二氧化硅的去除
二氧化硅粉末物理提纯
二氧化硅粉末物理提纯
二氧化硅粉末的物理提纯可以通过以下步骤进行：
1. 溶解：将二氧化硅粉末加入适量的溶剂（如水或醇类溶剂），使粉末浸泡在溶剂中，搅拌均匀。
2. 沉淀：将溶解后的混合物放置静置一段时间，待不溶性杂质沉淀到底部。
3. 分离：将上清液轻轻倒出，同时保留沉淀物。
4. 干燥：将沉淀物取出，放置在通风良好的环境中自然干燥，或者使用低温干燥箱进行干燥。
5. 研磨：将干燥后的沉淀物进行研磨，可以使用研磨机、研钵等设备，使其细化。
6. 筛分：对研磨后的二氧化硅粉末进行筛分，去除粒径过大或过小的颗粒。
7. 再次干燥：将筛分后的粉末再次放置在低温干燥箱中进行干燥，确保其完全干燥。
8. 包装：将提纯后的二氧化硅粉末装入密封容器中，防止湿气和杂质污染。
需要注意的是，在进行以上步骤时，要严格控制环境的卫生与
洁净度，避免再次污染粉末。
另外，不同的提纯要求可能需要进行不同的处理步骤，详细操作可根据具体要求进行调整。
偏铝酸钠脱硅工艺
偏铝酸钠脱硅工艺是一种水处理技术，主要采用偏铝酸钠作为处理剂，通过一系列反应将水中的硅酸根物质去除。
该工艺的主要步骤如下：
1.投加偏铝酸钠。
2.调节pH值。
3.生成氢氧化铝等固液混合物。
4.通过管式膜（TMF）过滤。
该工艺具有以下特点：
•对于原水中没有钙镁硬度的水质，仅需要去除二氧化硅，使用偏铝酸钠混凝除硅工艺。
•混凝后生成的氢氧化铝等固液混合物通过管式膜直接过滤，不带入硬度离子，管式膜产水直接进入蒸发器。
•大量的工程经验表明偏铝酸钠：二氧化硅质量比在2：1的情况下，PH调整到8-9之间，可以把二氧化硅降到10mg/L以内。
气相二氧化硅除脂质-概述说明以及解释
气相二氧化硅除脂质-概述说明以及解释1.引言1.1 概述概述:脂质在我们的日常生活中扮演着重要的角色，但过量的脂质摄入却容易导致多种健康问题，如肥胖、高血压等。
而气相二氧化硅作为一种新型的除脂质技术，具有高效、低耗、环保等优点，可以有效去除食物中的脂质。
本文将重点介绍气相二氧化硅除脂质的原理、技术介绍以及应用前景展望，希望能为解决脂质相关问题提供新的思路和方法。
1.2 文章结构文章结构部分的内容可以包括以下几个方面:1. 文章概要：介绍整篇文章的主要内容和研究对象，概括性地说明气相二氧化硅除脂质技术的相关背景和意义。
2. 研究方法：介绍本文使用的研究方法和实验设计，包括实验步骤、数据采集和分析方法等，以确保实验结果的科学性和可靠性。
3. 文章框架：明确列出本文的章节结构和内容安排，为读者提供清晰的阅读导引，使他们能够更好地理解文章的逻辑思路和脉络。
4. 前瞻展望：简要说明本文的研究成果对未来相关领域的影响和意义，为读者呈现出本文研究的价值和未来发展方向。
在文章结构部分，可以通过以上几个方面的内容来展示文章的条理性和逻辑性，为读者提供清晰的认识和理解。
1.3 目的本文旨在探讨气相二氧化硅除脂质技术在脂质去除领域的应用情况和效果，从技术原理、问题挑战到实际效果评估，全面分析该技术在脂质去除过程中的作用和价值，展望其在未来在药物制备、食品加工等领域的应用前景，为相关领域的研究和应用提供参考和指导。
通过本文的研究，期望能够为提高脂质去除效率，改善产品质量和工艺流程，推动脂质去除技术的发展做出贡献。
2.正文2.1 气相二氧化硅技术介绍气相二氧化硅技术是一种利用气相反应在材料表面形成硅二氧化物薄膜的方法。
这种技术可以有效地改变材料的表面性质，提高其耐磨性、耐腐蚀性和光学性能。
气相二氧化硅技术通常包括化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）两种方法。
在CVD方法中，将一种或多种气体混合物通过化学反应沉积在基底表面上，形成硅二氧化物薄膜。
二氧化硅对水质污染的治理及其效果
二氧化硅对水质污染的治理及其效果随着社会发展、人口增加和工业化进程不断加快，水质污染问题日益严重。
对于水质污染问题的治理，人们使用了许多方法，比如常见的生物除污法、化学除污法等，但这些方法的效果都有一定的局限性。
而二氧化硅作为一种新型的除污剂，其治理水质污染的效果备受瞩目。
二氧化硅是一种无色、臭味且化学性质非常稳定的气体，其具有极强的氧化性和还原性，并可与大部分的物质发生反应。
而使用二氧化硅治理水质污染，就是利用其强大的化学性质与污染物发生反应，从而将污染物转化为无害物质或使其失去活性。
一、二氧化硅除污的机理二氧化硅除污的机制十分复杂，一般可分为几个步骤。
首先，二氧化硅分解为氧气和单质硅，其反应式为SiO2 + 2C = Si + 2CO。
单质硅与水产生的反应是Si + 2H2O = H4SiO4，而H4SiO4会迅速水解生成SiO2·nH2O沉淀物或凝胶。
其次，二氧化硅可通过活性氧的作用，氧化水中的有机物、无机物，使其降解为CO2和H2O，并可生成一些有用物质，比如Oxidex和Fe3O4等。
再次，二氧化硅可以与氧气反应，产生硅酸钠、硅酸钾、硅酸铝等化合物，这些化合物可以中和、沉淀污染物。
总体上，二氧化硅除污主要是通过物理、化学反应将污染物转化为无害物质或失去活性，从而达到治理水质污染的目的。
二、二氧化硅的应用1、饮用水处理饮用水中，不同的污染物可能存在于不同的形式，比如有些污染物以游离态存在于水中，而有些则以悬浮态或溶解态存在于水中。
对于这些污染物的不同形式，要采用不同的治理方法。
而对于有机污染物和重金属离子等污染物，二氧化硅可搭配一些其他药剂（如铁盐、氢氧化铝等）共同作用，能够去除饮用水中的浑浊度、异味和异色，大大提高水的安全性和质量。
2、废水处理在废水处理领域，二氧化硅可用于去除化学氧化需求量、总有机碳、氨氮和总磷等污染物。
此外，它还可加速废水中有机物的降解，提高水中的DO（溶解氧）值，从而达到治理废水的目的。
二氧化硅基质吸附法
二氧化硅基质吸附法二氧化硅基质吸附法二氧化硅基质吸附法是一种常用的样品前处理方法，具有较高的吸附效率和选择性。
该方法主要利用二氧化硅基质对目标物质的吸附作用，实现对目标物质的富集和分离。
本文将介绍二氧化硅基质吸附法的相关内容，包括基质制备、样品处理、吸附实验、结果分析和应用研究等方面。
1.基质制备二氧化硅基质的制备是该方法的关键步骤之一。
通常采用化学合成法制备二氧化硅基质，包括以下步骤：（1）将硅酸钠与盐酸反应生成硅酸凝胶；（2）将硅酸凝胶干燥后研磨成粉末；（3）将粉末进行高温焙烧，去除有机杂质，得到纯净的二氧化硅基质。
制备好的二氧化硅基质可以通过表面改性来增强其吸附性能。
常用的表面改性方法包括酸处理、热处理、表面氧化等。
2.样品处理在进行二氧化硅基质吸附实验前，需要对样品进行前处理。
前处理的主要步骤包括：（1）准确称取一定量的样品；（2）将样品进行破碎或溶解，使其成为可处理的溶液；（3）通过合适的溶剂提取目标物质，或通过沉淀、萃取等方法去除杂质；（4）将处理后的样品进行适当的稀释，以便进行吸附实验。
3.吸附实验在进行二氧化硅基质吸附实验时，需要选择合适的吸附剂和实验条件。
主要的实验条件包括：（1）吸附剂的种类和用量；（2）样品溶液的pH值；（3）吸附时间；（4）实验温度。
通常，将处理后的样品溶液与二氧化硅基质混合，在设定的实验条件下进行吸附。
吸附结束后，可以通过溶剂萃取、沉淀等方法将目标物质与基质分离。
4.结果分析对吸附实验的结果进行分析和处理，可以得出目标物质的吸附效率、选择性、回收率等参数。
通过这些参数可以评估二氧化硅基质吸附法的性能和效果。
同时，还可以通过对比不同基质、不同实验条件下的结果，找出最佳的吸附条件。
5.应用研究二氧化硅基质吸附法在许多领域都有广泛的应用，例如环境监测、食品分析、生物医药等。
研究人员可以通过应用该方法，解决实际样品中目标物质的富集和分离问题。
同时，还可以通过进一步改进和优化该方法，提高其吸附性能和实用性。
二氧化硅的多孔材料及其在吸附和分离中的应用
二氧化硅的多孔材料及其在吸附和分离中的应用二氧化硅是一种重要的材料，在科学研究和工业生产中得到广泛应用。
其中，多孔二氧化硅是一种特殊形态的材料，它拥有许多独特的性质和应用。
本文将介绍多孔二氧化硅的制备、性质以及在吸附和分离方面的应用。
一、多孔二氧化硅的制备1. 溶剂蒸发法溶剂蒸发法是一种制备多孔二氧化硅的常用方法。
这种方法的具体步骤如下：首先，在有机溶剂中加入二氧化硅前驱体，加热搅拌使其充分溶解；然后使其自然蒸发，直到产生固体。
在这个过程中，由于有机溶剂的挥发，产生了很多小孔和大孔，形成了多孔结构。
最后将产生的物质高温煅烧，从而得到纯净的多孔二氧化硅。
2. 模板法模板法是一种将有机物作为模板来制备多孔二氧化硅的方法。
具体步骤为：首先将有机物与二氧化硅前驱体混合；然后通过一系列的化学反应使有机物自身蒸发或氧化分解，在这个过程中，有机物模板留下了一系列的空隙，形成了多孔结构；最后通过高温煅烧将有机物模板去除，得到纯净的多孔二氧化硅。
二、多孔二氧化硅的性质1. 多孔结构多孔二氧化硅的最显著的性质就是它的多孔结构。
这种多孔结构可分为两种类型：介孔和微孔。
介孔的孔径在2-50纳米之间，微孔的孔径小于2纳米。
这些孔隙在多孔二氧化硅中分布均匀，数量众多，能够提供大量的吸附活性位点，从而使得多孔二氧化硅具有很强的吸附能力。
2. 高比表面积多孔二氧化硅的多孔结构使得它的比表面积非常大，通常在100-1000平方米/克之间。
这种巨大的比表面积为多孔二氧化硅带来了许多独特的性质，例如高度的吸附能力和分离效率。
3. 活性位点多孔二氧化硅的多孔结构是由一系列的空隙组成的，这些空隙通常被认为是其活性位点。
这些活性位点能够提供大量的表面反应机会，增强多孔二氧化硅的吸附、吸附分离等性质。
三、多孔二氧化硅在吸附和分离中的应用1. 吸附分离多孔二氧化硅在吸附分离中得到了广泛应用。
它能够选择性地吸附某些分子和离子，从而达到分离和富集的目的。
锅炉炉水二氧化硅超标原因分析及措施
锅炉炉水二氧化硅超标原因分析及措施摘要：锅炉炉水超标是指当锅炉的水含量低于规定值时，会造成炉膛中烟气中的二氧化硅浓度升高，导致燃烧不正常，加强对锅炉炉水二氧化硅含量的研究已经成为当前工业发展的重要话题。
本文首先全面深入的分析了锅炉炉水二氧化硅超标的原因，然后从多维度提出了有效解决锅炉炉水二氧化硅超标的对策，旨在有效控制锅炉炉水中的二氧化硅含量，实现化工产业的健康可持续发展。
关键词：锅炉炉水；二氧化硅；预处理出水；排污管理锅炉炉水二氧化硅是锅炉燃烧过程中的重要组成部分，在火力发电厂，燃煤，燃气机组等大型设备中起着不可替代的作用。
随着我国经济水平和科技技术发展迅速、节能减排要求日益严格以及国家政策调控力度不断加强，对锅炉炉水二氧化硅含量的控制成为当前的重要任务。
而锅炉是一种热工设备，燃烧时产生大量烟气和高温、高压及各种有毒有害气体，在炉内受温度影响较大，如果炉水没有超标或含硫较高的物质就会引起腐蚀现象发生，由于超标的物料进入空气中形成酸雨危害人体健康；如果不注意的话还会造成雾霾天气等一系列问题本文就是针对锅炉燃煤所引发事故进行分析，找出其产生原因和解决办法，从而提高锅炉安全性能、降低成本。
本文主要是针对锅炉炉水二氧化硅，根据实验数据来进行分析，找出其存在的问题及解决办法。
1.锅炉炉水二氧化硅超标的具体原因分析1.1原水预处理出水不合格原水预处理出水不合格造成炉炉水二氧化硅超标的原因可能有以下几点：（1）原水质量不稳定或污染严重：如果原水中含有较高浓度的二氧化硅、硬度等物质，或者被污染物质污染，会导致预处理的出水不符合要求。
（2）预处理设备故障：预处理设备的故障也可能导致出水不合格，例如滤芯、反渗透膜等处理设备老化、堵塞或破损等问题。
（3）操作不当：操作人员没有按照规范操作，或者没有及时更换处理设备的滤芯、反渗透膜等，也会导致出水不符合要求。
（4）设备维护不及时：如果预处理设备长期不进行检修和维护，会导致设备老化、堵塞、破损等问题，影响出水质量[1]。
二氧化硅微球吸附作用
二氧化硅微球吸附作用
二氧化硅微球具有较高的比表面积和孔隙体积，因此具有良好的吸附作用。
其吸附作用主要体现在以下几个方面：
1. 物理吸附：二氧化硅微球表面具有许多微孔和介孔，可吸附一定量的气体、液体或溶质分子。
这种吸附是基于分子间的范德华力，具有较高的选择性，可用于气体的分离和液体的纯化等。
2. 化学吸附：二氧化硅微球表面常常经过化学修饰，如引入羟基、氨基、酸基等官能团。
这些官能团具有一定的化学活性，可与目标物质发生化学反应，形成更稳定的化学键。
这种吸附可以用于有机物污染物的去除、金属离子的回收等。
3. 离子交换作用：二氧化硅微球内部往往存在一定量的离子交换基团，如阴离子交换基团（如氧化铝）和阳离子交换基团（如氧化铜）。
这些交换基团可以与水溶液中的离子发生交换反应，实现对离子的吸附和去除。
4. 生物吸附：二氧化硅微球表面具有较好的生物相容性，可以被生物体吸附和附着。
因此，它可以用作生物材料的载体，用于药物传递、细胞培养和组织工程等应用。
总体来说，二氧化硅微球具有多种吸附作用，可以广泛应用于环境保护、能源催化、生物医学等领域。
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工业用水'>工业用水中的硅化合物会对生产过程产生不同程度的危害。
工业锅炉补给水、地热水和冷却水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密坚硬，难于用普通的方法清洗，严重影响设备的传热效率以及安全运行；电子工业用水'>工业用水中，二氧化硅会对在单晶硅表面生产半导体造成极大危害，降低电子管及固体电路的质量［1］；在造纸工业用水'>工业用水中，二氧化硅含量过高，将使纸质变脆；在人造丝工业用水'>工业用水中，硅酸含量过高将影响纤维强度和粘胶的粘度；在湿法冶金用水中，硅酸含量超过一定范围将出现乳化而影响生产。
为此在不同的给水处理系统中，均需充分考虑硅的脱除。
1 混凝脱硅混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱硅目的的一种物理化学方法。
这是一种非深度脱硅方法，一般的混凝过滤可去除60%的胶体硅，混凝澄清过滤可去除90%的胶体硅［2］。
1.1 镁剂脱硅在实际的水处理过程中，常将镁剂和石灰一起使用以保证脱硅效果。
镁剂脱硅的效果决定于［3］：①pH值：镁剂脱硅的最佳pH值为10.1～10.3。
为保证pH值，有必要在处理系统中加入石灰。
石灰不仅有调节pH的功能，而且还可以除去部分二氧化硅、暂时硬度和二氧化碳等。
②混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。
适当的混凝剂可以改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。
一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为0.2～0.35mmol/L。
③水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。
40℃时出水中残留硅可达1mg/L以下。
④水在澄清器中的停留时间：水温为30℃时，实际停留时间应＞1h，40℃时约为1h，120℃时为20～30min。
⑤原水水质：原水的硬度大时对镁剂脱硅的效果有利。
原水中硅化合物含量对镁剂比耗(mgMgO/mgSiO2-3)有影响。
镁剂比耗随原水硅化合物含量的增加而减少，随水中胶体硅所占比例的增加而增加，一般在5～20范围内。
1.2 铝盐脱硅决定铝盐脱除溶解硅效果的主要条件有［4］：①温度：铝盐除硅的最适宜温度为20℃。
②接触时间：在铝盐与含硅水接触30min后，大多数的硅可被吸附脱除。
③pH值：最适宜的pH值范围为8～9。
④铝盐的结晶状态和物理性质：铝盐沉淀物假如在溶液之外生成，尤其是经过干燥后，其脱硅效果将大为减弱，而铝盐的结晶状态对二氧化硅脱除效果的影响为：AlO(OH)＞Al2O3.3H2O＞Al(OH)3。
铝盐脱除胶体硅的最佳pH范围为4.1～4.7，大约40mol胶体硅仅需1mol铝盐即可。
1.3 铁盐脱硅氢氧化铁能够吸附溶解硅，一般认为其最有效的pH值为9，且无定形氢氧化铁比其晶形的吸附效果更佳。
去除1mg二氧化硅需要硫酸铁10～20mg。
在常温时，以铁盐作絮凝剂对含硅水进行处理后，可使水中残余溶解硅含量降至3～5mg/L。
据报道，在水中加入适量的三氯化铁、铝酸钠和氧化钙处理含硅20mg/L的水，硅的去除率也可达70～80。
1.4 石灰脱硅采用熟石灰处理原水，于40℃下在除去暂时硬度和二氧化碳的同时，还可以除去部分二氧化硅，水中残留硅含量可降到30～35。
张桂枝［5］在110～115℃的温度下采用消石灰对福建炼油厂锅炉给水进行了除硅预处理，认为由于生成CaSiO3沉淀的缘故，硅去除率可达80。
近年来，水的混凝处理技术在两个方面有了较大进展。
一方面是注重混凝剂的复配使用，通过药剂的协同效应以求得最佳的混凝沉淀效果。
另一方面是一些无机高分子混凝剂，如聚铁、聚铝三号等开发成功并已投入工业应用。
这些无机高分子混凝剂具有适用范围广和价格低的特点，与传统的铝盐和铁盐相比，它们免除了水解和聚合反应，不仅可以加快混凝过程，而且还减轻了许多影响混凝效果因素的干扰，脱除硅的效果比较稳定。
2 反渗透脱硅反渗透是自然现象渗透的逆过程。
Buecker认为［6］反渗透可以脱除胶体硅和溶解硅，适于净化锅炉补给水，回收部分冷却塔排污水，以及制取超纯水。
另据资料［7］，反渗透法的总除盐效率可达93，SiO2可脱除80。
日本专利报道，对硅含量为5～20mg/L的混合水，以渗透膜处理后，其出水硅含量可降至1mg/L以下。
80年代以来，反渗透已成为锅炉补给水的一种重要处理方法，常用于离子交换系统之前对给水进行预脱盐，以减轻离子交换系统的负担。
3 超滤脱除胶体硅超滤与反渗透法一样是以压力差为推动力，将欲处理水在一定压力作用下经过一个可让水和低分子量溶质透过而高分子物质、胶体物质不能透过的高分子膜，从而达到分离的目的。
超滤处理所用的膜材料及装置与反渗透法相似，其分离机理主要是筛分效应。
Kun和Kunin认为，在采用超滤脱除胶体硅时，膜孔径不宜超过100nm，否则不能截留所有的胶体硅。
有关试验表明其工作压力不宜超过7×104～7×105Pa。
超滤法没有脱盐能力，对溶解硅几乎无脱除效果。
4 气浮脱除胶体硅Cassell等采用微泡浮选(Microflotation)的方法进行了水处理研究，发现这一方法对水中的所有胶态物质均有去除效果。
浮选前先用1.0×10-3mol/L的Al(NO3)3调浆10min。
捕收剂为月桂酸(浓度为25mg/L)，起泡剂为乙醇(用量为2.5mL/L)。
除硅效果与pH值紧密相关，在pH为8～11的范围内，经浮选5min后，胶体硅的脱除率可达90以上。
另外，铝盐的添加也是必不可少的，单独的胶体硅无法浮选。
Cassell认为微泡浮选成功的要害在于必须满足以下三个条件：①添加少量的电解质和调整pH值使胶体颗粒得以聚团；②添加合适的捕收剂和起泡剂以形成合乎要求的泡沫层；③气泡直径必须在40～60μm以下。
5 电凝聚脱硅电凝聚是利用电化学方法通过电极反应产生金属水合物凝聚剂，一定条件下可析出气泡，通过凝聚剂的吸附以实现聚沉，也可通过气泡的浮选来达到净水的方法。
电凝聚常用于离子交换、电渗析、反渗透除盐之前，不仅可以有效脱除二氧化硅，而且能除浊、脱色，还能去除水中重金属离子、藻类和细菌等，对去除水中的有机物质也有一定效果。
有报道采用电凝聚对硅含量为44mg/L(其中离子态的硅含量37.5mg/L)的原水进行脱硅处理后，其出水硅含量可降至大约1～2mg/L的范围内。
另外也有用电凝聚除硅，使硅酸总量由19.2mg/L下降至1.37mg/L，胶态硅酸由3.9mg/L下降至0.26mg/L的报道。
某公司引进的一套蒸汽锅炉装置，其中的水处理工艺采用电凝聚除硅，原水溶解态二氧化硅5.5mg/L，胶体态二氧化硅1～2mg/L，处理后二氧化硅含量＜0.05mg/L［8］。
在非深度除硅时，采用电凝聚法效果最为明显。
在铝和电能消耗量不大的情况下，可使水中的二氧化硅含量降低60～80。
在深度或完全除硅时，电凝聚法会大幅度增加铝和电能的消耗量，如含有二氧化硅40mg/L的河水在电流密度2mA/cm2时能完全除硅，但耗铝量高达50g/m3，耗电量达0.6kW.h/m3。
6 离子交换脱硅将不同的离子交换床结合使用，不仅可以达到很好的软化和除盐效果，而且也可以深度除硅，具有很高的处理深度。
在离子交换系统中，一级复床除盐出水二氧化硅含量可低于0.5mg/L，再经混床处理，出水的硅含量可以控制在0.02mg/L以下(依环境温度的不同在0.005～0.03mg/L的范围内波动)。
我国电厂采用的离子交换除盐系统可以将硅含量由给水3～10mg/L降至出水为0.005～0.08mg/L。
其指标依原水性质和处理系统的特点而定。
美国纽约州电力煤气公司所属米利肯电站采用一种可移动式水处理系统，使全硅含量为3.47mg/L(溶解硅为1.04mg/L，胶体硅为2.43mg/L)的原水通过该系统的2台并联强酸型阳离子树脂交换器和2台并联强碱型阴离子树脂交换器，出水中全硅含量降为0.029mg/L，胶体硅为0，再经大孔阴离子树脂处理后，出水全硅含量可降至0.007mg/L。
日本专利公布了一种以氢氟酸饱和的弱碱性阴离子交换树脂除去水中硅酸的方法。
将含有120mg/L硅酸(以二氧化硅计)的水通过该树脂，出水中硅酸含量可降至1mg/L以下。
一般认为离子交换系统对于胶体硅无脱除能力，因而需在此前采用预处理和预脱盐去除悬浮物质和胶体物质，以防止其污染树脂，降低处理系统的效率。
7 阻垢剂抑制硅垢的形成硅垢阻垢剂是在用水系统中添加化学药剂以防止硅化合物从含有过饱和硅的水溶液中析出的方法。
其主要作用表现在以下几个方面：延迟沉淀开始成垢的时间，使沉淀在成垢之前就随流体排出系统之外；使沉淀以悬浮状态存在，抑制其附着在管壁和设备上成垢；在一定的温度和压力条件下，完全抑制硅垢的形成。
近年来，国内外对硅垢的阻垢剂作了大量的研究并提出了许多不同的配方，其主要的药剂组分基本上仍未超出现今使用的范围。
阻垢剂总的发展趋向是向复合配方发展，而且要求耐温性能良好。
虽然近10年来硅垢阻垢剂的试验室工作有了明显进展，但还不能认为是突破性的，大多配方在实用性上还有待改进。
8 其他的脱硅或抑垢方法日本专利报道了一种在系统内连续或间断地采用超声波振动来防止地热水结硅垢的方法。
Wibowo等发现在高纯水制备系统中用紫外线和臭氧联合处理可以将胶体硅转化为溶解硅而除去。
美国专利发明了用流态化的沙床作为晶核来沉积除去硅的方法。
由于以上方法在工业上尚未得到广泛应用，在此不予详述。
总之，在工业用水'>工业用水处理系统中，由于指标要求众多，对于硅化合物的处理不可能单独进行，需综合考虑给水中各种悬浮物质，胶体物质和溶解的有害气体、离子的处理效果，以保证系统出水各项指标符合工业生产要求。
一般而言，混凝处理的深度较低，很难将出水中硅化合物的含量降至1mg/L以下。
假如用水系统水质要求较高，则需在混凝作业后安排反渗透、电凝聚或离子交换作业以提高出水质量。
具体的水处理工艺流程需根据原水水质和不同工艺技术经济指标的优劣来选定。