激光光刻技术的研究与发展
光刻技术的现状和发展
光刻技术的现状和发展近两年来，芯片制造成为了半导体行业发展的焦点。
芯片制造离不开光刻机，而光刻技术则是光刻机发展的重要推动力。
在过去数十载的发展中，光刻技术也衍生了多个分支，除了光刻机外，还包括光源、光学元件、光刻胶等材料设备，也形成了极高的技术壁垒和错综复杂的产业版图。
光刻技术的重要性据华创证券此前的调研报道显示，半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过光刻来实现，光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。
芯片在生产中需要进行20-30次的光刻，耗时占到IC生产环节的 50%左右，占芯片生产成本的1/3。
但光刻产业却存在着诸多技术难题有待解决。
西南证券的报告指出，光刻产业链主要体现在两点上，一是作为光刻核心设备的光刻机组件复杂，包括光源、镜头、激光器、工作台等组件技术往往只被全球少数几家公司掌握，二是作为与光刻机配套的光刻胶、光刻气体、光掩膜等半导体材料和涂胶显影设备等同样拥有较高的科技含量。
这些技术挑战，也为诸多厂商带来了发展机会。
时至今日，在这些细分领域当中，也出现了很多优秀的企业，他们在科技上的进步，不仅促进了光刻技术产业链的发展，也影响着半导体行业的更新迭代。
光源可靠性是光刻机的重要一环众所周知，在光刻机发展的历史当中，经过了多轮变革，光刻设备所用的光源，也从最初的g-line，i-line发展到了KrF、ArF，如今光源又在向EUV方向发展。
Gigaphoton是在全球范围内能够为光刻机提供激光光源的两家厂商之一（另外一家是Cymer，该公司于2012年被ASML收购）。
Gigaphoton的Toshihiro Oga认为，光源是一项专业性较强的领域，并需要大规模的投资去支撑该技术的发展，而光源又是一个相对小众的领域，尤其是用于光刻机的光源有别于用于其他领域的光源——其他领域所用光源多为低频低功率，而光刻机所用光源则为高频高功率，这也让许多企业对该领域望而却步。
光刻技术及发展前景讲解
b、通过对准标志，位于切割槽 上。另外层间对准，即套刻精度, 保证图形与硅片上已经存在的图 形之间的对准。
6、曝光Exposure
曝光方法： a、接触式曝光（Contact Printing）掩膜 板直接与光刻胶层接触。 b、接近式曝光（Proximity Printing）掩 膜板与光刻胶层的略微分开，大约为 10～50μm。 c、投影式曝光（Projection Printing） 。在掩膜板与光刻胶之间使用透镜聚集 光实现曝光。 d、步进式曝光(Stepper)
其实各大厂商已经开始为EUV布局！
IMEC开发的EUV alpha demonstration tool
其实各大厂商已经开始为EUV布局！
台积电公司订购ASML公司极紫外光刻系统Twinscan NXE3100
EUV技术在Intel的实战中取得成果
光刻技术面临的困难与挑战
≥32纳米
光学掩膜版图形分辨率加强 技术的研发和后光学成像技 术掩膜版的制造
Photoresist Spin Coating
Edge Bead Removal
Ready For Soft Bake
4、前烘 Soft Bake
蒸发光刻胶中的溶剂
溶剂能使涂覆的光刻胶更薄 但吸收热量且影响光刻胶的黏附 性 过多的烘烤使光刻胶聚合，感光 灵敏度变差 烘烤不够影响黏附性和曝光
Baking Systems
但一切还远没有结束!
据Intel表示，11nm制程节点上该公司的光 刻技术将采用多种光刻工艺互补混搭的策略， 将193nm沉浸式光刻技术与EUV,无掩模光刻 （maskless）等技术混合在一起来满足11nm 制程的需求。
光刻技术历史与发展
光刻技术历史与发展光刻工艺是集成电路最重要的加工工艺，他起到的作用如题金工车间中车床的作用，光刻机如同金属加工工车间的车床。
在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技束。
光刻也是制造IC的最关键技术，他占芯片制造成本的35%以上。
在如今的科技与社会发展中，光刻已经每年以百分之三十五的速度增长，他的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域，现在大型计算机的每个芯片上可以大约有10亿个零件。
这就需要很高的光刻技术。
如今各个大国都在积极的发展光科技束。
光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光科技束。
在我们的日常生活中，也需要用到光刻技术制造的各种各样的芯片，最普通的就是我们手里的手机和电脑。
如今是一个信息社会，在这个社会中各种各样的信息流在世界流动。
而光刻技术是保证制造承载信息的载体。
在社会上拥有不可替代的作用。
本论文的作用是向大家普及光刻的发展历史和光刻的发展方向，以及光刻的种类，每种光刻种类的优点和缺点。
并且向大家讲述光刻的发展前景。
在光刻这一方面，我国的专利意识稀薄，很多技术都没有专利，希望我辈能改变这个状况Lithography process is the most important processing technology of integrated circuit, he play a role Such as the role of the lathe in machining shop, lithography as metalworking shop lathe. In the whole chip manufacturing technology, implementation of almost every process is inseparable from the lithography technology of beam. Lithography is the key technology of manufacturing IC, he war more than 35% of the chip manufacturing cost. In today's science and technology and social development, lithography has been growing at thirty-five percent a year, his growth, is directly related to the operation of large computer and other high-tech areas, large computer per chip can now has about 1 billion parts. This will require a very high lithography. Now the big countries are actively the development of light beam technology.Lithography is closely related to our life, we use the phone, all kinds of electronic products such as computer, the inside of the chip productionwithout light beam of science and technology.In our daily life, also need to use photolithography technology manufacturing all kinds of chips, the most common is our cell phones and computers. Today is a information society, in the society all kinds of traffic flow in the world. And make the bearing lithography technology is to make sure the carrier of information. Has an irreplaceable role in society.Role of this paper is to popularize the development direction of the development history of lithography and lithography, and the types of lithography, and to talk about the development of lithography. In lithography on the one hand, China's patent consciousness is thin, a lot of technology patents, hope that we can change the situation.Key words: lithography; Lithography species; Lithography Chinese and foreign history编号 ........................................................ 错误!未定义书签。
光刻机的光源技术创新与进展
光刻机的光源技术创新与进展光刻技术是半导体制造过程中不可或缺的关键环节，它承载着将微电子元件图案转移到硅片上的重要任务。
光刻机的光源技术作为光刻技术中的核心部分，其创新与进展对于提高微电子制造的精度、速度和可靠性起到了至关重要的作用。
本文将围绕光刻机的光源技术进行探讨，介绍其创新与进展。
光刻机的光源技术一直是制约光刻分辨率和生产效率的重要因素。
高分辨率在微电子制造中需求量日益增大，因此光源技术的创新是提高分辨率的关键。
在过去的几十年里，固态激光器被广泛应用于光刻机的光源技术中。
然而，固态激光器的能量稳定性和单色性限制了其在极深紫外（EUV）光刻技术中的应用。
因此，在光刻机的光源技术中，需要不断创新和改进，以应对日益迫切的高分辨率需求。
近年来，为提高光刻机的分辨率和生产效率，微电子行业开始探索新的光源技术。
其中，极深紫外光刻技术被认为是未来微电子制造的重要方向。
EUV光刻技术以13.5纳米波长的光源作为曝光光源，相较传统的193纳米光刻技术，在光刻分辨率和制程控制方面具有巨大的潜力。
然而，由于其对于光源的要求非常高，研发可用的EUV光源一直是一个挑战。
针对EUV光刻技术的挑战，研究人员正在开展新的光源技术创新和研发工作。
其中，光辉放电（GPP）和激光等离子体（LDP）是当前国际上研究最为活跃的两种EUV光源技术。
光辉放电技术通过在稀有气体中产生等离子体来产生EUV光源，能够提供较高的亮度。
激光等离子体则通过激光作用于微米尺寸的固体目标来产生等离子体，产生的EUV辐射强度高，但亮度相对较低。
当前，这两种技术都面临着能量稳定性和使用寿命等问题，还需要进一步的改进和研究。
除了新的光源技术，还有一些创新方法被提出来应对光刻机的光源技术挑战。
例如，使用自由电子激光作为光刻机的光源。
自由电子激光具有宽波长范围和可调谐性的特点，可以提供极高的光子能量和亮度。
然而，由于设备庞大、成本高昂和能量稳定性等问题，自由电子激光在商业化应用方面仍面临挑战。
光刻机技术的突破与应用前景
光刻机技术的突破与应用前景随着科技的迅猛发展，光刻机技术作为现代集成电路制造中不可或缺的核心工艺之一，扮演着重要的角色。
它的突破和应用前景备受关注。
本文将从光刻机技术的基本原理、近年来的突破及其应用前景等方面展开论述。
一、光刻机技术的基本原理光刻机技术是一种使用光源投射特定图案到光敏材料上的技术。
它的基本原理包括图案设计、掩膜制备、曝光和后期处理等环节。
图案设计是光刻机技术的首要步骤。
在电子设计自动化（EDA）软件的辅助下，工程师可以根据产品要求设计出高精度的芯片图案。
掩膜制备是光刻机技术的关键步骤之一。
通过使用电子束曝光或激光直写技术，将设计好的图案转移到掩膜上，形成光刻版。
这一步骤要求高精度、高分辨率，决定了后续曝光的质量。
曝光是光刻机技术的核心环节。
通过将掩膜上的图案通过光刻机投射到光敏材料上，在光敏材料中形成所需的图案结构。
曝光过程中，光源的选择、掩膜与光敏材料的距离、曝光时间等参数都会影响图案的质量。
后期处理是光刻机技术的最后一步。
它包括清洗、去胶、涂覆等过程，用于去除未曝光的光敏材料和光刻胶，以及保护和修复曝光后的结构。
二、光刻机技术的突破近年来，光刻机技术在分辨率、精度和速度等方面取得了突破性进展。
首先是分辨率的提升。
传统的紫外光刻技术已经接近其分辨极限，导致制程难度增加。
为此，研究人员引入了极紫外光刻（EUV）技术。
EUV技术以13.5纳米波长的极紫外光进行曝光，相比传统紫外光，其分辨率得到了显著提高。
其次是精度的提高。
新一代的光刻机设备采用了更为精密的光学系统和高稳定性的机械结构，可以实现亚纳米级别的平面度和形状精度，大大提升了芯片制造的精度要求。
最后是速度的提升。
光刻机设备的生产效率也得到了显著提高。
光源功率的提升和曝光光斑的尺寸控制等技术改进，使得曝光速度大幅增加。
这不仅提升了生产效率，也降低了芯片制造成本。
三、光刻机技术的应用前景光刻机技术在集成电路制造、平板显示、光学器件等领域具有广泛的应用前景。
光刻机技术进展及未来发展方向
随着信息技术的迅猛发展和半导体产业的不断壮大，光刻机技术作为半导体制造工艺中极为重要的一环，也在不断进行创新与突破，实现了长足的发展。本文将对光刻机技术的进展进行探究，并展望其未来的发展方向。
一、光刻机技术的进展
1.微影技术的应用
光刻机技术作为微影技术的核心，能够在光敏胶片或光刻胶层上进行光照、显影、蚀刻等工序，使图案投射到硅片上，实现了微小化的电子元件和线路的制造。随着相干光刻技术、准直光刻技术等的应用，半导体芯片的制作精度和复杂度得以提升。
二、光刻机技术的未来发展方向
1.极紫外光刻技术（EUV技术）
极紫外光刻技术采用13.5nm波长的极紫外光进行曝光，制程尺寸进一步缩小，是当前光刻技术的研究热点。然而，由于光源、光刻胶和掩膜等相关技术仍处于发展阶段，EUV技术在商业化应用方面仍面临一定的挑战。未来，随着技术突破和商业化成本的降低，EUV技术有望成为下一代光刻技术的主流。
2.光刻机设备的集成与智能化
随着芯片制程的不断革新，光刻机设备将继续向着集成化和智能化方向发展。光刻机设备将逐渐实现多工艺模块集成，提高生产效率和设备利用率。同时，光刻机设备还将加强机器学习和人工智能技术的应用，通过数据分析和优化算法，提高设备的自动化程度和制程控制精度。
3.新材料与新工艺的应用
随着新材料的不断涌现，比如二维材料、有机半导体材料等，光刻机技术也需要与之相适应，探索新的制备工艺和工艺参数。未来，光刻机技术将与新材料和新工艺相结合，为电子器件带来更多的创新和突破。
2.紫外光刻技术的突破
紫外光刻技术采用了更短波长的光线，使得线宽更加精细，解决了传统光刻机技术面临的线宽限制难题。采用193nm波长的氟化氖激光器，使得制程尺寸进一步缩小，为微电子产业的发展提供了重要的支撑。
激光光刻机未来芯片制造的新趋势
激光光刻机未来芯片制造的新趋势近年来，随着科技的不断发展和人们对高性能芯片需求的增加，激光光刻技术在芯片制造领域扮演着越来越重要的角色。
激光光刻机作为一种高精度、高效率的芯片制造工具，已经成为现代芯片制造过程中不可或缺的设备。
然而，随着芯片制程的不断进步和市场需求的变化，激光光刻机也面临着新的挑战和发展机遇。
本文将探讨激光光刻机未来芯片制造的新趋势。
首先，激光光刻机在芯片制造中的应用领域将不断扩大。
目前，激光光刻技术主要用于芯片制程中的芯片图案转移和光刻胶的暴光过程。
随着新一代芯片制程的到来，如10纳米工艺及以下的制程，对于光刻技术的要求越来越高。
激光光刻机通过高功率激光束和精密的光刻系统，可以实现更高的分辨率和更精细的图案转移，满足新一代芯片制程的需求。
此外，激光光刻技术还可以应用于3D芯片制造、集成电路封装与尺寸缩减等领域，进一步提升芯片的性能和可靠性。
其次，激光光刻机的制造工艺将趋向于自动化和智能化。
随着芯片制程的复杂性增加和生产规模的扩大，对激光光刻机的生产效率和稳定性提出了更高的要求。
因此，未来的激光光刻机将更加注重工艺的自动化和智能化。
通过引入机器学习和人工智能技术，激光光刻机可以实现更精准的调节和控制，提高生产效率和制造质量。
同时，自动化的生产线能够提供更好的稳定性和连续性，满足快节奏的芯片制造需求。
此外，激光光刻机的能源利用效率将进一步提升。
激光光刻机作为一种高能耗设备，其能源利用效率一直是制约其发展的关键问题之一。
为了解决这一问题，未来的激光光刻机将采用新的能源供应方式和更高效的激光发生器。
一方面，通过采用新的能源供应方式，如太阳能和燃料电池等，可以降低对传统能源的依赖，减少能源消耗和碳排放。
另一方面，高效的激光发生器可以提高激光束的输出功率和光刻效率，从而减少能源浪费和成本。
最后，激光光刻机的工艺优化和新材料应用将成为发展的重点。
随着纳米技术和量子技术的不断发展，芯片制程将面临更高的制造精度和更复杂的材料要求。
高能量激光光刻机技术在纳米材料制造中的应用研究
高能量激光光刻机技术在纳米材料制造中的应用研究激光光刻技术是一种基于光的高精度加工技术，近年来在纳米材料制造中得到了广泛的应用和研究。
本文将探讨高能量激光光刻机技术在纳米材料制造中的应用情况，并分析其优势和挑战。
一、高能量激光光刻机技术简介高能量激光光刻机技术是利用激光的高能量密度和高功率输出，通过将光束聚焦在材料表面，实现纳米级的加工精度。
该技术具有非接触性、高精度、高速度、无损伤、灵活性强等优点，成为纳米材料制造领域的研究热点。
二、高能量激光光刻机技术在纳米材料制造中的应用1. 激光刻蚀激光刻蚀是一种利用高能量激光脉冲将材料表面的某些区域去除，形成所需的纳米结构或器件的加工方法。
激光刻蚀具有加工速度快、成本低、加工精度高等优势，在纳米材料制造中得到广泛应用。
例如，可以利用激光刻蚀技术制造纳米通道，用于纳米流体控制和生物传感器的制作。
2. 激光光刻激光光刻是一种可通过控制激光光束的位置和强度，实现对光敏材料进行纳米级图案加工的技术。
使用高能量激光光刻机可以制作出微米级甚至纳米级的光学、电子、磁性等纳米材料器件。
例如，可以利用激光光刻技术制造微纳米级电路板，用于集成电路和纳米电子器件的制备。
3. 激光烧结激光烧结是一种利用激光束加热材料，使其瞬间熔化并形成致密结构的加工技术。
高能量激光光刻机通过聚焦激光束，可以实现对纳米粉末材料的快速烧结，制备纳米材料的致密块体。
这种方法制备的纳米材料具有较高的密度和良好的力学性能，广泛应用于热电材料、催化剂等领域。
三、高能量激光光刻机技术的优势与挑战1. 优势高能量激光光刻机技术具有非接触性、高加工精度、高速度、灵活性强等优点。
在纳米材料制造中，可以实现纳米级尺寸的结构加工，同时可以对不同材料进行加工，适应性强。
2. 挑战高能量激光光刻机技术在应用中面临一些挑战。
首先，激光加工过程中会产生热效应，可能导致材料的结构变化或损伤。
其次，高能量激光光刻机设备复杂，成本较高。
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第41卷第5期红外与激光工程2012年5月Vol.41No.5Infrared and Laser Engineering May.2012激光光刻技术的研究与发展邓常猛1,2，耿永友1，吴谊群1,3(1.中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院强激光材料重点实验室，上海201800；2.中国科学院研究生院，北京100049；3.功能无机材料化学省部共建教育部重点实验室(黑龙江大学)，黑龙江哈尔滨150080)摘要：光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。
随着半导体工业的发展，集成电路的特征尺寸越来越小，光刻技术将面临新的挑战。
分析了激光光刻技术，包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状，着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展，特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景。
关键词：投影式光刻；无掩膜光刻；发展趋势中图分类号：TN305.7文献标志码：A文章编号：1007-2276(2012)05-1223-09Research development of laser lithography technologyDeng Changmeng1,2,Geng Yongyou1,Wu Yiqun1,3(1.Key Laboratory of Material Science and Technology for High Power Lasers,Shanghai Institute of Optics andFine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai201800,China;2.Graduate University of the Chinese Academyof Sciences,Beijing100049,China;3.Key Laboratory of Functional Inorganic Material Chemistry(Heilongjiang University),Ministry of Education,Harbin150080,China)Abstract:Lithography technology,as one of the key technologies in the manufacture of semiconductor devices,has played an important role in the development of semiconductor industry.As the critical dimension of integrated circuit is decreased to smaller and smaller,lithography technology will face new challenges.In this review,the progress and status on laser lithography were presented,including projection lithography and laser maskless lithography.The foreground and technology challenges of extreme ultraviolet lithography(EUVL),which was considered to be the next generation lithography,were analyzed.The progress and application prospect in high-resolution nano lithography patterning of laser maskless lithography,especially of near-field scanning optical microscopy,laser interference and nonlinearity lithography etc,were discussed.Key words:projection lithography;maskless lithography;development trend收稿日期：2011-09-05；修订日期：2011-10-03基金项目：国家自然科学基金(60977004，50872139)作者简介：邓常猛(1985-)，男，博士生，主要从事光刻技术和光刻材料方面的研究。
Email:chmdeng@导师简介：吴谊群(1957-)，女，研究员，博士生导师，主要从事高密度光存储和光电子学功能材料方面的研究。
Email:yqwu@红外与激光工程第41卷0引言随着半导体工业的发展，集成电路的特征尺寸越来越小。
依据摩尔定律，在过去的40年里，集成电路的特征尺寸以每3年30%的速率减小[1]。
根据半导体发展联盟的路线图[2]，半导体器件的特征尺寸将继续缩减到32nm、22nm、甚至16nm。
伴随着特征尺寸的减少，器件的运算速率将增加，功耗会降低。
由于器件的集成密度将直接制约着器件的运行性能[3]，因而，光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体工业的发展和半导体器件的性能。
为了满足半导体器件制备的需求，光刻技术将面临新的挑战。
激光光刻可以分为激光投影式光刻和激光无掩膜光刻技术。
传统的激光投影式光刻技术是基于光学曝光法，其曝光技术最终制约着光刻工艺的分辨率。
激光无掩膜光刻技术是利用激光束在基体的表面直接进行微纳(微米或纳米)图形的制备。
这种技术是直写式无接触的加工技术，因而无需传统曝光辐射式的光掩膜以及纳米压印接触式的模板，也避免了接触时出现的摩擦、粘附污染等问题，近年来受到人们的广泛关注。
文中将对激光投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状和发展趋势作前瞻性的介绍。
1激光投影式光刻技术1.1发展现状激光投影式光刻技术一般要经过5个主要工艺步骤(根据光刻胶性质的不同，分为正性光刻和负性光刻)，如图1所示[4]。
曝光光路原理图如图2所示。
光束经过光学器件系统聚焦、投影到掩膜上，经过掩膜达到光刻胶膜面实现曝光，但是光学投影系统的分辨率受到衍射的限制。
即如果一个不透明的物体放在点光源和屏之间，物体的边缘将在屏上形成轮廓分明的阴影，几何阴影内的点上无光到达，而阴影的外侧被均匀地照亮。
实际上，由边缘形成的阴影会扩散，组成明暗相间延伸到几何阴影的光带。
这种光线在边缘处的明显弯曲就称为衍射，其形成的几何阴影光带制约着曝光的分辨率。
通常，光刻系统的分图1光刻工艺流程图Fig.1Process flow diagram of lithography图2曝光光路原理图Fig.2Schematic diagram of exposure light path辨率可以由下面的公式来表示：R=k1λNA(1)式中：R为分辨率；NA为数值孔径；λ为曝光波长；k1为工艺因子，与光刻胶材料的性质、加工技术以及光学系统成像技术有关。
为了提高分辨率，满足半导体工业发展的需求，曝光波长的缩短沿着436nm (g线)→365nm(i线)→248nm(KrF)→193nm(ArF)→157nm(F2)→13.5nm(极紫外光)的路线进行着。
曝光光源也经历着高压水银弧光灯(g线和i线光源)→KrF、ArF、F2受激准分子激光器的变迁，如图3所示[5]。
到下一代极紫外光刻将主要采用依靠激光和气体放电产生的等离子体极紫外光光源[6]。
在半导体工业的起始段利用曝光投影技术制备集成电路时，所需要的特征尺寸相比于曝光波长还是很大的。
随着集成度的提高，通过减少曝光波长也能在一定程度上满足需要。
但是，随着特征尺寸继续1224第5期图3半导体器件的发展趋势与光刻技术曝光波长对比Fig.3Comparison between development trend of semiconductor devices and exposure wavelength of lithography减少，特别是到100nm以下时，单纯的通过缩短曝光波长的方法难以达到要求。
目前，利用玻璃光学系统的光刻技术已经接近了它的极限，需要一些新的方法和技术来进一步提高分辨率。
一些相应的光学辅助技术，如相移掩膜(phase shifting mask,PSM)和离轴照明技术[7-9]的应用，取得了一定的效果。
利用F2准分子激光器发出波长157nm的真空紫外光来作为曝光光源可以进一步提高分辨率。
157nm 光刻技术[10]也被用于90nm工艺的开发。
但是当波长短到157nm时,大多数光学镜头材料都是高吸收态,吸收激光能量后受热膨胀,而造成球面像差。
增大NA是另一个提高分辨率的途径[11]。
2005年，美国半导体芯片制造技术研究与开发联合体Sematech 和英国Exitech公司联合推出全球首款NA=1.3的193nm浸入式光刻机,用于65/45nm光刻工艺。
在现有的193nm曝光技术的基础上，通过两次成像浸没式光刻技术可以达到32nm节点，并且这一方案已经非常接近批量生产实用化阶段[12]。
对解决特征尺寸22nm技术节点的方案而言，193nm多次成像光刻技术目前还尚不成熟。
因为多次成像意味着比两次成像更大的成本，另外多次成像的掩膜技术也需要很大的投入。
图4给出了未来10年里与技术节点对应的几种光刻技术的发展状态。
从图4可清晰地看出，图中所列出的一些潜在解决22nm技术节点的技术方法将会变得非常具有竞争性。
例如，无掩膜直写技术(maskless lithography,ML2)已被考虑作为22nm及以下节点的解决方案；一些新技术如自组装(self-Assembly)和纳米压印(Imprint)技术也正受到关注；但还需要更大的努力来克服其技术上的挑战；极紫外光刻是最被看好的用来解决22nm技术节点的投影光刻技术，也将是实现16nm节点技术生产的有力竞争者。
图4未来10年里与技术节点对应的几种光刻技术的发展状态Fig.4Future decade development status of several lithography technologies corresponding to the half-pitch node1.2极紫外光刻技术极紫外光刻(EUVL)技术从1986年提出到被考虑建立商用化设备经历了很长一段的发展历史[12-14]。