二氧化硅处理方法的研究2
介孔二氧化硅的制备及其表面吸附性质研究(2)
有序多孔材料具有大量纳米孔道,结构空旷,表面积巨大,在光、电、磁、催化、生物医药、传感和纳米工程等方面都有巨大潜在应用价值,已成为一个新兴的蓬勃发展的跨学科研究领域。经过15多年的研究,一大批孔径可调,组成可变、形貌多样、孔道形状不一,且孔道排列方式多样化的新型介孔材料被不断的合成出来。从起初的纯二氧化硅介孔分子筛到各种非硅骨架的介孔材料,从无机介孔骨架到无机.有机介孔骨架,再到纯有机骨架的介孔材料:从具有单一功能的介孔材料,到具有各种复合功能的介孔材料;从有机模板自组装合成法到无机模板浇铸法,另外到已开始出现的无机.有机混合模板法等,人们已经取得了很多突出的成绩。然而,介孔材料的研究中仍然存在许多未知和不足需要我们探索和寻求解决之法。开发简单、快速、经济、普适、易重复、能大规模生产高质量介孔材料的新方法,探索介孔材料本身的新功能,并不断推进介孔材料在各领域中的新应用,逐步实现介孔材料的实用化仍有大量的工作需要我们去做。这个征途中充满了众多挑战和机遇。
5.学位论文杨隋全氟羧酸诱导下新型多孔二氧化硅材料的合成与表征2007
近年来,随着纳米技术的迅速发展,多孔材料以其种种特异的性能,在科学研究与技术应用上都引起了人们极大的兴趣。1992年Mobil公司首次发明了以超分子模板法合成介孔氧化硅分子筛M41S(MCM-41、MCM-48、MCM-50),从而将多孔材料从微孔扩展到介孔,在微孔材料与大孔材料之间架起了一座桥梁。之后,越来越多的研究者以超分子模板法合成出具有不同特定形貌和新型孔道结构等具有特殊性质的介孔材料。在某种程度上,人们已经可以对不同尺度上的微孔、介孔和大孔材料进行控制合成。其中,螺旋介孔材料以其特殊的形貌和新颖的手性孔道成为最近科学研究的热点。这种孔道的非对称空间为多种非对称应用提供了合适的场所,如在手性合成、手性分离以及手性催化等方向有潜在的应用价值。同时,在最近的研究中,为了实现对客体分子的高储藏量及其释放行为的控制,一类具有规则孔道的介孔SiO2空心球材料也使许多科研工作者投入到这一领域。目前已经合成出许多具有不同尺寸大小,墙壁厚度以及不同的壳层孔道结构的介孔二氧化硅空心球材料。在本论文中,我们主要就从以上两个方面开展研究工作。
二氧化硅蒸发镀膜
二氧化硅蒸发镀膜1.引言1.1 概述概述二氧化硅蒸发镀膜是一种常用的表面处理技术，利用蒸发镀膜方法将二氧化硅材料沉积在各种基材表面上，形成一层均匀、透明且具有良好性能的薄膜。
该薄膜具有优良的物理、化学性能，广泛应用于电子、光学、太阳能等领域。
随着科学技术的不断进步，人们对于表面处理技术的要求也越来越高。
而二氧化硅蒸发镀膜由于其独特的特性和优势，成为了一种备受关注的技术。
通过二氧化硅蒸发镀膜，可以改变材料表面的光学、电学、热学等性质，从而提高材料的功能和性能。
本文将介绍二氧化硅蒸发镀膜的原理和方法，以及其在不同应用领域的应用情况。
同时，总结二氧化硅蒸发镀膜的优势，并展望其未来发展的前景。
通过深入了解二氧化硅蒸发镀膜技术的特点和应用，可以更好地认识和利用这一技术，促进材料表面处理领域的发展。
1.2 文章结构文章结构部分的内容可以包括以下内容：文章结构的设定对于一篇长文的组织和阅读来说非常重要。
在本文中，我们将按照以下结构进行论述：1. 引言：在引言部分，我们将对二氧化硅蒸发镀膜进行概述，并介绍本文的目的。
2. 正文：- 2.1 二氧化硅蒸发镀膜的原理和方法：在这一部分，我们将详细介绍二氧化硅蒸发镀膜的工作原理和镀膜方法，并解释其背后的物理化学过程。
- 2.2 二氧化硅蒸发镀膜的应用领域：在这一部分，我们将探讨二氧化硅蒸发镀膜在不同领域的应用，包括电子设备制造、光学薄膜、防反射涂层等。
我们将介绍其在各个领域的优势和潜在应用价值。
3. 结论：- 3.1 总结二氧化硅蒸发镀膜的优势：在这一部分，我们将总结二氧化硅蒸发镀膜的优势，例如其高质量、可控性和适用性等，并强调其在现代科技和工程中的重要性。
- 3.2 展望二氧化硅蒸发镀膜的未来发展：在这一部分，我们将展望二氧化硅蒸发镀膜的未来发展趋势，包括技术改进、新材料探索等方面的可能性。
我们将讨论现有挑战，并提出未来研究的方向和可能的解决方案。
通过以上结构的合理安排，我们旨在全面系统地介绍二氧化硅蒸发镀膜，从其原理和方法、应用领域到优势和未来发展进行论述，以期为读者提供全面深入的了解和启发。
二氧化硅研究报告
二氧化硅研究报告一、引言二氧化硅是一种重要的无机化合物，化学式为SiO2，常见的形态有晶体、胶体和溶胶等。
二氧化硅在工业、材料科学、生物医学和环境保护等领域都有广泛的应用。
本研究报告将对二氧化硅的制备方法、性质和应用进行综述。
二、制备方法1.转化法：通过将硅酸盐或硅石转化成二氧化硅。
硅酸盐转化法主要是通过加热硅酸盐，使其发生热分解反应，生成二氧化硅。
硅石转化法则是通过还原硅石，生成二氧化硅。
2.沉淀法：通过溶液中加入合适的化学试剂，使溶液中的硅酸盐沉淀下来形成二氧化硅。
沉淀法包括水溶液法、胶体溶液法、乳胶法等。
3.燃烧法：利用硅源与氧气或空气发生燃烧反应，生成二氧化硅。
燃烧法一般用于制备高纯度的二氧化硅。
三、性质1.物理性质：二氧化硅是一种无色、无味的固体，具有高熔点和高热稳定性。
晶体二氧化硅具有硬度较高、导热性好、电绝缘性能优异等特点。
2.化学性质：二氧化硅是一种弱酸性物质，可与碱性物质发生中和反应。
二氧化硅也可与一些金属反应生成相应的金属硅酸盐化合物。
四、应用1.工业领域：二氧化硅是一种结构性材料，在陶瓷、玻璃、橡胶、塑料和涂料等行业有广泛的应用。
二氧化硅在这些材料中能够增加硬度、改善透明度和延展性等性能。
2.生物医学领域：二氧化硅具有较大的比表面积和良好的生物相容性，因此在生物医学领域中有着广泛的应用。
例如，二氧化硅可以用作药物传递系统、生物材料的组成部分以及生物传感器的基质等。
3.环境保护领域：二氧化硅纳米材料可用于水处理、废气处理和固体废物处理等环境保护领域。
二氧化硅具有较大的吸附能力和催化活性，可以用于去除水中的有害物质和净化废气。
五、总结综上所述，二氧化硅是一种重要的无机化合物，在工业、材料科学、生物医学和环境保护等领域都有广泛的应用。
制备方法主要包括转化法、沉淀法和燃烧法等。
二氧化硅具有良好的物化性质，同时能够应用于陶瓷、玻璃、生物医学和环境保护等领域。
未来研究需要进一步优化制备方法，提高二氧化硅的性能，并探索新的应用领域。
二氧化硅粉尘处理
二氧化硅粉尘处理
二氧化硅粉尘的处理方法包括物理治理方法和化学治理方法。
物理治理方法包括过滤、粉尘降温和湿式除尘等。
过滤和湿式除尘常用于控制工业内的粉尘浓度，而粉尘降温对于涉及火源的操作场所特别有效。
化学治理方法主要通过添加化学物质来控制二氧化硅粉尘的生成和扩散。
例如，将化学添加剂喷洒到产生粉尘的表面，可降低二氧化硅粉尘的生成量；在烧烤等高温操作中，添加氢氧化钠等碱性化合物也能有效控制粉尘扩散。
此外，还可以采用抽风技术将产生的胶态二氧化硅过筛粉尘直接抽出，避免粉尘扩散到环境中。
这种方法虽然简单易行，但仅适用于较小的生产工艺。
湿式除尘法可以有效地将胶态二氧化硅过筛粉尘分离出来，但需要占用较大的水资源，并且对除尘设备的要求也比较高。
在生产和操作现场要求密闭，可使用防护罩来隔离不同生产区域，避免胶态二氧化硅过筛粉尘从室外进入生产车间，也可避免胶态二氧化硅过筛粉尘到达室外环境。
二氧化硅的去除
二氧化硅的去除随着工业生产的不断发展，二氧化硅作为一种重要的无机材料，被广泛应用于各个领域。
然而，在生产过程中，往往会产生大量的二氧化硅杂质，这些杂质的存在不仅会影响产品的质量和性能，还会对环境造成一定的污染。
因此，如何有效地去除二氧化硅成为了一个亟待解决的问题。
本文将介绍一种常见的二氧化硅去除方法——磁选法，并对其应用、原理、操作过程和优缺点进行阐述。
一、背景及简介二氧化硅是一种无色透明的晶体矿物，具有高硬度和高熔点等特点。
在生产过程中，由于各种原因，如原料不纯、工艺控制不当等，会导致二氧化硅杂质的大量产生。
这些杂质主要包括铁、铝、钙等金属氧化物以及一些非金属氧化物和盐类。
为了减少这些杂质对产品的影响，需要采取有效的去除方法。
目前，磁选法是常用的二氧化硅去除方法之一。
二、工作原理与设备磁选法主要是利用不同物质之间的磁性差异，通过磁场的作用进行分离。
具体来说，该方法是先将含有二氧化硅杂质的样品放入磁场中，使带磁性的杂质附着于磁性装置上（如磁棒或磁环），然后再将这些杂质去除。
这种方法的优点在于能够有效地去除金属氧化物和一些非金属氧化物，同时不会对二氧化硅本身造成损害。
磁选设备的选择和使用也十分重要。
一般来说，根据不同的生产规模和应用场景，可以选择不同类型的磁选机。
例如，对于小型实验室样品，可以使用手持式磁棒；而对于大规模生产，则应使用固定式的磁选机。
在使用前，需要对设备进行检查和维护，确保其正常运行。
三、操作流程与方法步骤1. 准备样品：首先需要选取适量的含有二氧化硅杂质的样品，并将其研磨成粉末状；2. 加入磁选剂：向样品中加入磁选剂（如水或其他溶剂），以增强杂质的吸附效果；3. 搅拌混合：用搅拌器将样品充分搅拌混合，以确保所有杂质都能均匀地吸附在磁性装置上；4. 分离净化：将带有杂质的磁性装置取出并进行清洗处理，最后得到纯净的二氧化硅产品。
四、实验结果与分析为了验证磁选法的有效性，我们进行了多次实验对比了传统化学法和磁选法对二氧化硅杂质的去除效果。
二氧化硅表面改性及其应用
二氧化硅表面改性及其应用二氧化硅是一种广泛使用的材料，其在各种应用中都起着重要作用，包括制备催化剂、电子材料、涂料、化妆品等等。
然而，二氧化硅纳米颗粒表面的缺点也就更加突出，例如硅氧键的可反应性差，容易出现聚集现象，从而影响其化学和物理性质。
为了克服二氧化硅表面的缺点，二氧化硅表面的修饰变得越来越重要。
在这里，我们将探讨二氧化硅表面改性及其应用。
首先，我们将讨论各种常见的二氧化硅表面改性方法，以及如何通过表面改性来提高材料的性能。
然后，我们将探讨二氧化硅表面改性在一些应用中的作用，例如在电子器件、涂料、化妆品等领域中的应用。
最后，我们将简要总结未来的发展方向和研究前景。
一、二氧化硅表面改性方法对于二氧化硅来说，改善其表面化学性质的方法包括物理、化学和生物化学方法等。
已经开发出了各种方法来改善二氧化硅纳米颗粒的表面化学性质，其中包括化学修饰和吸附等技术。
化学修饰是指在纳米颗粒表面化学键形成的同时，通过共价化学反应或其他方法来改善纳米颗粒表面化学性质。
例如，磺酸化二氧化硅纳米颗粒表面上的硅氧键被磺酸基取代，从而增加了其亲水性。
另一个例子是，使用羧酸等负离子表面活性剂来修饰二氧化硅纳米颗粒表面，从而增加纳米颗粒与其他材料的悬浮度、降低表面能。
吸附法是其中一种不进行化学反应的方法。
吸附剂在二氧化硅纳米颗粒表面上通过分子静电力与一定的化学反应而捆绑。
吸附剂的种类主要有金属离子、有机分子和聚合物。
例如，硅胶表面吸附上羧酸等表面活性剂后，可提高其对水的亲和力，增加其水解性能。
另外，还有物理和生物化学方法，如固相反应、离子交换和酶处理等方法。
这些方法也能有效地改善二氧化硅纳米颗粒表面的物理和化学性质。
二、二氧化硅表面改性的应用二氧化硅表面改性可以改善其物理和化学性质，从而使其在电子器件、生物医学、催化剂，涂料和化妆品等领域有广泛的应用。
在电子材料中，二氧化硅纳米颗粒经过表面修饰后，可用于制备电子材料如薄膜晶体管、LED、染料敏化太阳能电池以及半导体领域的其他应用。
二氧化硅最简单处理方法
二氧化硅最简单处理方法“哎呀，这二氧化硅可真是让人头疼啊！”我一边看着手里的含有二氧化硅的东西，一边自言自语着。
我最近在研究一些日常物品的成分，发现二氧化硅还真是无处不在。
这东西虽然看似普通，但处理起来还真得讲究方法呢。
那二氧化硅最简单的处理方法是什么呢？别急，听我慢慢道来。
首先啊，我们得准备好一些工具，比如口罩，这可是很重要的，可不能让那些二氧化硅的粉尘跑进我们的呼吸道呀！然后就是手套，保护好我们的小手。
接下来就是处理步骤啦。
如果是比较少量的二氧化硅，比如在一些小物品上，我们可以用小刷子轻轻刷掉。
但这里要注意啦，动作一定要轻，可别把东西给弄坏了。
要是二氧化硅比较多，或者是在一些比较大的物品上，那我们就得采取更“厉害”的办法啦。
可以用清水先冲洗一下，把能冲掉的先冲掉，然后再用一些专门的清洁剂来处理。
“嘿，这样真的能行得通吗？”朋友在一旁疑惑地问。
“放心吧，肯定没问题的。
”我信心满满地回答。
这二氧化硅的处理方法在生活中的应用场景可多了去了。
就拿我们日常用的玻璃杯来说吧，有时候上面会有一些二氧化硅的痕迹，用我刚刚说的方法就能轻松处理掉，让杯子焕然一新。
还有一些陶瓷制品，也经常会有二氧化硅的存在，处理好了就能让它们更加美观。
我记得有一次，我家里的一个摆件上有很多二氧化硅的斑点，看着特别碍眼。
我就按照这些步骤去处理，嘿，还真别说，处理完之后那个摆件就跟新的一样，让我特别有成就感。
“哇，真的好厉害啊！”朋友看到处理后的效果忍不住赞叹道。
当然啦，在处理二氧化硅的时候也有一些要注意的地方。
比如一定要做好防护措施，别让自己受伤。
还有就是要根据不同的物品选择合适的处理方法，可不能盲目乱来哦。
总之呢，二氧化硅并不可怕，只要我们掌握了正确的处理方法，就能轻松应对。
大家也快去试试吧，让我们的生活更加干净整洁！不用再为二氧化硅而烦恼啦！。
二氧化硅光子晶体的合成及其应用研究
二氧化硅光子晶体的合成及其应用研究近年来，随着纳米技术的飞速发展，人们对光子晶体的研究也越来越深入。
而其中一种极具潜力的材料——二氧化硅光子晶体，其合成方法及应用领域也逐渐受到了关注。
一、二氧化硅光子晶体的合成方法1. 溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是制备二氧化硅光子晶体最常用的方法之一。
其主要步骤是，将硅烷类溶液制成溶胶，在高温条件下加入酸催化剂，使溶胶凝胶化。
之后，将凝胶进行溶胀处理，使其形成孔道结构，最终通过干燥和烧结等工艺，制得二氧化硅光子晶体。
2. 光刻法光刻法是通过光敏材料，结合光刻机和紫外线光源，精确地制造出光子晶体结构的一种方法。
先将光敏材料涂覆在基底上，再通过特定的光刻图形，使某些区域被曝光、固化，而未曝光区域得以保留。
最后通过化学蚀刻等过程，制得光子晶体。
二、二氧化硅光子晶体的应用研究1. 传感器由于二氧化硅光子晶体在近红外光谱范围内具有很强的衍射效应，因此可用于制备高灵敏度的光子晶体传感器。
传感器根据待检测物的特性，可在光子晶体孔道中添加特定的识别层。
当待测物与识别层分子特异性结合时，会引起光子晶体孔道尺寸的变化，从而改变衍射光信号的特性，最终实现对于待测物的检测。
2. 治疗药物的控制释放利用光敏剂敏化二氧化硅光子晶体孔道，制备出具有光控释放功能的纳米药物载体。
在外界光源照射下，光敏剂的激活可以引起药物的释放，从而实现对于药物释放速率的调节。
这种方法具有精准控制、可逆控制等优点，可用于治疗多种疾病，例如癌症、糖尿病等。
3. 光子晶体激光二氧化硅光子晶体中的孔道结构，可通过改变孔道形态和大小，来调节其光学性能，从而实现对于激光波长和强度的精准控制。
因此，光子晶体激光器具有波长可调、高光学稳定性、低阈值、高效能等优点，可在激光学、通信、生物医学等领域中得到应用。
综上所述，二氧化硅光子晶体的合成方法和应用研究具有广泛的前景和潜力。
随着纳米技术和光子学的不断发展，相信二氧化硅光子晶体将在未来的研究中得到以更加强大和广泛的应用。
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二氧化硅处理成纳米级二氧化硅及二氧化硅的
表面改性的处理方法
表面改性球形二氧化硅的制备与表征
球形二氧化硅在涂料、催化、色谱填料、感光乳剂、高性能陶瓷及集成电路塑封填料等方面都有广泛应用。
表面改性的疏水二氧化硅因具有较强的非极性相互作用，在反相固体萃取填料及高聚物体系性能补强等方面得到重要应用。
球形二氧化硅的液相反应法制备主要包括溶胶—凝胶法［1~4］和微乳液法［5~6］。
溶胶—凝胶法通常以有机硅醇盐如正硅酸乙酯（TEOS）为原料，用碱或酸作催化剂，在醇或醇水介质中通过水解反应制备。
微乳液法则是以TOES或NaSiO2为原料，在反向微乳液（W／O）提供的微反应器中通过水解聚合反应合成。
溶胶—凝胶法中，反应溶剂的种类、催化剂的种类和浓度、相关反应物浓度及比例等因素都会影响水解和成胶反应过程，从而影响最终所得二氧化硅颗粒的形貌、粒度分布和颗粒间的聚集状态。
研究这些影响因素对颗粒的调控作用对拓宽颗粒粒径的选择范围具有重要的意义。
本研究以TEOS为硅源，在醇水混合溶剂中以氨作催化剂，通过溶胶—凝胶法制备二氧化硅球形颗粒，并以十八烷醇作为改性剂，通过酯化反应对二氧化硅进行表面修饰改性。
研究了成胶反应中TEOS浓度对二氧化硅颗粒粒径的影响，并用TEM、XPS、IR、TG-DTG等实验手段对所得产品进行了表征。
一、实验部分
1、1 试剂
TEOS、无水乙醇、氨水、三氯甲烷、环己烷均为分析纯，使用前未经进一步纯化。
1、2 制备方法
按一定比例配制TEOS和无水乙醇的混合溶液，室温（25℃）搅拌下将该混合液滴加到含有一定量浓氨水的无水乙醇溶液中，控制反应体系的PH值约为8，继续搅拌2h后，将其转移到装有搅拌的三口瓶中，加入一定量的十八烷醇和正丁醇，进行蒸馏。
当蒸汽温度上升到118℃后，停止蒸馏。
通氮气保护下将反应体系加热至反应温度200~210℃，继续搅拌加热3h,后，将反应液趁热转移到烧杯中，加入一定量的以3:2的体积比混合而成的三氯甲烷和环己烷的溶液，搅拌均匀并使其完全溶解。
将上述混合液转入离心管中，在转速为1500r／min下离心分离10min，然后在水浴中加热，再离心10min，将上清液弃去，往含沉淀的离心管中再加入等量的三氯甲烷和环己烷的混合溶液，按上述操作再离心分离两次。
将离心后所得的产品从离心管中取出，放在表面皿中自然干燥后即得产品。
1、3样品表征
用NETZS STA 409 PC/PC热分析仪测定样品的热重曲线，实验条件为：升温速率10℃/min分析气氛为空气，流速30mL/min用Joel JEM-2010型透射电子显微镜（TEM）观察颗粒形貌和尺寸，样品先分散在环己烷中，然后用滴加到有非晶碳膜的铜网上，于空气中晾干后进行电镜分析。
用Nexus 470型红外光谱
仪测定红外光谱（IR），样品采用溴化钾压片。
样品的L射线光电子能谱（XPS）,在AX-IS UITRA型光电子能谱仪上进行测定。
W／O型微乳液法制备纳米二氧化硅选择适当的乳化剂和水解温度，控制水与乳化剂的物质的量比，采用W／O 型微乳液法在聚醚多元醇中通过正硅酸乙酯的水解、缩合反应合成了纳米二氧化硅。
红外光谱、透射电子显微镜观察，纳米二氧化硅粒子呈球状且分散，粒径分布在50～70nln。
通过实验得知，反应时间2h，24mL聚醚多元醇中正硅酸乙酯的用量0．9～3．6mL，在10min内滴加完毕，能达到最佳反应效果。
制备方法：按聚醚多元醇、水、表面活性剂的体积比为24：I．5：0．8配制微乳液，即先在聚醚多元醇中加入适量十二烷基苯磺酸钠水溶液，在55℃的水浴中慢速搅拌下缓慢滴加有机硅表面活性剂，直至混合物形成清澈透明的微乳液，再向其中加入适量的乙二胺，使乙二胺在微乳液中均匀分布，体系的pH为8～9。
以一定速度向微乳液中滴加正硅酸乙酯，混合物逐渐变为晶莹透亮，且略带蓝色乳光，经过2h反应后制得纳米二氧化硅。
溶胶一凝胶法制备纳米二氧化硅
1实验部分
1．1实验试剂与表征
正硅酸四乙酯、无水乙醇、去离子水、氨水、草酸或盐酸。
通过日本日立公司产的H一800透射电子显微镜(TEM)对二氧化硅的粒径大小、分散度进行表征。
该透射电镜的最高加速电压为220kV，分辨率为0．2lqm，最大放大倍数为600000。
1_2实验原理
Si-OR+HOH-+Si-OH+ROH
Si-OR+H0一Si—+Si-O-Si+ROH
Si一0H+H0一Si—÷Si一0一Si+HOH
1．3制备过程
首先将正硅酸四乙酯、乙醇、去离子水按体积比1：2：2的配比制成清澈透明溶液，然后将溶液升温至70％搅拌1．5h，再在溶液中分别加入适量的催化剂。
继续搅拌1h后形成不同的乳白色凝胶，然后在空气中陈化几天或几星期，然后经干燥数小时后，形成千凝胶、研磨成凝胶粉，经马弗炉高温焙烧1-2h后，得到SiO2粉末。
水解法制备纳米二氧化硅和表征
1实验部分
1．1原料与仪器
原硅酸四乙~(TEOS)，Acros公司；氨水，分析纯；HITACHIH．600(透射电子显微镜)，日本日立公司；傅立叶红外光谱仪，EQUINO55型，德国BRUKE公司；恒流泵(BT00．1o0M)，保定兰格恒流泵有限公司；Malvem 2000粒度测定仪Malvem仪器公司；ESCALabMK2型光电子能谱仪，英国。
1．2制备方法
在带电磁搅拌的锥型瓶中加入50g无水乙醇、1～5g氨水，然后用不同配比的乙醇TEOS溶液从恒流泵中滴加到锥型瓶中，控制滴加速度0．025~0．15ml／min
和搅拌转速50~400r／min，使TEOS水解生成纳米二氧化硅。
用动态光散射法、TEM测定其粒径大小。
然后将含有纳米二氧化硅的醇溶液在真空烘箱内干燥，分离最后得到固态纳米二氧化硅。
实验的基本条件为pH值8．2、搅拌速度为50r／min、滴加速度为0．025ml／min、滴加时间为400min。
1．3纳米二氧化硅的表征
1．3．1TEM将乳液稀释后用磷钨酸负染，涂于铜网上自然干燥后，放人仪器中观察粒子形态。
1．3．2动态光散射用动态光散射法测定二氧化硅粒子大小，测试温度是25~C，在每次测试前用去离子水稀释样品至合适浓度，数据由软件自动计算生成。
1．3．3元素分析采用ESCALab咖型光电子能谱仪测试进行元素分析，x射线源为MgK．AIphas射线，有效探测深度50～100埃，样品为薄膜，所有测试采用45。
发射角，样品测试深度为50埃。
1．3．4红外光谱分析对固态纳米二氧化硅用溴化钾压片制样。
1实验部分
1、1。