下摆机精磨抛光工艺
下摆机精磨抛光实用工艺
文件名称下摆机研磨工艺作成制定时间审核版次第一版批准一、目的：光学零件的抛光是获得光学外表最重要的工序。
1、去除精磨的破坏层到达规定的外观质量要求。
2、精修面形，到达图纸规定的曲率半径R 值，并满足零件光圈数N 及光圈局部误差△N的要求。
二、抛光机理：认为抛光是精磨的连续，它们从本质上是一样的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃外表进展微小切削作用的结果。
但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。
所以微小切削作用可以在分子大小范围内进展。
由于抛光模与镜片外表相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃外表凸凹微痕构造被切削掉，渐渐形成光滑的外表。
试验说明抛光粉粒度在肯定范围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高(如氧化铈Ce0 抛光粉比红粉Fe 0 硬度高，前者比后者抛光速率高 2～3 倍)。
2 2 3另外在肯定范围内，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速具抛光即是依此而进展起来的。
通过试验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2um。
仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是格外明显的。
体内三、抛光根本常识：1、光圈的概述：o 被检查镜面外表面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的契形空气间隙，从而产生等厚干预条纹，在白光照耀下，可见到彩色光环，这种彩色环称为光圈，物理学中称牛顿环。
光圈数：红色光圈有几圈，光圈数就几圈.光圈象散光圈允差→椭圆、马鞍形、棱形〔面检〕〔△N1 表示〕局部光圈局部不规章程度→中高、中低、翘边等2、光圈的识别：〔△N2 表示〕高光圈与低光圈：a.高光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向外集中的，即高光圈；b.低光圈：一低头或稍用力压镜片，光圈向内收缩的，即低光圈；高光圈3、光圈数与局部误差的计算方法：a)光圈数的计算方法：N=N 检-N 补低光圈光圈数 N，实际光圈数为 N 检，基准补负为Ｎ补。
例：基准补负 2 圈，实际测光圈数为－４圈，则：Ｎ＝Ｎ检－Ｎ补=4-〔-2〕=-2 圈b)局部误差计算方法：A、象散光圈：△N1=b/a-1B、光圈局部不规划：△N2=a/b=0.2/1=0.2 规章：0.5 圈OK ab四、抛光前所需的预备工作：1、配抛光液：用对应的抛光粉配肯定浓度的抛光液，一般抛光液的浓度设定为 1.015—1.025 〔g /cm3 〕，具体依据实际的玻璃状况设定，一般选择原则是软玻璃浓度小些，硬玻璃浓度适当取大一些。
AMS精密研磨抛光工艺
AMS精密研磨抛光工艺
先进机械：2004-6-24 13:21:37[admin]
下载：UltRa系列砂带（油石）振动研磨抛光机
统外圆精磨或精抛的表面处理方法既昂贵又费时，必须由熟练的操作员，使用磨石、砂轮、砂纸甚至研磨膏，花上数十小时才能完成。
而且由于磨床精度及
砂轮质量的差异，抛光工件极易产生环状条纹及振
纹，表面粗糙度一般只能达到Ra0.2左右。
应用AMS精密研磨抛光系统不但能够避免上述
的问题，更能获得表面粗糙度Ra0.01的精确一致的
表面。
AMS精密研磨抛光系统主要使用涂附了氧化铝、
碳化硅、金刚石等不同磨料的研磨抛光砂带。
工作时，
砂带以恒速单向输送配合抛光头的告诉宽幅振动进行抛光，因此砂带不会重复使用，避免了一般精抛时所出现之工件首尾抛光效果不一致的弊病，并且极大的提高了研磨抛光的效率。
对于一些无法用磨床进行加工的大型工件的圆柱表面，应用AMS精密研磨抛光系统，同样可以获得理想的表面粗糙度。
AMS精密研磨抛光系统比一般精密抛光方法更能节省时间及降低成本，而抛光效果更加精确一致，从大大的提高产品的质量。
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相关链接：
♋UltRa系列研磨抛光机使用手册( 2004-6-25 13:22:11)
♋1999年开始生产UltRa系列研磨抛光机。
( 2004-6-24 14:42:01)
♋2003年开始生产UltRa系列两轴喷涂机械手、喷涂旋转工作台。
开始出口UltRa系列研磨
抛光机。
( 2004-6-24 14:41:11)
♋现场抛光( 2004-6-24 14:19:53)。
下摆机高效加工工艺简介
高精 磨 光学 透镜 进 行 精磨 、 面 抛光 ， 工 表 加 精 度高 、 稳定 性 能好 。达 到 定 时 、 光 圈 、 定 定
尺 寸 的效果 。
下 摆 式 精 磨 抛 光 机 主 要 由机 械 部 分 、 电器 部分 、气 动 系统 和 供 液 系统 等 四部 分 组 成 。整机 具有 两 个 （ 四个 ） 应 独立 的 或 相 加 工单 元 ，每个 加 工 单 元 都 拥 有 一 套 独 立 的主轴 机构 、 力 机构 、 动 系统 和 操作 系 压 传 统 ，而气 动 系统 和供 液 系统 各 有 两个 分 路 ， 供应 各 单元 使用 。 下摆 机 械 加 工光 学 件 的 范 围一 般 分 为
维普资讯
下摆机高 效 加工工艺简 介
洪文发 汤仕 博
近年 来 ， 着市 场 变化 ， 种 光 、 、 随 各 机 电 产 品不 断 出现 ， 各种 Ｃ Ｄ镜 头 、 对 Ｃ 扫描 仪 镜 头 、投 影 机 镜 头及 数 码 相 机 镜 头 的需 求 越 来越 大 ， 此光 学件 技 术要 求 越来 越 高 ， 而 为
工艺流程 ：
单 片加 工工 件 的张 角 ７ ５左 右 。 ≥２ 。
根据 镜 片 的 口径 、 曲率半 径 ， 计 抛 光 设
口径 和加 工 时 的摆 角和 摆 幅 ：
模 具 面种类 ： 磨 模 、 精 抛光 基 模 、 光 抛 压模 、 以及抛 光 对 改模 、 精磨 对 改模 。根 据 加 工镜 片 的凹 凸不 同 ， 块 夹 具 （ 体 ）有 单 压 两 种 ： 般加 工 凸 面用 压体 ， 工 凹 面用 单 一 加
摆 动 角 ｅ ： ｇ Ｒ＝１ ．８ Ｄ＝２ ． Ｄ Ｒ＝０ ５４ ７７ ３５ ／ ．９ 所 以后 角 ＝３ ．。３ ｏ 、 角 ＝１ ．５（ ８） ６ ５（ ６） 前 ８ ２ 。 １。 摆 动 角 ＝１。 ３ 。 ８ ６
光学下摆抛光技术培训教材1
COSA 0.1 0.15 0.2 0.25 0.3 0.35 0.4 0.45 0.5 0.55 0.6 0.65 0.7
下摆机床起始角及摆幅调整参照表 COSA=Ｄ/2R
起始角至最大角
摆幅
2.50—60
4
40—8.50
5
60—120
6
7.50--150
8
8.50--17.50
9
10.50--210
1、需要低光圈，
调整
些
摆角小些
B、如此时摆角已很小光圈仍是很低， 2、需要要高光
可将对改模旋在主轴上，手持精磨模在 圈，摆角大些
上修改
四正确使用样板 用工作样板检查抛光后的光学零件是看你所加工的零件是否达到了所规定的光圈数 要求和是否超过局部误差的规定，这种检查的方法是利用了光干涉原理，其精度是非常 高的，因此在检光圈时，一定要将做样板和被检零件檫拭干净，不留任何污迹和灰尘， 织物纤维，否则就会看不到正确的结果，就会损伤样板和零件的表面，方法是： 将檫干净的样板轻轻的放在檫净的零件 3/5 处，轻轻地压下，手感润滑无异物可轻 轻推至全部接触，垂直方向上去数红色光带便得到了该零件的光圈数，检查零件误差时 可将样板轻轻移至 1/2 数，看光带是否规则。许多员工方法不当，檫得不干净，用力过 大样板推来推去，损坏了样板和零件表面，新的样板用不了几天，表面就路子纵横交错， 用这样的样板检零件，零件的表面肯定会受到影响，即使你零件重新再抛一下，有些路 子深，根本磨不掉，所以我们一定要熟练掌握正确的样板使用方法，这个问题希望引起 大家的重视 影响抛光工序光圈稳定的因素 1 上道工序的光圈配合是否合适是十分重要的 ，上道工序要按工艺图纸上要求去做，
11
120—240
光学下摆抛光技术培训教材1
序号
疵病名称
产生疵病原因
解决方法
1
光圈不稳定
1、上道工序光圈配合不好
*一般配合是精磨后的光圈较抛光的光圈低2-3圈,如过高或过低，抛光模很快就变高或变低
2、模具口径选择不当(口径小光圈低，口径大光圈高）
3、机床摆角、摆幅调整不合适
1、精磨工序严格按工艺要求生产
2、模具口径的设计应耕具机床种类给顶的参数设计
聚氨脂与基模脱胶（脱胶的情况大多数发生在模具边缘,光圈表现为踏边）
1、检查抛光修改模的精度
2、在修抛光模时，一定要倾斜30度左右
A、因偏斜而使光圈变高，则将修改模R再修大写（指修改模为凸模，旋在主轴上）
B、抛光模为凸模，旋在主轴上手持凹修改模修整偏斜角度略大，便会使光圈变低，可将修改模R略大些
3、发现光圈塌边时首先要检查抛光模是否脱落
修改方法
凸抛光模
凹抛光模
修改模具时，上、下模要贴合在一起，倾斜一定角度，并做摆动；偏斜角度的大小根据需要做调整
1、需要低光圈时，将凸精磨模旋在主轴上:
A、手持对改模在上，则需角度大些
B、摆动越大,光圈越低
2、需要高光圈时
A、需要光圈高些，则需摆动角度小些
B、如此时摆角已很小光圈仍是很低，可将对改模旋在主轴上,手持精磨模在上修改
影响抛光工序光圈稳定的因素
1上道工序的光圈配合是否合适是十分重要的 ，上道工序要按工艺图纸上要求去做，否则抛光就无法稳定光圈，上道光圈低，抛光随之变低，反之上道工序光圈高，抛光也变高。
2 摆角、摆幅要按规定的方法调整。摆幅调整的方法.COSA=Ｄ/2R，得出系数，根据系数找出相应的摆幅。
3加大压力光圈会变低，减少压力光圈会变高.
精磨工艺
精磨工艺.txt喜欢我这是革命需要，知道不？！你不会叠衣服一边呆着去！以后我来叠！我一定要给你幸福，谁也别想拦着。
第四章精磨精磨又称细磨。
它是介于粗磨与抛光两大工序之间的重要工序。
精磨的目的是保证工件达到抛光前所需要的面形精度、尺寸精度和表面粗糙度。
因此，精磨的质量对抛光的影响是非常重要的。
精磨的方法分为散粒磨料精磨和金刚石精磨。
前者称为古典法精磨，又称自由研磨；后者称为高速精磨。
§4—1精磨的技术要求与技术分类一、精磨的技术要求。
1、表面粗糙度要求粗磨完工的光学玻璃表面粗糙度比较大，即表面凹凸程度很严重。
散粒磨料加工常以金刚砂研磨后留下来的表面，其玻璃表面破坏层约30微米，表面粗糙度RZ小于6微米；固着磨料加工常以金刚石砂轮加工的表面，其表面破坏层约50微米，表面粗糙度RZ约在0.9微米以下。
精磨的目的之一，就是要使光学玻璃表面凹凸程度变小，以达到能被抛光抛去的程度。
目前情况下认为：用散粒磨料以金刚砂加工后破坏层在12微米以下，粗糙度在0.4微米以下；固着磨料加工时，以W10金刚石丸片加工后的破坏层在8微米以下，表面粗糙度Rz在0.35微米以下。
2、几何面形精度要求光学完工的几何面形要求—般很高，往往是在微米级精度，要达到这样高的精度，只能通过精磨这道工序逐级提高，从而为最后的抛光工序作好准备。
在古典法抛光中，精磨后的表面几何形状要比抛光完工零件差4～8个牛顿干涉圈，大约2微米左右；在现代高速抛光中只能相差2个牛顿干涉圈，约0.5微米左右。
这里要注意，在实际生产中，精磨后的面形应该是低光圈，这时对凸透镜来说是曲率半径应大一些，而对凹透镜则相反，曲率半径要小一些。
二、精磨方法的分类精磨一般可以分为散粒磨料研磨法和固着磨料法。
后者又分为：成型面形工具和范成法之分。
散粒磨料精磨也称古典法，就是以金属成型模具(通常用黄铜)，中间加上金刚砂对玻璃逐步研磨。
每更换一次磨料粒度就得更换一个曲率半径的球摸。
抛光生产工艺流程
•抛光生产工艺流程抛光是一种常见的表面处理方法，可以使物体表面光滑、光亮。
下面我将介绍抛光的生产工艺流程。
1.选择适当工具和材料：根据需要抛光的物体材料和大小，选择合适的工具和磨料。
一般常用的工具有研磨机、抛光机等，常用的磨料有砂纸、砂轮、抛光膏等。
2.清洁表面：在进行抛光之前，首先需要确保物体表面干净，没有灰尘和污垢。
可以使用清洁剂、水或其他适当的方法清洁表面。
3.粗磨：将研磨机或抛光机的砂轮装上合适的砂纸或研磨布，对物体进行粗磨。
根据物体的材质和需要的效果，选择适当的砂纸和研磨布进行研磨。
粗磨的目的是去除表面的凹凸不平和瑕疵。
4.中磨：经过粗磨后，再使用细一些的砂纸或研磨布进行中磨。
中磨的目的是去除粗磨留下的划痕和改善表面的光滑度。
5.细磨：经过中磨后，再使用更细的砂纸或研磨布进行细磨。
细磨的目的是进一步改善表面的光滑度，使其更加平整。
6.抛光：通过抛光机和抛光膏对物体进行抛光。
抛光膏可以选择不同的颗粒大小，根据需要选择合适的抛光膏进行抛光。
抛光时，需要控制好抛光机的速度和压力，以及抛光膏的用量，以达到理想的抛光效果。
7.清洗：抛光完成后，需要对物体进行清洗，以去除抛光时产生的残留物和抛光膏。
可以使用清洁剂、水或其他合适的方法进行清洗。
8.上蜡保护：对于一些特殊物体，可以在抛光完成后进行上蜡保护。
上蜡可以增加物体的保护层，并提高其耐磨性和亮度。
总结起来，抛光的生产工艺流程包括清洁表面、粗磨、中磨、细磨、抛光、清洗和上蜡保护等步骤。
根据不同的物体和要求，可以进行适当的调整和改进。
抛光工艺流程的每一步都需要仔细操作，以确保最终的抛光效果和质量。
光学下摆抛光技术培训教材1
0.4
120—240
12
0.45
140—27.50
14
0.5
150—310
16
0.55
170—340
17
0.6
18.50—360
18
0.65
200—400
20
0.7
22.50--440
22
0.75
250—47.50
23
0.8
270-500
24
0.85
29.50—540
25
编制 审核 批准
日期 日期 日期
4抛光的时间根据工艺图纸要求而定，先小批量送验合格，后再大批量生产。每天要送质检检验3-4次。
5抛光模做了一段时间上了抛光粉要用干净的指定的刷子将沉淀粉除掉。
6抛光夹具内要平滑，不可有杂质。垫一层阻力片，要经常清洗，不用时将其泡在水中，保持清洁与温度，切记不可用有字的报纸或有油性的脏布等容易影响光洁度的添层。
3、（1）摆角的调整：（零件在上加工）
A、光圈变化向低反发展，可将摆角调小；
B、反之3，则将摆调大
（2）摆幅的调整，根据被加工零件的张角大小来调整：
A张角大，摆幅调大
B、张角小，摆幅调小
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2、检查使用工具（对改模、台灯、纱布，六角扳手等）
放置于机台上方工作面上
3、检查待加工镜片
放置于机台上方工作面上
4、打开PZ30终端组合电器开关（在旁边墙壁上）
黑色开关推上为OK
6、打开控制面板电源
旋钮到ON的位置
7、打开冷却液开关，检查冷却液是否充足，否则要添加
开关扳到ON位置为OK
3、放置平稳后启动自动按钮，经加工面去除精磨破坏层
3、一般光圈不要太正就可以，局部误差不需要很好
4、外观磨好后，用左（右）手提起顶针，同时用右(左)手母指和食指拿住夹具，取出夹具
4、为了不与丸片碰擦，镜片从“上”取出，而不是从边上移出
5、左手拿夹具，右手拿镜片，从夹具里取出镜片，更换另一个镜片
5、注意区分大小面
化学名称为聚氨基甲酸酯，简称聚氨酯。我们所用的聚氨酯片，是一种具有良好微孔结构，其强度、耐磨性、耐酸性、耐热性均较好，其硬度和塑性适中，是一种抛光效率高，使用寿命长的研磨抛光材料。其抛光镜片表面粗糙度为0.01—0.04μm.。
根据玻璃的磨耗度，从硬到软可参考按以下顺序选用聚氨酯片：
1．LP—87 淡黄色或肤色
8、机台其他加工条件按标准书设定，确保机台运转正常
机台调试见《SSP-4调试手册》
第二步：
镜片加工
1、左手拿夹具，右手拿镜片放入夹具使两者吻合
1、注意区分大小面（很重要）
2、用右手提起顶针，同时用左手母指和食指拿住夹具，(工作面朝下)平放至丸片精磨模上,使顶针尖对准夹具的端子
2、放上去尽量不与丸片碰擦，（镜片从“上”放下，而不是从边上移入）
关机顺序
关机流程
注意事项
第一步：
关闭电源
1、确定机台运转是否正常
否则必须确定修理好后才可关
2、关闭控制台电源
旋钮到OFF的位置为OK
3、关闭机台（启动按钮在机台前下方，总电源开关下方）
黑色按钮按下为OK
4、关闭机台总电源（开关在机台前下方）
黑色开关下推为OK
5、关闭台灯
开关按钮至OFF为OK
第二步：
2、镜片的擦拭和样板的使用见《样板使用注意手册》
十分重要
关机顺序
关机流程
注意事项
第一步：
关闭电源
1、确定机台运转是否正常
否则必须确定修理好才可关
2、关闭控制台电源
旋钮到OFF的位置为OK
3、关闭台灯
开关按钮至OFF为OK
4、关闭机台电源（机台右侧）
黑扳手扳下、显示OFF为OK
第二步：
5S要求
1、用干净的毛巾擦拭机台，直至干净为止。
另外在一定围，增大抛光压力，提高主轴转速，抛光速率显著提高，高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得，抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1～1.2um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。
三、抛光基本常识：
1、光圈的概述：
被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时，它们之间形成对称的契形空气间隙，从而产生等厚干涉条纹，在白光照射下，可见到彩色光环，这种彩色环称为光圈，物理学中称牛顿环。
5S要求
1、用干净的毛巾擦拭机台，直至干净为止。
1、要以5S的标准清理打扫
2、要防止测量用具掉落事故
3、如果需要应给机台加油防锈
2、将使用过的工具擦拭干净，整齐放置于左侧工作台上。
3、将测量用具（百分表）擦拭干净后，整齐放置在工作台上，并收起样板，妥善保管
4、完工的镜片整齐放置或者直接转入下道工序。
4.1车床车出来的聚抛基模表面不是一个理想的球面，会有凹凸不平，甚至有严重的毛刺。
4.2贴上去的聚氨酯片自身凹凸不平，也不是理想的球面
4.3即使没有以上两者原因，在贴聚氨酯片的时候，由于AB胶的原因或者因为操作者的原因会使聚氨酯片和基模的表面接触不理想，造成凹凸不平。
所以模具制作是球面零件抛光作业前的必需工作，否则无法加工。（注意：如果用下摆机加工，模具制作工作应做在抛光加工之前）
状态
2、一般顶针尖与模具边缘的距离在5mm左右，在摆幅到边缘仍能受到与中心时的一致的压力。
3、如果距离不合适，用六角扳手拧松顶针前的螺母
4、上下调整顶针的位置，同时观察顶针尖到模具的距离
5、调整完毕后拧紧螺母即可
第七：调径跳动
研磨抛光机各轴装上聚抛模后，径跳动精度要好。径跳动大的，如果是接头不行，则要换接头，并注意是否接头或主轴底座基准位被碰环。如果是主轴精度不好的则联络机修予以修理。
附件4：《研磨抛光不良及对策》
项目
不良原因分析
不良对策
1、要以5S的标准清理打扫
2、要防止测量用具掉落事故
3、如果需要应给机台加油防锈
2、将使用过的工具擦拭干净，整齐放置于工作面上。
3、将测量用具（百分表）擦拭干净后，整齐放置在工作台上。收起样板，妥善保管
4、完成的镜片整齐放置或者直接转入下道工序。
注意：由于LP330与SSP4十分相似，只是加工围不同，因此调机手册可参考SSP4调机手册
4、注意避免指甲刮伤镜片表面
5、重复1～4动作，完成抛光表面，达到最终的光圈数和局部误差要求
5、在转动未停止前，手不可接触聚抛模
6、抛光面加工完成后，将镜片取出，放置于干净盆
6、镜片不可叠放，不可掉落
注意：
左(右)手母指将镜片一边稍用力按住，待另一边微微橇起，右(左)手食指与母指将镜片从夹具取出
从夹具取镜片的动作要领，特别当夹具夹的较紧时
五、附件：
1、《SSP-4上摆机（研磨）操作手册》
2、《SSP-4上摆机（研磨）调机手册》
3、《光进045下摆机研磨机操作手册》
4、《抛光不良及对策》
5、《局部误差不良状况分析》
6、《光圈不良状况分析》
附件1：《SSP-4上摆机（研磨抛光）操作手册》
操作顺序
操作流程
注意事项
第一步：
作业准备
1、检查测量用具（百分表，大小面样板）
3、适当调整顶针高度、倾斜程度，看顶针尖是否过球心，若没有，则调整调整轮，使顶针尖对准模具中心。即准球芯加工。
4、不放镜片，启动手动按钮，让顶针在模具上摆动
5、同时目测顶针尖摆动的弧度是否和模具的弧度吻合
第二：
摆幅调整
1、先松开后摆顶部的螺帽，然后依面精度进行大小调整。一般调试原理：凹面镜片在上，抛光模在下，调大R值变小，光圈变低，研磨量相对去得多，容易中间多磨，调小R值变大，光圈变高，研磨量相对去得少，边缘多磨(以上为正常从边缘磨削进去的)。最后紧固螺丝。
文件名称
下摆机研磨工艺
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版次
第一版
作成
审核
批准
具
体
容
一、目的：
光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。
1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。
2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R值，并满足零件光圈数N及光圈局部
误差△N的要求。
二、抛光机理：
认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小围进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定围时，粒度越大，抛光效率越高；抛光粉硬度越高，抛光速率越高(如氧化铈Ce02抛光粉比红粉Fe203硬度高，前者比后者抛光速率高2～3倍)。
6、重复1～5动作，完成抛光表面，达到最终的光圈数和局部误差要求
6、在转动未停止前，手不可接触丸片精磨模
7、抛光完工后，将镜片取出，放置于干净盆或者直接进行另一个面的加工
7、镜片不可叠放，不可掉落
注意：
1、左手母指将镜片一边稍用力按住，待另一边微微橇起，右(左)手食指与母指将镜片从夹具取出
从夹具取镜片的动作要领，特别当夹具夹得较紧时
b)局部误差计算方法：
A、象散光圈：△N1=b/a-1 B、光圈局部不规划：△N2=a/b=0.2/1=0.2规则：0.5圈OK
四、抛光前所需的准备工作：
1、配抛光液：
用对应的抛光粉配一定浓度的抛光液，一般抛光液的浓度设定为1.015—1.025（g/cm3），具体根据实际的玻璃情况设定，一般选择原则是软玻璃浓度小些，硬玻璃浓度适当取大一些。大约比例为：
1、调节摆幅是使用摆顶
部的微调螺母
2、调节时不可过多，每次
只可稍微调节，看效果以后再调整
2、如果光圈数低，将摆幅调大或者将摆幅调小
3、如果光圈数高，将摆幅调小或者将摆幅调大
第三：调整转速
1、开始抛光的时候，主轴速度宜低，然后慢慢加大速度
调整机台主轴下面的皮带轮，皮带轮外径大的转速较慢、皮带轮外径小的转速较快。
2、等调试稳定之后，一般将主轴转速调到最大
3、主轴转速有两段，应根据不同性质的镜片合理设定
第四：调气压
1、压力根据不同镜片合理设定
压力大小直接影响研磨的时间和外观，应根据不同镜片的磨削量的不同合理选择压力。
2、压力大小在标准书上已经给出，基本参考上面的数值
3、由于压力只有在启动状态下才显示数值，因此应该在启动过程中调整气压大小
附件3：《光进045下摆机研磨抛光操作手册》
操作顺序
操作流程
注意事项
第一步：
作业准备
1、检查测量用具（百分表，大小面样板）
检查样板，确认OK
2、检查使用工具（对改模、台灯、纱布）
放置于左边或右边工作台上
3、检查待加工镜片
放置于左边或右边工作台上
4、打开机台总电源（开关在机台前下方）
黑色开关推上为OK
5、启动机台（启动按钮在机台前下方，总电源开关下方）