电子科大模电第1章-半导体基础知识

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模电第1章复习精简版

模电第1章复习精简版

第一章
半导体器件
价电子
(a) 硅、锗原子结构 最外层电子称价电子 4 价元素
+4
惯性核
4 价元素的原子常常用 + 4 电荷的正离子和周围 4 个价电子表示。
(b) 简化模型
图 1-1 原子结构及简化模型
第一章
半导体器件
2)
本征半导体的原子结构
完全纯净的、不含其他杂质且具有晶体结构的半导 体称为本征半导体。
带负电的自由电子 带正电的空穴
2. 本征半导体中,自由电子和空穴总是成对出现, 称为 电子 - 空穴对。
3. 本征半导体中自由电子和空穴的浓度用 ni 和 pi 表示,显然 ni = pi 。 4. 由于物质的运动,自由电子和空穴不断的产生又 不断的复合。在一定的温度下,产生与复合运动会达到 平衡,载流子的浓度就一定了。 5. 载流子的浓度与温度密切相关(它随着温度的升 高,基本按指数规律增加)。
I / mA
60 40 死区 20 电压
0 0.4 0.8 U / V
正向特性
第一章
半导体器件
I / mA
–50 –25
– 0.02
2. 反向特性 二极管加反向电压,反 向电流很小; 当电压超过零点几伏后, 反向电流不随电压增加而增 大,即饱和;
0U / V
反向饱 和电流
– 0.04
反向特性
如果反向电压继续升高,大到一定数值时,反向电 流会突然增大;
(a)N 型半导体
(b) P 型半导体
杂质半导体的的简化表示法
第一章
半导体器件
1.2 半导体二极管
1)PN 结的形成
在一块半导体单晶上一侧掺杂成为 P 型半导体,另 一侧掺杂成为 N 型半导体,两个区域的交界处就形成了 一个特殊的薄层,称为 PN 结。

模拟电子技术基础 1.1半导体基础知识PPT课件

模拟电子技术基础 1.1半导体基础知识PPT课件
1975年 超大规模集成电路
模拟电路
数字电路
:产生、处理模拟信号
:产生、处理数字信号
模拟信号:具有连续性。
电子电路的分类
数字信号:具有离散性。
模拟电子线路又分为低频与高频两种频段。
1. 掌握常用电子元器件和组件的外特性、基本应用。
2.掌握模拟基本电子电路及其工作原理、分析方法、基本应用。
3.掌握模拟电子电路的基本概念、基本分析 方法、基本实践技能。
4.了解简单电子系统的结构与应用。
教 学 目 标
本课程较抽象、入门难,实践性强,因此要: (1)树立信心; (2)巩固电路基础; (3)尽快适应新的学习方法(工程分析法); (4)多看、多思、多练。要求预习、及时复习、认真听课,独立并及时完成作业。
绝缘体——不导电、电阻率很大的物质。一般为高价元素或高分子物质,例如塑料、橡胶、陶瓷等。
1.1 半导体基础知识
半导体——导电性能介于导体和绝缘体之间的物质。一般为四价元素,常用的有硅(Si)、锗(Ge)、砷化镓(GaAs)等,其中硅应用最广。
单晶硅棒
1.1 半导体基础知识
1.1.1 本征半导体 本征半导体——纯净的单晶半导体(晶格排列完全一致)。 1、本征半导体的晶体结构
反偏使空间电荷区变宽,多子的扩散运动几乎停止,只有少子的漂移运动形成反向电流,其数值很小。PN结呈现高阻截止状态。
在一定的温度下,当外加反向电压超过某个数值后,反向电流将不再随着外加反向电压的增加而增大,故又称为反向饱和电流(Reverse Saturation Current),用IS表示。
二、PN结的单向导电性 2、PN结反向偏置时
硅原子
锗原子
简化模型
惯性核

西安电子科技大学低频电子线路模电第一章

西安电子科技大学低频电子线路模电第一章

1.3.1 稳压管
稳压管等效电路
这时稳压管 就是一只二极管
Ur为门限电压
1.3.1 稳压管
稳压管应用电路
1.3.1 稳压管
稳压电路 稳压电路中:uI=12V, UZ=6V, R=4kΩ。当RL 分别为8kΩ 、6kΩ 、 2kΩ和1kΩ时,求对应输出电压uO 。
解: 输出电压uO(t) 取决于VZ 的工作状态,即击穿与否。 RL上所得电压值即为VZ管所承受的反向电压值,分 别为:8V、7.2V、4V和2.4V。
浓度差 扩散力 扩散运动
扩散电流
扩散电流大小与载流子浓度梯度成正比
1.1.3 载流子运动方式及其电流
❖ 漂移运动和漂移电流
漂移运动:载流子在电场力作用下所作的 运动 称为漂移运动。
漂移电流:载流子漂移运动所形成的电流称为 漂移电流。
电位差 电场力 漂移运动
漂移电流
漂移电流大小与电场强度成正比
1.2 PN结与晶体二极管
rd
26 mV IQ
1.2.2 晶体二极管 (主要参数:续)
性能参数
势垒电容CT :
CBCB0/(UU)
影响器件最高工作频率
1.2.2 晶体二极管 (主要参数:续)
极限参数
最大允许整流电流IOM : 工作电流>IOM易导致二极管过热失效 最高反向工作电压URM : 允许加到二极管(非稳压管)的最高反向电压 最大允许功耗PDM : 实际功耗>PDM 时易导致二极管过热损坏
CB值随外加电压的改变而改变,为非线性电容。
1.2.1 PN结基本原理
❖ 电容特性
扩散电容CD
由势垒区两侧的P区和N区正负电荷混合储存所产生
CD
(τ p τn ) UT

模电-第1章-半导体器件PPT优秀课件

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21
3.4 PN 结的电容效应
1) 势垒电容
PN结外加电压变化时,空间电荷区的宽度将发生变 化,有电荷的积累和释放的过程,与电容的充放电相 同,其等效电容称为势垒电容Cb。
2)扩散电容
PN结外加的正向电压变化时,在扩散路程中载流子 的浓度及其梯度均有变化,也有电荷的积累和释放的 过程,其等效电容称为扩散电容Cd。
注意
空杂穴质-半--导-体多中子,;多子的浓度决定于掺杂原子的浓度; 电子----少子少.子的浓度决定于温度。
13
3 PN结 3.1 PN结的形成
P区
N区
物质因浓度差而产生的运动称为扩散运动。气体、液体、 固体均有之,包括电子和空穴的扩散!
14
3.1 PN结的形成
I扩
在交界面,由于两种载流子的浓度差,产生 扩散运动。
小功率 二极管
大功率 二极管
稳压 二极管
发光 二极管
25
• 二极管的伏安特性及电流方程
二极管的电流与其端电压的关系称为伏安特性。
i f (u)
u
击穿
iIS(eU T1) (常温 U T下 2m 6 V)电压
温度的 电压当量
材料 硅Si 锗Ge
开启电压 0.5V 0.1V
导通电压 0.5~0.8V 0.1~0.3V
15
3.1 PN结的形成
耗尽层(电荷层、势垒层)
空间电荷区
I漂
在交界面,由于扩散运动,经过复合,出现空 间电荷区
16
3.1 PN结的形成
PN结
I扩 I漂
当扩散电流等于漂移电流时,达到动态 平衡,形成PN结。
17
1.由于扩散运动形成空间电荷区和内电场;
2.内电场阻碍多子扩散,有利于少子漂移;

模电第一章半导体基础知识

模电第一章半导体基础知识

杂质能3
对电子的影响
施主杂质能级向导带提供 电子,使半导体呈现n型 导电性。
对空穴的影响
受主杂质能级接受价带的 电子成为空穴,使半导体 呈现p型导电性。
影响程度
杂质浓度越高,对电子和 空穴的影响越显著,半导 体的导电性能也越强。
06
半导体中的光电效应
光电效应的原理和分类
光电器件的特性
光电器件的主要特性包括光谱响应、光电灵敏度、响应速度和噪声等,这些特性决定了光电器件的应用范围和效 果。
光电器件的应用和发展趋势
光电器件的应用
光电器件在多个领域都有应用,如光电探测、光电转换、光通信等。
光电器件的发展趋势
随着科技的不断进步和应用需求的不断提高,光电器件的发展趋势包括高灵敏度、高速响应、高稳定 性、多功能化等。
半导体的热学性质
热导率
半导体的热导率取决于其材料 和结构,热导率越高,导热性
能越好。
热容
半导体的热容取决于其材料和 温度,它决定了半导体的耐热 性能。
热膨胀
半导体的热膨胀系数决定了其 在温度变化时的尺寸变化,对 器件的稳定性有影响。
温差电动势率
半导体的温差电动势率是指在 温度梯度下产生的电动势,它
05
半导体中的掺杂和杂质能级
掺杂的概念和分类
掺杂
在半导体材料中人为地加入某种元素,以改变其导电性能的过程。
分类
施主掺杂、受主掺杂、中性杂质掺杂。
杂质能级的形成和特性
形成
杂质原子在半导体晶体中占据了特定 的位置,这些位置上的电子能级与晶 体中的其他电子能级不同,形成了杂 质能级。
特性
杂质能级位于禁带中,其能量位置取 决于掺杂元素的种类和浓度,对半导 体的导电性能有重要影响。

模电第一章课件

模电第一章课件
பைடு நூலகம்
图1.6 PN结的形成过程
空间电荷区:在交界面附近出现的带电离子集中 的薄层,又称耗尽层、阻挡层。
内电场:空间电荷区的左半部是带负电的杂质离 子,右半部是带正电的杂质离子,空间电荷区中 就形成一个N区指向P区的内建电场。
接触电位差 U :达到动态平衡后的PN结, 内建电场的方向由N区指向P区的电位差。
1.1 半导体的基础知识 1.2 PN结与半导体二极管 1.3 特殊二极管
1.4 半导体三极管
1.5 场效应晶体管
1.1 半导体的基础知识
1.1.1 导体、绝缘体、和半导体 1.1.2 本征半导体 1.1.3 杂质半导体
1.1.1 导体、绝缘体和半导体
导体:导电的物质,如铜、铝、铁、银等。 绝缘体:不导电的物质,石英、橡胶等。 半导体:导电性能介于导体和绝缘体之 间。常用的半导体材料有硅(Si)、锗 (Ge)、砷化镓(GaAs)等。
4.最大反向工作电压UFM:二极管安全运行时所能承受的最大反向电压。一 般取击穿电压U(BR)的一半作为UFM 。
5.反向电流:指二极管未击穿时反向电流。IR 值越小,二极管单向导电性越 好。随温度变化而改变。 6. 最高工作频率fM :fM 由PN结的结电容大小决定。二极管的工作频率超过 fM,单向导电性变差。
1.2.3
PN结的电容效应
PN结的结电容:在外加电压发生变化时,PN结耗尽层内的空间电 荷量和耗尽层外的载流子数目均发生变化的电容效应。 按产生的机理不同结电容可分为:
一是势垒电容CB 二是扩散电容CD
一、势垒电容CB
指阻挡层中电荷量随外加电压变化而改变所呈 现的电容效应,用CB表示。CB的大小与PN结面积、 阻挡层宽度、半导体材料的介电常数有关, 且随外加反向电压变化而 变化。反向电压越大,CB 越小。 利用PN结的势垒电容 效应,可制造变容二极 管(压控可变电容器)

模电第一章半导体基础及二极管电路

模电第一章半导体基础及二极管电路

vS

if (vS 0) vS


if (vS 0) vS

D1

vS
RL vO
D2
D1

vO
RL vO
D2
D1


RL vO
vS

D2
t
t
D1
RL vO
D2
38
二极管整流电路:全波整流


D4
D1
AC
Line
vS
vO
vS
Voltage
R
t


D2
D3

3
本征半导体及其特性
导 体 (Conductor)
电导率 >105 铝、金、钨、铜等金属,镍铬等合金。
半导体 (Semiconductor)
电导率 10-9~ 102 硅、锗、砷化镓、磷化铟、碳化镓、重掺杂多晶硅
绝缘体 (Insulator)
电导率10-22 ~10-14
二氧化硅、氮氧化硅、氮化硅等
RL VO
当 RL不变时:


Vs
Vo
Vz

I Vo z

IR

VR
Vo 当 Vs 不变时:
# 不加R可以吗?
RL Io IR Vo Iz IR VR
Vo
41
二极管模拟电路:限幅电路(一)
限幅:按照规定的范围,将输入信号波形的一部分传 送到输出端、而将其余部分消去。一般利用器件的开 关特性实现

I evD /VT S
当vD 100mV 时,i IS ,反向电流基本不变

电子科大模电 第1章-半导体基础知识~6EF9D

电子科大模电 第1章-半导体基础知识~6EF9D

本征浓度
• 载流子复合:自由电子与空穴在热运动中相 遇,使自由电子空穴对消失的现象。 • 载流子的动态平衡:在一定温度下,单位时 间内本征激发所产生地自由电子空穴对的数 目与复合而消失的自由电子空穴对的数目相 等,就达到了载流子的动态平衡状态,使本 征半导体中载流子的浓度一定。
本征载流子的浓度
ni pi BT e
精品资料电子科大模电第1章半导体基础知识精品资料第一章常用半导体器件精品资料第一章常用半导体器件11半导体基础知识12半导体二极管13晶体三极管14场效应管精品资料1半导体基础知识一本征半导体二杂质半导体三pn结的形成及其单向导电性四pn结的电容效应精品资料一本征半导体导电性介于导体与绝缘体之间的物质称为半导体
Si的原子密度NSi = 5×10 /cm ,若掺入百万 分之一浓度的P原子形成N型半导体,估算一 下杂质半导体中的多子和少子的浓度是多少?
22
3
杂质半导体载流子浓度
• 掺入杂质对本征半导体的导电性有很大的影响,因为多数 载流子是由掺入的杂质的浓度决定的。典型的数据如下: T = 300K 室温下,本征硅的原子浓度:4.96×1022 /cm3 本征硅的电子和空穴浓度为: n = p =1.48×1010/cm3 掺杂后,N 型半导体中的自由电子浓度为 :n=5×1016 /cm3 • 由这些数据可以看出,掺杂对半导体的导电性影响是多么 大。
第一章 常用半导体器件
第一章 常用半导体器件
§1.1 半导体基础知识 §1.2 半导体二极管 §1.3 晶体三极管 §1.4 场效应管
§1 半导体基础知识
一、本征半导体 二、杂质半导体 三、PN结的形成及其单向导电性 四、PN结的电容效应
一、本征半导体
1、什么是半导体?什么是本征半导体?
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硅单晶材料
2、本征半导体的结构
• 硅和锗是四价元素,在原子最外层轨道上的四个电 子称为价电子。根据化学的知识可以知道,最外层 的价电子受原子核的束缚力最小,容易脱离原子核 的束缚而成为自由电子。在半导体晶体中,一个原 子最外层的价电子分别与周围的四个原子的价电子 形成共价键。
半导体的原子结构为金刚 石结构:每个原子都处在正 四面体的中心,而四个其它 原子位于四面体的顶点。
在本征半导体中掺入三价杂质元素,如硼、镓、铟 等形成了P型半导体,也称为空穴型半导体。
N型半导体
在N型半导体中自由电子
是多数载流子,它主要由
杂质原子提供;空穴是少
数载流子,由热激发形成。
Si
提供自由电子的五价杂质
P
原子因失去了这个价电子
而带正电荷,成为正离子,
因此五价杂质原子也称为
施本主征杂硅质或。锗 + 少量磷 N型半导体
2、本征半导体的结构
共价键
由于热运动,具有足够能量 的价电子挣脱共价键的束缚 而成为自由电子(本征激发,热 激发)
自由电子的游离使共价键中 留有一个空位置,称为空穴
自由电子与空穴相碰同时消失,称为复合。 动态平衡 一定温度下,自由电子与空穴对的浓度一定;温度升高, 热运动加剧,挣脱共价键的电子增多,自由电子与空穴对 的浓度加大。
3、本征半导体中的两种载流子
运载电荷的粒子称为载流子。 外加电场时,带负电的自由电子 和带正电的空穴均参与导电,且运 动方向相反。由于载流子数目很少, 故本征半导体导电性很差。
温度升高,热运动加剧,载 流子浓度增大,导电性增强。
热力学温度0K时不导电。
两种载流子
为什么要将半导体变成导电性很差的本征半导体?
第一章 常用半导体器件
第一章 常用半导体器件
§1.1 半导体基础知识 §1.2 半导体二极管 §1.3 晶体三极管 §1.4 场效应管
§1 半导体基础知识
一、本征半导体 二、杂质半导体 三、PN结的形成及其单向导电性 四、PN结的电容效应
一、本征半导体
1、什么是半导体?什么是本征半导体?
导电性介于导体与绝缘体之间的物质称为半导体。
多余电子
Si Si
施主杂质
P型半导体
P型半导体中空穴是多数 载流子,其数量主要由掺 杂的浓度确定;电子是少 数载流子,由热激发形成。 三价杂质也称为受主杂质。
空穴
Si
Si
B
Si
本征硅或锗 +少量硼 P型半导体
受主杂质
• 判断下面是属于何种半导体?
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
n i 本征浓度
思考?
• 本征半导体的热激发效率是很低的,所以本征 载流子浓度远远小于本征半导体的原子浓度。
• 若掺入很小比例的施主杂质,在室温下,可认 为每个施主原子在半导体中产生一个多数载流 子,这样,即使施主原子的浓度远小于本征半 导体的原子浓度,但仍然远大于本征载流子的 浓度。
• 这时,本征激发产生的多数载流子虽然有,但 数量很有限。
半导体--硅(Si)、锗(Ge),均为四价元素,它们原 子的最外层电子受原子核的束缚力介于导体与绝缘体之间。
本征半导体是纯净的晶体结构的半导体。 无杂质 稳定的结构
砷化镓(GaAs) 属于半导体化合物。
• 半导体在物理结构上有多晶体和单晶体两种形态, 制造半导体器件必须使用单晶体,即整个一块半导 体材料是由一个晶体组成的。制造半导体器件的半 导体材料纯度要求很高,要达到99.9999999%,常 称为“九个9”。
在本征半导体中掺入某些微量杂质元素,可使半导体 的导电性发生显著变化。掺入的杂质主要是三价或五价元 素,掺入杂质的本征半导体称为杂质半导体。要注意,这 里的杂质半导体是在提纯的本征半导体中掺入一定浓度的 三价或五价元素而得到的,不是普通意义上的含有多种任 意杂质的半导体。
在本征半导体中掺入五价杂质元素,例如磷,可 形成N型半导体,也称电子型半导体。
ni pi BT2e 2kT
(1.1)
式中ni、pi分别表示电子和空穴的浓度(cm-3),T为热力学温 度(K),k为波尔兹曼常数(8.63×10-5eV/K),Eg为T=0K时 破坏共价键所需的能量,又称禁带宽度(eV),B是与半导体 材料有关的常数(cm-3K-3/2)。
二 杂质半导体
• 杂质半导体
杂质半导体的示意表示法
---- - - ---- - - ---- - - ---- - -
+ +++++ + +++++ + +++++ + +++++
P 型半导体
N型半导体
多数载流子浓度=杂质浓度+热激发少子浓度
估算
• 在室温下,Si的本征浓度ni= 1.48×1010/cm3 Si的原子密度NSi = 5×1022/cm3,若掺入百万 分之一浓度的P原子形成N型半导体,估算一 下杂质半导体中的多子和少子的浓度是多少?
杂质半导体载流子浓度
• 有杂质电离和本征激发两个产生载流子的 过程。
• 根据半导体物理理论,少量掺杂时,在产 生载流子与载流子复合达到动态平衡条件 下,多数载流子与少子浓度的乘积等于同 一温度时的本征载流子浓度的平方。
杂质半导体的载流子浓度
no po ni2
n o 热平衡条件下自由电子的浓度
p o 热平衡条件下空穴的浓度
导体--铁、铝、铜等金属元素等低价元素,其最外层电 子在外电场作用下很容易产生定向移动,形成电流。
绝缘体--惰性气体、橡胶等,其原子的最外层电子受原 子核的束缚力很强,只有在外电场强到相当程度时才可能导 电。
导 体: 电阻率ρ < 10-4 Ω·cm 绝缘体:电阻率ρ > 109 Ω·cm 半导体:电阻率ρ介于前两者之间。
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
p
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
p
Si
Si
Si
Si
Si
+
Si
Si
Si
B
Si
B
Si
Si
+
Si
Si Si
Si
载流子的浓度问题
• 对于本征半导体,由于存在本征激发(热 激发)和复合,在动态平衡下载流子的浓 度趋于稳定值n=p=ni,也称为本征载流子 浓度。
• 想一想,ni 是如何计算的?
本征浓度
• 载流子复合:自由电子与空穴在热运动中相 遇,使自由电子空穴对消失的现象。
• 载流子的动态平衡:在一定温度下,单位时 间内本征激发所产生地自由电子空穴对的数 目与复合而消失的自由电子空穴对的数目相 等,就达到了载流子的动态平衡状态,使本 征半导体中载流子的浓度一定。
本征载流子的浓度
3 Eg
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