单回路控制系统原理样本

单回路控制系统原理

一、过程控制的特点

与其它自动控制系统相比, 过程控制的主要特点是:

1、系统由工业上系列生产的过程检测控制仪表组成。一个简单的过程控制系统是由控制对象和过程检测控制仪表( 包括测量元件, 变送器、调节器和调节阀) 两部分组成。

如图1: 液位控制系统

Q2

K C: 调节器的静态放大系数

K V: 调节阀的静态放大系数

K0: 被控对象的静态放大系数

K m: 变送器的静态放大系数

2、被控对象的设备是已知的, 对象的型式很多, 它们的动态特性是未知的或者是不十分清楚的, 但一般具有惯性大, 滞后大, 而且多数具有非线性特性。

3、控制方案的多样性。有单变量控制系统、多变量控制系统; 有线性系统、有非线性系统、; 有模拟量控制系统、有数字量控制系统, 等等。这是其它自动控制系统所不能比拟的。

4、控制过程属慢过程, 多半属参量控制。即需对表征生产过程的温度、流量、压力、液位、成分、PH等进行控制。

5、在过程控制系统中, 其给定值是恒定的( 定值控制) , 或是已知时间的函数( 程序控制) 。控制的主要目的是在于如何减少或消除外界扰动对被控量的影响。

工业生产要实现生产过程自动化, 首先必须熟悉生产过程, 掌握对象特点; 同时要熟悉过程参数的主要测量方法, 了解仪表性能、特点, 根据生产工艺要求和反馈控制理论的分析方法, 合理正确地构建过程控制系统; 而且经过改变调节仪表的PID特性参数, 使系统运行在最佳状态。

过程控制系统的品质是由组成系统的对象和过程检测仪表各环节的特性和系统的结构所决定的。

二、单回路控制系统原理

如图1所示单回路控制系统由对象、测量变送器、调节器、调节阀等环节组成。由于系统结构简单, 投资少, 易于调整、投运, 又

能满足一般生产过程的控制要求, 因此应用十分广泛。

单回路控制系统的设计原则同样适用于复杂控制系统的设计, 控制方案的设计和调节器整定参数值的确定, 是系统设计中的两个重要内容。如果控制方案设计不正确, 仅凭调节器参数的整定是不可能获得较好的控制质量的; 反之, 如果控制方案设计很好, 可是调节器参数整定不合适, 也不能使系统运行在最佳状态。

1、选择被控参数

对于一个生产过程来说, 影响正常操作的因素是很多的, 可是, 并非对所有影响因素都需要加以控制。

选择被控参数的一般原则为:

[1]、选择对产品的产量和质量、安全生产、经济运行和环境保护等具有决定性作用的、可直接测量的工艺参数为被控参数。

[2]、当不能用直接参数( 如测量滞后过大) 作为被控参数时, 应选择一个与直接参数有单值函数关系的间接参数作为被控参数。

[3]、被控参数必须具有足够大的灵敏度。

[4]、被控参数的选取, 必须考虑工艺过程的合理性和所采用仪表的性能。

2、选择控制参数

若生产工艺有几种控制参数可供选择, 一般希望控制通道克服扰动的校正能力要强, 动态响应应比扰动通道快。

控制通道: 是指调节作用与被控参数之间的信号联系。即P( t) 到y( t) 。

扰动通道: 是指扰动作用与被控参数之间的信号联系。即f( t) 到y( t) 。

扰动作用是由扰动通道对对象的被控参数产生影响的, 使被控参数偏离给定值。引入控制作用的目的是为了克服扰动作用的影响, 使被控参数恢复和保持在给定值上。而控制作用是由控制通道对对象的被控参数施加影响, 抵消扰动作用。

选择控制参数的一般原则为:

[1]、选择控制通道的静态放大系数K0要适当大一些, 时间常数T0应适当小一些, 纯滞后时间τ0则越小越好。

[2]、选择扰动通道的静态放大系数K f应尽可能小, 时间常数T f 应大些, 扰动引入系统的位置离被控参数越远, 即越靠近调节阀, 控制质量越好。

[3]、当控制通道由几个一阶惯性环节组成时, 为了提高系统的性能, 应尽量拉开各个时间常数。

[4]、应注意工艺上的合理性。

3、系统中的测量及信号传递问题

在过程控制系统中, 测量变送环节起着信息获取和传送作用。在具体分析测量变送环节对控制质量的影响时, 经常碰到测量、变送和信息传送中的滞后问题。因为它会引起控制指标的下降, 系统失调, 甚至产生事故。测量变送中的滞后包括测量滞后, 纯滞后和信息传送滞后等, 这些滞后均与测量元件本身的特性、元件安装位置的选择和信息传送的方法有关。

A、测量滞后

测量滞后是测量元件本身的特性所引起的动态误差。例如用热电偶或热电阻测量温度时, 由于其保护套管存在着热阻和热容, 因而具有一定的时间常数, 测温元件的输出信号总是滞后于被控参数的变化, 引起被控参数的测量值与真实值之间产生动态误差, 从而造成控制质量下降。

为了克服测量滞后的不良影响, 在系统能够采用以下措施:

[1]、合理选择快速测量元件。

[2]、正确使用微分环节。

B、纯滞后

纯滞后往往是由测量元件的安装位置不当而引入的。在生产过程中, 温度测量和成分分析最容易引入纯滞后。

微分作用对于纯滞后是无能为力的。为了克服纯滞后的影响, 只有合理选择测量元件的安装位置, 尽量减小纯滞后。当过程参数测量引起的纯滞后较大时, 单回路控制系统很难满足生产工艺要求, 应考虑其它控制方案。

C、信息传送滞后

测量信息传送滞后, 主要是指气动单元组合仪表的输出信号在管路中传送所造成的滞后。为了克服信号传送滞后, 可采用以下措施:

[1]、用气—电和电—气转换器, 将气压信号转换为电信号再传送。

[2]、在气压信号管路上设置气动继动器或气动阀门定位器, 以增