OI 10-10-11 二氧化硅
硅-二氧化硅系统的性质
1. 电子占据施主界面态的分布函数
1 f sD ( EsD ) EsD E F 1 1 exp kT g 0 施主界面
态能值 基态简并 度等于2
14
若界面能值为EsD，则单位面积界面态上的电子数为：
1. 二氧化硅中的可动离子 2. 二氧化硅中的固定表面电荷 3. 在硅–二氧化硅界面处的快界面态 4.二氧化硅中的陷阱电荷
二氧化硅中的可动离子有Na、K、H等，其中最主要 而对器件稳定性影响最大的是Na离子。 来源：使用的试剂、玻璃器皿、高温器材以及人体 沾污等 为什么SiO2层中容易玷污这些正离子而且易于在其 中迁移呢？
N Na
QNa q
可动钠离子对器件的稳定性影响最大 （1）漏电增加，击穿性能变坏 （2）平带电压增加 如何解决钠离子玷污的问题 （1）把好清洁关 （2）磷蒸汽处理
二氧化硅层中固定电荷有如下特征 电荷面密度是固定的 这些电荷位于Si-SiO2界面20nm范围以内 固定表面电荷面密度的数值不明显地受氧化层 厚度或硅中杂质类型以及浓度的影响 固定电荷面密度与氧化和退火条件，以及硅晶 体的取向有很显著的关系
度等于4
受主界面态中的空穴数的计算方法同上。
17
(二) 界面态电荷随外加偏压VG的变化 由于某些原因(如温度的变化，外加偏压的变化)使半导体
的费米能级相对于界面态能级的位置变化时，界面态上电子填 充的概率将随之变化，因而界面态电荷也发生变化。以外加 偏压VG变化的情形来说明。 当外加偏压VG变化时，由于能带弯曲程度随之变比，引 起EF相对于界面态能级的位置发生变化。以p型硅为例： VG<0时，表面层能带向上弯曲，表面处的施主和受主界面 态能级相对于费米能级向上移动： 当靠近价带的施主态的位置移动到EF以上时，大部分施主 态未被电子占据，将显示正电性，因此出现正的界面态附 加电荷； 该正电荷将补偿部分金属电极上负电荷的作用，削弱表面
二氧化硅 MSDS
作成 2007年 4月 1日改訂 2009年 7月 21日製品及公司情况製品名 SiO2MSDS No. SiO2公司名 OPTO-SOLTEC INC.住所 〒110-0005 東京都台東区上野3-23-11 松田大楼4层负责人 営業部 山川哲雄電話番号 TEL 03-5812-1813 FAX 03-5812-0370組成・成分情報 単一・混合物区別 単一物質化学名 二氧化硅纯度99.99％以上化学式 SiO2CAS No. 60676-86-0官方公示整理番号 1-548危険有害性的要約 对人的健康影響 无对環境的影响无物理的及化学的危険性 非易燃易爆物质特定的危険有害性 不适用应急措施粘着到皮肤的情况 用水和肥皂清洗。
如有疼痛症状，请找医生处理。
进入眼睛的情况用干净水清洗15分以上,然后找医生处理。
如果眼睛带有隐形眼镜，请摘下隐形眼镜后清洗。
吸入的情况到空气清新的场所。
如果不能呼吸，请进行人工呼吸救治、必要时可进行吸氧气。
火灾時措施特定的灭火方法 可使用常用灭火装置。
消火剤 本产品不易燃烧。
可使用常用灭火装置。
灭火时的保护戴上灭火用的保护用具（手套，眼罩，面具等）。
漏出的措施对人体的注意事項 使用保護身体的防护用具。
防止粘到皮肤和吸入粉尘。
对環境的注意事項 漏出物不要直接倒入江河或者水道中。
除去方法用扫帚清扫收集，并用密封容器回收散落的物质。
使用及保管上注意 使用戴上保护用具进行。
防止粘到眼睛，皮肤和吸入粉尘。
保管 密封保存并放入冷暗处。
防止暴露及保护措施管理浓度无允许浓度日本产业卫生学会（2000年度版）第2类分尘吸入性分尘1mg/m３总粉尘4mg/m３ACGIH TLV TWA O.1mg/ m３设备对策尽量使用密封条件的设备,不要产生粉尘。
保护用具呼吸用保护用：防尘面罩保护眼镜：防尘眼镜作成 2007年 4月 1日改訂 2009年 7月 21日保护手套： 保护手套保护衣：工作衣物理及化学的性質 外观臭气等 白色粉末，片状或者颗粒状、透明玻璃，无臭比重約2.21沸点 无记载融点 2227℃蒸気比重 无记载溶解度（水） 不溶引火点 无発火点 无爆炸界限（下限） 无(上限） 无安定性及反应性 可燃性 无起火性 无氧化性 无自己反应性・爆炸性 无安定性・反应性 常温保存条件下稳定。
氧化硅和二氧化硅
氧化硅是什么氧化硅（Silica），化合物，包括一氧化硅（SiO），二氧化硅（SiO2）。
一氧化硅一氧化硅是一种无机化合物，化学式为SiO，常温常压下为黑棕色至黄土色无定形粉末，熔点1702°C，沸点1880°C，密度2.13g/㎝³，难溶于水，能溶于稀氢氟酸和硝酸的混酸中并放出四氟化硅，在空气中加热时生成白色的二氧化硅粉末。
一氧化硅不太稳定，在空气中会氧化成二氧化硅。
当一氧化硅蒸气缓慢冷凝时会歧化而成硅和二氧化硅。
一氧化硅，分子式SiO，不溶于水。
Si-O键长为150.7pm。
SiO 在1800℃真空中为黄褐色物质。
一氧化硅不太稳定，在空气中会氧化成二氧化硅，仅在高于1200℃才稳定。
一氧化硅能溶于氢氟酸和硝酸的混合酸，其中并放出四氟化硅。
一般它可由二氧化硅在真空中1300℃高温下与纯硅作用后迅速冷却制得。
一氧化硅不太稳定，在空气中会氧化成二氧化硅，仅在高于1200℃才稳定。
避免光，明火，高温.不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。
热和电的良好绝缘体。
在空气中氧化形成二氧化硅膜而钝化。
在氧气中燃烧，和水反应生成氢气。
在温热的碱水溶液里生成氢气，形成硅酸盐而溶解。
一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。
用作光学玻璃和半导体材料的制备。
在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜面上，作为保护膜。
半导体材料的制备。
二氧化硅二氧化硅，是一种无机化合物，化学式为SiO2，硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。
二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体的四个顶角上，许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连，每个氧原子为两个四面体共有，即每个氧原子与两个硅原子相结合。
二氧化硅的最简式是SiO2，但SiO2不代表一个简单分子（仅表示二氧化硅晶体中硅和氧的原子个数之比）。
二氧化硅质量标准(2015中国药典)
二氧化硅EryanghuaguiSilicon DioxideSiO2·x H2O SiO260.08[ 14464-46-1] 本品系将硅酸钠与酸（如盐酸、硫酸、磷酸等）反应或与盐（如氯化铵、硫酸铵、碳酸氢铵等）的反应，产生硅酸沉淀（即水合二氧化硅），经水洗涤、除去杂质后干燥而制得。
按炽灼品计算，含SiO2应不少于99.0%。
【性状】本品为白色疏松的粉末；无臭、无味。
本品在水中不溶，在热的氢氧化钠试液中溶解，在稀盐酸中不溶。
【鉴别】取本品约5mg，置铂坩埚中，加碳酸钾200mg，混匀，在600～700℃炽灼10min，冷却，加水2ml微热溶解，缓缓加入钼酸铵试液（取钼酸6.5g，加水14ml 与氨水14.5ml，振摇使溶解，冷却，在搅拌下缓缓加入已冷却的硝酸32ml与水40ml 的混合液中，静置48小时，滤过，取滤液，即得）2ml，溶液显深蓝色。
【检查】粒度取本品10g，照粒度和粒度分布测定法[通则0982第二法（1）]检查，通过七号筛（125μm）的供试品量应不低于85%。
酸碱度取本品1g，加水20ml，振摇，滤过，取滤液，依法测定（通则0631），pH值应为5.0～7.5。
氯化物取本品0.5g，加水50ml，加热回流2小时，放冷，加水补足至50ml，摇匀，滤过，取续滤液10ml，依法检查（通则0801），与标准氯化钠溶液10.0ml制成的对照液比较，不得更深（0.1%）。
硫酸盐取氯化物项下的续滤液10ml，依法检查（通则0802），与标准硫酸钾溶液5.0ml制成的对照液比较，不得更深（0.5%）。
干燥失重取本品，在145℃干燥2小时，减失重量不得过5.0%（通则0831）。
炽灼失重取干燥失重项下遗留的供试品1.0g，精密称定，在1000℃炽灼1小时，减失重量不得过干燥品重量的8.5%。
铁盐取本品0.2g，加水25ml，盐酸2ml与硝酸5滴，煮沸5分钟，放冷，滤过，用少量水洗涤滤器，合并滤液与洗液，加过硫酸铵50mg，加水稀释至35ml，依法检查（通则0807），与标准铁溶液3.0ml制成的对照液比较，不得更深（0.015%）。
二氧化硅检验报告1
10kg/件
生产日期
2005年10月01日
数量
100kg
取样日期
2005年10月03日
报告日期
2005年10月06日
质量标准
SOP-FPS 11 00
项目
标准
结果
性状
乳白色轻松无砂性粉末，无臭
符合
鉴别
(1)(2)呈阳性反应
符合
酸碱度
5.0-7.5
6.5
干燥失重
≤5.0%
1.5%
炽灼失重
≤8.5%
检验人：复核人：
4.7%
铅盐
≤0.001%
<0.001%
铁盐
≤0.02%
<0.02%
重金属
≤0.003%
<0.003%
砷盐
≤0.0003%
<0.0003%
可溶性解离盐
≤4.0%
2.1%
含量
≥96.0%
98.0%
微
生
物
限
度
细菌总数
≤1000个/g
180
霉菌总数
≤100个/g
<10
致病菌
不得检出
未检出
结论
本品按SOP-FPS 11 00标准检验，结果符合规定。
山东聊城阿华制药有限公司地址：聊城市卫育北路1号
Shandong Liaocheng E Hua Pharmaceutical Co.,Ltd
Address:1,Weiyu North Road,Liaocheng City.Shandong.China
二氧化硅检验报告单
批号
20050802
包装规格
氧化矽的cas号
氧化矽的cas号
氧化矽，也叫二氧化硅，是一种常见的无机化合物，化学式为SiO2，它是一种透明的、无色的、硬度非常高的晶体，具有很好的热稳定性和化学稳定性。
它在自然界中广泛存在，是许多石英、石墨和长石等矿物的主要成分。
氧化矽的CAS号为7631-86-9。
CAS号是化学物质的唯一识别号，它由美国化学学会（ACS）开发并维护。
CAS号由三部分组成，包括两个数字和一个横线，其中第一个数字表示化合物注册序号，第二个数字表示结构异构体数目，横线表示不同化合物的分隔符号。
氧化矽的CAS号是根据其分子结构和性质确认的。
它是一种无机物质，由硅原子和氧原子通过共价键连接而成。
它具有高的熔点和沸点，可在高温下制备，可以通过多种方法制备，如火焰加热、溶胶-凝胶法、水热合成等。
氧化矽有广泛的应用，它是电子、光电、建筑、医疗、化妆品、食品等领域的重要原料。
在电子领域，氧化矽是制造集成电路、芯片、电容器等的关键材料。
在建筑领域，氧化矽被用作建筑材料的填充剂和防水材料。
在化妆品和食品工业中，氧化矽被用作防晒剂、催化剂、吸附剂等。
总之，氧化矽的CAS号为7631-86-9，它是一种常见的无机化合物，具有广泛的应用。
它的化学性质和结构为其应用提供了基础和保障，人们对它的研究和应用将会不断推进。
- 1 -。
Petrel中文操作手册2010-(10~11章)
第十章构造与断层封堵性分析概述Petrel2010.1新的构造和断层分析模块把强大直观的构造和断层分析工具引入Petrel。
模块由RDR有限公司（）和Schlumberger合作创建，对Schlumberger和Petrel来说它是由一个独立的开发团队释放的第一个优先合作或Petrel 品牌的模块。
文件提供了模块主要功能的简介。
模块的目标模块提供了贯穿地震到数模整个工作流的一个构造分析工具。
模块中的各种功能可以让地震解释人员、地质建模人员和油藏工程师来使用。
模块可以允许普通的Petrel使用者来：●更快捷的用地震数据绘制断层图●更快速清楚数据●更容易的找到和模拟断层●快速的建立更多稳定的地质单元模型●了解几何形态，更快速的建立几何形态●更高效的把地质模型和断层并入模拟器这些工具操作方式与已有的Petrel的操作和流程一致，有合理的缺省值，所以，Petrel 的用户会发现这些工具可以很直观的找到并使用。
操作和流程里面还针对高级用户增加了专家设置。
RDR构造和断层分析模块为用户提供了贯穿地震到油藏工作流的新的功能10.1 构造和断层分析流程（Structural and fault analysis）这个流程旨在利用大范围不同的输入参数对断层传导率倍数进行快速的计算。
这个流程会促进将有效的断层岩石属性进入流线模拟器，并且会将断层上一系列与断层或基质相关的属性的计算进行合并。
构造和断层分析流程在流程面板中的位置，位于属性模拟文件夹内10.2 构造分析新的构造分析的操作可以通过一些新的列表来实现，这些列表位于不同数据体的Setting box中。
1)3D地震层面解释（和相关属性）2)点（和相关属性）3)面（和相关属性）4)多边形（和相关属性）5)断层产状（和相关属性）10.2.1 构造分析在3D地震层面解释（和相关属性）中的应用3D地震层面解释、点、面和地质网格中的断层数据中，都可以使用新的构造分析的操作，对于这些操作和流程的更多细节解释，请参考Petrel的在线帮助文件1）Setting 层面或解释成果，弹出如下对话框2）在Structural Analysis 菜单下，找到StructuralAnalysis，里面有下列操作选项：Edge Detection 边缘检测:产生一个边缘检测属性数据，异常部分用突出的颜色标示出来。
第23练碳硅与无机非金属材料-2023年高考化学一轮复习小题多维练(新高考专用)(原卷版)
专题04 非金属及其化合物第23练碳、硅与无机非金属材料（限时：30分钟）1．神州十二号的成功发射，是我国航天事业的又一伟大成就。
下列月球探测器部件所用的材料中，其主要成分属于无机非金属材料的是2．建盏是久负盛名的陶瓷茶器，承载着福建历史悠久的茶文化。
关于建盏，下列说法错误．．的是A．高温烧结过程包含复杂的化学变化B．具有耐酸碱腐蚀、不易变形的优点C．制作所用的黏土原料是人工合成的D．属硅酸盐产品，含有多种金属元素3．陶瓷是火与土的结晶，是中华文明的象征之一，其形成、性质与化学有着密切的关系。
下列说法错误的是()A．“雨过天晴云破处”所描述的瓷器青色，来自氧化铁B．闻名世界的秦兵马俑是陶制品，由黏土经高温烧结而成C．陶瓷是应用较早的人造材料，主要化学成分是硅酸盐D．陶瓷化学性质稳定，具有耐酸碱侵蚀、抗氧化等优点4．下列关于二氧化硅的说法中错误．．的是A．同二氧化碳一样，二氧化硅分子是由一个硅原子和两个氧原子构成的B．通常状况下，二氧化碳为气态，二氧化硅为固体C．SiO2同CO2一样也能与CaO反应生成盐D．SiO2仅用来表示二氧化硅的组成，其基本结构单元为正四面体，不仅存在于二氧化硅晶体中，而且存在于所有硅酸盐矿石中。
5．下列叙述错误．．的是 A ．在硅酸盐中，Si 和O 构成了硅氧四面体的结构B ．普通玻璃是以纯碱、石灰石和石英砂为原料经过复杂的变化而制得的C ．硅在自然界中主要以单质形式存在D ．富勒烯、碳纳米管、石墨烯均属于无机非金属材料6．硅及其化合物在人类进步中发挥了重要作用。
Si 和SiC 用于制造芯片，2SiO 用于制造光纤，23Na SiO 用作木材防火剂。
下列说法正确的是A ．Si 在自然界以游离态存在B ．Si 和SiC 具有优良的导电性 C ．2SiO 不与酸反应D ．23Na SiO 溶液可与2CO 反应7．近年来开发的新型无机非金属材料种类众多、应用广泛，下列说法错误的是A ．高纯硅可用来制作芯片和硅太阳能电池B ．二氧化硅可用来生产光导纤维和玻璃C ．新型陶瓷金刚砂(SiC)可用作耐高温结构材料D ．富勒烯、石墨烯都是有机化合物8．（2022·广东茂名·一模）硅及其化合物在人类进步中发挥了重要作用。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
操作说明书编号10/10/11
第1 页共1 页
操作说明书编号10/10/11
炉水分析：二氧化硅
方法
1. 1）只供SiO2测定用的50毫升带塞量筒应用蒸馏水清洗干净，并加入50毫升25℃的炉水。
对每个带塞量筒
2）加入1毫升盐酸（1+1）
3）加入2.0毫升钼酸铵试剂，摇匀，并放置5分钟
4）加入5.0毫升酒石酸，摇匀，并放置1分钟
5）加入2.0毫升氨基萘酚磺酸，摇匀，并放置至少10分钟
6）用5厘米吸收池在815毫微米处测定吸光度
7）从标准曲线图上读出二氧化硅浓度
2.试剂空白：取50毫升无二氧化硅水，注入50毫长带塞量筒中，并进行试样分析操作中的步骤2）~ 6）
3.标准二氧化硅测定：对于每批二氧化硅测定，应有1.0 P.P.M.标准SiO2溶液
试剂
1.钼酸铵：将10.0克分析试剂钼酸铵溶解于100毫升无二氧化硅水中
2.酒石酸：将10克±0.3克分析试剂酒石酸溶解于100毫升无二氧化硅水中，贮于聚乙烯瓶中
3. 1 —氨基— 2 —萘酚— 4 —磺酸
将4克无水亚硫酸钠溶解于100毫升无二氧化硅水中，在此溶液中溶解1.0克 1 —氨基— 2 —萘酚— 4 —磺酸（特纯级）
稀释至约200毫升，并加40克亚硫酸氢钠
在量筒中稀至400毫升
贮于聚乙烯瓶中
4. 1）标准二氧化硅溶液
将光谱标准化二氧化硅在120℃下干燥两小时。
称取1.000克，放在铂坩埚中。
称取5克±0.5
克分析试剂碳酸钠，并放在上面。
加热至鲜红，直到均匀，冷却，在标准瓶中溶解于水中，并稀
释至1升，以得到1毫克/毫升二氧化硅溶液，贮于聚乙烯瓶中
2）标准二氧化硅溶液
使用现有配制好的二氧化硅标准溶液
5. 1+1盐酸
用无二氧化硅水将50毫升浓盐酸稀释至100毫升，贮于聚乙烯瓶中
程序完毕。