离子束辅助蒸发光学镀膜

电子束蒸发使用步骤

电子束蒸发使用步骤 一、前期准备工作 1、放基片材料（找准对应坩埚位置）。 2、将样品台和坩埚的两个挡板都挡上。 3、关门前，检查密封圈是否正常。 4、将放气和进Ar气口都拧紧。 二、抽真空 1、开供电电源开冷却水（约5min之后）开真空计开机械泵开粗抽阀（先开小一点，将门压紧后，再全打开）。 2、真空计压强小于10Pa时，关粗抽阀（屏幕上尾数显示为0，尾数代表10的几次方）。 3、开电磁阀开分子泵开关，点击运行（约6min之后，分子泵进入正常工作状态，转数逐渐增大，可达27000r/min）。 4、开高真空闸板阀，开到最大（真空正常为6.67×10-4 Pa,最小为6.67×10 -5 Pa）。 5、开步进电机开关，控制转数为10 r/min（通过观察，设置好转数，然后关挡板）。 三、开始镀膜 1、开E型枪电源，选择手动模式，按回车键确认（电压控制在6KV）。 2、确认屏幕上5个灯全绿。 3、点击屏幕上灯丝，调灯丝电流0.5A。 4、开气瓶，数值调为0.3左右开坩埚挡板（屏幕和遥控均可用），关基底挡板。 5、开高压，观察坩埚内是否有光斑。 6、调整X、Y位移，使光斑位于坩埚中央。调整X、Y幅度，使光斑较大且在坩埚内均匀 7、缓慢增大束流（手动遥控最下方中间的“蒸发调节旋钮”），直到观察坩埚内材料表面出现波纹状时停止，此时为坩埚内材料的束流最大值。（经验值：钛－束流值77左右）。 8、开膜厚仪，（提前设置好厚度，根据经验找出膜厚的误差范围）。 9、开基底挡板，开始计时。 10、关基底挡板，计时结束，镀膜完成。 四、镀膜完成，关闭设备 1、缓慢关束流，听到“滴”声关高压关挡板关灯丝关总电源。 2、降温30min左右。

光学薄膜工艺基础知识

光学薄膜工艺基础知识 工艺因素对薄膜性能的影响机理大致为： 一、基片材料 1、膨胀系数不同热应力的主要原因； 2、化学亲和力不同影响膜层附着力和牢固度； 3.、表面粗糙度和缺陷散射的主要来源。 二.、基片清洁 残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1、膜层对基片的附着力差； 2、散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3、透光性能变差。 三、离子轰击的作用 提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力；提高膜层的聚集密度，氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。 光学镜片小知识 镜片材料分类 玻璃镜片包括光学玻璃镜片及高折射率镜片（即通常所称的超薄片），其硬度高、耐磨性能好，一般其质量及各项参数不会随时间而改变，但是玻璃镜片的抗冲击性及重量方面要略逊于树脂镜片。 树脂镜片一般要比玻璃镜片轻得多，且抗冲击性能要优于玻璃片，防紫外线能力强，但其表面硬度较低，比较容易被擦伤。树脂镜片及镀膜镜片由于其特性较软，所以平时应注意不要让镜面直接接触硬物，擦洗时最好先用清水（或掺合少量洗洁精）清洗，然后用专用试布或优质棉纸吸干眼镜片上的水滴。此外，在环境条件较差的地方应慎用镀膜镜片，以免沾上污物难以清洗。 宇宙（PC）镜片：折射率高，牢固，但易磨损.多数使用于小孩子的眼镜片，无框架的装配或运动员的护眼罩。 镜片镀膜后有哪些优点？ 镀膜镜片可以降低镜片表面的反射光，视物清楚，减少镜面反射光，增加了光线透过率，也解决戴眼镜在强光下照像的难题，增加美感。镀膜眼镜能防止紫外线、红外线、X线对视力的伤害。配戴镀膜眼镜不易疲劳。对荧光屏前工作人员的视力可受到保护。 镀膜树脂镜片除应避免划碰高温外，亦应避免酸类油烟等侵蚀，如在日常生活中最好不要戴镜下厨，尤其是通风不好油烟大时；同时亦不能戴（带）镜进（近）热水淋浴环境，平常临时放置时应将镜片凸面向上，随身携带时应将眼镜放入盒内，不要随便放入口袋中或挂包中，那样极易使膜层擦伤。

光学镀膜自动设计实验

综合设计实验：光学镀膜自动设计实验 实验一镀膜材料准备及膜层设计 【实验目的】 本实验通过发光二极管的制作过程完成对真空镀膜的学习。 【实验仪器】 1、真空镀摸机； 2、镀膜监测仪； 3、旋涂机； 4、干涉显微镜； 5、直流电源。【实验材料】 1、导电玻璃； 2、高纯铝丝； 3、三芳胺聚西夫碱； 4、8－羟基喹啉铝； 5、氟化锂； 6、丙酮； 7、无水乙醇； 8、脱脂棉； 9、盐酸等。 【实验原理】 真空镀膜是制作薄膜器件地常用方法，所谓真空镀膜是把待镀膜的基片或工件置于高真空室内，通过加热使蒸发材料气化（或升华）而沉积到某一温度的基片或工作表面上，从而形成一层薄膜，这一工艺过程称为真空蒸发镀膜。在高真空环境中成膜，可防止膜的污染和氧化，便于得到洁净，致密，符合预定要求得薄膜，因此，这种制膜方法目前得到了广泛应用。 本实验利用真空镀膜技术制作一种有机薄膜发光二极管。 众所周知，无机发光二极管在视频，数字显示，仪器监控，广告等诸多领域已经得到了广泛的应用，并取得了令人注目的成就。但是它们也存在着很多缺点：如体积大，发光材料品种较少，器件制作工艺复杂，成本高，能耗大，很难提供全色显示等。相反，有机材料薄膜电致发光器件（TFELD）却克服了上述缺点，显示出很

多无机电致发光器件无法比拟的优点。有机薄膜电致发光器件具有可大面积彩色显示，驱动电压低，可直流驱动，发光效率和亮度高，发光颜色可覆盖整个光谱区，有柔软性，易加工，成本低廉等优点。它已成为当前发光器件研究的热点，有机发光还具有材料来源广泛，颜色可调等优势。因此，它在显示技术方面具有潜在的应用前景。 近年来，在寻找新的有机电致发光材料，延长有机电致发光显示寿命方面取得了突破性进展，正朝着实用化的方向迅猛发展。 1.发光二极管工作原理 1.1发光二极管的基本机构 典型发光二极管的结构为三明治结构如图一，阳极为透明的导电玻璃（ITO），具有较高的功函数（4～7ev），阴极为低功函数金属（3～4ev），阴极阳极之间加入一层发光薄膜，在工作电压（2～30v）便可发光。为了改善其性能通常在阳极与有机发光物间加一层空穴传输层，在阴极与发光物间加一层电子传输层。 电致发光激发机构

真空镀膜机操作指导

真空镀膜实验指导 真空镀膜常用的方法有蒸发镀膜、射频溅射镀膜和离子镀膜等。本实验通过介绍蒸发镀膜原理，掌握蒸发镀膜的操作方法。真空镀膜技术在电真空、无线电、光学、固体物理、原子能和空间技术中有广泛的应用。 1真空镀膜原理： 1.1蒸发镀膜机理 蒸发镀膜是真空镀膜的一种，它是在高真空条件下将物质加热到沸腾状态，沸腾出来的原子或分子溅落在固体材料表面，形成一层或多层膜的方法。凡是在沸腾温度下不分解或不变性的物质都可以用此法蒸镀成膜。 蒸发原子的成膜过程比较复杂，这里只能粗略描述如下：溅落原子首先被固体表面吸附，当表面温度低于某一临界温度时，原子开始“核化”——部分原子凝聚成团，出现若干“岛”，然后这些“岛”逐渐吸收周围的原子而长大，众多的“岛”相互连接成一片而成一块连续的膜。蒸发镀膜的条件主要有两个，分别介绍如下： 1.2高真空 我们希望蒸发出来的原子或分子不要受空气分子的阻挡而直接溅落到固体的表面，这样，蒸发镀膜的速度高，成膜质量也好。相反，如果真空度低，有大量的空气分子存在，一方面，蒸发出来的原子或分子与空气分子碰撞，阻碍了膜材分子的扩散，降低了蒸镀的速度，影响了膜的均匀性，另一方面，空气的导热使得膜材的温度不能很快地升高，必然要加大加热功率；更有甚者，空气的存在可能使膜材的某些成分氧化，引起成分变性；在连接着抽气机的情况下，若不能很快完成镀膜，膜料将被抽走。因此，蒸发镀膜需要在高真空条件下进行。当然，真空度也不需要绝对地高。事实上，只要分子的平均自由程大于膜材到基底的距离即可。如果膜材到基底的距离为10 --20cm，根据自由程公式 （d是分子的直径，n是分子数密度） 不难估计真空度在Pa以上就可以满足要求。 1.3材料洁净 材料的洁净包括膜料的洁净和基底材料的洁净。这一要求似乎是不言而喻的。如果材料中混有颗粒状或纤维状的杂质，将直接影响膜的均匀性和牢固度；如果混有可融的化学成分，将影响膜的物理性质，如亮度、表面张力、电导率等等。所以，膜材和基底的清洗工作必须认真对待。 2真空技术

电子束蒸发台操作流程

TF500 操作流程 1 操作安全 警告 请遵守如下给出的安全说明并注意适当的防范措施。否则，可能导致人员伤亡 和设备损坏。 在您操作任何部件之前请阅读所有相关的说明。 TF500的表面或部件可能很热或很冷。请不要触碰热的或冷的表面，比 如泵体，材料，夹具，真空腔体和连有石英加热并有其他排气工艺的部 件。 请保持所有配件柜处于闭锁状态。请不要把钥匙留在锁上。 在腔体打开的时候，电子枪挡板是可以转动的。操作员需注意，因为挡

板不留意的转动可能导致人员伤害并导致设备损坏。 2 TF500启动 2.1 启动TF500 1. 启动冷却水源。 2.启动压缩气体源。 3.启动充气气体源。 4.请确保在19寸控制柜面板上的所有部件的控制都处于“关”的位置。 5.打开TF500的电源空气开关，确保EMO松开。按下前面板“I/O”按钮启 动设备，然后按“Reset”按钮给各个部件加电自检。 6.打开电脑，进入Win7的密码为admin，SCADA软件将在win7中自动打 开，点“Start”开始运行SCADA软件， SCADA软件将初始化并加载各部件 （注意！不要关闭设备自动打开的其他界面），在主软件界面登陆相应的 权限，进入组态的CONTROL SCREEN，按按钮。抽真空系统 随后将会启动。

7.当系统状态为“TURBO PUMP READY”，这就表示腔体已经准备好了，可 以对腔体抽真空开始做工艺了。 2.2 装载TF500腔体 警告 在大气环境下（比如已经充气），基片工作台可能还是旋转的。当您的手在腔体里或者其他在旋转基片上存有会伤害您自己的风险时，请注意不要旋转 工作台。 请参考PC操作的补充材料“PC控制”文件。 当腔体处于真空状态，如果可以请先按按钮再按 按钮对腔体进行充气。充气阀打开并对腔体充气，并在腔体充气时间结束后自动关闭充气阀门，如果门已经打开，充气时间还未结束，请再 次按下键关闭充气气源。

光学基础知识及光学镀膜技术

光学基础知识及光学镀膜技术 光學薄膜是指在光學元件上或獨立的基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜來 改變光波傳遞的特性。即應用光波在這些薄膜中進行的現象與原理，如透射、吸收、散 射、反射、偏振、相位變化等，進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學 與工程上的應用。在本廠的實際應用上，DM半透板與ITO鍍膜屬於這個領域。 光學薄膜雖早於1817年Fraunhofer已經開始利用酸蝕法製成了抗反射膜，但是真正 的發展是在1930年真空鍍膜設備之後。而軍事的需求(望遠鏡、飛彈導向鏡頭、監視衛 星、夜視系統等)加速了光學薄膜的開發與研究。計算機的出現使得設計更為方便，相對 的各種理論及設計方法因應而出，光學薄膜的研究於是更為進步並充分應用於各種光電 系統及光學儀器之中，如光干涉儀、照相機、望遠鏡、顯微鏡、投影電視機、顯示器、 光鑯通訊、汽車工業、眼鏡等。 光學薄膜基本上是藉由干涉作用達到其效果的。簡單的如肥皂泡沫膜、金屬表層的 氧化膜、水面油層的顏色變化，都可以視為單層干涉的效果。因此，當光在膜層中的干

涉現象可以被偵測到時，我們就說這層模是薄的，否則是厚的(k值消散掉)。由於干涉現象不僅跟膜層的厚度有關，而且光源的干涉性和偵測性的種類也有關。 接下來為各位介紹幾個主題1.波動光學基本理論2.薄膜光學的應用及產品介紹3.薄膜設計方法4.金屬鍍膜材料5.光學薄膜的鍍製方法及設備6.光學薄膜材料。 光學薄膜的製作是理論設計的實現，它不僅和蒸鍍方法及材料有關亦與薄膜支撐 者，即基板之表面狀況及材質有密切的關係，事實上光學薄膜的研製的主要困難已經比 較少是在設計上，而是在製鍍上，亦即要製造出預期中的光學常數及厚度之薄膜，因此 新的製膜方法及監控方式在工程上更顯的重要。 1. 繞射和干涉的現象常常會被拿在一起來討論,繞射可視為很多光源互相干涉,但其數學處理的方式仍然與干涉不太一樣。例如全像或光柵,可以用繞射也可以用干涉來解釋,也各有其數學模式。光的波動說:當一個水波經過一個障礙時,我們可以看到障礙的邊緣會 泛起陣陣漣漪,這種現象就是繞射,光波也有繞射現象,這種現象是和光的直線前進或光 的粒子說相抵觸的。早在1500年,L.da Viaci 已提及光的繞射,Huygens在1678年首先創立光的波動理論,他把波陣面上每一點都視為一個次級子波的波源,而所有子波前進時的包絡面又形成新的波前,應用這個原理可以解釋光的直線前進、光的反射與折射。 1801年,Young用干涉理論來解釋單狹縫的現象,但實驗結

电子束蒸发系统操作步骤

电子束蒸发系统操作步骤 抽真空→热蒸发/电子枪操作→ 关闭热蒸发/电子枪系统→关闭真空系统 抽真空 1.关闭进气阀，开冷却水，打开总电源（仪器柜后面与前面） 2.将抽气管子放窗外，打开冷却水报警（鸣叫表示分子泵冷却水未开） 3.开机械泵，电磁阀1，开角阀（先慢后快） 4.开真空计，当真空度高于10帕时，关闭角阀 5.电磁阀2，开插板阀（双手操作），开分子泵 6.当运行分子泵后，真空示数正常下降，关闭真空计 电子枪系统操作 1.（当真空计读数低于6.7×10-3Pa),开内5开关 2.按扫描键（柜门灯亮，开电子枪冷却水，枪水流灯亮，X电流0.8A，Y 电流0A） 3.枪灯丝电源（0.4A，电压60V，预热3至5分钟） 4.束流控制调为手动，打开高压8Kv 5.检查束流是否最小，按手控仪上高压键，稳定2分钟 6.慢慢增加束流（顺时针旋增大，不同金属蒸发束流参数不同，需保存） 7.调节光斑位置（X顺时针向下，Y顺时针向右） 8.打开膜厚仪冷却水，打开膜厚仪，打开样品台挡板

关闭电子枪系统过程 1.束流慢慢调到最小，关闭手控仪上高压，关闭8KV开关 2.枪灯丝电流关闭，关闭扫描键，关闭内5开关 关闭真空系统过程（电子束做完应等待半小时或更长时间才关闭真空） 1.停止分子泵，关闭插板阀，分子泵转速为0，电磁阀中间 2.分子泵停止半小时后，停止机械泵，关闭真空计，关闭总电源（柜门前后），关冷却水 膜厚仪操作（先打开膜厚仪冷却水） Setting: 进入参数设置→移动光标到参数类型（setting只按一次，若多按请继续按setting直到回到“层次”）；↑，↓：更改参数（层次，材料，方式），厚度，密度，声阻抗按数字直接输入；begin:按两次测膜厚；operating：停止镀膜；delete：镀膜结束；再按operating回到基本显示状态 热蒸发操作 压缩机操作 1.电源（红色把）竖直→关闭；水平→打开 2.气路（0.25MPa）平直→打开；垂直→关闭 旋钮：控制气压大小

汽车全车镀膜工艺流程与注意事项

汽车全车镀膜工艺施工流程与注意事项一．镀膜作用： 1.提高车身漆面硬度，避免常规的轻微划痕伤害 2.有效保护漆面免受酸雨、氧化、鸟虫粪、铁粉、沥青、水垢等伤害 3.车漆表面光泽度高，膜层一般会保持1-5年，使爱车长久保持靓丽如新，且方便洗车 二．施工工艺流程： 1.洗车 ●使用中性洗车液对全车进行清洗，同时清除车身静电层 2.吹水 ●使用鹿皮币+空气枪，擦干吹干车身表面及边缝中的水分，防止影响后续施工效果 3.遮蔽 ●遮蔽车标、橡胶塑料饰件、车灯及镀件、侧窗玻璃、前、后风挡玻璃等部位都会做完全遮蔽。防止抛光过程中的粉末粘在非抛光部位 4.检查车漆表面 ●检查车漆表面附着铁粉等杂质的，使用粘土（或铁粉去除剂）清理，步骤如下： a.简单的洗下车，将有可能造成划伤的砂砾和灰尘去除 b.将粘土浸点水，使它保持湿润 c.左手喷水，右手涂粘土，使粘土保持润滑。同时作业面要用适当的力度，过轻则看不出效果 d.注意涂抹方向 e.粘土表面变脏了，要换一面进行作业 f.不久漆面将会变光滑 g.使用完的粘土放在塑料袋里保存 5.车漆表面镜面抛光 ●先粗、细研磨，采用机用研磨机（电动或风动）加上粗研磨剂进行粗磨，再加研磨剂抛光进行抛光细研磨 ●用机械抛光机，加上镜面处理剂抛去粗研磨剂留下的旋印，达到漆膜镜面抛光的效果 6.去除遮蔽 7.车漆表面镜面还原 ●使用“车漆镜面还原剂”对车漆表面进行还原处理，大范围建议使用研磨专用机器，手工操作时建议分块进行施工，每块区面积为30*30cm左右比较方便施工 8.擦干车漆表面的水份

9.清洁轮毂 ●清理抛光时，部分可能甩到轮毂的粉尘 10.除腊脱脂 ●干净柔软的毛巾对折，将油脂脱脂剂喷涂到毛巾上，用毛巾在已处理过的车漆表面上轻轻擦拭，等待干燥后完成 标准：无残蜡和油污,车漆表面触摸干涩 11.完成镀膜工艺 ●检查车漆状态，整理车内清洁，擦试玻璃清洁轮毂/轮胎、塑料件等处，保持整车靓丽三．镀膜注意事项 1.镀膜必须在封闭、无尘的环境下进行 2.镀膜前应彻底清洁车身表面，并保证漆面干爽、无水分；漆面没污秽、杂质等，漆面为镜面，无划痕 3.橡胶保险杠、车身饰条、车窗防雨密封条等塑胶件避免镀膜，若涂到马上用干净毛巾擦净，否则镀膜产品在橡胶表面干化后将呈白色，难以擦去 4.须车体常温下施工，车体温度过高镀膜干燥太快，易施工失败 5.镀膜海绵、专用镀膜小毛巾使用前必须干净、柔软，每次用完后必须清洗干净，放在阴凉处风干 6.镀膜液每次的干燥参考时间1～2分钟，结合方式环境湿度，灵活施工 7.镀膜时勿穿有皮带扣或钮扣的衣裤，以免刮伤车身 8.施工完成后需提醒车主，镀膜后需要24小时达到最佳效果，期间，请勿使车漆表面沾水 9.镀膜后车辆在7天内请勿使用清洗液清洗车辆

光学薄膜技术第三章 薄膜制造技术

第三章薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积（PVD)和化学液相沉积（CLD)两种工艺来获得。CLD工艺简单，制造成本低，但膜层厚度不能精确控制，膜层强度差，较难获得多层膜，废水废气对环境造成污染，已很少使用。 PVD需要使用真空镀膜机，制造成本高，但膜层厚度能够精确控制，膜层强度好，目前已广泛使用。 PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。 制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识 用物理方法制作薄膜，概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量，使它分解为原子、分子或少数几个原子、分子的集合体（从广义来说，就是使其蒸发），并使它们在其他位置重新结合或凝聚。 在这个过程中，如果大气与蒸发中的物质同时存在，那就会产生如下一些问题： ①蒸发物质的直线前进受妨碍而形成雾状微粒，难以制得均匀平整的薄膜； ②空气分子进入薄膜而形成杂质； ③空气中的活性分子与薄膜形成化合物； ④蒸发用的加热器及蒸发物质等与空气分子发生反应形成 化合物，从而不能进行正常的蒸发等等。 因此，必须把空气分子从制作薄膜的设备中排除出去，这个 过程称为抽气。空气压力低于一个大气压的状态称为真空， 而把产生真空的装置叫做真空泵，抽成真空的容器叫做真空 室，把包括真空泵和真空室在内的设备叫做真空设备。制作 薄膜最重要的装备是真空设备． 真空设备大致可分为两类：高真空设备和超高真空设备。二 者真空度不同，这两种真空设备的抽气系统基本上是相同 的，但所用的真空泵和真空阀不同，而且用于真空室和抽气 系统的材料也不同，下图是典型的高真空设备的原理图，制 作薄膜所用的高真空设备大多都属于这一类。 下图是超高真空设备的原理图，在原理上，它与高真空设备 没有什么不同，但是，为了稍稍改善抽气时空气的流动性， 超高真空设备不太使用管子，多数将超高真空用的真空泵直 接与真空室连接，一般还要装上辅助真空泵（如钛吸气泵） 来辅助超高真空泵。 3.1 高真空镀膜机 1.真空系统 现代的光学薄膜制备都是在真空下获得的。普通所说的 真空镀膜，基本都是在高真空中进行的。 先进行(1)然后进行(2)。因为所有的（超）高真空泵只有在真空室的压力降低到一定程度时才能进行工作，而且在高真空泵（如油扩散泵）中，要把空气之类的分子排出，就必须使排气口的气体压力降低到一定程度。 小型镀膜机的真空系统 低真空机械泵+高真空油扩散泵+低温冷阱

真空蒸发镀膜原理

Ａ、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Toｒｒ程度进行(1Toｒr=１公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~０、２微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr＜!——[if ！supportＦoot<！--［en ｄｉｆ]——>l〈！--[if ！suｐｐortFｏoｔnｏtes]－－＞［1]<！--[endif]—－〉v#W？n8D＜!-—[if !sｕpportＦoｏtnｏtes]——〉[1］