晶片知识简介
晶片相关知识

晶片相关知识讲述第一节:LED制程简介;第二节:晶片的制做原理及组成原料;第三节:晶片的特性及发光原理;第四节:常用晶片的种类;第五节:晶片的分片方式;第六节:晶片的正确使用及影响因素。
第一节:LED制程简介发光二极体:Light Emitting Diode(LED)是一种具有两个电极端子、在电子间施加电压,通过电流会立即发光的光电元件。
由于LED是自体发光,用手触摸并不会有热的感觉,且寿命可达十万个小时以上。
LED依制作流程可分为上、中、下游与应用四个部份。
上游制程主要是单晶棒经由切割、研磨、抛光,而形成单晶片。
单晶片为磊晶成长用基板。
磊晶片透过不同磊晶成长法,制造ⅢⅤ族化合物半导体,如:磷化镓(GaP)、砷化镓(GaAs)、磷砷化镓(AsGaP) 、砷化铝镓(AlGaAs)、磷化铝铟镓(AlGaInP)、氮化铟镓(GaInN)等磊片,然后进入中游制程。
下游制程主要是封装完成LED成品。
将晶粒粘著(Dice Bond)、打线(Wire Bond)后,置入树脂的模具中,封装完成不同基本零件或模组,等树脂硬化后取出剪脚,完成LED成品。
若依封装成品可分为灯泡型(Lamp)、数字/字元显示型(Digital/Character) 、表面粘著型(Surface Mount) 、点矩阵型(Dot Matrix) 、集束型(Chuster)等。
而使用LED成品制作成显示器材,则属于应用层面。
应用:户外显示屏幕、第三煞车灯、交通记号等。
LED具有低耗电量、低发热量、使用寿命长、反应速率快、耐震性高等特性、是符合环保要求的光电元件。
应用于资讯、通讯、消费性电子等方面。
主波长(Dominate Wavelength, λp)色调(Hue)1718。
LED晶片相关知识

深圳市威能照明有限公司
SHEN ZHEN WENENLIGHTING CO.,LTD
LED晶片相关知识
Led的发光颜色(波长)
发光波长代码:WD或WLD,
单位:nM
红色中心范围620nM-630nM
绿色中心范围515nM-527nM
蓝色中心范围450nM-475nM
黄色中心范围586nM-595nM
橙色中心范围600nM-610Nm
白色是采用蓝光晶片+YAG荧光粉混合而成,颜色用色温值表示.
LED的发光亮度
发光亮度代码:IV,单位:mcd;或标示功率PO,单位:mw
LED驱动电压
驱动电压代码:VF,单位:V;
红色,黄色,橙色电压范围集中在:1.9-2.5V间
蓝色,绿色电压范围集中在:2.8-3.6V间
(注:同一厂家晶片不同规格,名称也可能会出现亮度,电压,波长参数标示范围一致)。
晶片基础知识.ppt

2019/10/12
If
Made by:junzi_liang
LED Chip 基础知识
亮度與溫度之關係
Relative Luminance
Relative Luminance vs Ambient Temperature
140
120
100
HR
80
YL
60
40 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 Ambient Temperature ( C )
2019/10/12
Made by:junzi_liang
LED Chip 基础知识
Vf 與溫度之關係
Forward Voltage (@20mA) vs Ambient Temperature
Forward Voltage ( V )
2.4 2.3
2.2
2.1
2
HR
1.9
YL
1.8
1.7 1.6
与电极
•电极分上电极及下电极 材料部份有Al及Au •依P型层及N型层的位置, 分为两种: P型层在上, 则为P-type N型层在上, 则为N-type •基层一般为GaAs, GaP,…等
2019/10/12
Made by:junzi_liang
LED Chip 基础知识
芯片的结构( II ) 一般基层(Substrate)的材料, 如GaAs, 有吸收光之特 性, 称为AS type, 将造成发光效率变差, 解决此问题 的方法, 目前有两种: •磨除基层 •更换基层为 TS type
2019/10/12
Made by:junzi_liang
LED Chip 基础知识
LED晶片基础知识扫盲及制造.doc

LED晶片基础知识扫盲及制造LED晶片基础知识扫盲%1.晶片的作用:晶片為LED的主要原材料,LED主要依靠晶片來發光.%1.晶片的組成.主要有碑(AS)鋁(AL)錄(Ga)錮(IN)磷(P)氮(N)鍵(Si)這几种元素中的若干种組成.%1.晶片的分類1.按發光亮度分:A. —般亮度:R、H、G、Y、E 等.B•高亮度:VG、VY、SR等C.超高亮度:UG、UY、UR、UYS、URF、UE 等D.不可見光(紅外線):IR、SIR、VIR、HIRE.紅外線接收管:PTF.光電管:PD2.按組成元索分:A.二元晶片(磷、錄):H、G等B.三元晶片(磷、錄、H巾):SR、HR、UR等C・四元晶片(磷、鋁、錄、錮):SRF、HRF、URF、VY、HY、UY、UYS、UE、HE、UG 等%1.晶片特性表(詳見下表介紹)晶片型號發光顏色組成元索波長(血)晶片型號發光顏色組成元素波長(nm)SBI 藍色InGaN/sic 430 HY 超亮黃色AlGalnP 595SBK 較亮藍色InGaN/sic 468 SE 高亮桔色GaAsP/GaP610DBK 較亮藍色GaunN/Gan470 HE 超亮桔色AlGalnP 620SGL 青綠色InGaN/sic 502 UE 最亮桔色AIGalnP 620DGL較亮青綠色LnGaN/GaN505 URF最亮紅色AlGalnP 630 DGM較亮青綠色WG Q N523 E 桔色GaAsP/GaP635PG 純綠GaP 555 R 紅色GAaAsP 655SG標准綠GaP 560 SR較亮紅色GaA/AS 660G綠色GaP 565 HR超亮紅色GaAlAs 660VG較亮綠色GaP 565 UR最亮紅色GaAlAs 660UG 最亮綠色AlGalnP 574 H 高紅GaP 697Y 黃色GaAsP/GaP585 HIR 紅外線GaAlAs 850VY 較亮黃色GaAsP/GaP585 SIR 紅外線GaAlAs 880UYS 最亮黃色AlGalnP 587 VIR 紅外線GaAlAs 940UY最亮黃色AlGalnP 595 IR紅外線GaAs 940第四章芯片制造概述-Tby r53858概述木章将介绍基木芯片生产T艺的概况。
晶片

晶片基础知识一.晶片的作用:晶片为LED的主要原材料,LED主要依靠晶片来发光.二.晶片的组成.主要有砷(AS) 铝(AL) 镓(Ga) 铟(IN) 磷(P) 氮(N)锶(Sr)这几种元素中的若干种组成.三.晶片的分类1.按发光亮度分:A.一般亮度:R﹑H﹑G﹑Y﹑E等.B.高亮度:VG﹑VY﹑SR等C.超高亮度:UG﹑UY﹑UR﹑UYS﹑URF﹑UE等D.不可见光(红外线):IR﹑SIR﹑VIR﹑HIRE. 红外线接收管 :PTF.光电管 : PD2.按组成元素分:A. 二元晶片(磷﹑镓):H﹑G等B.三元晶片(磷﹑镓﹑砷):SR﹑HR﹑UR等C.四元晶片(磷﹑铝﹑镓﹑铟):SRF﹑HRF﹑URF﹑VY﹑HY﹑UY﹑UYS﹑UE﹑HE、UG等四.晶片特性表(详见下表介绍)晶片型号发光颜色组成元素波长(nm) 晶片型号发光颜色组成元素波长(nm)SBI 蓝色 lnGaN/sic 430 HY 超亮黄色 AlGalnP 595SBK 较亮蓝色 lnGaN/sic 468 SE 高亮桔色 GaAsP/GaP610DBK 较亮蓝色 GaunN/Gan470 HE 超亮桔色 AlGalnP 620SGL 青绿色 lnGaN/sic 502 UE 最亮桔色 AlGalnP 620DGL 较亮青绿色 LnGaN/GaN505 URF 最亮红色 AlGalnP 630DGM 较亮青绿色 lnGaN 523 E 桔色 GaAsP/GaP635PG 纯绿 GaP 555 R 红色 GAaAsP 655SG 标准绿 GaP 560 SR 较亮红色 GaA/AS 660G 绿色 GaP 565 HR 超亮红色 GaAlAs 660VG 较亮绿色 GaP 565 UR 最亮红色 GaAlAs 660UG 最亮绿色 AIGalnP 574 H 高红 GaP 697Y 黄色 GaAsP/GaP585 HIR 红外线 GaAlAs 850VY 较亮黄色 GaAsP/GaP585 SIR 红外线 GaAlAs 880UYS 最亮黄色 AlGalnP 587 VIR 红外线 GaAlAs 940UY 最亮黄色 AlGalnP 595 IR 红外线 GaAs 940五.注意事项及其它1.晶片厂商名称: A.光磊(ED) B.国联(FPD) C.鼎元(TK) D.华上(AOC)E.汉光(HL)F.AXTG.广稼2.晶片在生产使用过程中需注意静电防护.。
soc(系统级晶片)详细资料大全

soc(系统级晶片)详细资料大全SoC的定义多种多样,由于其内涵丰富、套用范围广,很难给出准确定义。
一般说来,SoC称为系统级晶片,也有称片上系统,意指它是一个产品,是一个有专用目标的积体电路,其中包含完整系统并有嵌入软体的全部内容。
同时它又是一种技术,用以实现从确定系统功能开始,到软/硬体划分,并完成设计的整个过程。
基本介绍•中文名:系统级晶片•外文名:System on Chip•缩写:SoC•别称:民航SOC英文解析,片上系统,综述,功能,技术发展,技术特点,优势,存在问题,核心技术,设计思想,基本结构,设计基础,设计过程,设计方法学,套用动态, 英文解析SOC,或者SoC,是一个缩写,包括的意思有:1)SoC:System on Chip的缩写,称为晶片级系统,也有称片上系统,意指它是一个产品,是一个有专用目标的积体电路,其中包含完整系统并有嵌入软体的全部内容。
2) SOC: Security Operations Center的缩写,属于信息安全领域的安全运行中心。
3)民航SOC:System Operations Center的缩写,指民航领域的指挥控制系统。
4)一个是Service-Oriented Computing,“面向服务的计算” 5)SOC(Signal Operation Control) 中文名为信号操作控制器,它不是创造概念的发明,而是针对工业自动化现状提出的一种融合性产品。
它采用的技术是正在工业现场大量使用的成熟技术,但又不是对现有技术的简单堆砌,是对众多实用技术进行封装、接口、集成,形成全新的一体化的控制器,可由一个控制器就可以完成作业,称为SOC。
6)SOC(start-of-conversion ),启动转换。
7)short-open calibration 短开路校准。
片上系统System on Chip,简称Soc,也即片上系统。
从狭义角度讲,它是信息系统核心的晶片集成,是将系统关键部件集成在一块晶片上;从广义角度讲,SoC是一个微小型系统,如果说中央处理器(CPU)是大脑,那么SoC就是包括大脑、心脏、眼睛和手的系统。
LED晶片知识

Operating Temperature Storage Temperature ESD sensitivity (HBM) *
Topr Tstg VESDS
-30 to +85 -40 to +100 2000
7. 晶片主要厂家/与型号编码
1. 晶元 (Epistar) 台湾最大的晶片生产商之一 其晶片型号通常以ES ES- ET-开头) 晶片编码原则 (其晶片型号通常以ES-与ET-开头)
双电极长 方形晶片
高功率双电极晶片
6. 晶片参数
6.2. 晶片尺寸 晶片按尺寸分,较常用的有以下规格 (1mil=25.4m) 小尺寸 7*9 mil 9*11 mil 12*12 mil 10*18 mil 14*14 mil 15*15 mil 10*23 min 大尺寸 24*24 mil 28*28 mil 40*40 mil 45*45 mil 60*60 mil
吸嘴
晶片
9. 晶片评估
2,焊线评估项目: 焊线评估项目:
a.焊线压力 b.功率 c.时间 d.焊线热板温度 e.PR识别能力 f.弧高 g.金球大小 h.产能 i.拉力大小(断点位置) 若有问题均要有记录.
金线 晶片
瓷咀
支架
9. 晶片评估
5,老化实验 a.电性测试(包括ESD) ; b.按信赖性实验标准取材料准备分别做以下实验: 实验前产品需要编号测试VF/IR/IV/WL性能,产品要与数据对应), 实验一:常温点亮保存(条件 Ta=25±5℃,RH=55±20%RH, 20mA通电1000hrs) 实验二:高温高湿点亮(条件 Ta=85+5,-3℃,RH=85%+5,-10%, 20mA通电1000hrs) 实验三:冷热冲击[条件 Ta=85℃(30分钟)~Ta=25℃(30分钟) ~Ta=-40℃(30分钟)~Ta=85℃(30分钟)] 其他实验可以根据自己的需要进行选择; 实验过程中每100/168小时测试一次; 所有不良品均要分析.
红光晶片结构

红光晶片结构摘要:一、红光晶片的结构简介1.红光晶片的定义2.红光晶片的主要组成部分二、红光晶片的工作原理1.红光晶片的工作原理简述2.红光晶片在光学器件中的应用三、红光晶片的制造工艺1.制造红光晶片的常用材料2.红光晶片的制造工艺流程四、红光晶片的性能与应用1.红光晶片的性能指标2.红光晶片在实际应用中的优势五、红光晶片的发展趋势与展望1.红光晶片技术的最新发展2.红光晶片在未来光学器件领域的应用前景正文:红光晶片是一种具有特定光学性能的半导体材料,它能够将电能转化为光能,并在红光波段表现出优异的光学性能。
作为一种重要的光学器件,红光晶片广泛应用于各种光电子设备中,如LED照明、激光器、光通信等领域。
红光晶片主要由p型半导体、n型半导体以及连接两者的PN结构组成。
当给红光晶片施加正向电压时,p型半导体中的空穴和n型半导体中的自由电子在PN结构附近复合,从而以光子的形式释放出能量,形成红光。
红光晶片的制造工艺主要包括材料选择、薄膜生长、图形化处理等步骤。
常用的红光晶片材料有砷化镓、磷化铟等,这些材料具有较高的发光效率和较长的使用寿命。
制造工艺的发展使得红光晶片的性能不断提高,为各种光学器件的制造提供了有力支持。
红光晶片在实际应用中具有诸多优势。
首先,红光晶片的光电转化效率高,能够将更多的电能转化为光能,提高设备的光输出功率。
其次,红光晶片的光谱分布特性优良,能够满足不同应用场景的需求。
最后,红光晶片的寿命长、稳定性好,可以降低光学器件的维护成本。
随着科技的不断进步,红光晶片技术也在不断发展。
例如,研究人员正在探索新型材料和制造工艺,以进一步提高红光晶片的性能。
此外,红光晶片在未来光学器件领域有着广泛的应用前景,如用于超高清显示、无人驾驶汽车、医疗诊断等高端领域。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
客户
2.8 2.8 4.0 4.0 4.0
材质
GaP/GaP GaAlInP/GaAs GaInN/GaN GaInN/GaN GaInN/GaN
蓝色
UB5 UB
右图在1/100~1/10duty 时建议使用100mA电流 ,大于1/10duty时,使用 电流下降,到直流时建 议使用30mA电流!
VFmax规格 我司
2.1 2.3 2.3 2.4 2.4 2.4 2.4 2.4 2.4 2.4
客户
640±10 630±10 630±10 588±5 588±5 590±7 583-595 622±10 606±8 629±10
客户
2.6 2.6 2.68 2.6 2.8 2.8 2.8 2.6 2.6 2.8
GaP GaAsP AlxGa1-xAs | ¸ ¥ ¤ (AlxGa1-x) 0.5In0.5P GaxIn1-xN InN
晶片分类
晶片
一般晶片
高亮晶片
二元
三元
四元
InGaN
AS
TS
OMA
四元晶片结构
蓝光晶片结构
蓝光ITO晶片的差别
~60%
金屬接觸層
>90%
ITO
ITO相对普通晶片亮度提升30%以上!!
钻 石 刀 切 割 机
镭射切割机
后段制程-分类
分类
将白膜扩张环固定在分 类机上,利用之前全检 的数据由晶片分类机将 晶片挑选于各BIN的规 格白膜上进行分类
后段制程-目测、入库
目测、入库
用显微镜人工目测,检 验晶片外观,然后由白 膜翻转至蓝膜,计数后 帖标签,经QC检验合格 后入库
颜色
红色
代码
晶片知识简介
目 录
1 2 3 4
晶片分类简介 晶片制程简介 常用晶片参数
附录-产业名词汇总
晶片发光颜色及材质分布
Semiconductor materials spectrum range in LED field
300nm µ¥ ~ 400 C «µ Å Â 500 º ñ ¶ À 600 ¾ í ¬ õ 700 800nm õ~ ¬¥
前段制程
后段制程
全点
研磨、抛 光
切割
目检
五点量测
分类
后段制程-全点
全点
利用测试机将大圆片上 的每一颗晶粒做电性测 试,并利用相应程式作 出电性分布图
后段制程-研磨抛光
研磨、抛光(上腊 研磨
抛光 下腊 清洗) 将wafer用腊固定在陶 瓷盘上(上腊),由研 磨机与抛光机将wafer 研磨至设定的厚度,以 利于晶片切割
研磨、抛光(上腊 研磨 抛光 下腊 清洗) 将wafer用腊固定在陶 瓷盘上(上腊),由研 磨机与抛光机将wafer 研磨至设定的厚度,以 利于晶片切割
研磨、抛光(上腊 抛光 下腊
研磨
清洗)
由陶瓷盘取下研磨完成 的wafer后,置于丙酮 及IPA溶液中将腊清洗干 净
后段制程-切割
切割
将wafer帖在铁筐白膜 上固定,依规格分类作 钻石刀或镭射切割,切 割后利用劈裂机做晶粒 分离
代码
G VG3 LPG6
型号
TK109YGU TK509YG 203SG 203SB ED-010BL
波长规格 我司
565-572 567-573 520-530 465-470 465-470
VFmax规格 我司
2.6 2.6 3.6 3.6 3.6
客户
563-573 565-574 515-535 462.5472.5 462.5472.5
SR LR1 HUR
型号
பைடு நூலகம்TK108SR TK508SR ED-012UOV TK108HY ES-CAYL512 HWFR-B310 ES-SAYL814 ED-011HOU TK110SO HWFR-B510
波长规格 我司
640±6 630±6 630±4 588±4 588±4 590±5 584-594 622±8 606±6 629±6
总流程(以蓝光例)
• 在蓝宝石基板(Sapphire)上成长氮化稼系 磊晶层,成品简称Epi Wafer
磊晶制程
前制程 (Front End)
• 包括晶片电极形成及晶圆抽样针测两大步骤
后段制程 (Back End)
• 晶片电子特性针测、晶圆研磨/切割、分类、 目检帖标签入库…
磊晶制程
在单晶的半导体基板上成长另一种单晶半 导体,此类成长技术称为“磊晶(epitaxy)” 蓝光LED这是在蓝宝石(Sapphire)基板 上成长一薄层非晶体缓冲层,再依次磊晶成长 n层、发光层、p-GaN(氮化稼)层 磊晶的方法主要是采用MOCVD(有机金属 气相沉积)法
温度和使用电流关系图 假设LED的热阻为Rth【℃/W】 点亮时消耗功率为P【W】 此时结合部之温度上升 △T=Rth【℃/W】×P【W】 当周围温度为Ta 结合部温度Tj=△T+Ta
同电流情况下,温度对 产品VF的影响。 当温度升高,原子震动 更加剧烈,“势垒区” 变窄 。同电流情况下, 电子更容易通过“势垒 区”与空穴结合发光, 所以VF值相对室温要低 ,温度越高,原子震动 越剧烈,产品VF值越低
产品当温度升高光强会 降低,因为温度升高VF 降低,导致产品功率也 降低,功率降低意味着 光强降低
材质
GaAlAs/GaAs GaAlInP/GaAs GaAlInP/GaAs GaAsP/GaP GaAlInP/GaAs GaAlInP/GaP GaAlInP/Si GaAsP/GaP GaAsP/GaP GaAlInP/GaP
黄色
Y VY5 VY2 VYA
橙色
E E-610 VE2
颜色
绿色