光电子与微电子器件及集成重点专项2019年度项目申报

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2019年度先进制造关键支撑材料重点专项申报指南

2019年度先进制造关键支撑材料重点专项申报指南

2019年度先进制造关键支撑材料重点专项申报指南附件32019年度“先进制造关键支撑材料”重点专项申报指南为落实《“十三五”广东省科技创新规划(2016-2020年)》,根据《广东省重点领域研发计划实施方案》,围绕国家重大工程和我省先进制造产业的关键支撑材料需求,结合国际新材料前沿技术发展趋势,启动实施“先进制造关键支撑材料”重点专项。

本重点专项的目标是:面向我省高端装备制造、特高压及相关电气制造产业重点领域关键材料需求和重点基础材料的性能提升需求,突破一批关键材料与技术,推动相关材料的高性能、差别化发展,提高先进制造重点领域新材料的全链条贯通、集成和应用水平。

本专项重点部署4个专题,每个专题支持1项,实施周期为3-4年。

申报时需按专题申报,研究内容必须涵盖该专题下所列的全部内容,项目完成时应完成该专题下所列所有考核指标。

每专题参研单位总数不得超过10个。

除特别说明外,本专项要求企业牵头申报,大企业联合创新型中小企业、高校、科研院所等,产学研联合申报;项目完成时取得的成果需实现量产和销售。

专题1:高品质热作模具钢研发与产业化(专题编号:20190184)研究内容:研究优化高品质热作模具钢合金成分设计、全链条生产工艺对使用性能影响;研发高品质热作模具钢及模具生产加工工艺新技术,提高钢的纯净度,降低夹杂物,降低连铸坯表面裂纹,改善钢材内部质量,减少内部偏析、疏松、裂纹,实现碳元素偏析波动小,强度、韧性、耐腐蚀、耐磨损、热疲劳寿命等性能的协同提升;研发基于大科学装置平台的模具钢材料性能和残余应力等先进表征、控制技术;建立模具钢组织、性能与热疲劳特性的内在联系的数据库;研究残余应力对模具加工、服役行为及使用寿命影响规律;研究热作模具钢的服役疲劳失效机理,建立热作模具钢的疲劳评定标准;研究并开发不同工况下热作模具的表面强化技术与工艺,提高热作模具的耐磨性和服役寿命;研发模具钢全链条生产全工艺的数值仿真模型、疲劳寿命预测多尺度数值仿真模型及软件系统。

光电子与微电子器件及集成重点专项

光电子与微电子器件及集成重点专项

“光电子与微电子器件及集成”重点专项
2019年度项目申报指南编制专家名单
序号姓名工作单位职称职务
1祝宁华中国科学院半导体研究所研究员/副所长2黄如北京大学院士/院长3周军华中科技大学教授/主任4崔一平东南大学教授/主任5苏翼凯上海交通大学教授/主任6张宝顺中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员/主任7林文雄中国科学院福建物质结构研究所研究员/副所长8江风益南昌大学教授/副校长9罗毅清华大学教授
10闫连山西南交通大学教授/主任11魏少军清华大学教授
12徐炜遐国防科技大学研究员/总工
—1—。

2019年市中试平台支持项目申报指南【模板】

2019年市中试平台支持项目申报指南【模板】

2019年市中试平台支持项目申报指南一、光电子芯片中试平台1.具备条件与支持内容:承担单位须拥有世界先进的光电子器件研发设备,有专业团队负责平台的运营维护;具备为半导体激光器、半导体探测器、硅光集成芯片等有源无源器件产品提供工艺制造的中试服务能力。

支持平台整合光电子领域优质加工资源及技术资源,提升“芯片设计、材料生长、器件封装及器件测试及应用评估”中试服务能力;密切产学研合作,在高端材料生长、核心芯片工艺、先进封装集成等方面为高校、科研院所及企业提供专业化中试服务,促进科技成果落地转化;加大平台开放共享,完善对外开放服务工作机制。

2.考核指标:整合行业领域资源,搭建完善的光电子芯片中试服务平台;提供中试服务内容__项以上;服务光电企业、高校、科研院所___家以上;解决纳米尺度下光电子芯片的制备工艺、半导体激光器制程工艺等中试关键技术__项以上;密切产学研合作,签订产学研合作协议__项以上;获得专利__项以上。

二、化学原料药药物一体化中试平台1.具备条件与支持内容:承担单位须具有绿色制药-连续反应装置;具备连续性反应技术、生物转化技术、电化学技术等绿色制药技术中试应用能力。

支持发挥好现有平台作用,整合行业领域中试资源,构建创新药___服务、___业务、制剂研发生产、仿制药一致性评价、临床试验服务、生物样本检测以及药品注册申报等在内的全方位中试服务体系,提供“药物一体化中试服务”;建立对外开放服务工作机制,积极推进平台开放共享,加强中试专业人才培养;加强产学研合作,探索建立低消耗、低排放、高效率的绿色制药和可持续发展模式。

2.考核指标:围绕医药领域上下游,整合化学原料药中试平台资源,搭建完善的化学原料药中试服务平台;提供中试服务内容__项以上;服务企业、高校、科研院所___家以上;攻克化学原料药中试绿色关键技术__项以上;年均服务性收入___万元以上;获得专利__项以上。

三、海水淡化与综合利用中试平台1.具备条件与支持内容:承担单位须具备热法海水淡化、膜法海水淡化、浓海水综合利用等中试基础;具有提供海水淡化与综合利用新技术、新装备、新材料及新工艺的研发、测试评价、工程验证以及浓海水高值化利用研究的中试服务能力。

集成电路+检验检测重大专项申报指南

集成电路+检验检测重大专项申报指南

集成电路+检验检测重大专项申报指南一、引言随着信息技术的快速发展,集成电路产业已经成为国家经济发展的重要支柱产业。

然而,我国在集成电路检验检测技术方面仍有一定的薄弱环节,为了加快我国集成电路产业的发展,提高国际竞争力,国家相继出台了一系列政策和支持措施。

其中,集成电路+检验检测重大专项是其中之一,旨在加强我国集成电路检验检测技术的研发和应用,提高我国在全球集成电路领域的地位,推动集成电路产业转型升级,实现高质量发展。

本文将对集成电路+检验检测重大专项的申报指南进行详细解读,帮助申报单位顺利申报,提高申报成功率。

二、申报资格1.申报单位的基本条件:申报单位必须是具有独立法人资格的企业、高等院校、科研院所等科技研究和生产实力较强的单位;2.申报单位的主要研发能力:具备在集成电路检验检测领域的独特技术优势和核心竞争力,有一定的科研队伍和实验基地,能够承担项目的研究开发和实施任务;3.兼顾国际化视野:具备较强的国际化视野和国际技术交流合作能力。

三、申报项目要求1.项目主题:申报项目的主题必须紧密围绕集成电路检验检测技术,主要涉及技术研究、原创性技术创新、应用示范等内容;2.项目内容:项目内容应当明确具体,切合国家集成电路+检验检测重大专项的相关政策与要求;3.项目研究方向:项目研究方向应当有明确的前瞻性和发展性,能够为我国集成电路产业的快速发展做出实质性贡献;4.项目实施阶段:项目实施阶段分为前期调研、中期研发和后期应用示范等环节,项目应当合理分阶段开展。

四、申报材料1.申报书:详细阐述项目的研究内容、目标、技术路线、预期效益等内容;2.申报单位的基本情况:包括单位的组织机构、人员概况、科研实力等情况;3.研发团队:申报单位的研发团队组成及主要技术人员的简介;4.项目预算:包括项目的资金需求、预期投入、经费使用计划等;5.相关支持文件:包括技术评估报告、政府批复文件、行业协会推荐信等。

五、申报流程1.申报前准备工作:收集相关申报资料、明确申报主题、制定申报计划等;2.在线申报:登录相关部委网站,填写申报信息,上传相关申报材料;3.材料审核:相关部门对申报材料进行初审,符合要求的材料进入评审阶段;4.项目评审:由行业权威专家组成评审团,对申报项目进行技术、经济等多方面评审;5.结果公布:评审结束后,公布最终获得资助项目名单。

“制造基础技术与关键部件”重点专项2019年度项目申报指南

“制造基础技术与关键部件”重点专项2019年度项目申报指南

附件5“制造基础技术与关键部件”重点专项2019年度项目申报指南为落实《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006—2020年)》《国家创新驱动发展战略纲要》和《中国制造2025》等规划,国家重点研发计划启动实施“制造基础技术与关键部件”重点专项。

根据本重点专项实施方案的部署,现发布2019年度项目指南。

本重点专项总体目标是:以高速精密重载智能轴承、高端液压与密封件、高性能齿轮传动及系统、先进传感器、高端仪器仪表以及先进铸造、清洁热处理、表面工程、清洁切削等基础工艺为重点,着力开展基础前沿技术研究,突破一批行业共性关键技术,提升基础保障能力。

加强基础数据库、工业性验证平台、核心技术标准研究,为提升关键部件和基础工艺的技术水平奠定坚实基础。

通过本专项的实施,进一步夯实制造技术基础,掌握关键基础件、基础制造工艺、先进传感器和高端仪器仪表的核心技术,提高基础制造技术和关键部件行业的自主创新能力;大幅度提高交通、航空航天、数控机床、大型工程机械、农业机械、重型矿山设备、新能源装备等重点领域和重大成套装备自主配套能力,—1—强有力地支撑制造业转型升级。

本重点专项按照产业链部署创新链的要求,从基础前沿技术、共性关键技术、应用示范三个层面,围绕关键基础件、基础制造工艺、先进传感器、高端仪器仪表和基础技术保障五个方向部署实施。

专项实施周期为5年(2018—2022年)。

2019年指南在五个方向,按照基础前沿技术类、共性关键技术类和应用示范类,拟启动不少于28个项目,安排国拨经费总概算约4.5亿元。

为充分调动社会资源投入制造基础技术与关键部件的技术创新,在配套经费方面,共性关键技术类项目,配套经费与国拨经费比例不低于1:1;应用示范类项目,配套经费与国拨经费比例不低于2:1。

项目申报统一按指南二级标题(如1.1)的研究方向申报。

每个项目拟支持数为1~2项,实施周期不超过3年。

申报项目的研究内容必须涵盖二级标题下指南所列的全部研究内容和考核指标。

集成电路项目立项申请

集成电路项目立项申请

集成电路项目立项申请尊敬的领导:我代表本团队向贵单位提交一份集成电路项目立项申请。

我们团队经过认真调研和分析,发现集成电路技术在现代化产业中的重要性和广泛应用,因此希望能够开展相关领域的集成电路项目,以推动我国在该领域的发展。

一、项目背景和目标随着信息技术的快速发展和应用需求增加,集成电路作为信息技术发展的重要基础和关键支撑,已经成为国家经济建设和国防现代化建设的重要组成部分。

当前,我国集成电路产业发展中存在一些问题,如核心技术受制于人、高端市场依赖进口等,这些问题制约了我国集成电路产业的发展。

因此,我们立项的目标是通过开展集成电路项目,加强国内集成电路的研发能力和生产能力,构建我国自主可控的集成电路产业体系。

二、项目内容和技术路线本项目主要以集成电路的设计、制造和封装为核心内容,涉及的技术包括半导体材料、工艺制程、设计软件和设备等。

我们计划与各大高校、科研院所和企业进行合作,共同研发、推广和应用自主可控的集成电路产品。

具体的技术路线包括:加强半导体材料的研发和生产能力,优化工艺流程,提高集成电路的制造效率和质量;引进和培养设计软件和设备,提高集成电路的设计能力和自动化水平。

通过持续的技术创新和产业链的完善,实现集成电路的自主可控,提升我国在该领域的核心竞争力。

三、项目预期效益1.结合我国现有的产业和市场需求,通过集成电路项目的开展,将增加我国的产业增长点,促进经济的稳定增长,并提高经济结构的调整能力。

2.集成电路产业的发展将带动相关产业链的发展,提高我国整个产业链的国际竞争力,提升高端制造能力。

4.推动集成电路技术的发展,将促进科技进步和创新能力的提升,加快我国从“制造大国”向“智造强国”的转变。

四、项目实施计划和资金需求我们计划以三年为周期,分为前期准备、中期研发和后期推广三个阶段进行实施。

前期准备包括项目组建、技术调研和市场分析等工作;中期研发主要包括技术攻关和样品生产等;后期推广将进行产品批量生产和市场推广。

2019年度省重点研发计划重大科技创新工程(第二批)拟立

2019年度省重点研发计划重大科技创新工程(第二批)拟立

互联网+智能立体车库+大数据云平台管理系统工程 山东九路泊车设备股份有限公司
基于5G-V2X车路融合的乘用车自动驾驶项目
山东国金汽车制造有限公司
基于5G支撑的天空地一体化智慧农业决策支持平台 山东华宇航天空间技术有限公司
基于车路协同技术的智能交通服务平台建设与产业化 应用 基于大数据智慧型并网机组网源协同调频关键技术研 究与工程应用
大数据安全关键技术研究
齐鲁工业大学
基于快速密码算法的大数据高效安全存储系统
山东正中信息技术股份有限公司
区块链网络监管与安全防护关键技术
面向人工智能的自主可控大数据安全存储系统 高性能PBO纤维关键技术开发及产业化 柔性氧化铝陶瓷纤维制备汽车尾气三元催化用衬垫关 键技术及产业化应用 高性能差别化间位芳纶制备与工程化关键技术 基于纤维增强的功能性聚氨酯脲弹性体复合人防工程 材料的研究与产业化 微发泡注塑成型轻质高强原位微纤增强聚乳酸复合材 料构件的关键技术研究
申报项目名称
申报单位
合作单位
主部门
工业制造设备预测性维护的关键技术研究
青岛大学
基于多源异构数据的装备智能化服务关键技术研究与 中国科学院计算技术研究所济宁分所 应用
省级自然资源监测监管大数据应用服务平台建设
山东省国土测绘院
供水管网漏损监控大数据分析系统
山东潍微科技股份有限公司
数字孪生城市四维可视化信息系统及其在济南城区的 济南轨道交通集团有限公司 应用
山东省计算中心 (国家超级计算济南中 心) 北京鲸鲨软件科技有限公司 山东非金属材料研究所 山东东珩胶体材料有限公司 烟台泰和新材料股份有限公司 山东龙祥新材料科技有限公司
山东大学
高性能及大功率光纤激光关键材料研发和产业化

2019年重大科技项目申报指南.doc

2019年重大科技项目申报指南.doc

浏览字体:大中小重大科技专项申报指南来源:广东省科技厅发布日期:2011-01-17第一部分、“低碳技术创新与示范”申报指南2011年“低碳技术创新与示范”重大科技专项立足于低碳产业发展的重大科技需求,坚持重点突出、实效优先的原则和资源化、效益化、产业化的导向,重点支持低碳重大关键技术、产品、设备的研发及产业化,低碳技术综合示范区和示范企业建设,为大力发展低碳经济,推动产业转型升级,加快转变经济发展方式提供强有力的科技支撑。

一、专项内容专题一:低碳新技术、新产品研发及产业化(专题编号:0801)1. LED高端产品研制与创新示范项目内容:重点解决LED模块化设计及封装、LED单元高效散热、LED产品加速老化检测等重大关键技术,支持以新的技术路线研发新型LED室内光源产品、LED特种照明产品、LED汽车前照大灯、高亮度商用LED微型光源产品、新型大尺寸LED显示屏、高效散热封装新材料等并实现产业化。

选择省级大型公益性科学活动场所开展LED室内照明产品应用示范。

通过关键技术和战略产品的研发,建设支撑广东LED产业未来发展的共性技术创新平台。

申报要求:具有自主知识产权,技术先进性、新颖性特征明显,工艺稳定、质量可靠,产品具有竞争力并实现产业化。

2.大型风电装备核心部件及重大试验支持装备开发项目内容:围绕3MW以上大型风机核心部件及整机设备的研发及产业化,重点攻克风电变频变浆控制和驱动设计制造技术、直驱式发电机组设计制造技术、海上风电叶片制造技术等关键核心技术,研发风电用齿轮箱、发电机、轴承、叶片、偏航系统、控制系统等关键零部件和产品,构建风电装备重大试验支持平台,形成具有自主知识产权孵化能力的大型风电成套装置研发基地。

申报要求:项目申报单位必须依托我省成套风电制造企业,与产业链上下游企业进行实质性的技术合作,项目研究成果必须物化成成熟产品并应用于风电系列装备,产品通过相关检测认证,国产化率达到90%以上,项目完成后形成年产大型风电整机设备500台(套)以上的生产能力。

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附件4“光电子与微电子器件及集成”重点专项2019年度项目申报指南为落实《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006—2020年)》《2006—2020年国家信息化发展战略》提出的任务,国家重点研发计划启动实施“光电子与微电子器件及集成”重点专项(以下简称“本重点专项”)。

根据本重点专项实施方案的部署,现提出2019年度项目申报指南。

本重点专项的总体目标是:发展信息传输、处理与感知的光电子与微电子集成芯片、器件与模块技术,构建全链条光电子与微电子器件研发体系,推动信息领域中的核心芯片与器件研发取得重大突破,支撑通信网络、高性能计算、物联网等应用领域的快速发展,满足国家发展战略需求。

本重点专项按照硅基光子集成技术、混合光子集成技术、微波光子集成技术、集成电路与系统芯片、集成电路设计方法学和器件工艺技术6个创新链(技术方向),共部署49个重点研究任务。

专项实施周期为5年(2018—2022年)。

2019年度项目申报指南在核心光电子芯片、光电子芯片共性支撑技术、集成电路与系统芯片、集成电路设计方法学和器件工—1—艺技术5个技术方向启动19个研究任务,拟安排国拨总经费概算6.75亿元。

凡企业牵头的项目须自筹配套经费,配套经费总额与专项经费总额比例不低于1:1。

各研究任务要求以项目为单元整体组织申报,项目须覆盖所申报指南方向二级标题(例如:1.1)下的所有研究内容并实现对应的研究目标。

除特殊说明外,拟支持项目数均为1~2项。

指南任务方向“1.核心光电子芯片”和“2.光电子芯片共性支撑技术”所属任务的项目实施周期不超过3年;指南任务方向“3.集成电路与系统芯片”、“4.集成电路设计方法学”和“5.器件与工艺技术”所属任务的项目实施周期为4年。

基础研究类项目,下设课题数不超过4个,参研单位总数不超过6个;共性关键技术类和应用示范类项目,下设课题数不超过5个,参与单位总数不超过10个。

项目设1名项目负责人,项目中每个课题设1名课题负责人。

指南中“拟支持项目数为1~2项”是指:在同一研究方向下,当出现申报项目评审结果前两位评分评价相近、技术路线明显不同的情况时,可同时支持这2个项目。

2个项目将采取分两个阶段支持的方式。

建立动态调整机制,第一阶段完成后将对2个项目执行情况进行评估,根据评估结果确定后续支持方式。

1.核心光电子芯片1.1多层交叉结构的光子集成芯片(基础研究类)研究内容:聚焦基于硅基多维度交叉结构的光子集成芯片,—2—研究硅基层内和层间交叉结构及其三维集成技术,包括理论数值模型和优化设计方法与多层交叉连接机理、任意层间实现高效低串扰波导耦合的方法;研究层内可快速重构光交叉连接器、超小尺寸层内和层间光交叉连接器、以及任意层间可快速重构三维光交叉连接器等核心单元器件技术;研制CMOS兼容的硅基多层三维集成芯片及其工艺技术、三维多层光子芯片的高效快速测试方法。

考核指标:每层包含≥4×4光交叉连接阵列,任意两层间可实现可重构光互连,从而构成规模≥4×4×3的三维可重构光交叉阵列。

交叉连接重构时间≤10ns,层内波导损耗≤1dB/cm,层内光交叉连接插损≤3dB,层间耦合结构尺寸≤10μm×10μm,层间耦合效率≥80%,层间三维光交叉连接插损≤4dB,层间波导串扰≤-50dB。

实现典型场景的应用演示,申请发明专利20项以上。

1.2硅基可编程重构全光信号处理芯片(基础研究类)研究内容:聚焦可编程宽带全光处理集成芯片,突破超低损耗、超高密度、大规模硅基光子信号处理芯片的关键技术,制备CMOS工艺兼容的硅基可编程重构光子信号处理芯片,实现多功能可重构滤波器、各类非线性信号处理器件(逻辑运算、再生等),并在此基础上实现硅基多通道全光混叠集成器件,实现整个芯片的电学、光学封装,完成驱动电路和控制芯片以及可编程控制软件,进行系统应用实验,从而支撑高速多功能信号处理的发展。

—3—考核指标:研制出波导损耗≤0.6dB/cm,Q值≥1×105、低插入损耗可调滤波器;研制出可编程重构信号处理芯片,带宽可调,范围≥100MHz-40GHz;FSR可调,范围≥10GHz-200GHz;研制出单通道100Gb/s硅基可编程光子逻辑阵列器件和高维度多值逻辑运算器件;实现高阶调制格式的信号再生,非线性转换效率不低于-15dB;实现可编程重构全光信号处理芯片复杂逻辑功能和多维运算灵活拓展;实现不少于8个通道的电学、光学封装,完成外部驱动电路和控制芯片,具有软件可编程功能并实现系统验证。

申请发明专利20项以上。

1.3宽带微波光子信号调控核心器件与技术(共性关键技术类,拟支持2项)研究内容:聚焦模拟光通信系统对宽带微波光子信号调控核心器件与技术的需求,突破宽带微波光子信号调控技术,研制同时具备数字和模拟域调控功能控芯片,宽带光子混频芯片,宽带射频光子对消芯片;研制1×8和32×32光开关阵列,光学空间模式控制芯片,多信道采集芯片与模块,以及多节点采集网络系统;研制宽带信号光域调控与采样系统。

考核指标:同时具备数字和模拟域调控的功能调控芯片,频率范围达到25GHz、时间带宽积达到200、适用不低于6种动态信号;宽带光子混频芯片,工作频率DC-60GHz,转换效率≥-10dB,杂散抑制比≥40dB,无杂散动态范围≥115dB•Hz2/3;宽—4—带射频光子对消芯片,工作频段5~40GHz,对消带宽≥1GHz,对消抑制比≥50dB;1×8光开关阵列,消光比≥20dB、插入损耗≤10dB、开关时间≤10μs;32×32光开关阵列,插入损耗≤15dB、消光比≥20dB、开关时间≤100μs;光学空间模式控制芯片,可分辨点数≥100,光谱分辨≤0.5nm,空间模式转换速度≤1μs;多信道采集芯片与模块,工作频段DC-20GHz,信道数目≥8;多节点采集网络系统,网络节点数目≥8,网络中所有节点信道数之和≥20,网络覆盖范围≥20km;宽带信号光域调控与采样系统,频段范围2~40GHz,边带抑制比≥30dB,数据压缩比≤10%,带宽压缩比≤10%,可处理数据量≥1Tbit,采样带宽≥2GHz;上述芯片实现典型应用场景的演示验证,申请发明专利30项以上。

2.光电子芯片共性支撑技术2.1面向多波段探测的混合光子集成芯片与器件(共性关键技术类)研究内容:聚焦混合光子集成芯片共性支撑技术,研究有机材料和III-V族材料及金属材料混合集成技术,实现新颖的有机与无机光电功能材料相兼容的探测器件的理论设计、材料生长机理及界面主动修饰工程。

研究Si和III-V族材料及量子点材料混合集成技术,实现异质材料单片集成多波长探测器阵列的原理及多链条综合性能的理论设计、材料生长及各功能器件的制备技术。

研究Si和III-V族材料及滤光微结构混合集成技术,探索亚波长—5—结构在特定光谱探测中的高抑制比,明确多波段滤光微结构集成的波段间串扰机理。

考核指标:可重构的混合集成红外探测原型器件阵列,规模≥64×1(立体),盲元率≤1%;量子点异质混合红外光谱芯片实现单芯片、多波长探测器件阵列,光学信号探测规模≥256×256,工作温度≥200K,单芯片探测光谱范围覆盖0.9~1.7μm,单芯片光谱分辨率≤20nm,单芯片通道数≥100;实现具有1.20μm、1.38μm、1.61μm和2.10μm四波段窄带滤光微结构的探测器阵列,规模512×4(四波段),响应非均匀性≤10%,抗γ辐照≥20krad (Si),盲元率≤1%,峰值探测率≥1×1012cmHz1/2/W;实现典型场景的应用演示,申请发明专利20项以上。

2.2多材料体系融合集成调制和探测芯片与器件(共性关键技术类)研究内容:聚焦多材料体系融合集成共性支撑技术,研究Si 基Ge探测器阵列制备技术;研究单晶薄膜铌酸锂(LNOI)及二维原子晶体新型材料调制器制备技术,实现LNOI的微加工工艺,研究LNOI及二维原子晶体复合纳米波导的高效光耦合技术;研究多材料体系融合混合集成光模块高效耦合与封装技术,混合集成封装光模块制备过程中的在线监测技术及无损伤检测技术。

考核指标:锗PIN和APD探测器阵列带宽≥35GHz,并基于该探测器实现≥50Gb/s的数字信号传输,实现Si基Ge探测器—6—与Si基功能芯片的集成;LNOI及二维原子晶体新型材料高精度微纳加工,制备出传输损耗≤2dB/cm的纳米波导;基于LNOI 及二维原子晶体新型材料的调制器,带宽≥35GHz,LNOI调制器的VπL≤10V•cm;有源激光器芯片与无源光波导芯片间耦合损耗≤1.5dB,实现有源波导与无源波导的片上集成,实现无源光波导芯片与光纤间的耦合损耗≤1.0dB;具备批量生产能力,实现批量推广应用,申请发明专利30项以上。

2.3超大容量硅基多维复用与处理基础研究(基础研究类)研究内容:聚焦大容量、可重构光通信与光互连应用系统中的核心光电子芯片支撑技术,开展硅基多维复用与处理器件技术的研究。

研究硅基多模光子学及器件新结构与新机理、硅基偏振控制及转换器件、硅基多维复用机理与器件;研究硅基片上集成的光功率监测器阵列,并与多维复用解复用器件以及光开关阵列/可调光衰减器等进行单片集成;研究硅基多模波导与少模光纤的耦合问题;研制新一代超大容量的硅基可重构插分复用功能芯片。

考核指标:研制硅基多维可重构插分复用芯片,通道数≥96(其中模式通道数≥3、偏振通道数为2),芯片中包含多维复用解复用单元器件、偏振控制及转换器件、光开关阵列、可调光衰减器阵列、光功率监测器阵列。

实现吞吐量≥10Tb/s的可重构硅基片上多维复用光信号处理及基于少模光纤的传输验证。

申请发明专利30项以上。

—7—2.4高精度光学模数转换芯片(基础研究类,拟支持2项)研究内容:聚焦高精度光学模数转换芯片的共性支撑技术,研究高速低时间抖动高信噪比的超短光脉冲源技术,包括结构与参数的优化设计、重复频率调谐技术;研究宽带光学采样及线性化技术,包括宽带微波信号光学采样技术、电光调制器参数等对光采样特性的影响、非线性失真抑制技术;研究高速高精度量化及编码技术,包括高速光采样信号和低速电量化速率匹配技术;研究高精度量化及编码技术、多通道数据的高精度还原信号恢复算法;研究光学模数转换器的集成化技术的总体架构、各部分的协同工作及优化、器件小型化及集成工艺技术。

考核指标:高速低时间抖动高信噪比的超短光脉冲源,重复频率≥4GHz,脉冲宽度≤3ps,时间抖动≤80fs(测量带宽范围1kHz-10MHz);宽带光学采样,采样速率≥5GS/s,模拟带宽≥40GHz,无杂散动态范围≥50dB;高速高精度量化,单通道工作速率≥5GS/s,通道数≥4,信噪比≥48dB,量化位数≥10bits,有效位数≥7bits;光学模数转换器的集成化,实现输入带宽≥40GHz、采样速率≥5GS/s、有效位数≥7bits的光学模数转换器;申请发明专利20项以上。

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