真空镀膜机控制流程图
真空镀膜机操作方法
真空镀膜机操作方法
真空镀膜机是一种常用的表面处理设备，主要用于在物体表面形成薄膜。
以下是一般的真空镀膜机操作方法的简要步骤：
1. 准备物体：将需要进行镀膜的物体清洁干净，确保表面没有灰尘、油脂或其它污染物。
2. 准备镀膜材料：根据需要的薄膜材料类型，准备相应的镀膜材料，一般为金属或者陶瓷材料。
3. 设置真空环境：将物体放置在真空镀膜室中，并确保室内的真空度达到所需的要求。
这通常需要使用真空泵和其他辅助设备。
4. 启动真空系统：打开真空系统的开关，开始抽取室内空气，直到达到设定的真空度。
5. 加热：在达到所需真空度后，加热镀膜材料使其蒸发。
加热的温度和时间取决于材料的性质和所需的薄膜厚度。
6. 沉积：薄膜材料从加热源蒸发出来后，会沉积在物体的表面。
这个过程需要一定的时间，以确保薄膜厚度均匀。
7. 冷却：在薄膜沉积完毕后，将镀膜室冷却至室温，以固化薄膜并使其附着在物体表面。
8. 释放真空：关闭加热源和真空系统，并逐渐恢复大气压力，最终打开镀膜室门让物体取出。
请注意，以上步骤是一个大致的操作流程，不同型号的真空镀膜机可能会有些差异。
在使用真空镀膜机之前，请务必详细阅读设备的操作手册，并根据实际情况进行操作。
真空镀膜机安全操作规程
真空镀膜机安全操作规程
1.打开总电源，打开总水源，打开中气源。
2.打开机械泵冷水阀门并启动机械泵，开始对管道抽真空。
3.开预阀，对扩散泵抽真空（延时自动启动罗茨泵）同时打开扩散泵上下冷却阀门及水冷挡板冷却阀门。
4.开扩散泵，约一小时左右后，扩散泵处于正常工作状态。
5.开启放气阀，打开箱门。
6.装入待镀元件，关闭箱门，关闭放气阀。
7.当扩散泵处于正常工作后，关闭预阀，打开低阀，延时120秒后自动启动罗茨泵，对蒸发室抽低真空，当蒸发真空度达到 1.0-0Pa 时，关闭低阀，开预阀，开高阀，对蒸发室抽高真空。
8.逐步调试增加蒸发室内温度。
9.蒸发室内温度及正空度达到所需求值时，打开膜厚仪，预热枪灯丝后开始蒸镀。
10.蒸镀完成后，关闭膜厚仪及枪灯丝，关闭高阀及扩散泵。
11.逐步降低蒸发室内温度。
12.待达到规定温度时（大于1小时）关闭低阀和机械泵。
13.关总电源，关总水源，关总气源。
真空镀膜机操作规程
真空镀膜机操作规程真空镀膜机是一种高精度的设备，操作规程的合理执行可以确保设备的正常运行并保证产品的质量。
下面是一份真空镀膜机的操作规程，供参考：一、操作前准备1. 检查设备的电源和附属设施，确保运行环境安全正常。
2. 检查真空镀膜机内部是否有异物或污染物，清洁设备确保表面干净。
二、设备开启与调试1. 打开设备的电源，并按照操作手册正确操作所有开关与按钮，确保设备的正常运行。
2. 设备初次开启或长时间未使用后，需打开辅助泵进行抽真空，待真空度达到标准值后再进行下一步操作。
3. 真空镀膜机应设有校准装置，操作人员应根据实际需要进行相应的校准，确保设备的稳定性和精度。
三、样品处理与准备1. 将待镀膜的样品放置在有效位置，确保样品的平整，并避免样品之间的碰撞。
2. 样品表面应清洁干净，不存在污染和油渍，否则会影响镀膜质量。
四、真空镀膜操作1. 打开样品舱门，将样品放置在样品架上，确保样品与样品架之间没有杂质。
2. 关闭样品舱门，设定镀膜参数，如镀膜材料、镀膜时间、镀膜温度、反应气体等。
3. 执行真空镀膜程序，按照操作手册的步骤进行操作，确保每一个程序的稳定运行。
4. 在镀膜过程中，操作人员应经常观察反应室内的状态，如真空度、压力、温度等参数，并及时调整。
5. 镀膜结束后，将样品从样品架上取下，放置在准备好的容器中，注意避免样品与其他物体接触，避免污染。
五、设备关闭与清洁1. 关闭设备的各个开关和电源，确保设备停止运行。
2. 清洁设备内部，包括反应室和样品架，确保设备内部干净整洁。
3. 清洁设备外部，特别是控制面板和触摸屏，避免灰尘或污渍附着在上面。
4. 检查设备的附属设施，如冷却系统，确保其正常运行。
六、操作注意事项1. 操作人员应穿戴好相应的防护用品，如手套、口罩、护目镜等，确保工作安全。
2. 镀膜材料和反应气体应储存妥善，避免与火源、高温、湿度等有害物质接触。
3. 真空镀膜机应定期进行维护保养，如更换密封圈、清洁真空管道、校准仪器等。
真空镀膜操作规程
真空镀膜操作规程一、准备：1、开启设备总电源，稳压器，确认三相供电电压正常：370—440V；2、开启电容补偿器；3、确认水池冷却水水量充足（见浮标尺）打开循环水泵；4、根据工艺要求，确定是否需要启动冷水机以及启动几台冷水机；启动前应确认冷水机入口水压1.5-3kg，内部增压泵旋转正常，可采用自动或手动方式启动；5、确认各部分冷却水循环系统完好，确认扩散泵循环水工作正常，紧急冷却系统准备就绪；6、确认工艺气体气压不低于20个大气压7、装基膜：A、领膜：镀膜工按生产任务单要求，从净化室中领到基膜时，应立即检查该膜是否合格，有无花纹、斑点、划伤、污迹，收卷是否整齐等直接观测到的问题，如有应立即向生产主管报告，以决定是否采用；B、装轴：操作时必须带手套，将合格的基膜放在专用膜托架上，取一对尺寸相同的轴安装好，安装时请注意膜的正反面，确认一切准备就绪了，即可吊装。
吊装时必须轻拿轻放，严禁碰撞，必须保持基膜水平，以免膜打滑引起螺纹状；C、装膜：确认冷辊无冷凝水后，即可装膜，装膜时不要对着膜讲话，以保持膜面干净。
注意不要碰透过率分析仪的探头，装膜时应保证膜在冷辊的中心；D、按任务书车速要求设置镀膜速度、张力；E、试卷：引膜完成后，手动预卷几圈，打开张力控制器，启动冷辊、收卷、卷膜（其中ITO膜卷1—2m，前档膜和建筑膜卷20m）。
仔细观察膜是否走正，启动是否容易，冷辊是否与膜同步，走速是否平稳，膜是否变形、起皱、划伤等等，并及时处置，最后用记号笔在放料端画起始标志线；8、按生产任务书要求确认各靶位、布气系统、电源配置正确，靶材量充足，确认无其他物品遗忘在真空室内或小车上，关闭真空室；二、抽真空1、扩散泵预加热（约需40分钟）：启动维持泵，确认运转正常后，打开维持阀（灯亮），逐一打开扩散泵；2、低抽：确认真空室门已关闭启动计算机，进入镀膜系统监控程序，充气阀关闭，启动机械泵（1、2），确认机械泵正常运行后，开预抽阀，五分钟后打开复合真空计，打开罗茨泵开关，。
真空镀膜UV工艺流程图
文件 编号: 20160616001
真空镀膜UV工艺流程图
版本: A0 制表人: 曹海军 审核人: 熊水明 过程名称 /操作描述 原料进料 IQC检查 原料贮存 运输 拆包装取出素材 检查外观质量 除油 上夹具 底涂上下料 喷底涂 流平/烘烤 拔半成品 半成品插筒 抬上真空镀机 抽真空 真空镀膜(PVD）法 冷却/下筒/除尘 UV面漆上下料 紫外线烘烤 UV固化 入库 成品下线 镀膜前准备 目视 目视 过程 材料进料
入库 出货通知单 点数量装卡板 QA验货 缠卡板 装车 产品出库
料号/品名/数量/箱数/标签核对无误,装相 单和发票装胶袋贴于最后一个卡板上
目视
清点数量并签托运单Βιβλιοθήκη 22成品检验/包装
目视
23
QA验货
目视/卡尺/膜厚 按AQL正常抽检及测试(抽检样品为 测试仪/3M600胶 0.5%)◆ 纸/恒温恒湿仪 产品包装箱不允许损坏或压变形,堆码高 3℃ 温度计/湿度计 度低于1.5M(单卡板),仓储温度:25± 仓储湿度:20%～85 % 出货 目视
24 25 26 27 28 29 30
产品特性
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21
目视
镀膜
表面要完好并光亮
目视 目视 目视 目视 目视、温度计 目视 目视 目视
目视/真空镀机 真空度1.33*10-3Pa 目视 目视 目视 电脑自动真空机 戴手套 面漆上下料
目视、温度计 温度90℃ 目视、温度计 室温冷却30min 目视 次品率高于7%时,或发现起泡问题,要立 即上报并得到改善措施及行动,以保证生 产顺利进行,.◆ 产品包装箱不允许损坏或压变形,包装箱 不允许倒放或侧放，料号/品名/数量写正 确，包装方法及标签不允许出错
实验十二真空镀膜
实验十二真空镀膜引言在真空中使固体表面（基片）上沉积一层金属、半导体或介质薄膜的工艺通常称为真空镀膜。
早在19世纪，英国的Grove和德国的Plücker接踵在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。
后于1877年将金属溅射用于镜子的生产；1930年左右将它用于Edison唱机录音蜡主盘上的导电金属。
以后的30年，高真空蒸发镀膜又取得了飞速发展，这时已能在实验室中制造单层反射膜、单层减反膜和单层分光膜，而且在1939年由德国的Schott等人镀制出金属的FabryPerot干与滤波片，1952年又做出了顶峰值、窄宽度的全介质干与滤波片。
真空镀膜技术历经一个多世纪的发展，目前已普遍用于电子、光学、磁学、半导体、无线电及材料科学等领域，成为一种不可缺少的新技术、新手腕、新方式。
实验目的1.了解真空镀膜机的结构和利用方式。
2.掌握真空镀膜的工艺原理及在基片上蒸镀光学金属、介质薄膜的工艺进程。
3.了解金属、介质薄膜的光学特性及用光度法测量膜层折射率和膜厚的原理。
实验原理从镀膜系统的结构和工作机理上来讲，真空镀膜技术大体上可分为“真空热蒸镀”、“真空离子镀”及“真空阴极溅射”三类。
真空热蒸镀是一种发展较早、应用普遍的镀膜方式。
加热方式主要有电阻加热、电子束加热、高频感应加热和激光加热等。
1.真空热蒸镀的沉积条件（1）真空度由气体分子运动论知，处在无规则热运动中的气体分子要彼此发生碰撞，任意两次持续碰撞间一个分子自由运动的平均路程称为平均自由程，用λ表示，它的大小反映了分子间碰撞的频繁程度。
P d kT22πλ=（8.2-1）式中：ｄ为分子直径，Ｔ为环境温度（单位为Ｋ），Ｐ为气体压强。
在常温下，平均自由程可近似表示为：)(1055m P -⨯≈λ （8.2-2）式中：P 为气体平均压强（单位为Ｔｏｒｒ）。
表8.2-1列出了各类真空度（气体平均压强）下的平均自由程λ及其它几个典型参量。
镀膜机操作顺序
Duroch-1100镀膜机操作顺序
接通外部电源→先开空压机、冷水机→打开清洗机镀膜机电源→点击自动操作→输入密码→点击自动操作→上班开机→预热完成后→打开柜门、挂上零件，关门→打开氮气开关→点击自动操作→选择钛（保持架）或铬（内外圈，滚子）→点击运行→镀膜→停机到计时→停机到计时变绿并放气→完成一次镀膜过程→打开柜门、取出零件→关闭真空室大门→按返回键→下班关机→关机倒计时→关机倒计时结束后关闭空压机、冷水机→关闭电源
注意事项：
1、开机前必须检查冷却水路无泄露，冷水机去离子水足够。
2、开机前一定要检查泵组中各泵的润滑油是否达到规定值；
3、气瓶气压是否足够；
4、真空系统密封情况是否良好：
5、沉积室内部清理干净，观察窗玻璃保持干净；
6、弧电源，离子源冷却风扇是否正常工作。
7、轴承零件在装卡时必须带手套、口罩，并注意轴承零件间距。
8、轴承零件装卡后必须先旋转转架，防止装卡不合适，无法正常旋转转架。
真空镀膜机操作指导
真空镀膜实验指导真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。
本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。
真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。
1真空镀膜原理：1.1蒸发镀膜机理蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。
凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。
蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。
蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下：1.2高真空我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。
相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。
因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。
当然，真空度也不需要绝对地高。
事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。
如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式（d是分子的直径，n是分子数密度）不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。
1.3材料洁净材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。
这一要求似乎是不言而喻的。
如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质，将直接影响膜的均匀性和牢固度；如果混有可融的化学成分，将影响膜的物理性质，如亮度、表面张力、电导率等等。