icp操作流程及注意事项
icp操作流程及注意事项
ICP操作流程及注意事项1．打开氩气确认氩气充足，气路连接完好，纯度要求≥%，输出压力550—825Kpa (80—120psig) ，当气瓶总压力小于2Mpa时，需考虑更换。
2．打开空压机确认放气阀门关闭，可待空压机充满气后打开出气阀门，确认输出压力550—825Kpa (80—120psig)，定期清理过滤器中的水。
注意：一定要没有空气压力时才可打开过滤器，以免发生危险。
3．打开冷却水循环机检查水位，确认设定温度（通常设为20度），确认输出压力310—550Kpa (45—80psig)，半年更换一次冷却液。
4．打开ICP主机电源5．打开Winlab32操作软件确认发生器和光谱仪均联机正常后，方可使用。
6.安装蠕动泵管检查泵管，当有扁平点出现时，应替换泵管。
黑色卡头为进样管，红色卡头为排液管，并注意蠕动泵为顺时针旋转，点击点炬界面Pump，确认进样排液顺畅。
7．打开抽风，点炬8.初始化光学系统待点炬十五分钟左右后，进行初始化光学系统，该过程需3~4分钟，完成后确认其数值在±50之间。
注：当清洗完进样系统和炬管组件时，需进行对准观测位（轴向和径向），吸入1ppm Mn 溶液。
当有错误提示时，切勿保存，并检查进样系统和进样情况。
9.打开测试方法，编辑样品信息10.分析测试11.分析完成后，在等离子体点燃的状态下，清洗5分钟，无机样品分析后用去离子水洗或者先用3%的硝酸洗，再用去离子水洗。
12.关闭等离子体，排空积液，松开蠕动泵卡夹。
13.先退出软件，再关闭ICP主机电源。
14.关闭抽风，循环冷却水，空压机，氩气。
每天测试完成后，排空空压机内气体。
ICP操作规程
iCAP6000操作规程一．开机/点火1、开机（若仪器一直处于开机状态，应保持计算机同时处于开机状态）1．确认有足够的氩气用于连续工作（储量≥1瓶）。
2．确认废液收集桶有足够的空间用于收集废液。
3．打开氩气并调节分压在0.6—0.65Mpa之间。
4．打开计算机。
5．若仪器处于停机状态，打开主机电源，仪器开始预热。
6. 启动iTEVA软件，检查联机通讯情况。
2、点火1．再次确认氩气储量和压力2．并确保驱气时间大于2小时，以防止CID检测器结霜，造成CID检测器损坏。
3．光室温度稳定在38±0.2℃。
4．检查并确认进样系统（炬管、雾化室、雾化器、泵管等）是否正确安装。
5．夹好蠕动泵夹，把样品管放入蒸馏水中。
6．开启排风。
7．开启循环水。
8．打开iTEVA软件的等离子状态对话框，点击等离子开启点火。
3、稳定1 光室稳定在38±0.2℃。
2 CID温度小于-40℃。
3 等离子体稳定15分钟。
二．分析1、打开或新建分析方法，有必要时，执行自动寻峰。
进行标准化，再分析试样。
2、检查标准及试样背景扣除情况，有必要时调整背景扣除位置，以得到较好的分析结果。
3、分析完毕后，将进样管放入蒸馏水中冲洗进样系统10分钟。
三．熄火1、打开iTEVA软件中的等离子状态对话框，点击等离子熄灭熄火。
2、关闭循环水，松开泵夹及泵管，将进样管从蒸馏水中取出。
3、关闭排风。
4、待CID温度升至20℃以上时，驱气20分钟后，关闭氩气。
四．停机若仪器长期停用，关闭主机电源和气源使仪器处于停机状态。
建议用户定期开机，以免仪器因长期放置而损坏。
五．仪器维护（视具体情况而定）1、定期更换泵管。
2、定期清洗雾化器。
3、定期清洗矩管和中心管。
4、机每六个月检查一次循环水。
5、计算专用，定期备份数据。
6、当意外断电后，交流接触器处于断开状态。
关闭所有开关，来电后重新开启交流接触器，再重新开机。
若在点火状态意外断电，除按上述操作外，不能关氩气，并保持通氩30分钟以上。
icp刻蚀工艺流程
icp刻蚀工艺流程ICP刻蚀工艺流程一、引言ICP刻蚀工艺是一种常用的微纳加工技术，广泛应用于半导体、光电子、生物医学等领域。
本文将介绍ICP刻蚀工艺的基本流程，以及其中涉及的关键步骤和注意事项。
二、ICP刻蚀工艺流程1. 设计和准备在开始ICP刻蚀工艺之前，首先需要进行器件的设计和准备工作。
这包括选择合适的刻蚀目标材料、确定刻蚀深度和形状等。
同时，还需要设计合适的掩膜图形，以控制刻蚀区域。
2. 清洗和预处理在进行ICP刻蚀之前，需要对刻蚀目标材料进行清洗和预处理，以去除表面的杂质和氧化物。
常用的方法包括超声波清洗、酸洗和溶剂清洗等。
3. 掩膜制备接下来需要制备掩膜，用于保护不需要刻蚀的区域。
常用的掩膜材料包括光刻胶和金属掩膜。
通过光刻技术，将掩膜图形转移到掩膜材料上，并进行曝光和显影等步骤，最终形成掩膜。
4. 刻蚀在刻蚀过程中，需要使用ICP刻蚀机。
ICP刻蚀机利用高频电场和低频电场的耦合效应，在高真空环境中进行刻蚀。
首先将刻蚀目标材料放置在刻蚀室中，并加入刻蚀气体，如氟化物等。
然后，在高频电场的作用下，将刻蚀气体电离生成等离子体。
最后，利用等离子体的化学反应和物理碰撞效应，将刻蚀气体中的物质从刻蚀目标材料表面去除，实现刻蚀效果。
5. 清洗和检验刻蚀完成后，需要对刻蚀样品进行清洗，以去除残留的刻蚀剂和杂质。
常用的清洗方法包括溶剂清洗、超声波清洗和离子清洗等。
清洗完成后，需要对刻蚀样品进行检验，以验证刻蚀效果是否符合要求。
6. 后处理在ICP刻蚀工艺完成后，可能还需要进行后处理步骤，以进一步改善器件性能。
常见的后处理方法包括退火、沉积和离子注入等。
三、注意事项1. 安全操作：ICP刻蚀工艺需要在高真空环境下进行，操作人员需要具备相关安全知识和技能，严格遵守操作规程。
2. 刻蚀参数：刻蚀参数的选择对于刻蚀效果至关重要。
包括刻蚀气体的流量、功率、压力等参数，需要根据刻蚀目标材料的性质和要求进行调整。
ICP操作流程简易入门版
Optima ICP 光谱仪操作规程一、准备1、开机1。
1 检查实验室温度湿度，若有需要，打开空调。
1.2 检查并保证有足够的氩气用于连续工作。
1。
3 确认废液桶有足够的空间用于容纳废液。
1.4 打开氩气并调节出口压力在0.6—0。
8Mpa 之间.1。
5 （如果有的话)打开稳压器电源，一分钟后将主机右侧电源开关置于ON状态。
1.6 检查循环冷却水的水位,不能低于最低指示刻线，通常液面位于指示刻度的1/2处。
如果正常，打开其电源开关。
1.7 将空气压缩机电源接通。
1。
8 打开电脑、显示器和打印机,启动WinLab32软件。
2、进入软件2.1 双击桌面打开WinLab32软件图标，进入软件控制界面二、分析1 建立方法文件—新建—方法，打开方法模板,如下图:点击页面右上角的“确定”，会进入模板页面,如下图：点击“元素周期表”按钮,打开元素周期表：双击元素符号即可选择该元素的最强谱线，如果需要选择元素的其他波长,请先单击该元素，之后从“波长“中选择其他波长。
元素选定后关闭“元素周期表"。
点击方法编辑器上面的“设置”,进入设置页面：在“设置”页面中,可以重复次数,一般设定为 2.其余的参数使用仪器默认即可。
点击“取样器”, 进入取样器设定页面:在“取样器”页面中，如果没有特殊的要求,可以完全使用默认的参数。
点击“校准”进入校准页面：在“校准”页面按照自己准备的空白以及标准的数量分别给定空白以及标准的位置。
（注意：对于没有自动进样器的用户，这个位置是虚拟的，只要不重复即可）。
在上图中是1个标准空白，3个标准样品,1个试剂空白。
点击“标准单位和浓度”,进入下图:分别输入校准标样1、2、3的浓度，在这里，浓度分别是1、2、3。
并且选择校准单位，在这里我选择的单位是毫克/升点击“方程及式样单位"，进入下图：选择校准方程（一般用线性计算节距），选择试验单位。
至此一个标准的方法就建立了.点击文件—保存—方法：在图中标记的空白处给定方法的名称，之后点击“确定”。
ICP仪器的操作流程
ICP仪器的操作流程具体操作方法一.装配ICP仪器：1.同水循环仪器的连接：ICP主机上的in put接口对应水循环器上的out接口，另一ICP的out接口对应着水循环器上的in put接口，且水循环器上的out接口上要安装好水过滤器。
2.同氩气的连接：氩气的管子接到ICP主机上的Argon接口上，且氩气的气压通过减压装置来调节，一般控制在0.8 ba 。
3.同抽风机的连接：抽风机的两抽风管，前管吸收矩管放出的热量，后管吸收发生器放出的热量。
4.同UPS的连接5.废水箱的安装6.雾化器，雾化室，矩管，泵软管的安装7.ICP同PC的接口，且Hardlock USB软件保护装置要插到PC的USB接口上。
8.ICP地线的连接二.建方法流程：方法信息的设置对元素线的选择测试条件的设置建空白，标准溶液设置输出格式1.方法信息的设置：在measurement info 界面⑴.在界面下方的method data control 面板中，选择New新建一个方法，并输入方法的名称和描述内容。
（2）.设置参数：Nebulizer Type（雾化器的类型）：有Crossflow（交叉雾化器）和Modi-lich te （理查得雾化器），本仪器使用Crossflow.Application（应用类型）：针对不同的情况，有不同的选择，一般选择NormalDefault Unit :对单位的设置No.of Measurements :测量次数一般为3次Data Tran sport :数据储存要求，“ Nond'不储存，“ Regio nof in terest ” 储存指定的分析谱线，“ Complete Spectrum ”储存所有的数据，一般选择Complete SpectrumMin Corr Coefficament :校正线性参数，一般为0。
996Default Displayname（默认的显示名称）：一般选择Sample Name⑶.Preflush（预冲洗）的设置：Fast:快冲洗时间Fast step :冲洗档位Total :冲洗的总时间Normal step :正常冲洗的档位⑷.Samplelde ntificatio n 的设置：可新建weight质量，volum体积，dilution 稀释率等关于样品的参数2.线选择：在Line Selection 界面Referenee line（内标谱线线）,Monitor line（稳定线，一般选择的是氩线）（2）.元素表中的元素线的选择：对于要分析的元素，单击这个元素，可从右边的下表中选择其中一个光强度不同的元素线，一般选择受其它元素干扰最少的线。
ICP-MS操作规程
ICP-MS操作规程X-系列ICP-MS电感耦合等离子体质谱仪操作规程一、 ICP-MS操作程序1.开机预热1)检查Ar气是否足够（>2瓶）；2)打开抽风，检查风量；3)打开稳压电源开关，检查电源是否稳定，观察约1分钟；4)打开Ar气钢瓶的开关，调至0.6MPa, （开到最大，不能大于0.7MPa）；5)取下仪器左边的盖子，从左向右打开左下方的三个电源开关；6)盖上仪器左边的盖子, 打开电脑，待自检完成后，双击“PlasmaLab”图标，进入操作软件主窗口，单击Instrument →Tune,检查炬箱的三个参数；7)检查软件上方的炬箱调谐位置,”LOAD和TUNE应不为0或255；8)单击左上角的“ON”键→YES，启动真空系统。
2.制定分析方案9)确定样品是否适合用ICP-MS分析；10)确定样品分解方法（溶样方法）；11)配制工作曲线（混标）；12)样品准备。
3.编辑分析方法4.点火→进入Operate状态5.调节仪器最佳化6.做仪器的Calibration:7.样品分析打开已经准备好的分析的方法,单击Queue →Append →OK 然后按照提示将进样毛细管放入相应瓶中，单击Continue进行测定8.熄火并返回Vacuum状态1) 确认所有样品已分析完成2) 单击Off →YES3) 松开蠕动泵管夹4) 冷却约5min后，关闭循环水5) 关闭电脑二、完全关机1) 确认短时间内没有样品, 一般每周测定一次以上请不要关机。
2) 单击Off →YES,此时仪器会关闭机械泵和分子泵, 等侯30分钟以上.3) 关闭电脑.4) 取下仪器主机的盖子, 从由向左依此关闭仪器左下方的三个电源开关.5) 关闭排风开关.6) 关闭稳压电源开关.关闭配电盘开关.三、维护、保养剂注意事项1.每次点火前检查蠕动泵泵管, 看是否有损伤和过度磨损。
2.定期检查锥, 看是否需要清洗。
3.检查雾化器, 看是否被堵。
icpms操作规程
icpms操作规程ICP-MS（电感耦合等离子体质谱法）是一种常用的分析技术，它能够提供元素分析的高灵敏度、高精确度和高选择性。
为确保准确可靠的测试结果，ICP-MS操作需要遵守一系列规程和操作步骤。
1. 实验室准备：- 质谱仪和其它相关设备的正常使用和维护。
- 实验室空气质量的控制，确保实验环境干净，没有杂质干扰。
- 质谱仪的日常校准和质控操作，以确保仪器稳定性和分析准确性。
2. 样品准备：- 样品要使用纯净试剂，避免使用含有待测元素的试剂。
- 样品的保存、处理和预处理应根据不同的元素分析需求进行，以避免样品的污染和元素的损失。
- 样品的稀释和标准曲线制备需要根据待测元素的浓度范围和检测限制进行合理的选择。
3. 仪器操作：- 打开质谱仪和其它相关设备，确保各个部件正常工作，例如离子源、入射系统、质谱分析器和探测器等。
- 设置和优化质谱仪的工作参数，例如电离能量、气体流量、进样速率等，以获得最佳的分析性能。
- 根据待测元素的性质选择相应的离子模式（正离子模式或负离子模式）、质谱分析器的运行模式（单程通量模式、多程通量模式等）和探测器的工作模式（计数模式、亚计数模式等）。
4. 样品进样：- 根据样品浓度和所选的进样方法（直接进样、稀释进样、固相萃取等），选择适当的进样器和进样体积。
- 进样前要先进行空白测试，以检测和排除可能的背景干扰。
- 进样时要控制好进样速率和稀释比例，以避免干扰物质的进入和样品损失。
5. 数据采集和处理：- 运行质谱仪，获取质谱图和质谱数据。
- 对质谱数据进行峰识别、峰面积积分和质量浓度计算，得到待测元素的浓度结果。
- 对浓度结果进行数据分析和处理，例如计算相对标准偏差（RSD）、判断样品结果的可靠性和准确性等。
6. 结果报告：- 报告浓度结果时要注明分析方法、仪器参数和样品处理等重要信息，以便结果的可重复性和可比性。
- 结果报告要统一格式，并包含校准曲线、质控样品和样品回收率等质量控制数据，以评估分析的准确性和可靠性。
ICP-OES法测定工业盐中钙镁铅钡含量
ICP-OES法测定工业盐中钙镁铅钡含量ICP-OES法（电感耦合等离子体发射光谱法）是一种常用的化学分析方法，可以用于测定工业盐中钙、镁、铅和钡的含量。
下面将介绍该方法的原理、操作流程和注意事项。
1. 原理ICP-OES法是一种基于光谱原理的分析方法。
在ICP-OES仪器中，样品首先通过气体等离子体激发产生光谱辐射，然后将这些辐射光通过光栅、光谱分光器和探测器进行分离和检测。
根据元素的特征光谱线，可以得到不同元素的含量信息。
2. 操作流程（1）准备样品：将待测工业盐样品按照一定比例与适量的溶剂混合，经过超声处理使样品充分溶解。
（2）设置仪器参数：打开ICP-OES仪器，设置相应的工作条件，如激发源功率、气体流量等。
（3）校正仪器：使用已知浓度的标准溶液进行仪器的校准，确保仪器准确度和稳定性。
（4）测量样品：将样品溶液注入仪器中，启动测量程序，待仪器自动完成测量。
（5）数据分析：根据样品测量结果，利用标准曲线或测量谱线的强度来计算样品中钙、镁、铅和钡的含量。
3. 注意事项（1）样品预处理：为了提高测量精确度，应在样品制备过程中避免可能的污染，例如使用纯净溶剂、洁净容器等。
（2）稀释溶液的选择：由于样品中某些元素的浓度较高，需要对样品进行稀释，所选溶液应考虑到元素在溶液中的稳定性。
（3）准确量取样品：在操作中应准确称取样品，并保证每次实验重复性。
（4）校准曲线的制备：校准曲线的制备应考虑到待测元素的平均线性范围，通常使用不同浓度的标准溶液进行系列浓度点的校准。
ICP-OES法是一种精确、快速、可靠的工业盐中钙、镁、铅和钡等元素含量测定方法。
在实际应用中，需要仔细选择合适的样品制备方法、标准溶液和校准曲线，以确保测量结果的准确性和可靠性。
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ICP操作流程及注意事项
1．打开氩气
确认氩气充足，气路连接完好，纯度要求≥%，输出压力550—825Kpa (80—120psig) ，当气瓶总压力小于2Mpa时，需考虑更换。
2．打开空压机
确认放气阀门关闭，可待空压机充满气后打开出气阀门，确认输出压力550—825Kpa (80—120psig)，定期清理过滤器中的水。
注意：一定要没有空气压力时才可打开过滤器，以免发生危险。
3．打开冷却水循环机
检查水位，确认设定温度（通常设为20度），确认输出压力310—550Kpa (45—80psig)，半年更换一次冷却液。
4．打开ICP主机电源
5．打开Winlab32操作软件
确认发生器和光谱仪均联机正常后，方可使用。
6.安装蠕动泵管
检查泵管，当有扁平点出现时，应替换泵管。
黑色卡头为进样管，红色卡头为排液管，并注意蠕动泵为顺时针旋转，点击点炬界面Pump，确认进样排液顺畅。
7．打开抽风，点炬
8.初始化光学系统
待点炬十五分钟左右后，进行初始化光学系统，该过程需3~4分钟，完成后确认其数值在±50之间。
注：当清洗完进样系统和炬管组件时，需进行对准观测位（轴向和径向），吸入1ppm Mn 溶液。
当有错误提示时，切勿保存，并检查进样系统和进样情况。
9.打开测试方法，编辑样品信息
10.分析测试
11.分析完成后，在等离子体点燃的状态下，清洗5分钟，无机样品分析后用去离子水洗或者先用3%的硝酸洗，再用去离子水洗。
12.关闭等离子体，排空积液，松开蠕动泵卡夹。
13.先退出软件，再关闭ICP主机电源。
14.关闭抽风，循环冷却水，空压机，氩气。
每天测试完成后，排空空压机内气体。