材料现代分析与测试 第六章 材料光学性能分析汇总

材料现代分析与测试 第六章 材料光学性能分析汇总
材料现代分析与测试 第六章 材料光学性能分析汇总

第六章 材料光学性能分析

第一节 透射光谱和吸收光谱

材料的光学性能主要包括对光的折射、反射、吸收、透射以及发光等诸多方面,光学性能与材料的某些应用领域密切相关,比如用作反射镜、光导纤维窗口、透镜、棱镜、滤光镜、激光探测器件等。鉴于篇幅,本章着重介绍折射率、色散、透过、吸收以及激发、发射、亮度、效率等发光性能的测试。

一、基本概念

光作为一种能量流,在穿过介质时,能引起介质的价电子跃迁或影响原子的振动而消耗能量。

即使在对光不发生散射的透明介质如玻璃或水溶液中,光也会有能量的损失,即光的吸收。

1.吸收光谱

设有一厚度为x 平板材料,入射光强度设为I 0,通过此材料后光强度为I ′。选取其中一薄层,并认为光通过此薄层的吸收损失-dI 正比于此处光强度 I 和薄层厚度dx ,即:

则可得到光强度随厚度呈指数衰减规律,即朗伯特定律:

α为物质对光的吸收系数,单位为cm-1。

α的大小取决于材料的性质和光的波长。对于相同波长的光波,α越大,光被吸收得越多,能透过的光强度就越小。

α随入射光波长(或频率)变化的曲线,叫作吸收光谱。 2.透射光谱

透光性是表征材料被光穿透能力的高低,透光性的好坏可用透过率指标T 来衡量。 透过率T 是指光通过材料后,透过光强度占入射光强度的百分比。剩余光强度应是从初始入射光强度I 0中扣除造成光能衰减的表面上的反射损失、试样中的散射损失和吸收损失等。

一般地,反射、吸收和透过的关系可用下式表示:

dI I dx

α-=??'0x

I I e α-=?2(1)exp()

T R d α=--?

T——透过率;R——反射系数;α——吸收系数;

d——试样厚度,单位cm。

透过率T随波长变化的曲线即称为透射光谱曲线。

透射光谱曲线可用分光光度计来测定。

光强的大小用光透过试样照到光电管上产生的电流的大小来表示。

某个波长的光通过空气(作为空白样)后的光强设为I0,再通过一定厚度的试样后的光强设为I′,即可通过I′/ I0得到针对该波长的透过率Tλ,如此依次测得其他各波长的透过率就可得到透过率T随波长变化的透射光谱。

二、光谱测试

1.测试仪器:分光光度计

图6-1 721型分光光度计的光学系统示意图

1—光源2, 8—聚光透镜3—反射镜4—狭缝5, 12—保护玻璃6—准直镜7—色散棱镜9—比色皿10—玻璃试样11—光门13—光电管

2.透射光谱测试

由光源发出的连续辐射光线,经过聚光透镜汇聚到反射镜,转角90°反射至狭缝内。由此入射到单色器内准直镜的焦面上,被反射后,以一束平行光射向色散棱镜(棱镜背面镀铝),光在棱镜中色散,入射角在最小偏角时,入射光在铝面上反射后按原路返回至准直镜,再反射回狭缝,经聚光透镜再次聚光后进入比色皿中,透过试样到光电管。光电管所产生的电流大小表示试样的透过率,直接从微安表读出,从而可得T—λ曲线,即透射光谱。

图6-2 ZnSe晶体的透过率曲线

3.吸收光谱测试

若试样为粉末状,精确测量粉末试样的吸收光谱存在很大困难,由于粉末层足够厚时,透射很少,可以忽略,光在粉末中通过无数次折射和反射,最后不是被吸收就是折回到入射那一侧,因此通常通过测试其反射光谱来粗略地估计他们对光的吸收。Rλ为被测材料的反射系数,可以认为散射、透射很小,则吸收系数α近似等于(1-Rλ),这样,就可以通过测量材料表面对各波长入射光的反射率来确定其吸收光谱。

图6-3 Cr3+: Al2O3透明陶瓷的室温吸收光谱

第二节荧光材料的光谱特性

一、激发光谱与发射光谱

1.激发光谱与发射光谱概念

发光材料的发射光谱(也称发光光谱)是指发光的能量按波长或频率的分布。

由于发光的绝对能量不易测量,通常实验测量的都是发光的相对能量,因此在发光光谱图中,横坐标为波长(或频率),纵坐标为单位波长间隔(或单位频率间隔)里的相对能量(相对强度)。

激发光谱是指发光的某一谱线或谱带的强度随激发光波长(或频率)变化的曲线,横轴代表激发光波长,纵轴代表发光的强弱。发光材料在指定方向的单位立体角内所发出的光通量称为发光材料在该方向的发光强度,简称光强,单位为坎德拉(cd)。

2.激发光谱与发射光谱测试

发光光谱和激发光谱通常使用荧光分光光度计测量。

光源多选用氙灯。激发单色仪用于选择激发光源的波长和调节激发光源的发射能量。发射单色仪用来测量材料发光的波长,精度比激发单色仪高。所使用的光电倍增管要求其波长响应范围宽、灵敏度高。

由光源发出的光,通过激发单色仪后变成单色光,而后照在荧光池中的被测样品上,由此激发出的荧光被发射单色仪收集后,经单色器色散成单色光而照射在光电倍增管上转换成相应的电信号,再经放大器放大反馈进入A/D转换单元,将模拟电信号转换成相应的数字信号,并通过显示器或打印机显示记录下被测样品的谱图。以上就是荧光分光光度计的基本工作原理。荧光分光光度计的工作原理如所示:

图6-4荧光分光光度计工作原理图

二、亮度

1.概念

亮度:发光材料在指定方向上的单位投影面、单位立体角中发射的光通量称为发光材料在该方向的亮度。单位:cd/m2。

光通量:发光材料的辐射通量对人眼引起的视觉强度称为光通量,单位为流

明(lm)。光通量实质上就是用眼睛来衡量光的辐射通量。

辐射通量:光材料在单位时间内所辐射的能量。单位:W

2.亮度测量

图6-5亮度计原理示意图

图中,O——物镜,P——带孔反射板,H——小孔,F——滤光片,D——探测器,FD的组合使D的光谱灵敏度和人眼视觉函数V(λ)一致。I/V——交换器,A——放大器,R——显示器。图的上部由反射镜P′和目镜系统E组成,用于观察和对准被测目标。

表6-1 国内外几种亮度计的主要性能指标

三、余辉特性

(1)光致发光材料在激发光停止后,仍可持续发光,但发光强度逐渐减弱,直到完全消失,这一过程就是发光衰减。激发停止后所持续发出的光称为余辉。(2)余辉持续的时间称为余辉时间。习惯上,把激发停止后发光亮度降至人

眼可辨认最小值(0.32mcd/m 2)的这段时间称为余辉时间。

(3)光致发光材料都具有余辉特性,只不过是衰减快慢、余辉长短不同而已,甚至差别很大。发光衰减特性可以用余辉衰减曲线表示。余辉衰减曲线是指激发停止后发光强度(或相对强度)随时间变化的曲线。

发光衰减特性

若发光衰减是指数式,表示:

式中B 是激发停止后t 时间的发光亮度;B0是t=0时的发光亮度;a 是一常数。 若发光是双曲线式的衰减,表示:

其中a 、b 是常数,a <2。 余辉衰减曲线表示:

横轴为时间,纵轴为相对发光亮度。

激发作用刚停止时的时间为零、亮度最大,随时间延长亮度逐渐降为零。直观,较为常用。

目前文献中所给出的余辉时间数据,多是指激发停止后发光亮度下降到起始发光亮度10%所经过的时间。激发停止后发光强度随时间变化的曲线。横坐标为时间,纵坐标为发光强度(或相对发光强度)。

200

400

600

800

1000

020406080100120140160i n s t e n s i t y /a .u .

t/s

图6-6绿色长余辉材料SrAl2O4:Eu2+,Dy3+ 的余辉衰减曲线

根据余辉时间的长短,可对发光材料进行以下分类: 极长余辉 余辉时间大于1秒;

长余辉 余辉时间小于1秒大于10-1秒; 中余辉 余辉时间小于10-1秒大于10-3秒;

at

e B B -?=0b t

a B B +=

短余辉 余辉时间小于10-3秒大于10-6秒; 超短余辉 余辉时间小于10-6秒。

长余辉发光材料余辉时间的测量比起短余辉材料要简单、容易得多,其测试装置由激发光源、样品盘、亮度计、数据处理系统等组成。

图6-18是蓝色长余辉材料CaAl 2Si 2O 8:Eu 2+的余辉衰减曲线。由图可知:衰减曲线由三个衰减寿命组成,并且它们之间相差较大,可能来自三个不同能级之间的跃迁,从而证明材料中至少存在三个不同Eu 2+的发光中心[12]。

图6-18 CaAl 2Si 2O 8:Eu 2+的余辉衰减及拟合曲线

四、发光效率

发光材料的发光效率通常有三种表示方法:即量子效率q η,能量效率(或功率效率)p η和流明效率(或光度效率)l η。

量子效率q η是指发光材料发射的光子数N 发光与激发时吸收的光子数N 吸收之比,即:

q N N η=

发光

吸收

(6-20) 但我们知道,一般总有能量损失,激发光光子的能量通常大于发射光光子的能量,尤其是当激发光波长比发光波长短很多时,这种能量损失(斯托克斯损失)会很大。然而量子效率不能反映发光材料在被激发和发光过程中的能量损失,比如用254nm 紫外光激发某一发光材料产生550nm 的绿色可见光发射,该过程的量子效率可高达90%以上,但是激发能量却相应损失50%以上。为此要引入能量效率定义。

能量效率p η是指发光材料发光的能量与吸收的能量之比,即:

p E E

η=发光

吸收

(6-21)作为发光材料或发光器件发出的光来说,总是作用于人眼的。人的眼睛只能感觉到可见光,而且在可见光范围内,对于不同波长的光的敏感程度也是差别极大的。人眼对不同波长的光的反应可用光谱光效能K(λ)表征,K(λ)表示在某一波长的单位功率可产生多少流明的光通量。在可见光光谱范围内,K(λ)随波长λ变化而变化。

人眼在几个尼特(cd/m2)以上的强光环境下的亮适应所形成的视觉称为明视觉,在百分之几尼特的弱光环境下的暗适应所形成的视觉称为暗视觉。在明视觉条件下,经过实验测试人眼对波长为555nm的黄绿光最敏感,即λ=555nm时K(λ)达到最大值,可用K m表示。对K m值进行归一化,其他波长的K(λ)与K m 之比值V(λ)就称为视见函数。在暗视觉条件下,人眼对波长为507nm的绿光最敏感。

不同波长光波的视觉颜色对人眼的视见函数的明视曲线和暗视曲线如图6-19所示。

图6-19人眼视见函数的明视曲线和暗视曲线(A—明视曲线;B—暗视曲线)

显然,能量效率很高的发光材料发出的光,人眼看起来不见得很亮。因此,用人眼来衡量某一发光材料的发光效果时,就必须引进另一个发光效率定义,即流明效率。

流明效率

l

η是指发光材料发射的光通量L(以流明为单位)与吸收的总功率之比,即:

l

L P

η=

吸收

(6-22)

对于光致发光来说,如果激发光是单色或接近单色的,波长为λ

吸收

,发射光

也是单色或接近单色的, 波长为λ发射

, 则能量效率和量子效率之间的关系可推导

如下:

p q q E N h E N h λννηηηννλ?===?=?

?吸收发光发光发光发光

吸收吸收吸收吸收发射

对于大多数光致发光材料(上转换发光材料除外)来说,λ吸收

<λ

发射

,由上

式可知,能量效率要比量子效率低。

下面介绍一种发光材料能量效率的测试方法。

直接测量粉末发光材料的吸收能量,在实验技术上是无法做到的,通常是通过测量反射能量的方法,来得到吸收能量值。

图6-20是测量能量效率的实验装置示意图[13]。

图6-20 测量能量效率的实验装置示意图

由激发光源发出的光经单色仪分光后,分出所需要的激发光,照射到样品盘位置的 MgO 标准白板,由MgO 标准白板反射的激发光到光电倍增管和检流计,可测出光电流I 0值。I 0与激发光能量E 激发成正比。给定波长激发光照射光电倍增管对应的光谱灵敏度用K λ表示,给定波长的MgO 反射值用R MgO 表示, 则激发光能量E 激发为:

MgO

I E K R λ=

?激发 (6-23)

以材料的吸收系数K 吸收乘上激发光能量E 激发,就可得出吸收的激发光能量E

吸收

,即

0MgO

K I E K E K R λ?=?=

?吸收吸收吸收激发 (6-24)

为了测量发光能量,将样品盘位置上的MgO 白板,换上待测发光材料,经同一波长激发光照射后,测出检流计上的读数I 1,I 1包括两部分光电流:由材料发光所引起的I 1′和没有被发光材料吸收的那部分激发光(即反射的激发光)的光电流I 1",即

I 1= I 1′+ I 1" (6-25) I 1′= I 1- I 1"

(6-26) I 1"可用发光材料的反射系数R 反射乘上I 0表示,于是:

I 1′= I 1 - I 0·R 反射

(6-27)

以系数A 乘上发光材料的发光所引起的光电流值I 1′,就是材料的发光能量E

发光

,即

E 发光=A·I 1′

(6-28)

上式中的A 值由发光材料的发射光谱分布?λλd I 和光电倍增管的光谱灵敏度确定:

I d A I K d λλλλλ

=

?? (6-29)

式中,I λ为给定波长的发光强度;K λ为光电倍增管的光谱灵敏度系数。 上述各参数测出后,即可求得待测发光材料的能量效率p η:

'

10M

g O p A I K R E E K I λη???==?发光吸收吸收

(6-30) 如前所述,量子效率q η与能量效率p η的关系式为: q p ληηλ=?

发射

吸收

则由测得的p η即可求出量子效率q η。

由p η或q η的公式可知,影响能量效率或量子效率精度的主要因素是对各参数的准确测量,另外与测试方法、测试技术也有密切关系。

由此可知,测试材料的发光效率比较复杂,对于已开发应用的发光材料来说,可采用与具有同一组分的标样进行对比测试的方法,来测定其发光效率。这里所指的标样不仅要和待测材料样品具有相同组分、相同发光光谱,而且其发光效率(能量或量子)已经过标准计量单位进行标定。所用的测量装置和相对发光亮度测试仪相同,在相同的测试条件下(光源的激发条件及材料位置不变),分别测出标样和待测样的光电流值I 0、I 1,则待测样的量子效率q η应等于: 1

()0

q q I I ηη=?

标样 (6-31)

五、光通量

前面已提过,发光材料在单位时间内所辐射的能量称为辐射通量,单位为W。发光材料的辐射通量对人眼引起的视觉强度称为光通量,单位为流明(lm)。光通量实质上就是用眼睛来衡量光的辐射通量。

随着稀土三基色荧光粉的产业化和电子镇流器的完善,一种电子一体化紧凑型照明在市场上开始显示优越性。因此,关于这类灯的总光通量测量技术和方法就显得特别重要,下面介绍照度计法测紧凑型荧光灯总光通量的测试方法[14]。

自紧凑型荧光灯(CFL)问世以来,出现了诸多类型的CFL,目的不外是提高紧凑程度和增大功率,以便在更大范围内更多地取代白炽灯。因此,CFL的线度和体积都应接近白炽灯。正是基于这种考虑,CFL总光通量的测量就沿用了白炽灯总光通量测量的设备和方法,即利用球形光度计测量其总光通量。实际使用的积分球应满足如下要求:

(1)球体。球体应采用不易变形、不易受环境影响的材料制成;球的内表面应圆滑,力求各处曲率半径都相等;球的密闭性要好,不允许有漏光现象。

(2)窗口。为了便于测量照度,常常在球的赤道上开一小圆孔作为窗口,其直径不宜过大,以20~40mm为宜。圆孔上镶一片双面毛玻璃,毛玻璃向球内的一面应与球内壁一致,不得突出或缩进。

(3)灯的安装。为了减少测量误差,标准灯(白炽灯)和待测灯(CFL)都分别装在球心位置。灯的供电线和支架应尽量减少体积和件数。

(4)挡屏。为了能测得球壁多次反射光建立的照度,必须在球心和窗口之间加一挡屏,挡住灯射向窗口的直射光。挡屏的中心在球心与窗口中心的连线上,离球心1/3~1/2球半径的位置均可。挡屏面与连线垂直。挡屏的大小以能挡住灯的直射光为宜,不能过大。

(5)球的内壁涂料。积分球内壁的表面状态对其漫反射特性和光谱选择性有很大影响,因此内壁涂料的选择十分重要。其中以硫酸钡配成的涂料较常用,它的优点是化学稳定性好,不易变色和玷污,使用时间较长。其光谱选择性也较小。涂料的配比见表6-5。

表6-5 积分球内壁涂层配方

为了检验内壁涂层的漫反射特性,在与窗口相对的球壁上开一小口,安装涂料样板,与整个球内壁一起喷涂。喷涂层厚度约0.5~1mm。

(6)测光系统。测光系统装在窗口外侧,通常由快门、可变光阑、中性减光片、V(λ)修正滤光片、光电探测器及示数仪表等组成。可变光阑用于读数的微调。中性减光片用于大范围调节读数。近年来,多采用硅光电池作探测器,粗调和微调都可在光电流的测量线路上实现,因此简化了测光系统的结构,测量操作更为方便。

由于测光系统装在积分球之外,实际测量的是窗口毛玻璃的亮度,而它的亮度与向球内的一面上的照度成正比,因此所测得的读数也与球壁的反射照度成比例了。图6-21是球形光度计的示意图。

图6-21球形光度计示意图

(7)用球形光度计测CFL总光通量

①测量前,球内点燃一支适当功率的白炽灯烘烤球内壁,除去潮气,使球壁的反射比稳定,同时预照探测器使其灵敏度趋于稳定。

②总光通量标准灯的选择。总光通量标准灯是用于复现和传递光通量单位量值的量具。它是按特定技术条件制造的发光稳定的白炽灯,其量值由计量部门按照国家有关检定规程的规定检定给出。

目前我国总光通量白炽标准灯有两种,一种是BDT型,一种是BDP型,它们的光电参数,见表6-6和表6-7。

表6-6 BDT型总光通量标准灯光电参数

型号标称电压/ V 电流(参考值)

/A

额定色温光通量(±12%)/ lm

BDT-1 100 0.76 2353K 400 BDT-2 1.2 2788K 1500 BDT-3 2.7 2856K 4000

表6-7 BDP 型总光通量标准灯光电参数

型 号 额定电压 / V 功率(标准值)/ W 电流(参考值)/A 光通量(参考值)

/ lm 备 注

BDP-15 220 15 0.071 110 真空 BDP-25 220 25 0.11 220 BDP-40

220

40

0.18

350

充气

③ 功率适当的总光通量白炽灯标准灯按规定的要求在球心位置点亮,稳定15min 后,读数字照度计读数E 0 ,经国家有关计量部门标定的总光通量为L 0 。取待测CFL ,按规定要求在球心位置点亮,稳定15min 后,读数字照度计读数E x 。取待测CFL 的总光通量L x ,则:

L x = L 0 E x / E 0 (6-32)

(6-32)式是球形光度计法测量光源总光通量的基本公式。

④ 球形光度计法测量CFL 总光通量的色修正。由于总光通量白炽标准灯与待测CFL 的光谱功率分布差异很大,必须进行色修正,色修正系数K 由下式给出:

760760

400

400760

760

400

400

()()()()

()()()()

X

A

A

X

P V P S K P V P S λλλλλλλλ=

∑∑∑∑

(6-33)

式中,P X (λ)是任意待测荧光粉的光谱功率分布,P A (λ) 是2856K 标准灯的光谱功率分布,V(λ)是人眼视见函数,S(λ)是探测器的光谱响应。

材料的光学性能测试

材料科学实验讲义 (一级实验指导书)东华大学材料科学与工程中心实验室汇编 2009年7月

一、实验目的和要求 1、掌握透过率、全反射和漫反射测定的基本原理; 2、掌握透过率、全反射和漫反射测定的操作技能; 3、测定聚合物膜和无机非金属材料的薄膜的透过率和全反射率,学会测定无机材料粉末的漫反射光谱。 4、针对不同的材料形式(如薄膜,粉末等)能判断该如何选择不同的测试模式。 二、实验原理 光学性能是材料的重要也是最常用的性能之一,薄膜、陶瓷、玻璃、粉末、聚合物、人工晶体甚至胶体的性能评价都离不开光学性能的表征。本实验中所涉及到材料的光学性能主要是指透过率、反射率尤其是漫反射模式测定的反射率等光学性能的测定,涉及的材料包括聚合物、粉末和玻璃等。 在通常所用的分光光度法中,常常将待测定的物质溶解在溶剂中,通过比色来定性或定量物质的含量或浓度等。一些无机粉末或者聚合物本身并不溶于常见的溶剂中,将这些不溶解的物质分散在液体介质中得到的是消光光谱而不是吸收光谱,测定的是消光(Extinction)而不仅仅是吸收(Absorption)。另外,对薄膜材料来说,能进行原位测定是重要的,因为在溶解过程中往往改变了材料的状态,所测定的也不再是实际应用中所要知道的结果。薄膜、粉末等是实际应用中常见的材料形式,这些材料的光学性能的测定对材料提出了更高的要求。 目前中高档的紫外-可见分光光度计均可选配积分球附件来测定物质的漫反射光谱(UV-vis diffuse reflenctance spectrum,UV-vis DRS),UV-vis DRS特别适用粉末样品的测定。聚合物、聚合物与无机物的杂化材料、多种无机化合物半导体均可用UV-vis DRS进行测定。带积分球的分光光度计还可测定玻璃、有机玻璃、塑料制品的透过率和反射率等。下面就有机物、无机物和化合物的紫外-可见光谱的原理作详细的介绍: 1、有机物的紫外—可见吸收光谱: 分子的紫外—可见吸收光谱是基于物质分子吸收紫外辐射或可见光,其外层电子跃迁而成,又称分子的电子跃迁光谱。紫外—可见分光光度法是基于物质分子的紫外—可见吸收光谱而建立的一种定性、定量分析方法。有机化合物此外吸收光谱(电子光谱)是由分子外层电子或价电子跃迁所产生的。按分子轨道理论,有机化合物分子中有:成键σ轨道,反键σ*轨道;成键π轨道,反键π*轨道(不饱和烃);另外还有非键轨道(杂原子存在)。各种轨道的能级不同,如图1所示。

材料现代分析测试方法习题答案.doc

材料现代分析测试方法习题答案 【篇一:2012 年材料分析测试方法复习题及解答】 lass=txt> 一、单项选择题(每题 3 分,共15 分) 1.成分和价键分析手段包括【 b 】 (a)wds 、能谱仪(eds )和xrd (b)wds 、eds 和xps (c)tem 、wds 和xps (d)xrd 、ftir 和raman 2.分子结构分析手段包括【a】 (a)拉曼光谱(raman )、核磁共振(nmr )和傅立叶变换红外光 谱(ftir )(b)nmr 、ftir 和wds (c)sem 、tem 和stem (扫描透射电镜)(d)xrd 、ftir 和raman 3.表面形貌分析的手段包括【d】 (a)x 射线衍射(xrd )和扫描电镜(sem )(b) sem 和透射电镜 (tem ) (c) 波谱仪(wds )和x 射线光电子谱仪(xps )(d) 扫描隧道显微 镜(stm )和 sem 4.透射电镜的两种主要功能:【b】 (a)表面形貌和晶体结构(b)内部组织和晶体结构 (c)表面形貌和成分价键(d)内部组织和成分价键 5.下列谱图所代表的化合物中含有的基团包括:【 c 】 (a)–c-h 、–oh 和–nh2 (b) –c-h 、和–nh2, (c) –c-h 、和-c=c- (d) –c-h 、和co 2.扫描电镜的二次电子像的分辨率比背散射电子像更高。(√)3.透镜的数值孔径与折射率有关。(√) 5.在样品台转动的工作模式下,x 射线衍射仪探头转动的角速度是 样品转动角 速度的二倍。(√) 三、简答题(每题 5 分,共25 分) 1. 扫描电镜的分辨率和哪些因素有关?为什么? 和所用的信号种类和束斑尺寸有关,因为不同信号的扩展效应不同,例如二次电子产生的区域比背散射电子小。束斑尺寸越小,产生信 号的区域也小,分辨率就高。 2.原子力显微镜的利用的是哪两种力,又是如何探测形貌的?

GB T 5137.2-2002汽车安全玻璃试验方法第2部分:光学性能试验

GB/T 5137.2-2002 (2002-12-20发布,2003-05-01实施) 前言 GB/T 5137《汽车安全玻璃试验方法》分为四个部分: ——第1部分:力学性能试验; ——第2部分:光学性能试验; ——第3部分:耐辐照、高温、潮湿、燃烧和耐模拟气候试验; ——第4部分:太阳能透射比测定方法。 本部分为GB/T 5137的第2部分。 GB/T 5137的本部分修改采用ISO 3537:1999《道路车辆安全玻璃材料力学性能试验方法》(英文版)。 本部分与该国际标准的主要差异如下: ——删除了国际标准中的“定义”部分; ——将“破碎后的可视性试验”中冲击点的位置及示意图,改为与GB 9656-2003相一致。 本部分代替GB/T 5137.2—1996《汽车安全玻璃力学性能试验方法》。 本部分与GB/T 5137.2—1996相比主要变化如下: ——将“4.透射比试验”改为“4.可见光透射比试验”; ——4.1可见光透射比试验目的改为:“测定安全玻璃是否具有一定的可见光透射比”; ——5.1副像偏离试验的试验目的改为:“测定主像与副像间的角偏离”; ——将“7.破碎后的能见度试验目的改为“7.破碎后的可视性试验”; ——7.4.3中冲击点的位置及示意图保持与GB 9656-2002相一致; ——将“9.反射比试验”改为“9.可见光反射比试验”; 本部分附录A为资料性附录。 本部分由原国家建筑材料工业局提出。 本部分由全国汽车标准化技术委员会安全玻璃分技术委员会归口。 本部分主要起草单位:中国建筑材料科学研究院玻璃科学与特种玻璃纤维研究所。 本部分主要起草人:王乐、韩松、陈峥科。 本部分所代替标准的历次版本发布情况为: GB 5137.2—1985、GB/T 5137.2—1996。 汽车安全玻璃试验方法 第2部分:光学性能试验 1 范围 GB/T 5137的本部分规定了汽车用安全玻璃的光学性能试验方法。 本部分适用于汽车安全玻璃(以下简称“安全玻璃”)。这种安全玻璃包括各种类型的玻璃加工成的或玻璃与其他材料组合成的玻璃制品。 2 试验条件

现代材料测试技术试题答案

一、X射线物相分析的基本原理与思路 在对材料的分析中我们大家可能比较熟悉对它化学成分的分析,如某一材料为Fe96.5%,C 0.4%,Ni1.8%或SiO2 61%, Al2O3 21%,CaO 10% ,FeO 4%等。这是材料成分的化学分析。 一个物相是由化学成分和晶体结构两部分所决定的。X射线的分析正是基于材料的晶体结构来测定物相的。 X射线物相分析的基本原理是什么呢? 每一种结晶物质都有自己独特的晶体结构,即特定点阵类型、晶胞大小、原子的数目和原子在晶胞中的排列等。因此,从布拉格公式和强度公式知道,当X射线通过晶体时,每一种结晶物质都有自己独特的衍射花样,它们的特征可以用各个反射晶面的晶面间距值d和反射线的强度来表征。 其中晶面网间距值d与晶胞的形状和大小有关,相对强度I则与质点的种类及其在晶胞中的位置有关。 衍射花样有两个用途: 一是可以用来测定晶体的结构,这是比较复杂的; 二是用来测定物相。 所以,任何一种结晶物质的衍射数据d和I是其晶体结构的必然反映,因而可以根据它们来鉴别结晶物质的物相,分析的思路将样品的衍射花样与已知标准物质的衍射花样进行比较从中找出与其相同者即可。 X射线物相分析方法有: 定性分析——只确定样品的物相是什么? 包括单相定性分析和多相定性分析定量分析——不仅确定物相的种类还要分析物相的含量。 二、单相定性分析 利用X射线进行物相定性分析的一般步骤为: ①用某一种实验方法获得待测试样的衍射花样; ②计算并列出衍射花样中各衍射线的d值和相应的相对强度I值; ③参考对比已知的资料鉴定出试样的物相。 1、标准物质的粉末衍射卡片 标准物质的X射线衍射数据是X射线物相鉴定的基础。为此,人们将世界上的成千上万种结晶物质进行衍射或照相,将它们的衍射花样收集起来。由于底片和衍射图都难以保存,并且由于各人的实验的条件不同(如所使用的X射线波长不同),衍射花样的形态也有所不同,难以进行比较。因此,通常国际上统一将这些衍射花样经过计算,换算成衍射线的面网间距d值和强度I,制成卡片进行保存。

(完整word版)教案-材料现代分析测试方法

西南科技大学 材料科学与工程学院 教师教案 教师姓名:张宝述 课程名称:材料现代分析测试方法 课程代码:11319074 授课对象:本科专业:材料物理 授课总学时:64 其中理论:64 实验:16(单独开课) 教材:左演声等. 材料现代分析方法. 北京工业大 学出版社,2000 材料学院教学科研办公室制

2、简述X射线与固体相互作用产生的主要信息及据此建立的主要分析方法。 章节名称第三章粒子(束)与材料的相互作用 教学 时数 2 教学目的及要求1.理解概念:(电子的)最大穿入深度、连续X射线、特征X射线、溅射;掌握概念:散射角(2 )、电子吸收、二次电子、俄歇电子、背散射电子、吸收电流(电子)、透射电子、二次离子。 2.了解物质对电子散射的基元、种类及其特征。 3.掌握电子与物质相互作用产生的主要信号及据此建立的主要分析方法。 4.掌握二次电子的产额与入射角的关系。 5.掌握入射电子产生的各种信息的深度和广度范围。 6.了解离子束与材料的相互作用及据此建立的主要分析方法。 重点难点重点:电子的散射,电子与固体作用产生的信号。难点:电子与固体的相互作用,离子散射,溅射。 教学内容提要 第一节电子束与材料的相互作用 一、散射 二、电子与固体作用产生的信号 三、电子激发产生的其它现象第二节离子束与材料的相互作用 一、散射 二、二次离子 作业一、教材习题 3-1电子与固体作用产生多种粒子信号(教材图3-3),哪些对应入射电子?哪些是由电子激发产生的? 图3-3入射电子束与固体作用产生的发射现象 3-2电子“吸收”与光子吸收有何不同? 3-3入射X射线比同样能量的入射电子在固体中穿入深度大得多,而俄歇电子与X光电子的逸出深度相当,这是为什么? 3-8配合表面分析方法用离子溅射实行纵深剖析是确定样品表面层成分和化学状态的重要方法。试分析纵深剖析应注意哪些问题。 二、补充习题 1、简述电子与固体作用产生的信号及据此建立的主要分析方法。 章节第四章材料现代分析测试方法概述教学 4

光学高分子材料简述及性能表征

光学高分子材料简述及性能表征

光学高分子材料简述及性能表征 摘要:高分子材料在光学领域得到了广泛的应用,作为大型光学元器件的背投屏幕更是利用先进的高分子材料技术获得了各种优异的性能。简单介绍了背投屏幕的分类、材料和制造工艺,以及光学高分子材料的历史、分类和新的发展,以及主要性能表征。 前言:背投屏幕是背投显示的终端,在很大程度上影响整个光学显示系统的性能。背投屏幕分为背投软质屏幕、背投散射屏幕和背投光学屏幕。背投软质屏幕具备廉价、运输安装方便等优点,但是亮度均匀性比较差、严重的“亮斑效应”、光能利用率低、可视角度小等。分辨率低和对比度低。散射屏幕视角大、增益低、“亮斑效应” 明显。采用不同的工艺制造。有些采用在压克力板材表面进行雾化处理,增加散射。有些应用消眩光玻璃模具复制表面结构,基材内添加光扩散剂及调色剂制造。有些为降低成本直接在透明塑料板材表面粘贴背投软质屏幕制造。现在应用最广泛的就是微结构光学型背投影屏幕。光学型背投影屏幕指的是利用微细光学结构来完成光能 分布、实现屏幕功能的这一类屏幕。主要有FL

型(Fresnel lens-lenticular lenses)、FD型(Frensnel lens-Diffusion cover)、FLD型(Fresnel lens-Lenticular lenses-Diffusion cover)、BS型(Fresnel lens-Lenticular lenses-Black strips)。 微光学结构复制主要采用模压或铸造等复制技术。铸塑又称浇铸,它是参照金属浇铸方法发展而来的。该成型方法是将已准备好的浇铸原料(通常是单体,或经初步聚合或缩聚的浆状聚合物与单体的溶液等)注入一定的模具中,使其发生聚合反应而固化,从而得到与模具型腔相似的制件。这种方法也称为静态铸塑法。静态铸塑技术可用来将电铸镍模具板上的微光学图形转移到塑料表面。铸塑法得到的制件无针眼,无内力应变,无分子取向。重要的是,对于非晶态塑料来说,静态铸塑得到的制件相对于其它工艺一般具有更高的透光率,表现出优越的光学性质。背投光学屏幕属于大尺寸微光学元件,由于体积较大用模压工艺生产存在加工设备复杂、成本高、合格率低的缺点,主要用浇铸工艺来生产。 正文:高分子材料应用于光学领域最早由Arthur Kingston开始,他于1934年取得了注

材料分析测试复习题及答案

材料分析测试方法复习题 第一部分 简答题: 1. X 射线产生的基本条件 答:①产生自由电子; ②使电子做定向高速运动; ③在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。 2. 连续X 射线产生实质 答:假设管电流为10mA ,则每秒到达阳极靶上的电子数可达6.25x10(16)个,如此之多的电子到达靶上的时间和条件不会相同,并且绝大多数达到靶上的电子要经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hv (i )的光子序列,这样就形成了连续X 射线。 3. 特征X 射线产生的物理机制 答:原子系统中的电子遵从刨利不相容原理不连续的分布在K 、L 、M 、N 等 不同能级的壳层上,而且按能量最低原理从里到外逐层填充。当外来的高速度的粒子动能足够大时,可以将壳层中某个电子击出去,于是在原来的位置出现空位,原子系统的能量升高,处于激发态,这时原子系统就要向低能态转化,即向低能级上的空位跃迁,在跃迁时会有一能量产生,这一能量以光子的形式辐射出来,即特征X 射线。 4. 短波限、吸收限 答:短波限:X 射线管不同管电压下的连续谱存在的一个最短波长值。 吸收限:把一特定壳层的电子击出所需要的入射光最长波长。 5. X 射线相干散射与非相干散射现象 答: 相干散射:当X 射线与原子中束缚较紧的内层电子相撞时,电子振动时向四周发射电磁波的散射过程。 非相干散射:当X 射线光子与束缚不大的外层电子或价电子或金属晶体中的自由电子相撞时的散射过程。 6. 光电子、荧光X 射线以及俄歇电子的含义 答:光电子:光电效应中由光子激发所产生的电子(或入射光量子与物质原子中电子相互碰撞时被激发的电子)。 荧光X 射线:由X 射线激发所产生的特征X 射线。 俄歇电子:原子外层电子跃迁填补内层空位后释放能量并产生新的空位,这些能量被包括空位层在内的临近原子或较外层电子吸收,受激发逸出原子的电子叫做俄歇电子。 7. X 射线吸收规律、线吸收系数 答:X 射线吸收规律:强度为I 的特征X 射线在均匀物质内部通过时,强度的衰减与在物质内通过的距离x 成比例,即-dI/I=μdx 。 线吸收系数:即为上式中的μ,指在X 射线传播方向上,单位长度上的X 射线强弱衰减程度。 8. 晶面及晶面间距 答:晶面:在空间点阵中可以作出相互平行且间距相等的一组平面,使所有的节点均位于这组平面上,各平面的节点分布情况完全相同,这样的节点平面成为晶面。 晶面间距:两个相邻的平行晶面的垂直距离。 9. 反射级数与干涉指数 答:布拉格方程 表示面间距为d ’的(hkl )晶面上产生了n 级衍射,n 就是反射级数 λ θn Sin d ='2:

材料现代分析与测试技术论文

材料现代分析与测试技术论文 (1)X射线单晶体衍射仪(X-ray single crystal diffractometer,简写为XRD) 原理:根据布拉格公式:2dsinθ=λ可知,对于一定的晶体,面间距d一定,有两种途径可以使晶体面满足衍射条件,即改变波长λ或改变掠射角θ。X射线照射到某矿物晶体的相邻网面上,发生衍射现象。两网面的衍射产生光程差ΔL=2dsinθ,当ΔL等于X射线波长的整数倍nλ(n为1、2、3….,λ为波长)时,即当2dsinθ=nλ时,干涉现象增强,从而反映在矿物的衍射图谱上。不同矿物具有不同的d值。X射线分析法就是利用布拉格公式并根据x射线分析仪器的一些常数和它所照出的晶体结构衍射图谱数据,求出d,再根据d值来鉴定被测物。 主要功能:收集晶体衍射数据以及进一步确定晶体结构,过程主要包括:挑选样品,上机,确定晶胞参数,设定参数进行数据收集,数据还原,结构解析。(2)光学显微镜(Optical Microscopy ,简写为OM) 基本原理:显微镜是利用凸透镜的放大成像原理,将人眼不能分辨的微小物体放大到人眼能分辨的尺寸,其主要是增大近处微小物体对眼睛的张角(视角大的物体在视网膜上成像大),用角放大率M表示它们的放大本领。因同一件物体对眼睛的张角与物体离眼睛的距离有关,所以一般规定像离眼睛距离为25厘米(明视距离)处的放大率为仪器的放大率。显微镜观察物体时通常视角甚小,因此视角之比可用其正切之比代替。 显微镜放大原理光路图 显微镜由两个会聚透镜组成,光路图如图所示。物体AB经物镜成放大倒立的实像A1B1,A1B1位于目镜的物方焦距的内侧,经目镜后成放大的虚像A2B2于明视距离处。 主要功能:把人眼所不能分辨的微小物体放大成像,以供人们提取微细结构信息。(3)扫描式电子显微镜(scanning electron microscope,简写SEM)

材料分析测试技术复习题 附答案

材料分析测试技术复习题 【第一至第六章】 1.X射线的波粒二象性 波动性表现为: -以波动的形式传播,具有一定的频率和波长 -波动性特征反映在物质运动的连续性和在传播过程中发生的干涉、衍射现象 粒子性突出表现为: -在与物质相互作用和交换能量的时候 -X射线由大量的粒子流(能量E、动量P、质量m)构成,粒子流称为光子-当X射线与物质相互作用时,光子只能整个被原子或电子吸收或散射 2.连续x射线谱的特点,连续谱的短波限 定义:波长在一定范围连续分布的X射线,I和λ构成连续X射线谱 λ∞,波?当管压很低(小于20KV 时),由某一短波限λ 0开始直到波长无穷大长连续分布 ?随管压增高,X射线强度增高,连续谱峰值所对应的波长(1.5 λ 0处)向短波端移动 ?λ 0 正比于1/V, 与靶元素无关 ?强度I:由单位时间内通过与X射线传播方向垂直的单位面积上的光量子数的能量总和决定(粒子性观点描述)

?单位时间通过垂直于传播方向的单位截面上的能量大小,与A2成正比(波动性观点描述) 短波限:对X射线管施加不同电压时,在X射线的强度I 随波长λ变化的关系曲线中,在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λ0,称为短波限。 3.连续x射线谱产生机理 【a】.经典电动力学概念解释: 一个高速运动电子到达靶面时,因突然减速产生很大的负加速度,负加速度引起周围电磁场的急剧变化,产生电磁波,且具有不同波长,形成连续X射线谱。 【b】.量子理论解释: * 电子与靶经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hυi的光子序列,形成连续谱 * 存在ev=hυmax,υmax=hc/ λ0, λ0为短波限,从而推出λ0=1.24/ V (nm) (V为电子通过两极时的电压降,与管压有关)。 * 一般ev≥h υ,在极限情况下,极少数电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子 4.特征x射线谱的特点 对于一定元素的靶,当管压小于某一限度时,只激发连续谱,管压增高,射线谱曲线只向短波方向移动,总强度增高,本质上无变化。 当管压超过某一临界值后,在连续谱某几个特定波长的地方,强度突然显著

材料的光学性能测试10页word

材料科学实验讲义 (一级实验指导书) 东华大学材料科学与工程中心实验室汇编 2009年7月 一、实验目的和要求 1、掌握透过率、全反射和漫反射测定的基本原理; 2、掌握透过率、全反射和漫反射测定的操作技能; 3、测定聚合物膜和无机非金属材料的薄膜的透过率和全反射率,学会测定无机材料粉末的漫反射光谱。 4、针对不同的材料形式(如薄膜,粉末等)能判断该如何选择不同的测试模式。 二、实验原理 光学性能是材料的重要也是最常用的性能之一,薄膜、陶瓷、玻璃、粉末、聚合物、人工晶体甚至胶体的性能评价都离不开光学性能的表征。本实验中所涉及到材料的光学性能主要是指透过率、反射率尤其是漫反射模式测定的反射率等光学性能的测定,涉及的材料包括聚合物、粉末和玻璃等。 在通常所用的分光光度法中,常常将待测定的物质溶解在溶剂中,通过比色来定性或定量物质的含量或浓度等。一些无机粉末或者聚合物本身并不溶于常见的溶剂中,将这些不溶解的物质分散在液体介质中得到的是消光光谱而不是吸收光谱,测定的是消光(Extinction)而不仅仅是吸收(Absorption)。另外,对薄膜材料来说,能进行原位测定是重要的,因为在溶解过程中往往改变了材料的状态,所测定的也不再是实际应用中所要知道的结果。薄膜、粉末等是实际应用中常见的材料形式,这些材料的光学性能的测定对材料提出了更高的要求。 目前中高档的紫外-可见分光光度计均可选配积分球附件来测定物质的漫反射光谱(UV-vis diffuse reflenctance spectrum,UV-vis DRS),UV-vis DRS特别适用粉末样品的测定。聚合物、聚合物与无机物的杂化材料、多种无机化合物半导体均可用UV-vis DRS进行测定。带积分球的分光光度计还可测定玻璃、有机玻璃、塑料制品的透过率和反射率等。下面就有机物、无机物和化合物的紫外-可见光谱的原理作详细的介绍: 1、有机物的紫外—可见吸收光谱: 分子的紫外—可见吸收光谱是基于物质分子吸收紫外辐射或可见光,其外层电子

《材料分析测试技术》试卷(答案)

《材料分析测试技术》试卷(答案) 一、填空题:(20分,每空一分) 1. X射线管主要由阳极、阴极、和窗口构成。 2. X射线透过物质时产生的物理效应有:散射、光电效应、透射X射线、和热。 3. 德拜照相法中的底片安装方法有:正装、反装和偏装三种。 4. X射线物相分析方法分:定性分析和定量分析两种;测钢中残余奥氏体的直接比较法就属于其中的定量分析方法。 5. 透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。 6. 今天复型技术主要应用于萃取复型来揭取第二相微小颗粒进行分析。 7. 电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。 8. 扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。 二、选择题:(8分,每题一分) 1. X射线衍射方法中最常用的方法是( b )。 a.劳厄法;b.粉末多晶法;c.周转晶体法。 2. 已知X光管是铜靶,应选择的滤波片材料是(b)。 a.Co ;b. Ni ;c. Fe。 3. X射线物相定性分析方法中有三种索引,如果已知物质名时可以采用(c )。 a.哈氏无机数值索引;b. 芬克无机数值索引;c. 戴维无机字母索引。 4. 能提高透射电镜成像衬度的可动光阑是(b)。 a.第二聚光镜光阑;b. 物镜光阑;c. 选区光阑。 5. 透射电子显微镜中可以消除的像差是( b )。 a.球差;b. 像散;c. 色差。 6. 可以帮助我们估计样品厚度的复杂衍射花样是(a)。 a.高阶劳厄斑点;b. 超结构斑点;c. 二次衍射斑点。 7. 电子束与固体样品相互作用产生的物理信号中可用于分析1nm厚表层成分的信号是(b)。 a.背散射电子;b.俄歇电子;c. 特征X射线。 8. 中心暗场像的成像操作方法是(c)。 a.以物镜光栏套住透射斑;b.以物镜光栏套住衍射斑;c.将衍射斑移至中心并以物镜光栏套住透射斑。 三、问答题:(24分,每题8分) 1.X射线衍射仪法中对粉末多晶样品的要求是什么? 答:X射线衍射仪法中样品是块状粉末样品,首先要求粉末粒度要大小 适中,在1um-5um之间;其次粉末不能有应力和织构;最后是样品有一 个最佳厚度(t =

(完整版)材料现代分析方法考试试卷

班级学号姓名考试科目现代材料测试技术A 卷开卷一、填空题(每空1 分,共计20 分;答案写在下面对应的空格处,否则不得分) 1. 原子中电子受激向高能级跃迁或由高能级向低能级跃迁均称为_辐射跃迁__ 跃迁或_无辐射跃迁__跃迁。 2. 多原子分子振动可分为__伸缩振动_振动与_变形振动__振动两类。 3. 晶体中的电子散射包括_弹性、__与非弹性___两种。 4. 电磁辐射与物质(材料)相互作用,产生辐射的_吸收_、_发射__、_散射/光电离__等,是光谱分析方法的主要技术基础。 5. 常见的三种电子显微分析是_透射电子显微分析、扫描电子显微分析___和_电子探针__。 6. 透射电子显微镜(TEM)由_照明__系统、_成像__系统、_记录__系统、_真空__系统和__电器系统_系统组成。 7. 电子探针分析主要有三种工作方式,分别是_定点_分析、_线扫描_分析和__ 面扫描_分析。 二、名词解释(每小题3 分,共计15 分;答案写在下面对应的空格处,否则不得分) 1. 二次电子二次电子:在单电子激发过程中被入射电子轰击出来的核外电子. 2. 电磁辐射:在空间传播的交变电磁场。在空间的传播遵循波动方程,其波动性表现为反射、折射、干涉、衍射、偏振等。 3. 干涉指数:对晶面空间方位与晶面间距的标识。 4. 主共振线:电子在基态与最低激发态之间跃迁所产生的谱线则称为主共振线 5. 特征X 射线:迭加于连续谱上,具有特定波长的X 射线谱,又称单色X 射线谱。 三、判断题(每小题2 分,共计20 分;对的用“√”标识,错的用“×”标识) 1.当有外磁场时,只用量子数n、l 与m 表征的原子能级失去意义。(√) 2.干涉指数表示的晶面并不一定是晶体中的真实原子面,即干涉指数表示的晶面上不一定有原子分布。(√) 3.晶面间距为d101/2 的晶面,其干涉指数为(202)。(×) 4.X 射线衍射是光谱法。(×) 5.根据特征X 射线的产生机理,λKβ<λK α。 (√ ) 6.物质的原子序数越高,对电子产生弹性散射的比例就越大。(√ ) 7.透射电镜分辨率的高低主要取决于物镜。(√ )8.通常所谓的扫描电子显微镜的分辨率是指二次电子像的分辨率。(√)9.背散射电子像与二次电子像比较,其分辨率高,景深大。(× )10.二次电子像的衬度来源于形貌衬度。(× ) 四、简答题(共计30 分;答案写在下面对应的空格处,否则不得分) 1. 简述电磁波谱的种类及其形成原因?(6 分)答:按照波长的顺序,可分为:(1)长波部分,包括射频波与微波。长波辐射光子能量低,与物质间隔很小的能级跃迁能量相适应,主要通过分子转动能级跃迁或电子自旋或核自旋形成;(2)中间部分,包括紫外线、可见光核红外线,统称为光学光谱,此部分辐射光子能量与原子或分子的外层电子的能级跃迁相适应;(3)短波部分,包括X 射线和γ射线,此部分可称射线谱。X 射线产生于原子内层电子能级跃迁,而γ射线产生于核反应。

光学高分子材料简述及性能指标

光学高分子材料简述及性能指标 光学高分子材料种类繁多,应用也不尽相同,但一般都包含三大类技术指标:光学性能、机械性能、热学性能。 光学性能主要包括折射率和色散、透过率、黄色指数及光学稳定性。 折射率和色散是光学材料的最基本性能。在透镜设计中,为使透镜超薄和低曲率必须寻求高折射率的光学材料,而校正色差要求有两组阿贝数不同的材料,即冕牌系列(低色散,阿贝数>50)和火石系列(高色散,阿贝数<40)。光学玻璃的折射率和色散有较大的选择余地,而光学塑料的选择范围却十分有限,尤其是冕牌系列光学塑料。透明塑料折射率的测定最常用的方法是折射仪法。阿贝折射仪是最广泛用于测定折射率的折射仪。 透过率是表征树脂透明程度的一个重要性能指标,一种树脂的透过率越高,其透光性就越好。透过率的定义为:透过材料的光通量(T2)占入射到材料表面上的光通量(T1)的百分率。任何一种透明材料的透光率都达不到100%,即使是透明性最好的光学玻璃的透光率一般也难以超过95%。 聚合物光学材料在紫外和可见光区的透光性和光学玻璃相近,在近红外以上区域不可避免的出现碳氢振动所引起的吸收。通常,光学塑料在可见光区透光率的损失主要由以下三个因素造成:光的反射;光的散射;光的吸收。 黄色指数是无色透明材料质量和老化程度的一项性能指标,由分光光度计的读数计算而得,描述了试样从无色透明或白色到黄色的颜色变化。这一实验最常用于评价一种材料在真实或模拟的日照下的颜色变化。而对于透明塑料材料来说,由于原料纯度或加工条件等因素的影响,可能自身带有一定颜色。 光学树脂如同多数有机物质一样存在着耐候和耐老化问题,因此树脂的结构和加工工艺以及使用环境对树脂的光学性能有较大的影响。在一定使用期限内,光学参数的稳定性尤为关键,这个指标直接决定产品的使用性能。采用人工加速老化中的全紫外线老化的方法检测树脂的光学稳定性。全紫外线老化法主要模拟阳光中的紫外线.全紫外线强度比相应太阳紫外强度高几倍。正是短波紫外线对有机材料老化起了主要作用,这样会大大地提高了老化加速率,也是全紫外老化的最突出优点。同时可以进行温度、湿度、雨淋等环境因素的模拟。这一老化方法其紫外强度等参数可以监控,试验重复性好。 韧性(耐冲击性能)和表面硬度(耐磨性)是光学高分子材料的重要机械性能。 冲击强度是衡量材料韧性的一种强度指标。冲击强度是使材料在冲击力的作用下折断,通常把折断时截面吸收的能量定义为材料的冲击韧性。冲击实验主要有弯曲梁式(摆锤式)冲击、落锤式冲击和高速拉伸试验三类。 无定型聚合物的韧性主要与其分子结构有关。主链上酯键、醚键、碳-碳键可以自由旋转,因而材料具有较好的韧性,如PC是光学塑料中抗冲击性能最好的材料;带有较大

材料测试分析方法答案

第一章 一、选择题 1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是() A.X射线透射学; B.X射线衍射学; C.X射线光谱学; D.其它 2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称() A.Kα; B. Kβ; C. Kγ; D. Lα。 3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选() A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。 4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称() A.短波限λ0; B. 激发限λk; C. 吸收限; D. 特征X射线 5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题) A.光电子; B. 二次荧光; C. 俄歇电子; D. (A+C) 二、正误题 1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。() 2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。() 3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。() 4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。() 5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。() 三、填空题 1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。 2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、 、、、。 3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。 4. X射线的本质既是也是,具有性。 5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称 ,常用于。 习题 1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?

2. 分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么? (1)用CuK αX 射线激发CuK α荧光辐射; (2)用CuK βX 射线激发CuK α荧光辐射; (3)用CuK αX 射线激发CuL α荧光辐射。 3. 什么叫“相干散射”、“非相干散射”、“荧光辐射”、“吸收限”、“俄歇效应”、“发射谱”、 “吸收谱”? 4. X 射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量 描述它? 5. 产生X 射线需具备什么条件? 6. Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中? 7. 计算当管电压为50 kv 时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短 波限和光子的最大动能。 8. 特征X 射线与荧光X 射线的产生机理有何异同?某物质的K 系荧光X 射线波长是否等 于它的K 系特征X 射线波长? 9. 连续谱是怎样产生的?其短波限V eV hc 3 01024.1?= =λ与某物质的吸收限k k k V eV hc 3 1024.1?= =λ有何不同(V 和V K 以kv 为单位)? 10. Ⅹ射线与物质有哪些相互作用?规律如何?对x 射线分析有何影响?反冲电子、光电 子和俄歇电子有何不同? 11. 试计算当管压为50kv 时,Ⅹ射线管中电子击靶时的速度和动能,以及所发射的连续 谱的短波限和光子的最大能量是多少? 12. 为什么会出现吸收限?K 吸收限为什么只有一个而L 吸收限有三个?当激发X 系荧光 Ⅹ射线时,能否伴生L 系?当L 系激发时能否伴生K 系? 13. 已知钼的λK α=0.71?,铁的λK α=1.93?及钴的λK α=1.79?,试求光子的频率和能量。 试计算钼的K 激发电压,已知钼的λK =0.619?。已知钴的K 激发电压V K =7.71kv ,试求其λK 。 14. X 射线实验室用防护铅屏厚度通常至少为lmm ,试计算这种铅屏对CuK α、MoK α辐射 的透射系数各为多少? 15. 如果用1mm 厚的铅作防护屏,试求Cr K α和Mo K α的穿透系数。 16. 厚度为1mm 的铝片能把某单色Ⅹ射线束的强度降低为原来的23.9%,试求这种Ⅹ射 线的波长。 试计算含Wc =0.8%,Wcr =4%,Ww =18%的高速钢对MoK α辐射的质量吸收系数。 17. 欲使钼靶Ⅹ射线管发射的Ⅹ射线能激发放置在光束中的铜样品发射K 系荧光辐射,问 需加的最低的管压值是多少?所发射的荧光辐射波长是多少? 18. 什么厚度的镍滤波片可将Cu K α辐射的强度降低至入射时的70%?如果入射X 射线束 中K α和K β强度之比是5:1,滤波后的强度比是多少?已知μm α=49.03cm 2 /g ,μm β =290cm 2 /g 。 19. 如果Co 的K α、K β辐射的强度比为5:1,当通过涂有15mg /cm 2 的Fe 2O 3滤波片后,强 度比是多少?已知Fe 2O 3的ρ=5.24g /cm 3,铁对CoK α的μm =371cm 2 /g ,氧对CoK β的 μm =15cm 2 /g 。 20. 计算0.071 nm (MoK α)和0.154 nm (CuK α)的Ⅹ射线的振动频率和能量。(答案:4.23

《材料现代分析测试方法》复习题

《近代材料测试方法》复习题 1.材料微观结构和成分分析可以分为哪几个层次?分别可以用什么方法分析? 答:化学成分分析、晶体结构分析和显微结构分析 化学成分分析——常规方法(平均成分):湿化学法、光谱分析法 ——先进方法(种类、浓度、价态、分布):X射线荧光光谱、电子探针、 光电子能谱、俄歇电子能谱 晶体结构分析:X射线衍射、电子衍射 显微结构分析:光学显微镜、透射电子显微镜、扫面电子显微镜、扫面隧道显微镜、原 子力显微镜、场离子显微镜 2.X射线与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用? 答:除贯穿部分的光束外,射线能量损失在与物质作用过程之中,基本上可以归为两大类:一部 分可能变成次级或更高次的X射线,即所谓荧光X射线,同时,激发出光电子或俄歇电子。另一部分消耗在X射线的散射之中,包括相干散射和非相干散射。此外,它还能变成热量逸出。 (1)现象/现象:散射X射线(想干、非相干)、荧光X射线、透射X射线、俄歇效 应、光电子、热能 (2)①光电效应:当入射X射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产 生光电效应。

应用:光电效应产生光电子,是X射线光电子能谱分析的技术基础。光电效应 使原子产生空位后的退激发过程产生俄歇电子或X射线荧光辐射是 X射线激发俄歇能谱分析和X射线荧光分析方法的技术基础。 ②二次特征辐射(X射线荧光辐射):当高能X射线光子击出被照射物质原子的 内层电子后,较外层电子填其空位而产生了次生特征X射线(称二次特征辐射)。 应用:X射线被物质散射时,产生两种现象:相干散射和非相干散射。相干散射 是X射线衍射分析方法的基础。 3.电子与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用? 答:当电子束入射到固体样品时,入射电子和样品物质将发生强烈的相互作用,发生弹性散射和非弹性散射。伴随着散射过程,相互作用的区域中将产生多种与样品性质有关的物理信息。 (1)现象/规律:二次电子、背散射电子、吸收电子、透射电子、俄歇电子、特征X射 线 (2)获得不同的显微图像或有关试样化学成分和电子结构的谱学信息 4.光电效应、荧光辐射、特征辐射、俄歇效应,荧光产率与俄歇电子产率。 特征X射线产生机理。 光电效应:当入射X射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产生光电效应。 荧光辐射:被打掉了内层电子的受激原子,将发生外层电子向内层跃迁的过程,同时辐射出波长严格一定的特征X射线。这种利用X射线激发而产生的特征辐射为二次特

材料现代分析方法考试试卷

材料现代分析方法考试试卷

班级学号姓名考试科目现代材料测试技术A卷开卷一、填空题(每空 1 分,共计20 分;答案写在下面对应的空格处,否则不得分) 1. 原子中电子受激向高能级跃迁或由高能级向低能级跃迁均称为_辐射跃迁__跃迁或_无辐射跃迁__跃迁。 2. 多原子分子振动可分为__伸缩振动_振动与_变形振动__振动两类。 3. 晶体中的电子散射包括_弹性、__与非弹性___两种。 4. 电磁辐射与物质(材料)相互作用,产生辐射的_吸收_、_发射__、_散射/光电离__等,是光谱分析方法的主要技术基础。 5. 常见的三种电子显微分析是_透射电子显微分析、扫描电子显微分析___和_电子探针__。 6. 透射电子显微镜(TEM)由_照明__系统、_成像__系统、_记录__系统、_真空__系统和__电器系统_系统组成。 7. 电子探针分析主要有三种工作方式,分别是_定点_分析、_线扫描_分析和__面扫描_分析。 二、名词解释(每小题 3 分,共计15 分;答案写在下面对应的空格处,否则不得分) 1. 二次电子二次电子:在单电子激发过程中被入射电子轰击出来的核外电子. 2. 电磁辐射:在空间传播的交变电磁场。在空间的传播遵循波动方程,其波动性表现为反射、折射、干涉、衍射、偏振等。 3. 干涉指数:对晶面空间方位与晶面间距的标识。 4. 主共振线:电子在基态与最低激发态之间跃迁所产生的谱线则称为主共振线 5. 特征X射线:迭加于连续谱上,具有特定波长的X射线谱,又称单色X射线谱。 三、判断题(每小题 2 分,共计20 分;对的用“√”标识,错的用“×”标识) 1.当有外磁场时,只用量子数n、l 与m 表征的原子能级失去意义。(√) 2.干涉指数表示的晶面并不一定是晶体中的真实原子面,即干涉指数表示的晶面上不一定有原子分布。(√) 3.晶面间距为d101/2 的晶面,其干涉指数为(202)。(×) 4.X 射线衍射是光谱法。(×) 5.根据特征X射线的产生机理,λKβ<λKα。(√) 6.物质的原子序数越高,对电子产生弹性散射的比例就越大。(√) 7.透射电镜分辨率的高低主要取决于物镜。(√) 8.通常所谓的扫描电子显微镜的分辨率是指二次电子像的分辨率。(√) 9.背散射电子像与二次电子像比较,其分辨率高,景深大。(×) 10.二次电子像的衬度来源于形貌衬度。(×) 四、简答题(共计30 分;答案写在下面对应的空格处,否则不得分) 1. 简述电磁波谱的种类及其形成原因?(6 分)答:按照波长的顺序,可分为:(1)长波部分,包括射频波与微波。长波辐射光子能量低,与物质间隔很小的能级跃迁能量相适应,主要通过分子转动能级跃迁或电子自旋或核自旋形成;(2)中间部分,包括紫外线、可见光核红外线,统称为光学光谱,此部分辐射光子能量与原子或分子的外层电子的能级跃迁相适应;(3)短波部分,包括X 射线和γ射线,此部分可称射线谱。X 射线产生于原子内层电子能级跃迁,而γ射线产生于核反应。

(整理)材料的光学性能测试.

材料科学实验讲义 (一级实验指导书) 东华大学材料科学与工程中心实验室汇编 2009年7月

一、实验目的和要求 1、掌握透过率、全反射和漫反射测定的基本原理; 2、掌握透过率、全反射和漫反射测定的操作技能; 3、测定聚合物膜和无机非金属材料的薄膜的透过率和全反射率,学会测定无机材料粉末的漫反射光谱。 4、针对不同的材料形式(如薄膜,粉末等)能判断该如何选择不同的测试模式。 二、实验原理 光学性能是材料的重要也是最常用的性能之一,薄膜、陶瓷、玻璃、粉末、聚合物、人工晶体甚至胶体的性能评价都离不开光学性能的表征。本实验中所涉及到材料的光学性能主要是指透过率、反射率尤其是漫反射模式测定的反射率等光学性能的测定,涉及的材料包括聚合物、粉末和玻璃等。 在通常所用的分光光度法中,常常将待测定的物质溶解在溶剂中,通过比色来定性或定量物质的含量或浓度等。一些无机粉末或者聚合物本身并不溶于常见的溶剂中,将这些不溶解的物质分散在液体介质中得到的是消光光谱而不是吸收光谱,测定的是消光(Extinction)而不仅仅是吸收(Absorption)。另外,对薄膜材料来说,能进行原位测定是重要的,因为在溶解过程中往往改变了材料的状态,所测定的也不再是实际应用中所要知道的结果。薄膜、粉末等是实际应用中常见的材料形式,这些材料的光学性能的测定对材料提出了更高的要求。 目前中高档的紫外-可见分光光度计均可选配积分球附件来测定物质的漫反射光谱(UV-vis diffuse reflenctance spectrum,UV-vis DRS),UV-vis DRS特别适用粉末样品的测定。聚合物、聚合物与无机物的杂化材料、多种无机化合物半导体均可用UV-vis DRS进行测定。带积分球的分光光度计还可测定玻璃、有机玻璃、塑料制品的透过率和反射率等。下面就有机物、无机物和化合物的紫外-可见光谱的原理作详细的介绍: 1、有机物的紫外—可见吸收光谱: 分子的紫外—可见吸收光谱是基于物质分子吸收紫外辐射或可见光,其外层电子跃迁而成,又称分子的电子跃迁光谱。紫外—可见分光光度法是基于物质分子的紫外—可见吸收光谱而建立的一种定性、定量分析方法。有机化合物此外吸收光谱(电子光谱)是由分子外层电子或价电子跃迁所产生的。按分子轨道理论,有机化合物分子中有:成键σ轨道,反键σ*轨道;成键π轨道,反键π*轨道(不饱和烃);另外还有非键轨道(杂原子存在)。各种轨道的能级不同,如图1所示。

(完整版)材料分析测试技术部分课后答案

材料分析测试技术部分课后答案 太原理工大学材料物理0901 除夕月 1-1 计算0.071nm(MoKα)和0.154nm(CuKα)的X-射线的振动频率和能量。 ν=c/λ=3*108/(0.071*10-9)=4.23*1018S-1 E=hν=6.63*10-34*4.23*1018=2.8*10-15 J ν=c/λ=3*108/(0. 154*10-9)=1.95*1018S-1 E=hν=6.63*10-34*2.8*1018=1.29*10-15 J 1-2 计算当管电压为50kV时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能. E=eV=1.602*10-19*50*103=8.01*10-15 J λ=1.24/50=0.0248 nm E=8.01*10-15 J(全部转化为光子的能量) V=(2eV/m)1/2=(2*8.01*10-15/9.1*10-31)1/2=1.32*108m/s 1-3分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么? (1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射; (2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;

(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。 答:根据经典原子模型,原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上,在稳定状态下,每个壳层有一定数量的电子,他们有一定的能量。最内层能量最低,向外能量依次增加。 根据能量关系,M、K层之间的能量差大于L、K成之间的能量差,K、L层之间的能量差大于M、L层能量差。由于释放的特征谱线的能量等于壳层间的能量差,所以K?的能量大于Ka 的能量,Ka能量大于La的能量。 因此在不考虑能量损失的情况下: CuKa能激发CuKa荧光辐射;(能量相同) CuK?能激发CuKa荧光辐射;(K?>Ka) CuKa能激发CuLa荧光辐射;(Ka>la) 1-4 以铅为吸收体,利用MoKα、RhKα、AgKαX射线画图,用图解法证明式(1-16)的正确性。(铅对于上述Ⅹ射线的质量吸收系数分别为122.8,84.13,66.14 cm2/g)。再由曲线求出铅对应于管电压为30 kv条件下所发出的最短波长时质量吸收系数。 解:查表得 以铅为吸收体即Z=82 Kαλ3 λ3Z3 μm Mo 0.714 0.364 200698 122.8 Rh 0.615 0.233 128469 84.13 Ag 0.567 0.182 100349 66.14 画以μm为纵坐标,以λ3Z3为横坐标曲线得K≈8.49×10-4,可见下图 铅发射最短波长λ0=1.24×103/V=0.0413nm λ3Z3=38.844×103 μm = 33 cm3/g 1-5. 计算空气对CrKα的质量吸收系数和线吸收系数(假设空气中只有质量分数80%的氮和质量分数20%的氧,空气的密度为1.29×10-3g/cm3)。 解:μm=0.8×27.7+0.2×40.1=22.16+8.02=30.18(cm2/g) μ=μm×ρ=30.18×1.29×10-3=3.89×10-2 cm-1 1-6. 为使CuKα线的强度衰减1/2,需要多厚的Ni滤波片?(Ni的密度为8.90g/cm3)。1-7. CuKα1和CuKα2的强度比在入射时为2:1,利用算得的Ni滤波片之后其比值会有什么变化? 解:设滤波片的厚度为t 根据公式I/ I0=e-Umρt;查表得铁对CuKα的μm=49.3(cm2/g),有:1/2=exp(-μmρt) 即t=-(ln0.5)/ μmρ=0.00158cm 根据公式:μm=Kλ3Z3,CuKα1和CuKα2的波长分别为:0.154051和0.154433nm ,所以μm=K

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