周,当芯片I/O数量增加时,就需要使用区域阵列技术,使芯片的I/O不再被局限在芯片的四周。引线键合的另外一个问题是长的、平行的引线之间的自感应,这点可以通过使用交叉和紧密排放的绝缘引线得以缓解。

绝缘引线键合有人们熟知的众多优点。从整体利益/成本分析,绝缘引线键合可以提供最优的成本,即能够使用最低成本的引线键合设备;从性能方面分析,绝缘引线键合能够在芯片单位面积上提供更多的连接点,使用低成本的更小的芯片,降低键合点的限制。

另外,绝缘引线键合能够以最高的带宽将芯片直接连接起来,降低了芯片的叠层和基板/主板线层,可以灵活布线。绝缘引线键合还可以使得信号线和地线非常靠近,使得其自感应效应最小。

铜线键合的出现使得线键合再一次获得性能和成本上的显著提高,与绝缘引线技术结合有助于引线键合技术在低成本、高性能方面继续站在最有利的位置。

绝缘引线键合技术还可以在封装尺寸方面发挥优势,因为使用绝缘引线能够把芯片紧密地放置在一起,就象砌砖墙一样,而不需要普通引线键合的扇出空间;或者可以按照不同的设置直接、灵活的连接层叠的芯片。

使用绝缘引线,可以直接利用现有的芯片,不需要额外的芯片或硅片工序,可以非常灵活的使用到更多的应用场合,大大缩短芯片产品的上市时间。

封装技术带来成本增加的通常排序为引线键合(包括绝缘线)、晶圆级封装和倒装芯片、载膜自动键合TAB,最高的是新兴的硅通孔技术TSV。这是由于引线键合的基础设备、材料被广泛使用,人员技术储备较好,而且在应用上的灵活性也不错。晶圆级别封装和倒装芯片的基础设备因其较高的成本仍停留在早期的阶段,出货量目前仍是少到中等量。

从单位成本方面考虑,根据最近Yole公司的一项研究,对比不同封装技术在第一级连接中硅片上每个连接的单位成本(图1),引线键合(非绝缘)是现在最为低成本的I C连接技术。比较倒装芯片和引线键合的成本曲线,一旦传统引线键合在两维和三维上平行布置的局限性被克服,扩展到使用绝缘线的引线键合,就能通过不多的成本增加来获得额外的连接能力提升(表1)。

与现有引线键合设备工艺的集成

要获得绝缘线键合所带来的好处,现有基础设备工艺应该是向后兼容的,相对简单又不需要太多的资本投入,认识到这一点非常重要,而了解成功实施绝缘引线键合技术所必需的工艺窗口最为关键。

衡量第一级别连接中的绝缘引线,首先要考虑电气信号通路和主要的连接界面的性能,包括键合引线、IC键合垫和基板键合指。

绝缘键合线的直径与合金成分。当前可用于商业用途的绝缘引线都是金基的合金,直径为20um或更大。由于镀层工艺是一种附加的方法,所以它可以应用于任何合金,比如铜线或有些特殊参杂的键合线。这点非常重要,比如有些客户已经认证其现有高可靠性的合金可以产生较长的IMC寿命,他们就只需将镀层应用到这些已经认证过的键合线上。

绝缘线被设计成可以应用于任何普通引线键合的地方。典型的含有1%硅和0.5%铜的铝合金键合垫结构已经被测试过并获得通过。绝缘线也曾用于敏感的low-k键合垫结构,不过有点困难,当然普通引线键合目前也一样。

与普通(非绝缘)引线键合一样,基板材料结构对绝缘线键合的成功应用起着关键作用。一些常用的规则,比如均匀、洁净的键合指等,对于所有材料都起作用。绝缘线在标准的有机BGA和引线框材料上都有测试过。与普通引线键合类似,每种应用都要根据其它封装要求加以优化,比如键合间距、劈刀的选择、温度设定、基板厚度、线性及其他因素。

如何优化键合参数

正确的理解和应用键合参数可以使绝缘引线键合获得同普通引线键合一样的键合强度。

引线键合机的设置。要使用绝缘引线需要对键合机做一些简单的改动,主要是键合线的接地点部分。通常键合线是通过线夹来接地,这样用来产生FAB的高电压EFO放电便通过线夹形成其回路。但是对于绝缘线,其线端可能被作为接地点,和绝缘线本身一起形成回路。这样是为了防止在FAB形成时对镀层造成过度的损伤。ASM和Shinkawa 制造的引线键合机上坚固的线轴尾端接地是一个标准配置。其他的引线键合机只需价格不高的升级费用。

焊球形成与第一键合。通常绝缘线焊球键合和非绝缘线焊球键合的剪切强度相差不多。但是FAB的优化却很不一样。绝缘线的FAB形成主要取决于正确的参数选择象尾线长

度,EFO电流、间隔和时间。

X-wire绝缘线的一个特别之处是焊球形成后表面会出现像西瓜皮一样的带状条纹(图2)。如果处理得当,焊球下部几乎都很干净,而上部则残留有分裂开来的镀层材料。

绝缘线最为明显的特殊之处在于EFO间隙(线端与EFO棒尖的距离)和EFO电流值。一般地,与普通线相比,绝缘线要求较小的EFO间隙和较低的EFO电流来获得最优的FAB质量。

月型键合优化。在早期的绝缘线技术中第二键合或月型键合一直就是一个弱点。因此,许多新近的X-wire绝缘线的开发工作,都集中在找到一种只在第二键合处辅以现有的超声能量和键合参数,就能够容易开裂的镀层材料。

为了获得强壮的第二键合,许多标准技术被开发出来,结合镀层材料本身的特性使其在需要的时间和地点发生断裂(crack)。这些技术有:(1)应用较高的初始键合力加上低的超声能量,(2)在键合接触时施加较大的初始冲击力和(3)在第二键合进行轻微的刮擦动作来增加镀层材料的去除程度,提高键合强度或提高较难键合的表面洁净度。

劈刀的选择。选择引线键合的劈刀,要考虑许多几何要素(图5),如内孔径(H)、斜面直径(CD)、迎面角(FA)、斜面角(CA)、外半径(OR)和尖端表面处理等。

为绝缘线选择合适劈刀的过程与普通键合线类似,额外需要考虑内孔尺寸、外半径和尖端表面处理。绝缘线不宜使用过大的劈刀内孔径,小孔径适用于镀层引线。X-wire的镀层表面很光滑,其低摩擦特性足以保证顺畅的引线送给,但使用较小的劈刀内孔径,更有助于防止绝缘镀层在进线过程中被划伤。外半径小些为好,这样可以加大劈刀接触月型键合的面积。

绝缘线要求劈刀的尖端处理粗糙一些,而普通非绝缘线则要求抛光表面。同时,由于镀层材料摩擦系数较低,较粗糙的表面处理能使得劈刀与镀层的引线结合较好以便最大限度的传递超声能量。最近劈刀表面压型的一些进步则可以进一步提高月型键合的强度。测试表明,以往出现的劈刀污染问题并没有出现在X-wire上。

另据研究显示,X-wire键合的金属间化合物(IMC)覆盖率在时间=0时都大于75%。

引线线型。绝缘引线的一个重要特性就是通过累加成型应力使引线在键合或成型时可以互相接触。这样就降低了以往所要求的精确线型算法和特别坚硬的键合线合金,后两者是降低引线偏移的关键。比如,在某些高密度的封装设计中,引线需要4个弯结来实现所需的上下两层引线所需的形状。每多制作一个弯结就意味着整个引线键合工艺时间的增加。在同样的连接处应用绝缘引线后就会减少所需的弯结数量,降低生产周期。

绝缘引线布局的设计规则。绝缘引线可以实现以前无法实现的布线设计,从而有效的消除了许多现有非绝缘线键合设计规则的限制。然而绝缘线还是应该小心应用,在利用其灵活布线的特点时避免一些潜在的问题。现在绝缘引线版本为X-wire 2.0,可以实现引线接触和交叉、线偏移、长引线和超过现在退出角的引线。图6中列出了这些式样。

绝缘线最重要、最直接的优势之一便是突破了线长的限制。现在引线长度只由键合机的能力所决定,对于所有直径的引线通常为7.5微米。这对于正在减小芯片尺寸的IC特别有帮助,因为这样就可以继续使用原有尺寸的基板了。而一般的25um的引线最大长度仅为5mm,20um的一般引线最大长度只能到4mm。

如前所述,了解当前绝缘线键合不适用的设计布局也十分重要。因为绝缘线允许引线相互接触,所以设计时就可能布线非常密。这种情况下,引线可能会被弯折从而受到较平常高些的塑膜冲力,特别是填充物的冲击。因此,不建议绝缘线在键合时使用弯折或折扣动作,这对于普通引线键合并不是个问题。

塑封前等离子清洗。X-wire已经通过测试证明在塑封封装内没有分层,因此找到一个适合于绝缘线镀层的离子清洗程序和设置是非常重要的。许多研究和试验证实,纯氩气比其它常用的混合气体更适合于绝缘线离子清洗,如氩氧或氩氢。其他替代气体也正在

开发当中,以扩展适用于绝缘线的工艺窗口。

在线离子清洗系统,象March Plasma的I-Trak,正在逐渐流行并替代原来的批处理系统。这些在线系统允许单根基板通过自动传送器输入和输出离子清洗站。从工艺上来看,区别在于处理室的尺寸更小了,暴露在离子中的处理时间便短了。越小的处理室会使分布在基板上的离子能量更加均匀,这正是我们所希望的。

绝缘引线的塑封。如前所述,绝缘线的优点便是如果适当应用可以允许引线互相接触而不会短路。对于现在的2.0版本X-wire还是应该遵守以前那些规定合理布局的设计规范。后续开发版本将会扩展键合弯折能力和其他工艺窗口。

在塑封材料方面,绝缘线已经在Nitto Denko和Sumitomo的最常用的塑封材料上测试过。绿色塑封材料也经过测试并推荐使用。至于塑封工艺条件,建议仍然按照现有的高成品率的制程。绝缘线外有镀层可以防止由于引线偏移引起的短接。但是并不建议超过普通引线设定的增加模塑传送压力和减少传送时间。

最后,元件制造商、封装分包商和供货商对于X-wire绝缘线作的一系列的可靠性测试显示,绝缘线表现出了高于JEDEC标准的可靠性水平。

结论

绝缘引线键合是一种里程碑式的技术,能在降低潜在集成成本的同时提供我们想得到的优势。应用绝缘引线键合,必须开发出新的工艺窗口来使得绝缘线应用到现有的封装生产线上。

引线键合工艺

MEMS器件引线键合工艺(wire bonding) 2007-2-1 11:58:29 以下介绍的引线键合工艺是指内引线键合工艺。MEMS芯片的引线键合的主要技术仍然采用IC芯片的引线键合技术,其主要技术有两种,即热压键合和热超声键合。引线键合基本要求有: (1)首先要对焊盘进行等离子清洗; (2)注意焊盘的大小,选择合适的引线直径; (3)键合时要选好键合点的位置; (4)键合时要注意键合时成球的形状和键合强度; (5)键合时要调整好键合引线的高度和跳线的成线弧度。 常用的引线键合设备有热压键合、超声键合和热超声键合。 (1)热压键合法:热压键合法的机制是低温扩散和塑性流动(Plastic Flow)的结合,使原子发生接触,导致固体扩散键合。键合时承受压力的部位,在一定的时间、温度和压力的周期中,接触的表面就会发生塑性变形(Plastic Deformation)和扩散。塑性变形是破坏任何接触表面所必需的,这样才能使金属的表面之间融合。在键合中,焊丝的变形就是塑性流动。该方法主要用于金丝键合。

(2)超声键合法:焊丝超声键合是塑性流动与摩擦的结合。通过石英晶体或磁力控制,把摩擦的动作传送到一个金属传感器(Metal“HORN”)上。当石英晶体上通电时,金属传感器就会伸延;当断开电压时,传感器就会相应收缩。这些动作通过超声发生器发生,振幅一般在4-5个微米。在传感器的末端装上焊具,当焊具随着传感器伸缩前后振动时,焊丝就在键合点上摩擦,通过由上而下的压力发生塑性变形。大部分塑性变形在键合点承受超声能后发生,压力所致的塑变只是极小的一部分,这是因为超声波在键合点上产生作用时,键合点的硬度就会变弱,使同样的压力产生较大的塑变。该键合方法可用金丝或铝丝键合。 (3)热超声键合法这是同时利用高温和超声能进行键合的方法,用于金丝键合。三种各种引线键合工艺优缺点比较: 1、引线键合工艺过程 引线键合的工艺过程包括:焊盘和外壳清洁、引线键合机的调整、引线键合、检查。外壳清洁方法现在普遍采用分子清洁方法即等离子清洁或紫外线臭氧清洁。 (1)等离子清洁——该方法采用大功率RF源将气体转变为等离子体,高速气体离子轰击键合区表面,通过与污染物分子结合或使其物理分裂而将污染物溅射除去。所采用的气体一般为O2、Ar、N2、80%Ar+20%O2,或80%O2+20%Ar。另外O2/N2等离子也有应用,它是有效去除环氧树脂的除气材料。 (2)外线臭氧清洁通过发射184.9mm和253.7mm波长的辐射线进行清洁。过程如下: 184.9 nm波长的紫外线能打破O2分子链使之成原子态(O+O),原子态氧又与其它氧分子结合形成臭氧O3。在253.7nm波长紫外线作用下臭氧可以再次分解为原子氧和分子氧。水分子可以被打破形成自由的OH-根。所有这些均可以与碳氢化合物反应以生成CO2+H2O,并最终以气体形式离开键合表面。253.7nm波长紫外线还能够打破碳氢化合物的分子键以加速氧化过程。尽管上述两种方法可以去除焊盘表面的有机物污染,但其有效性强烈取决于特定的污染物。例如,氧等离子清洁不能提高Au厚膜的可焊性,其最好的清洁方法是O2+Ar 等离子或溶液清洗方法。另外某些污染物,如Cl离子和F离子不能用上述方法去除,因为可形成化学束缚。

引线键合工艺参数对封装质量的影响因素分析

引线键合工艺参数对封装质量的影响因素分析 刘长宏,高健,陈新,郑德涛 (广东工业大学机电学院,广州510090)1 引言 目前IC器件在各个领域的应用越来越广泛,对封装工艺的质量及检测技术提出了更高的要求,如何实现复杂封装的工艺稳定、质量保证和协同控制变得越来越重要。目前国外对引线键合工艺涉及的大量参数和精密机构的控制问题已有较为深入的研究,并且已经在参数敏感度和重要性的排列方面有了共识。我国IC封装研究起步较晚,其中的关键技术掌握不足,缺乏工艺的数据积累,加之国外的技术封锁,有必要深入研究各种封装工艺,掌握其间的关键技术,自主研发高水平封装装备。本文将对引线键合工艺展开研究,分析影响封装质量的关键参数,力图为后续的质量影响规律和控制奠定基础。 2 引线键合工艺 WB随着前端工艺的发展正朝着超精细键合趋势发展。WB过程中,引线在热量、压力或超声能量的共同作用下,与焊

盘金属发生原子间扩散达到键合的目的。根据所使用的键合工具如劈刀或楔的不同,WB分为球键合和楔键合。根据键合条件不同,球键合可分为热压焊、冷超声键合和热超声键合。根据引线不同,又可分为金线、铜线、铝线键合等。冷超声键合常为铝线楔键合。热超声键合常为金丝球键合,因同时使用热压和超声能量,能够在较低的温度下实现较好的键合质量,从而得到广泛使用。 2.1 键合质量的判定标准 键合质量的好坏往往通过破坏性实验判定。通常使用键合拉力测试(BPT)、键合剪切力测试(BST)。影响BPT结果的因素除了工艺参数以外,还有引线参数(材质、直径、强度和刚度)、吊钩位置、弧线高度等。因此除了确认BPT 的拉力值外,还需确认引线断裂的位置。主要有四个位置:⑴第一键合点的界面;⑵第一键合点的颈部;⑶第二键合点处;⑷引线轮廓中间。 BST是通过水平推键合点的引线,测得引线和焊盘分离的最小推力。剪切力测试可能会因为测试环境不同或人为原因出现偏差,Liang等人 [1]介绍了一种简化判断球剪切力的

铜丝引线键合技术的发展

铜丝引线键合技术的发展 摘要铜丝引线键合有望取代金丝引线键合,在集成电路封装中获得大规模应用。论文从键合工艺﹑接头强度评估﹑键合机理以及最新的研究手段等方面简述了近年来铜丝引线键合技术的发展情况,讨论了现有研究的成果和不足,指出了未来铜丝引线键合技术的研究发展方向,对铜丝在集成电路封装中的大规模应用以及半导体集成电路工业在国内高水平和快速发展具有重要的意义。 关键词集成电路封装铜丝引线键合工艺 1.铜丝引线键合的研究意义 目前超过90%的集成电路的封装是采用引线键合技术。引线键合(wire bonding)又称线焊,即用金属细丝将裸芯片电极焊区与电子封装外壳的输入/输出引线或基板上的金属布线焊区连接起来。连接过程一般通过加热﹑加压﹑超声等能量借助键合工具(劈刀)实现。按外加能量形式的不同,引线键合可分为热压键合﹑超声键合和热超声键合。按劈刀的不同,可分为楔形键合(wedge bonding)和球形键合(ball bonding)。目前金丝球形热超声键合是最普遍采用的引线键合技术,其键合过程如图1所示。 由于金丝价格昂贵﹑成本高,并且Au/Al金属学系统易产生有害的金属间化合物,使键合处产生空腔,电阻急剧增大,导电性破坏甚至产生裂缝,严重影响接头性能。因此人们一直尝试使用其它金属替代金。由于铜丝价格便宜,成本低,具有较高的导电导热性,并且金属间化合物生长速率低于Au/Al,不易形成有害的金属间化合物。近年来,铜丝引线键合日益引起人们的兴趣。 但是,铜丝引线键合技术在近些年才开始用于集成电路的封装,与金丝近半个世纪的应用实践相比还很不成熟,缺乏基础研究﹑工艺理论和实践经验。近年来许多学者对这些问题进行了多项研究工作。论文将对铜丝引线键合的研究内容和成果作简要的介绍,并从工艺设计和接头性能评估两方面探讨铜丝引线键合的研究内容和发展方向。

引线键合技术进展

引线键合技术进展 晁宇晴1,2,杨兆建1,乔海灵2 (1.太原理工大学,山西 太原 030024;2.中国电子科技集团公司第二研究所,山西 太原 030024) 摘 要:引线键合以工艺简单、成本低廉、适合多种封装形式而在连接方式中占主导地位。对引线键合工艺、材料、设备和超声引线键合机理的研究进展进行了论述与分析,列出了主要的键合工艺参数和优化方法,球键合和楔键合是引线键合的两种基本形式,热压超声波键合工艺因其加热温度低、键合强度高、有利于器件可靠性等优势而取代热压键合和超声波键合成为键合法的主流,提出了该技术的发展趋势,劈刀设计、键合材料和键合设备的有效集成是获得引线键合完整解决方案的关键。 关键词:引线键合;球键合;楔键合;超声键合;集成电路 中图分类号:T N305 文献标识码:A 文章编号:1001-3474(2007)04-0205-06 Progress on Technology of W i re Bondi n g CHAO Y u-q i n g1,2,YANG Zhao-ji a n1,Q I AO Ha i-li n g2 (1.Ta i yuan Un i versity of Technology,Ta i yuan 030024,Ch i n a 2.CETC No.2Research I n stitute,Ta i yuan 030024,Ch i n a) Abstract:W ire bonding holds the leading positi on of connecti on ways because of its si m p le tech2 niques,l ow cost and variety f or different packaging f or m s.D iscuss and analyz the research p r ogress of wire bonding p r ocess,materials,devices and mechanis m of ultras onic wire bonding.The main p r ocess para me2 ters and op ti m izati on methods were listed.Ball bonding and W edge bonding are the t w o funda mental f or m s of wire bonding.U ltras onic/ther mos onic bonding beca me the main trend instead of ultras onic bonding and ther mos onic bonding because of its l ow heating te mperature,high bonding strength and reliability.A de2 vel opment tendency of wire bonding was menti oned.The integrati on of cap illaries design,bonding materi2 als and bonding devices is the key of integrated s oluti on of wire bonding. Key words:W ire bonding;Ball bonding;W edge bonding;U ltras onic wire bonding;I C D ocu m en t Code:A Arti cle I D:1001-3474(2007)04-0205-06 随着集成电路的发展,先进封装技术不断发展变化以适应各种半导体新工艺和新材料的要求和挑战。半导体封装内部芯片和外部管脚以及芯片之间的连接起着确立芯片和外部的电气连接、确保芯片和外界之间的输入/输出畅通的重要作用,是整个后道封装过程中的关键。引线键合以工艺实现简单、成本低廉、适用多种封装形式而在连接方式中占主导地位,目前所有封装管脚的90%以上采用引线键合连接[1]。 引线键合是以非常细小的金属引线的两端分别与芯片和管脚键合而形成电气连接。引线键合前,先从金属带材上截取引线框架材料(外引线),用热 作者简介:晁宇晴(1975-),女,工程硕士,工程师,主要从事电子专用设备的研制与开发工作。502 第28卷第4期2007年7月 电子工艺技术 Electr onics Pr ocess Technol ogy

引线键合中引线运动学构型数据获取实验

引线键合中引线运动学构型数据获取实验 一 序言: 1. 引线键合:引线键合技术是微电子封装中的一项重要技术之一。由于上世纪90年代,器件封装尺寸的小型化,使得新型封装开始通过引线键合,载带自动键合,合金自动键合等键合技术来实现高密度高可靠性的封装。 1.1微电子封装的流程中引线键合的位置

2.引线键合的过程是晶片上的焊垫(pad)作为第一焊点(the first bond)基板的内引脚(inter lead)作为第二焊点(the second bond)在外部能量(超声或者热能)作用下,通过引线(金线、铜线、铝线)把第一焊点第二焊点连接起来。 1.2 自动焊线机批量焊接 1.3 引线键合 引线键合技术是实现集成电路芯片与封装外壳多种电连接中最通用最简单有效的一种方式,又因为引线键合生产成本低、精度高、互连焊点可靠性高,且产量大的优点使其占键合工艺的80%以上,在IC 制造业得到了广泛的应用,一直是国际上关注的热点。对于引线键合中引线成型的引线及键合头的研究也备受关注。 以较为普遍的超声金丝键合为例介绍介绍引线成型的过程。一个完整的引线键合过程包括两种不同的运动状态。一种是自由运动,该阶段的任务是拉出键合弧线,键合头运动按照已经设定好的运动轨迹。此状态执行工具尖端与芯片失去接触,不产生力的反馈信号。另一种约束运动,当执行工具尖端与芯片接触时,在超声和高温的作用下,稳定的键合力保证了金线被充分的焊接在芯片和引脚上,力传感器产生力反馈信号,这个阶段的任务是实现结合力的整定控制。

?1.线夹关闭,电子 打火形成金球, 引线夹将金线上 提金属熔球在劈 刀顶端的圆锥孔 内定位 ?2.线夹打开键合头 等速下降到第一 键合点搜索高度 (1st bond search height)位置 ?3.劈刀在金属熔 球(最高180℃) 上施加一定的键 合力同时超声波 发生系统(USG) 作用振动幅度经 变幅杆放大后 作用在劈刀顶端 完成第一键合点 ?6.劈刀下降接 触引线框架焊 盘调用第二键 合点参数在热 量和超声键合 的能量下完成 锲键合 ?5.键合头运动 到第二键合点 位置,形成弧 线 ?4.键合头上升 运动到“top of loop”位置然 后进行短线检 测,判断第一 焊点是否成功

铜丝在引线键合技术的发展及其合金的应用

铜丝在引线键合技术的发展及其合金的应用 一、简介 目前超过90%的集成电路的封装是采用引线键合技术,引线键合,又称线焊。即用金属细丝将裸芯片电极焊区与电子封装外壳的输入,输出引线或基板上的金属布线焊区连接起来。连接过程一般通过加热、加压、超声等能量,借助键合工具“劈刀”实现。按外加能量形式的不同,引线键合可分为热压键合、超声键合和热超声键合。按劈刀的不同,可分为楔形键合和球形键合。 引线键合工艺中所用导电丝主要有金丝、铜丝和铝丝,由于金丝价格昂贵、成本高,并且Au/Al金属学系统易产生有害的金属间化合物,使键合处产生空腔,电阻急剧增大,导电性破坏甚至产生裂缝,严重影响接头性能。因此人们一直尝试使用其它金属替代金,由于铜丝价格便宜、成本低、具有较高的导电导热性,并且Cu/Al金属间化合物生长速于Au/Al,不易形成有害的金属间化合物。近年来,铜丝引线键合日益引起人们的兴趣。 二、铜丝键合的工艺 当今,全球的IC制造商普遍采用3种金属互连工艺,即:铜丝与晶片铝金属化层的键合工艺,金丝与晶片铜金属化层的键合工艺以及铜丝与晶片铜金属化层的键合工艺。近年来第一种工艺用得最为广泛,后两者则是今后的发展方向。 1. 铜丝与晶片铝金属化层的键合工艺 近年来,人们对铜丝焊、劈刀材料及新型的合金焊丝进行了一些新的工艺研究,克服了铜易氧化及难以焊接的缺陷。采用铜丝键合不但使封装成本下降,更主要的是作为互连材料,铜的物理特性优于金。特别是采用以下’3种新工艺,更能确保铜丝键合的稳定性。 (1)充惰性气体的EFO工艺:常规用于金丝球焊工艺中的EFO是在形成焊球过程中的一种电火花放电。但对于铜丝球焊来说,在成球的瞬间,放电温度极高,由于剧烈膨胀,气氛瞬时呈真空状态,但这种气氛很快和周围的大气相混合,常造成焊球变形或氧化。氧化的焊球比那些无氧化层的焊球明显坚硬,而且不易焊接。新型EFO工艺是在成球过程中增加惰性气体保护功能,即在一个专利悬空管内充入氮气,确保在成球的一瞬间与周围的空气完全隔离,以防止焊球氧化,焊球质量极好,焊接工艺比较完善。这种新工艺不需要降低周围气体的含氧量,用通用的氮气即可,因此降低了成本。

绝缘引线键合技术的应用

绝缘引线键合技术的应用 作者:()、() ,公司 随着半导体封装持续朝着多引脚、小间距及多列多层叠的方向发展,引线键合技术正面临越来越大的挑战。被称为的绝缘引线键合技术已经在2006年路线图上被提出,作为一种可行的、经济的解决方案实现复杂封装,提高封装性能和高密度封装的成品率。要成功实施绝缘引线键合技术,必须做到将此技术以低成本集成到现有的封装基础设备中。具体来说,就要求绝缘引线键合技术能在现有的引线键合平台上达到现有的标准、规范和性能。 绝缘引线键合的优势 电子连接重要的第一步是芯片级别连接,也被称为第一级连接。这一连接将在很大程度上决定可以从芯片上获得多少性能。性能虽然很关键,但是产品经理也不会因此就忽视其他经济因素。对封装技术而言一个全面的利益/成本分析必须包括以下几个方面,即对成本、性能、尺寸/密度、和上市时间的评估。 芯片到芯片或芯片到基板的第一级连接技术中,有两种方式一直在工业中占主导地位,即引线键合和倒装芯片。其中引线键合,由于其灵活性和经济性,在市场中占90%以上。 但是,在绝缘引线键合出现之前,引线键合的局限性在于连接被限制在芯片的四周,当芯片数量增加时,就需要使用区域阵列技术,使芯片的不再被局限在芯片的四周。引线键合的另外一个问题是长的、平行的引线之间的自感应,这点可以通过使用交叉和紧密排放的绝缘引线得以缓解。 绝缘引线键合有人们熟知的众多优点。从整体利益/成本分析,绝缘引线键合可以提供最优的成本,即能够使用最低成本的引线键合设备;从性能方面分析,绝缘引线键合能够在芯片单位面积上提供更多的连接点,使用低成本的更小的芯片,降低键合点的限制。 另外,绝缘引线键合能够以最高的带宽将芯片直接连接起来,降低了芯片的叠层和基板

引线键合

引线键合(wire bonding,WB) 引线键合的定义:用金属丝将芯片的I/O端(内侧引线端子)与相对应的封装引脚或者基板上布线焊区(外侧引线端子)互连,实现固相焊接过程,采用加热、加压和超声能,破坏表面氧化层和污染,产生塑性变形,界面亲密接触产生电子共享和原子扩散形成焊点,键合区的焊盘金属一般为Al或者Au等,金属细丝是直径通常为20~50微米的Au、Al或者Si—Al丝。 历史和特点 1957 年Bell实验室采用的器件封装技术,目前特点如下: ? 已有适合批量生产的自动化机器; ? 键合参数可精密控制,导线机械性能重复性高; ? 速度可达100ms互连(两个焊接和一个导线循环过程); ? 焊点直径:100 μm↘50μm,↘30 μm; ? 节距:100 μm ↘55 μm,↘35 μm ; ? 劈刀(Wedge,楔头)的改进解决了大多数的可靠性问题; ? 根据特定的要求,出现了各种工具和材料可供选择; ?已经形成非常成熟的体系。 应用范围 低成本、高可靠、高产量等特点使得它成为芯片互连的主要工艺方法,用于下列封装(适用于几乎所有的半导体集成电路元件,操作方便,封装密度高,但引线长,测试性差) 1.陶瓷和塑料BGA、单芯片或者多芯片 2.陶瓷和塑料(CerQuads and PQFPs) 3.芯片尺寸封装(CSPs) 4.板上芯片(COB) 两种键合焊盘 1.球形键合 球形键合第一键合点第二键合点2.楔形键合

楔形键合第一键合点第二键合点 三种键合(焊接、接合)方法 引线键合为IC晶片与封装结构之间的电路连线中最常使用的方法。主要的引线键合技术有超音波接合(Ultrasonic Bonding, U/S Bonding)、热压接合(Thermocompression Bonding,T/C Bonding)、与热超音波接合(Thermosonic Bonding, T/S Bonding)等三种。 机理及特点 1.超声焊接:超音波接合以接合楔头(Wedge)引导金属线使其压紧于金属焊盘上,再由楔头输入频率20至60KHZ,振幅20至200μm,平行于接垫平面之超音波脉冲,使楔头发生水平弹性振动,同时施加向下的压力。使得劈刀在这两种力作用下带动引线在焊区金属表面迅速摩擦,引线受能量作用发生塑性变形,在25ms内与键合区紧密接触而完成焊接。常用于Al丝的键合。键合点两端都是楔形。铝合金线为超音波最常见的线材;金线亦可用于超音波接合,它的应用可以在微波元件的封装中见到。 特点:1.适合细丝、粗丝以及金属扁带。 2.不需外部加热,对器件无热影响 3.可以实现在玻璃、陶瓷上的连接 4.适用于微小区域的连接 步骤: 2.热压焊:金属线过预热至约300至400℃的氧化铝(Al 2 O 3 )或碳化钨(WC)等耐火材料所制成的毛细管状键合头(Bonding Tool/Capillary,也称为瓷嘴或焊针),再以电火花或氢焰将金属线烧断并利用熔融金属的表面张力效应使

引线键合的失效机理

引线键合的失效机理 小组成员:08521201樊量:什么是引线键合,常用的焊线方法 08023205高乐:键合工艺差错造成的失效 08023207王全:热循环使引线疲劳而失效 08023208高灿:金属间化合物使Au—Al系统失效 08023214徐国旺:内引线断裂和脱键产生的原因及其影响 08023215冯超:内引线断裂和脱键产生的原因及其影响 08023130黄宏耀:键合应力过大造成的失效

目录 1、引线键合---------------------------------------------------3 1.1常用的焊线方法-------------------------------------------3 1.1.1热压键合法--------------------------------------------3 1.1.2超声键合法--------------------------------------------3 1.1.3热超声键合法------------------------------------------3 1.1.4三种各种引线键合工艺优缺点比较------------------------4 1.2引线键合工艺过程-----------------------------------------4 2、键合工艺差错造成的失----------------------------------------6 2.1焊盘出坑------------------------------------------------7 2.2尾丝不一致----------------------------------------------7 2.3键合剥离------------------------------------------------7 2.4引线弯曲疲劳--------------------------------------------7 2.5键合点和焊盘腐蚀----------------------------------------7 2.6引线框架腐蚀--------------------------------------------8 2.7金属迁移------------------------------------------------8 2.8振动疲劳------------------------------------------------8 3、内引线断裂和脱键--------------------------------------------8 4、金属间化合物使Au—Al系统失效-------------------------------9 4.1 Au—Al 系统中互扩散及金属间化合物的形成-----------------9 4.2杂质对Au—Al系统的影响----------------------------------9 4.3改善方法------------------------------------------------10 5、热循环使引线疲劳而失效-------------------------------------10 5.1热循环峰值温度对金相组织的影响--------------------------10 5.2热循环峰值温度对冲击功的影响----------------------------10 5.3引线疲劳------------------------------------------------11 6、键合应力过大造成的失效-------------------------------------11 参考文献-------------------------------------------------------12

超声引线键合声学系统技术研究

目录 摘要......................................................... I V ABSTRACT.................................................... V I 目录....................................................... V III 1绪论. (1) 1.1微电子封装概述 (1) 1.1.1微电子封装的相关概念 (1) 1.1.2微电子封装的发展 (3) 1.2 超声引线键合装置 (5) 1.2.1超声引线键合机 (6) 1.2.2 超声引线键合声学系统 (7) 1.3本文主要研究内容 (9) 2超声引线键合声学系统设计 (11) 2.1 引线键合声学系统的变幅杆设计 (11) 2.1.1变幅杆的设计方法 (11) 2.1.2换能器的设计方法 (14) 2.2超声引线键合声学系统设计 (15) 2.2.1变截面杆的四端网络 (16) 2.2.2 有限元模态分析理论基础 (20) 2.2.3 设计实例 (21) 2.3 本章小结 (24) 3超声引线键合声学系统制造 (26) 3.1超声引线键合声学系统工艺分析 (26) 3.2超声引线键合声学系统的变幅杆工艺分析 (28) 3.3小孔加工工艺方法与变幅杆斜小孔加工方法的确定 (30) 3.3.1小孔加工工艺方法 (30) 3.3.2变幅杆斜小孔加工方法确定 (34) 3.4超声引线键合声学系统加工成品 (35) 3.5本章小结 (36) 4超声引线键合声学系统的测试与研究 (37) 4.1声学系统振动参数测量 (37) 4.1.1 振动参数测量仪器及原理 (37) 4.1.2声学系统振动参数测量结果 (40) VIII

几种键合引线的详细对比

几种键合引线的详细对比-键合金丝/键合铜线/铝键合线 键合金丝,作为应用最广泛的键合丝来说,在引线键合中存在以下几个方面的问题: 1,Au2Al 金属学系统易产生有害的金属间化合物[ ,这些金属间化合物晶格常数不同,力学性能和热性能也不同,反应时会产生物质迁移,从而在交界层形成可见的柯肯德尔空洞 ( Kirkendall Void) ,使键合处产生空腔,电阻急剧增大,破坏了集成电路的欧姆联结,导电性严重破坏或产生裂缝,易在此引起器件焊点脱开而失效。 2,金丝的耐热性差,金的再结晶温度较低(150 ℃) ,导致高温强度较低。球焊时,焊球附近的金丝由于受热而形成再结晶组织,若金丝过硬会造成球颈部折曲;焊球加热时,金丝晶粒粗大化会造成球颈部断裂; 3,金丝还易造成塌丝现象和拖尾现象,严重影响了键合的质量; 4,金丝的价格昂贵,导致封装成本过高。 键合铝线,Al21 %Si 丝作为一种低成本的键合丝受到人们的广泛重视,国内外很多科研单位都在通过改变生产工艺来生产各种替代金丝的Al21 %Si 丝,但仍存在较多问题:1,普通Al21 %Si 在球焊时加热易氧化,生成一层硬的氧化膜,此膜阻碍球的形成,而球形的稳定性是Al21 %Si 键合强度的主要特性。实验证明,金丝球焊在空气中焊点圆度 高,Al21 %Si 球焊由于表面氧化的影响,空气中焊点圆度低; 2,Al21 %Si 丝的拉伸强度和耐热性不如金丝,容易发生引线下垂和塌丝; 3,同轴Al21 %Si 的性能不稳定,特别是伸长率波动大,同批次产品的性能相差大,且产品的成材率低,表面清洁度差,并较易在键合处经常产生疲劳断裂。 键合铜丝,早在10 年前,铜丝球焊工艺就作为一种降低成本的方法应用于晶片上的铝焊区金属化。但在当时行业的标准封装形式为18~40 个引线的塑料双列直插式封装(塑料DIP) ,其焊区间距为150~200μm , 焊球尺为100~125μm ,丝焊的长度很难超过3 mm。所以在大批量、高可靠的产品中,金丝球焊工艺要比铜丝球焊工艺更稳定更可靠。然而,随着微电子行业新工艺和新技术的出现及应用,当今对封装尺寸和型式都有更高、更新的要求。首先是要求键合丝更细,封装密度更高而成本更低。因此,铜键合丝又引起了人们的重视。无锡市霍尼科技采用新型工艺生产的单晶铜,利用专利工艺技术拉制成的键合铜丝完全解决了线径太小,容易氧化的问题。霍尼科技的单晶铜键合丝有如下特点:

引线键合工艺及其影响因素的研究完整版新

成都电子机械高等专科学校 毕业论文 题目引线键合工艺及其影响因素的研究 研究引线键合工艺及其影响因素 __着重金丝球键合分析 内容提要 引线键合就是用非常细小的线把芯片上焊盘和引线框架(或者基板)连接起来的过程。金线焊接工艺,是引线键合工艺的一种。它是利用金线将芯片上的信号引出到封装外壳的管脚上的工艺过程。本文主要探讨集成电路封装中金丝球键合工技术以及影响因素。 关键字引线键合工艺热超声焊球形焊接步骤引线键合线弧技术影响因素 WB与塑封的关系 目录 绪论 一 ………………………………………………………集成电路封装测试工艺流程简介 ▲前道工艺▲后道工艺

贴膜注模 研磨激光打印 抛光烘烤 晶片装裱电镀 切割电镀后烘烤 第二道外观检查料片装裱 焊片切割 银浆烘烤去粘 等离子清洗拣装 焊线(wire bond)第四道检查 第三道外观检查测试,包装,出货 二 …………………………金丝球焊线机简述 2.1 …………………………………引线键合工艺介绍 2.2…………………………………引线键合机的介绍 2.2.1…………………………键合机校正系统设计与实现 金球引线键合(Gold Ball Wire Bonding) 循序渐进的键合工艺 2.2.2 …………………………………………………………校正系统设计 2.2.2.1……………………………………………………伺服系统校正 2.2.2.2……………………………………图像系统校正(PRS) 2.2.2.3…………………………………………物料系统校正(MHS) 2.2.2.4……………………………………热台压板电动机校正 2.2.2.5………………………………………前后导轨电动机校正 2.2.2.6…………………………………………进出料电动机校正 2.2.2.7………………………………………键合头十字坐标校正 2.2.2.8 ………………………………………EFO打火高度校正 2.2.2.9 ……………………………………………USG校正 2.2.2.10…………………………………………键合压力校正 三. …………………………………………………引线键合的质量检测 3.1……………………………………对键合焊球形貌外观检测 3.1.1…………………………………………………两键合点的形状 3.1.2…………………………………………键合点在焊盘上的位置

引线键合及SMT表面贴装实验报告

一、实验目的及内容 1、熟练掌握铝丝引线键合技术,并找到键合强度最大时的参数 2、掌握金丝键合技术,能够进行稳定的键合操作 3、掌握焊料印刷技术,能够通过漏印技术得到对准精确且均匀的焊料凸点 4、通过贴片机进行元件表面贴装,将元件准确贴装到刷涂焊料的基板上,熟 练操作并掌握基本流程 5、使用再流焊设备将贴装元件与基板形成永久性焊接,并得到再流焊曲线 二、实验原理 1、引线键合是用金属细丝将裸芯片的电极焊区与对应的封装外壳的输入与 输出或者基板上金属布线焊区连接起来。连接过程中,一般通过加热、加压、超声等能量,破坏表面氧化层和污染,产生塑性变形,使界面亲密接触产生电子共享和原子扩散形成焊点。键合时,使用键合工具(劈刀)实现。 试验中铝丝键合采用超声波键合,在常温下,利用超声机振动带动丝与膜进行摩擦,使氧化膜破碎,纯净的金属表面相互接触,通过摩擦产生 的热量使金属之间发生扩散,实现连接。 金丝键合采用热压焊金属丝通过预热至300到400摄氏度的氧化铝或碳化钨等耐火材料所制成的毛细管状键合头,再以电火花或氢焰将金属丝 末端融化,熔化金属丝在表面张力的作用下在末端成球状。键合头再将金 属球下压至已经预热到150到250摄氏度的第一金属焊盘上进行球形结合。 结合时,球因受压力而略变形,此压力变形的目的在于增加结合面积、减 低结合面粗糙度对结合的影响、穿破表面氧化层及其他可能阻碍结合的因 素,以形成紧密的结合。

2、焊膏印刷:在印刷焊膏的过程中,基板被放置在工作台上,通过真空或机 械方式紧的夹持住,并在工具或目检设备的帮助下进行对齐。通过丝网或者漏印版刷涂焊膏。本次试验中采用机械方式加持,目测对准,漏印版进行焊膏涂刷。 3、元器件贴装:贴片机是采用计算机控制的自动贴片设备,在贴片之前编制 好贴片程序,通过程序控制贴片机将元器件准确的贴放到印刷好焊膏或贴片胶的PCB表面相对应的位置上。元件送料器、基板(PCB)是固定的,贴片头(安装多个真空吸料嘴)在送料器与基板之间来回移动,将元件从送料器取出,经过对元件位置与方向的调整,然后贴放于基板上。 4、再流焊:再流焊过程是利用钎料膏暂时将一个或多个电子元件与焊盘连接, 整个组装结构经过可控热源后,钎料融化,而永久的连接成接头。加热可由组装结构通过再回流炉、红外灯或通过热风钎焊笔形成单个接头而完成。同时测定再回流过程中的温度曲线。 三、实验设备 超声引线键合机、热压金丝球焊机、强度测试仪、焊膏印刷机、SMT贴片机、再流焊设备 四、实验步骤 1、铝丝键合:①打开超声引线键合机,调整观察透镜可以看到清晰的图像, 穿线,进行复位②将操作面板上自动\手动拨到手动挡,高度\跨度拨到高度,按下操作键合按键,转动调节按钮调节第一个焊点高度,释放键合按键,此时第一键合点完成③再次按下键合按钮,调节第二焊点高度,然后将高度\跨度拨到跨度,调节两焊点之间的跨度,释放按键,第二焊点完成④调节功

年产5000kg单晶铜键合引线项目建议书

年产5000kg(13亿米)单金铜键合引线项 目建议书 一、概述 众所周知,在超大规模集成电路(VLSI)和甚大规模集成电路(VLSI)的芯片与外部引线的连接方法中,无论何时引线键合均是芯片连接的主要技术手段,因而键合引线已成为电子封装业四大重要结构材料之一。 鉴于键合引线的智能更新作用是将一个封装器件或两个部分焊接好并导电,以及封装设计中键合引线焊接所需间隙主要取决于丝的直径,因此对键合引线的单位体积导电率有很高的要求,同时,所选用之金属必须具有足够的延伸率,必须能够被拉伸到Ф0.016~0.050mm,且为了避免破坏晶片,该金属必须能够在足够低的温度下进行热压焊接和超声波焊接,其化学性能、抗腐蚀性能和冶金特性必须与它所焊接的材料相熔合。基于上述技术特性需求,所以用作键合引线的材料就被局限于Au、Ag、Cu、AI四种金属之中。迄今为止,在微电子键合封装业中,最为广泛应用的键合引线是键合金丝。 随着微电子工业的蓬勃发展,集成电路电子封装业正向体积小、高性能、高密集、多芯片方向快捷推进,从而对键合引线的直径提出了超细(Ф0.018mm)的要求。由于超细

的键合金丝在键合工艺中已不能胜任窄间距、长间距离键合技术指标的要求,同时也因黄金市值一路飙升,导致使用键合金丝的厂家生产成本猛增,制约了整个行业的技术提升及规模发展,因此,键合金丝无论从质量上、数量上和成本上,均一不能满足集成电路电子封装也发展的需要。于是,开发和推广应用新型微电子封装材料势在必行,迫在眉睫。正是在这种背景下,我们决定联合开发单金铜键合引线成套生产技术,以满足不断发展的微电子封装业的需要。 单金铜丝用于键合引线的优势主要表现在以下几个方面:1、单晶粒:单金铜丝只有一个晶粒,内部无晶界。单晶铜杆有致密的定向凝固组织,消除了横向晶界,很少有缩孔、气孔等铸造缺陷,且结晶方向控丝方向相同,能够承受巨大的塑性变形能力。另外,由于没有阻碍位错滑移的晶界,变形、冷作、硬化恢复快,所以是拉制Ф0.016~0.03mm键合引线的理想材料; 2、高纯度:目前,在我国的单晶铜丝原材料可以做到99.999%(5N)或99.9999%(6N)的纯度; 3、机械性能好:与纯度相同的金丝相比,单晶铜丝具有良好的拉伸、剪切强度和延展性,可将其加工至Ф0.016~0.03mm的单晶铜微细丝代替金丝,从而供引线键合间距更小、更稳定,以满足封装新技术工艺需要; 4、导电性、导热性好:单晶铜丝的导电率、导热率比金丝

电子封装超声引线键合技术及国内外研究动态、发展趋势

电子封装超声引线键合技术及国内外研究动态、发展趋势学号:080401241 班级:A08机械2班姓名:韩晶晶 电子封装技术的发展阶段 随着信息时代的到来,电子工业得到了迅猛发展,计算机、移动电话等产品的迅速普及,使得电子产业成为最引人注目和最具发展潜力的产业之一,电子产业的发展也带动了与之密切相关的电子封装业的发展,其重要性越来越突出。电子封装已从早期的为芯片提供机械支撑、保护和电热连接功能,逐渐融人到芯片制造技术和系统集成技术之中。电子工业的发展离不开电子封装的发展,20世纪最后二十年,随着微电子、光电子工业的巨变,为封装技术的发展创造了许多机遇和挑战,各种先进的封装技术不断涌现,如BGA、CSP、FCI P、WLP、MCM、SIP等,市场份额不断增加,2000年已达208亿美元,电子封装技术已经成为20世纪发展最快、应用最广的技术之一。随着21世纪纳米电子时代的到来,电子封装技术必将面临着更加严峻的挑战,也孕育着更大的发展。 电子封装技术的发展是伴随着器件的发展而发展起来的,一代器件需要一代封装,它的发展史应当是器件性能不断提高、系统不断小型化的历史,以集成电路所需的微电子封装为例,其大致可分为以下几个发展阶段: 第一个阶段:80年代之前的通孑L安装(THD)时代,通孔安装时代以TO型封装和双列直插封装为代表,IC的功能数不高,弓td却数较小(小于64),板的装配密度的增加并不重要,封装可由工人用手插入PCB板的通孔中,引线节距固定,引线数的增加将意味着封装尺寸的增大,封装的最大安装密度是10脚/cm',随着新的封装形式的不断涌现,这类封装将加速萎缩,预计其市场份额将从2000年的15%降到2005年的7%。 第二个阶段:80年代的表面安装器件时代,表面安装器件时代的代表是小外形封装(SOP)和扁平封装(QFP),他们大大提高了管脚数和组装密度,是封装技术的一次革命,正是这类封装技术支撑着日本半导体工业的繁荣,当时的封装技术也由日本主宰,因此周边引线的节距为公制(1.0、0.8、0.65、0.5、0.4mm),并且确定了80%的收缩原则,这些封装的设计概念与DIP不同,其封装体的尺寸固定而周边的引线节距根据需要而变化,这样也提高了生产率,最大引线数达到300,安装密度达到10-50脚/cm',此时也是金属引线塑料封装的黄金时代。 第三个阶段:90年代的焊球阵列封装(BGA)/芯片尺寸封装(CSP)时代,日本的半导体工业在80年代一直领先于美国,而90年代美国超过了日本,占据了封装技术的主导地位,他们加宽了引线节距并采用了底部安装引线的BGA封装,BGA的引线节距主要有1.5mm和1.27mm两

电子封装中引线键合的焊接工艺参数优化-朱志伟

研究生课程论文 (2016-2017学年第二学期) 电子封装中引线键合的焊接工艺参数优化 研究生:朱志伟

电子封装中引线键合的焊接工艺参数优化 摘要:封装中引线键合过程中出现的可靠性问题,如封装中引线键合的失效,其中主要有焊点的断裂和脱落、焊线的断裂和偏移及焊点和焊盘接触界面的断裂等。键合过程中键合参数的不匹配,如键合功率和键合压力的不匹配,就可能导致燥点的断裂或者焊盘的断裂导致封装结构体的失效。现采用正交优化实验方法来优化焊接过程中的键合参数,研究焊接参数对于焊线可靠性的影响。引线键合过程的焊接工艺参数有键合温度、键合时间、键合功率、键合压力及烧球时间、烧球电流和尾丝长度等。研究将分别从烧球正交实验、线尾正交实验出发,对上述键合工艺参数进行实验优化,目的是通过优化键合工艺参数确定引线键合的最优工艺,以期为键合技术找到最佳的工艺窗口。 关键字:引线键合;引线结构参数;正交实验 引言 随着电子系统的小型化、多功能、高性能、高可靠性和低成本化,先进封装技术已成为半导体行业关注的重要焦点之一。由于系统级封装技术[1](SIP)兼具尺寸小、开发周期短和开发弹性等优势,因而被广泛应用在许多领域。 封装中引线键合[2]过程中出现的可靠性问题对于封装可靠性的影响是至关重要的,封装中引线键合的失效主要有焊点的断裂和脱落[3]、焊线的断裂和偏移[4]及焊点和焊盘接触界面的断裂[5]等一系列失效问题。键合过程中键合参数[6]的不匹配,如键合功率和键合压力的不匹配,就可能导致燥点的断裂或者焊盘的断裂导致封装结构体的失效。采用正交优化实验方法,优化焊接过程中的键合参数,研究焊接参数对于焊线可靠性的影响。 所谓正交实验就是优化多因素、多水平的工艺参数的一种实验方法,它是从全面实验中挑选出部分有代表性的点进行实验,这些有代表性的点具备“均匀分散,齐整可比”的特点,它是分式析因设计的主要方法。 一、引线键合实验研究 1、引线键合实验设备 ASM Eagle60-X2L焊线机 Dage-Series 4000型号推拉力测试仪 Leica DVM 2500数字显微镜 2、引线键合材料 8mil金线:贺利氏招远(常熟)电子材料有限公司生产(4N金线),性能参数如下:电阻率为2.4-2.7uohms/cm,弹性模量为85-100GPa,抗张强度≥250N/mm2,延展率为2-6%。芯片和基板的尺寸如下表1-1所示: 表1-1 材料及其尺寸表

超声参数对引线键合性能的影响

超声参数对引线键合性能的影响 摘要:介绍了超声引线键合技术的基本技术路线和基本原理,分析了超声波的功率、频率、振动轨迹及压力等参数对超声引线键合性能的影响。相比其它影响参数,采用高频或频复杂振动系统最有利于提高键合性能。 关键词:超声,引线键合,超声焊接 The influence of ultrasonic parameters in wire bonding performance Zhou Guangping1 Liang Zhaofeng1 Zhang Yang2 Lu Yigang2 (1. Shenzhen Polytechnic; 2. College of Physics and Technology, South China University of Technology) ABSTRACT: In this paper, the basic technical rout and the principle of the ultrasonic wire bonding technology were introduced. The parameters, such as ultrasonic power, frequency, the vibration locus, force, etc, which influence the performance of ultrasonic wire bonding, were analyzed. Compared with other influence parameters, the using of high-frequency system or high-frequency complex system is most in favor of increasing bonding performance. KETWORDS: ultrasonic; wire bonding; ultrasonic welding 引言 在超大规模集成电路中,引线键合是封装工艺中半导体芯片和外界连接的关键性工艺,也是最通用最简单而有效的一种连接方式[1-2]。当今,引线键合仍然是第一级连接的主要形式[3]。引线键合(WB)技术是用金属丝将集成电路(IC)芯片上的电极引线与集成电路底座外引线连接在一起的工艺过程,通常采用热压、热超声和超声方法进行,现在常用的键合方法主要是热超声和超声方法,热超声键合已逐步取代了热压键合[4]。 引线键合机的工艺技术涉及光、机、电及软件的设计控制等许多方面[5]。因国外的技术限制,我们国家在这种设备上主要依赖于进口,特别是全自动键合机。在超声焊接系统与工艺方面,主要研究外部条件,如超声波的功率、频率、振动轨迹、振幅、焊接压力的大小、键合时的温度等工艺参数,对键合性能的影响。对于超声工作者,主要研究超声振动系统对于键合性能的影响。本文主要探讨键合机中超声参数对键合性能的影响。 1 超声引线键合技术 一般的引线键合机的超声系统由电信号发生器、换能器(包括压电换能器和聚能器)以及键合工具组成,如图1所示。 电信号发生器是向超声换能器提供超声频电能的一种装置,换能器由压电换能器和聚能器(又称变幅杆)两部分组成,压电换能器将电能转变为机械能,聚能器在传递压电换能器所转换成的振动能量的同时,实现放大输出振幅的功能,键合工具的作用是通过与引线的接触传递超声能,并在静态压力、温度的配合下实现引线与焊盘的键合。 超声键合方法是利用超声波的能量,使金属丝与电极在常温下直接键合,其键合工具头呈楔形,故又称楔键合(楔压焊)。热超声键合方法是先用高压电火花使金属丝端部形成球形,然后在IC芯片上球焊,再在管壳基板上楔焊,故又称为球键合。目前大约有93%的半导体封装采用球键合工艺,5%采用楔键合工艺,其中最为广泛采用的是热超声Au丝球键合,主要原因是其键合速度快于超声波Al丝楔键合[4,6]。

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