tanner L-edit 软件基本操作知识
Ledit使用技巧
L-EDIT 使用技巧4.3 集成电路自动设计工具软件掩模版图编辑操作利用计算集成电路自动设计工具软件L-EDIT 实现移相掩模图形布局设计及交互式图形编辑。
Tanner Research,Inc.开发的一种很优秀的集成电路设计工具 (Tanner IC Design Tools) 软件，最大的特点是可用于任何个人计算机(PC机)、它不仅具有强大的集成电路设计、模拟验证、版图编辑和自动布局布线等功能，而且图形处理速度快、编辑功能强、通俗易学、使用方便，很实用于任何个人进行集成电路设计或其它微细图形加工的版图设计工作。
早期（1988）Tanner EDA Tools是一种可以运行于PC-DOS或MS-DOS操作系统的IBM PC及其兼容机的交互式集成电路版图设计工具软件包、（当然也能运行于Macintoshcs苹果机和带X-windos的UNIX工作站），通过十多年的扩充、改进，几乎每年都有一种新的修改版，到目前已经推出到1988-2002 Tanner EDA 版本，其强大的EDA功能不比SUN 工作站上运行的Cadence 设计软件逊色，可以用来完成任何复杂度的IC设计，但它却能够运行于任何微机上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各种操作系统平台上，为设计软件的普及、推广、应用创造了非常有利的条件。
教程以具有代表性的1998年Tanner EDA Tools 版本为基础对Tanner集成电路设计工具软件作全面的介绍，抛砖引玉，读者可以在此基础上，对其他版本功能作进一步探讨。
整个设计工具大体上可以归纳为两大部分，即以S-Edit为核心的集成电路设计、模拟、验证模块和以L-Edit为核心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块。
前者包括电路图编辑器S-Edit、电路模拟器T-Spice和高级模型软件、波形编辑器W-Edit、NetTran网表转换器、门电路模拟器GateSim以及工艺映射库、符合库SchemLib、Spice元件库等软件包，构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系，每个模块互相关联又相对独立，其中S-Edit可以把设计的电路图转换成SPICE，VHDL，EDIF 和TPR等网表文件输出，提供模拟或自动布图布线。
L-EDIT_使用技巧1
4.3 集成电路自动设计工具软件掩模版图编辑操作利用计算集成电路自动设计工具软件L-EDIT 实现移相掩模图形布局设计及交互式图形编辑。
Tanner Research,Inc.开发的一种很优秀的集成电路设计工具 (Tanner IC Design Tools) 软件，最大的特点是可用于任何个人计算机(PC机)、它不仅具有强大的集成电路设计、模拟验证、版图编辑和自动布局布线等功能，而且图形处理速度快、编辑功能强、通俗易学、使用方便，很实用于任何个人进行集成电路设计或其它微细图形加工的版图设计工作。
早期（1988）Tanner EDA Tools 是一种可以运行于PC-DOS或MS-DOS操作系统的IBM PC及其兼容机的交互式集成电路版图设计工具软件包、（当然也能运行于Macintoshcs苹果机和带X-windos的UNIX工作站），通过十多年的扩充、改进，几乎每年都有一种新的修改版，到目前已经推出到1988-2002 Tanner EDA 版本，其强大的EDA功能不比SUN 工作站上运行的Cadence设计软件逊色，可以用来完成任何复杂度的IC 设计，但它却能够运行于任何微机上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各种操作系统平台上，为设计软件的普及、推广、应用创造了非常有利的条件。
教程以具有代表性的1998年Tanner EDA Tools 版本为基础对Tanner集成电路设计工具软件作全面的介绍，抛砖引玉，读者可以在此基础上，对其他版本功能作进一步探讨。
整个设计工具大体上可以归纳为两大部分，即以S-Edit为核心的集成电路设计、模拟、验证模块和以L-Edit为核心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块。
前者包括电路图编辑器S-Edit、电路模拟器T-Spice和高级模型软件、波形编辑器W-Edit、Net Tran网表转换器、门电路模拟器GateSim以及工艺映射库、符合库SchemLib、Spice元件库等软件包，构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系，每个模块互相关联又相对独立，其中S-Edit可以把设计的电路图转换成SPICE，VHDL，EDIF和TPR 等网表文件输出，提供模拟或自动布图布线。
新编ledit简介
新编ledit简介序言L-Edit是Tanner Tools 的全定制版图编辑工具，它的最大特点是速度快，功能强，使用方便和分层设计。
它的屏幕刷新、放大和缩小功能及文件存取速度比其他版图编辑器件快很多;L-edit对掩膜版层数、分层数和单元数的处理00没有限制，基本图形有矩形、多边形、园、线和标注等，并可处理90，45和任意角;输入输出有TDB、CIF和GDS?三种格式;可在绘图机和普通打印机上实现输出硬拷贝;在设计版图时一旦发现有错，可以通过“undo”命令回到以前任意一个编辑状态。
版图(逻辑、电路)设计，采用正向设计，通过对逻辑的仿真，优化达到功能要求或自动布局布线，完成最终的版图设计工作，429总线普遍应用于航空领域，以429总线协议为基础开发专用集成电路，具有广泛的应用前景。
IC47101型坐标变换预处理器电路是429总线协议和专用集成电路相结合的较好范例。
—1—L-Edit版图编辑软件的使用和429总线的布局布线一、L-Edit版图编辑软件的使用1(几个术语在使用L-Edit时应先搞清楚几个术语:文件、单元、掩膜层和层次。
一个文件(后缀为.TDB)就是一个设计或版图库，它可以驻留在磁盘中，也可以在编辑时装入内存。
用户可以在内存中装入任意多个文件，一个文件可以由任意多个单元组成，不仅同一个文件中的单元可以互相拷贝，而且不同文件中的单元也可以互相拷贝。
在一个典型设计中，这些单元可以有一定的层次关系，也可以相互独立(如库文件)。
单元又可以由任意数量的掩膜层组成。
2(基本操作(1)鼠标使用:在L-Edit中鼠标的地位很重要，它不仅是编辑图形的必要条件，而且对L-Edit的基本控制也是通过它完成的。
依据鼠标的指(pointing)、点、按(clicking)、拖动(dragging)和双点(double-clicking)等操作就可以建立、移动和选择目标，以及从L-Edit的下拉菜单中选择命令。
Ledit使用技巧(陈老师)
L—EDIT 使用技巧4。
3 集成电路自动设计工具软件掩模版图编辑操作利用计算集成电路自动设计工具软件 L—EDIT 实现移相掩模图形布局设计及交互式图形编辑.Tanner Research，Inc。
开发的一种很优秀的集成电路设计工具 (Tanner IC Design Tools) 软件,最大的特点是可用于任何个人计算机（PC机）、它不仅具有强大的集成电路设计、模拟验证、版图编辑和自动布局布线等功能，而且图形处理速度快、编辑功能强、通俗易学、使用方便,很实用于任何个人进行集成电路设计或其它微细图形加工的版图设计工作。
早期（1988）Tanner EDA Tools是一种可以运行于PC—DOS或MS-DOS操作系统的IBM PC及其兼容机的交互式集成电路版图设计工具软件包、(当然也能运行于Macintoshcs苹果机和带X-windos的UNIX 工作站)，通过十多年的扩充、改进，几乎每年都有一种新的修改版，到目前已经推出到1988—2002 Tanner EDA 版本，其强大的EDA功能不比SUN 工作站上运行的Cadence设计软件逊色，可以用来完成任何复杂度的IC设计，但它却能够运行于任何微机上的Windows 98/ Windows ME/ Windows NT/ Windows 2000/ Windows XP等各种操作系统平台上，为设计软件的普及、推广、应用创造了非常有利的条件。
教程以具有代表性的1998年Tanner EDA Tools 版本为基础对Tanner集成电路设计工具软件作全面的介绍，抛砖引玉，读者可以在此基础上,对其他版本功能作进一步探讨。
整个设计工具大体上可以归纳为两大部分，即以S-Edit为核心的集成电路设计、模拟、验证模块和以L-Edit为核心的集成电路版图编辑与自动布图布线模块。
前者包括电路图编辑器S—Edit、电路模拟器T-Spice和高级模型软件、波形编辑器W—Edit、NetTran网表转换器、门电路模拟器GateSim以及工艺映射库、符合库SchemLib、Spice元件库等软件包，构成一个完整的集成电路设计、模拟、验证体系，每个模块互相关联又相对独立，其中S—Edit 可以把设计的电路图转换成SPICE,VHDL,EDIF和TPR等网表文件输出,提供模拟或自动布图布线。
Tanner EDA L-edit 手册
Sometimes companies will charge you an additional fee to convert your CAD format into GDSII so they can make your masks.
beam (“anchor” GDSII layer 2) (3) A metal layer for use as a strain gauge and as electrical
connections (“metal” GDSII layer 3) I want to design a cantilevered beam with a metal strain gauge on it.
Every area of each mask will be either opaque or clear. That is what you are trying to define… which areas are which.
Files and Tapeout
Your end product is a file which contains the data for your mask. The process of transmitting the data to a foundry who will build your device is called “tapeout”… you are sending your magnetic tape out.
tanner L-edit 软件基本操作知识演示幻灯片
三、使用L_edit绘制版图
（5）取代设定：选择 “文件”--“替换设 置”，从Browse选 择“D:\Program
Files\Tanner EDA\L-
Edit and
LVS\SPR\Lights\Lay out\lights.tdb”，主要 是采用其内的DRC 信息、layers信息。
（11）检查错误：打开 “设置”--DRC设置， 则可以观看详细的设 计规则，， 从Rules list列表框中选择3.1
Poly Minimum Width 选项中可以观看该条 设计规则设定poly最小 宽度为2个lambda，依 此修改poly宽度为2个 lambda，那么如何修 改呢？
三、使用L_edit绘制版图
三、使用L_edit绘制版图
（10）设计规则检查： 由于绘制的图样是要 制作集成电路的掩膜 图样，必须配合设计 规则绘制图层，才能 确保制程时的效率。 选择 工具---DRC 命令， 打开 Design Rule Check 对话框，如右图 所示，报错“最小宽 度少于两个Lambda”
三、使用L_edit绘制版图
三、使用L_edit绘制版图
（7）环境设定：绘制布局图， 必须要有确实的大小，因此 绘图前先要确认或设定坐标 与实际长度的关系。选择 “设置”命令，打开 “设计” 对话框，在其中的 Technology 选项卡中出现使用技术的名 称、单位与设定，本范例中 的技术单位 Technology units 为以 Lambda 为单位， 而 Lambda单位与内部单位 Internal Unit的关系可在 Technology setup选项组中进 行设定，我们设定一个 Lambda 为1000个 Internal Unit， 也设定一个 Lambda 等于一个 Micron。
L-Edit绘制版图
“Create rules on”栏用于设置标尺放置的位 置。选中“Current layer”选项表示将标尺放 于当前图层上，也可通过图层选择框中的下拉 列表，选取放置标尺的图层。
④“Recently Used File List”填充框表示最近使用的 文件列表，在框内填写不大于16的正整数，用来规定 File菜单下部列出的最近打开过的文件的最大数目。
2021/7/21
（2）“Keyboard”标签页 用来设定键盘上的热键，包括布局与文字编辑器。可
以视使用者使用习惯删除或是增加热键内容。 （3）“Warnings”标签页 是警告框的列表。选中某个警告框前的复选框将使它
当在“Technology units”栏内选中“Other”以外的选项，如选 中“Mils”选项，在“Technology setup”栏内只出现“Mils per Internal”填充框，用分数的形式定义内部单位与Mils之间的关系。
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（2）“Grid（栅格设置）”标签页 为方便绘图、查看和编辑，L-Edit提供了三种独立的栅格坐标：显
③“Technology setup（工艺设置）”栏：用于定义工艺单位与内 部单位间的换算关系。
当在“Technology units”栏内选中“Other”选项，并在右侧填 入Lambda，则该栏内出现两组填充框：“Lambda per Internal Unit”表示每内部单位的Lambda，用分数的形式定义内部单位与 Lambda的关系；“Lambda”填充框用分数的形式定义Lambda与 微米的关系。如自定义单位为foot，由于一英尺等于304800微米， 则在该填充框内应填写304800/1。图中设置为1个内部单位等于 1/1000微米。
L-Edit简明教程..
2018/10/8
3．设计参数设置 在版图设计之前必须对有关参数进行设置。 执行Setup/ Design子命令，进入设置参数对 话框，如图3.6所示，共有6个标签页。 （1）“Technology（工艺参数）”标签页图 3.6 工艺参数设置标签页 ①“Technology name”（工艺名称）栏：填 写设计所用的工艺名称。当要从一个文件拷贝 一个单元到另一个文件时，L-Edit将比较两个 文件所用的工艺是否相同。如果工艺不同，LEdit将显示警告信息。
图3.1 L-Edit窗
3.2 L-Edit的参数设置
在进行版图设计之前，首先要设定设计文件的 数据，如调色板、应用、设计、图层、特殊图 层、设计规则检查、标准单元库自动布局与连 线。
2018/10/8
1．调色板设置 执行Setup Palette子命令弹出调色板设置框， 如图3.4所示。L-Edit的色盘共有16种颜色设定， 每个颜色各有两种属性： （1）一个唯一的4位码； （2）RGB三种颜色的组合量。
版图的相关知识（二）
余华
重庆大学光电工程学院
L-Edit的使用方法
L-Edit是Tanner Tools Pro工具软件中的一 个软件包，可以在同一窗口中进行版图设计、 设计规则检查、网表提取、标准单元自动布局 与连线等工作。配合在S-Edit中建立的相应电 路，可以在Tanner Tools Pro提供的另一个工 具LVS完成布局与电路的比对。在本章中将介 绍L-Edit的使用与版图设计及网表提取。
2018/10/8
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图3.5 应用设置对话框
②TDB设定文件路径填充框：用于设置TDB设置文件 的预定义路径。 ③“Toolbars”选项栏：选中“Use Large Button” 选项，工具按钮将使用大图标；“Layer Icon Size” 项用于设置层定义区各图标的尺寸，在下拉框中选择， 单位是像素；“Drawing Mode”下拉选择框用于设 定绘图模式，有3种模式：Orthogonal（90°）、45 Degree（45°）、All Angle（任意角）。 ④“Recently Used File List”填充框表示最近使用的 文件列表，在框内填写不大于16的正整数，用来规定 File菜单下部列出的最近打开过的文件的最大数目。
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三、使用L_EDIT绘制版图
（10）设计规则检查： 由于绘制的图样是要 制作集成电路的掩膜 图样，必须配合设计 规则绘制图层，才能 确保制程时的效率。 选择 工具---DRC 命令， 打开 Design Rule Check 对话框，如右图 所示，报错“最小宽 度少于两个Lambda”
三、使用L_EDIT绘制版图
三、使用L_EDIT绘制版图
（13）修改对象：此 已经无错误
三、使用L_EDIT绘制版图
（14）绘制多边型： 在长方形 Poly旁间 隔 1 个格点处，选 择 Drawing 工具栏 中的多边形工具， 可利用鼠标左键拖 曳并点出多边型的 端点，单击结束， 如右图
三、使用L_EDIT绘制版图
（14）设计规则检查 DRC报错，查看 DRC设置，发现两 个相邻poly之间距 离最小为2个 lambda
三、使用L_EDIT绘制版图
（13）修改对象：可选择编辑 ---编辑物项命令，在 Show box 表框中选择 bottom left corner and dimensions选项， 如图 所示，再将 Width 微 调框改为2.，单击“确定” 按钮，即可修改完成。也 可以利用 Alt 键加鼠标拖曳 的方式来修改对象大小。 修改为宽度为两个格点后， 再进行设计规则检查，这 时已无错误
（12）修改对象：可选择编辑 ---编辑物项命令，在 Show box 表框中选择 bottom left corner and dimensions选项， 如图 所示，再将 Width 微 调框改为2.000，单击“确 定”按钮，即可修改完成。 也可以利用 Alt 键加鼠标拖 曳的方式来修改对象大小。 修改宽度为两个格点后， 再进行设计规则检查，这 时已无错误
三、使用L_EDIT绘制版图
（8）选择绘图形状： 绘制布局图，除了 选择要绘制的图层 外，还要在 Drawing 工具栏中 选择绘图方式，如 右图所示：
三、使用L_EDIT绘制版图
（9）选择绘图形状：绘制布局图， 除了选择要绘制的图层外，还 要在 Drawing 工具栏中选择绘 图方式，如图 10.9 所示，例 如，选择工具，按鼠标左键拖 曳可画方形。如要绘制一个方 形的 Poly 图层，横向占据1个 格点(1um), 纵方向占据 10 个 格点(10um)，结果如图，注意 左下角有状态栏，标明绘制的 形状、图层、宽度(W)、高度 (H)、面积(A)与周长(P)。按住 “Home”键可以全屏显示
一、Tanner软件简介：
Tanner Pro 是一套集成电路设计软件，包括 SEdit, T-Spice, W-Edit, L-Edit与 LVS, 各软件的主要功 能整理如表 1.1 所示。
TANNER软件简介
Tanner Pro的设计流程可 以用右图 1.1 来表示。
三、TANNER软件的安装
三、使用L_EDIT绘制版图
（6）编辑组件L-Edit 编辑方式是以 组件(Cell)为单位而不是以文件 (File)为单位的，每一个文件可有 多个 Cell, 而每一个 Cell 可表示 一种电路布局图或说明， 每次打 开新文件时也自动打开一个 Cell 并将之命名为 Ce110其中，编辑 画面中的十字为坐标原点。
三、使用L_EDIT绘制版图
（7）环境设定：绘制布局图， 必须要有确实的大小，因此 绘图前先要确认或设定坐标 与实际长度的关系。选择 “设置”命令，打开 “设计” 对话框，在其中的 Technology 选项卡中出现使用技术的名 称、单位与设定，本范例中 的技术单位 Technology units 为以 Lambda 为单位， 而 Lambda单位与内部单位 Internal Unit的关系可在 Technology setup选项组中进 行设定，我们设定一个 Lambda 为1000个 Internal Unit， 也设定一个 Lambda 等于一个 Micron。
（4）文件---保存，保存在自己所选目录下，注意不含中文， 这里选择E:\L_edit，并命名为EX1。
三、使用L_EDIT绘制版图
（5）取代设定：选择 “文件”--“替换设 置”，从Browse选 择“D:\Program
Files\Tanner EDA\L-
Edit and
LVS\SPR\Lights\Lay out\li信息、layers信息。
（11）检查错误：打开 “设置”--DRC设置， 则可以观看详细的设 计规则，， 从Rules list列表框中选择3.1
Poly Minimum Width 选项中可以观看该条 设计规则设定poly最小 宽度为2个lambda，依 此修改poly宽度为2个 lambda，那么如何修 改呢？
三、使用L_EDIT绘制版图
• 详细安装过程可以参看我编写的Tanner13.0安装 流程（13.0版图在windows7里面可以安装，下面 表格为Tanner对电脑的要求）
三、使用L_EDIT绘制版图
（1）打开 L-Edit 程序：在“开始”菜单“程序”里可以 找到，也可以在桌面创建快捷方式。
（2）出现界面如下
（3）L-Edit 会自动将工作文件命名为 Layoutl.sdb 并显示 在窗口的标题栏上，如上图所示
三、使用L_EDIT绘制版图
（15）改错、移动对 象：点中多边形， 选择菜单栏中的 “画”，然后“移 动至..”，如右图 设置x为1.000，即 右移一格即可或者 选中多边形后，按 住鼠标中间键不放 向右移动一格也可。 再做DRC检查则无 错误。
四、使用L_EDIT绘制PMOS版
图
（1）选取图层：在画面左边有一个 Layers 面板，其中有一个下拉列表， 可选取要绘制的图层，例如，Poly, 则 Layers 面板会选取代表 Poly图层的红 色。在 L-Edit 中的 Poly图层 代表制作 集成电路中多晶硅(Poly Silicon)所需要 的掩膜图样。 本范例绘制 PMOS 布局 图会用到的图层包括(N Well 图层)、 (Active 图层)、(N Select 图层)、(P Select 图层)、(Poly 图层)、(Metal1 图 层)、(Metal 2 图层)、(Active Contact图 层)、(Via 图层)，其各自的绘制