Al2O3模板法制备TiO2薄膜
双模板法制备TiO2
随着人类社会 的发展 ， 环境 污染 已成为世界性
。
收稿 日期 ：０ ２— ７— ２ ２１ ０ ０
作者简介 ： 李祥 （ ９ ３ ） 男 ， １６ 一 ， 山西寿 阳人 ， 副编审 ， 学士 ， 主要从事化学及编辑学研究 。
的问题 ， 环境 治理 已成 为 各 国 可 持续 发 展 所 面 临 的 首 要 问题 。纳米 ＴＯ 光 催化 活性 高 ， 有 很强 的氧 ｉ 具
复性高 、 成本低 ， 但稳定性差 ， 有序性差。比较成熟 的有 ： 固体生 物组 织模 板、 生物膜 模板 、 白质及 蛋 Ｄ Ａ模板、 Ｎ 微生物模板、 直接生物矿化模板等。 化一 还原能力 ， 可分解大部分有机污染物 ， 化学稳定 ３ 双模 板 法制 备 ＴＯ （ Ｐ） ｉ Ｍ 性好 ， 价格便宜 ， 无毒 。因此 ， 纳米 ＴＯ 光催化 降 ３ １ ＴＯ （ ） “ ｉ： ． ｉ２ＭＰ 的制 备 解水中的污染物的研究 已成为环境科学领域的一个 将雪松木条切成 １Ｏｍ×０ ５ｍ× ．ｃ ．ｃ ．ｃ ０ ５ｍ薄切 热点 ， 被认 为是 最有 前 途 、 有 效 地 处理 方法 之 片 ， １ ｏ Ｌ盐 酸 中浸 泡 １ｈ 在 此过 程 中要 将 切 最 在 ｍｌ ／ ２， ”ｌ ］ １ 化学模板法制 备的材料结构形貌单 一、 稳 片进行超声至少三次 ， 每次 ３ｒ ｎ 右。用蒸馏水 ０ ｉ左 ａ 定性好 、 成本高、 有序性好 ， 生物模板法制备的材料 反复洗 切 片 之后 ， 在 １ ｌ 水 中浸 泡 １ｈ 在 此 再 ｍｏ 氨 ２， 结构 形 貌 多 样 、 富 、 复性 高 、 本 低 、 稳 定 性 过程 中要 将 切 片 进 行 超 声 三 次 ， 次 ３ ｍｎ左 右 。 丰 重 成 但 每 ０ｉ 差， 有序性 差 。利用 化 学 模 板 和 生 物 模 板 相 结 合 的 再用蒸 馏水 反 复清 洗 切片 ， 清洗边 超声 ， 到取 出 边 直 办法可以制备稳定性好、 有序性好、 形貌多样、 丰富、 的洗 液遇 硝酸银 没 有 白色 沉淀 。 重复性高、 成本低的 ＴＯ 。 ｉ： 取上述所得松木在 ６ ℃下烘干 ， ０ 将松木浸泡在 １ 化学 模板 制备 ＴＯ ｉ 纯异丙醇中 ， 超声至少三次 ， 每次 ３ｒｎ ０ ｉ左右。直到 ａ 用 化学 的方 法来 制 取 材 料 的方 法 叫化 学模 板 。 取出的异丙醇溶液加入一滴异丙氧基钛 （１Ｐ 不 １１ ） 目前合成 ＴＯ 的一般方法 主要用 如磷酸胺盐类 、 产 生 白色 沉 淀 。 ｉ： 离子或非离子表面活性剂 、 嵌段聚合物等作为模板。 取 上述 所得 的松 木 切 片放 人 ５ ｍＬ＇ Ｉ、０ ｍ Ｉ Ｐ １０ Ｌ Ｔ “ 在脱除模板剂时 ， 在较高温度下 焙烧容易使介孔 无水乙醇和 Ｐ ２ １３混合 溶液 中避光搅拌 ２ ｈ后 回流 ４ 结构坍塌 ， 在较低温度下焙烧虽能维持孔结构 ， 但往 ２ ｈ。 往模 板剂脱 除不 彻底 ， 这极 大 地 限制 了 ＴＯ 的实 际 ｉ： 将 回流 所得 的松 木 切片 放人 ５ Ｌ水和 ５ ｍ ｍ ０ Ｌ无 应用” －使用化学模板制备 ＴＯ 材料普遍较贵， 。 ２ ｉ： 且 水 乙醇 溶液 中水 解 ２ 。若 切 片 表 面有 白色沉 淀 ， ｈ 则 用 蒸馏水 冲洗后 在 ６ ℃下 烘干 。 Ｏ 工艺复杂 ， 这制约 了其在催化领域的广泛应用。 ２ 生物模 版制 备 ＴＯ ｉ， 将 上述 所得 松木 切 片 放人 马弗 炉 内 ４ ０Ｃ灼 烧 ５￣ ２ 世纪 ９ Ｏ ０年代 以来 ， 出现 了一种模仿生物矿 ６ ， ｈ直到切片没有黑色物质即可得 目 标产物， 标记为 化中无机物在有机物调制下形 成过程 的新 合成方 ＴＯ （ ） ｉ２ＭＰ 。 法——仿生合成 。“ 年来 ， 关生物矿 化的研究 ３２ ＴＯ （ ） 近 有 ． ｉ２ＭＳ 的制备 更加引人注 目， 其主要原 因是该领域具有 明显的学 将雪松木条切成 １Ｏ ｍ× ．ｃ ０５ ｒ薄切 ． ｃ ０ ５ｍ× ．ｅ ａ 科交叉与渗透特点 ， 它处于生命科学与无机化学、 生 片 ， １ ｏ Ｌ盐酸 中浸泡 １ｈ 在此过程中要将 切 在 ｍｌ Ｖ ２， 物 物理学 和材 料科 学 的交 汇 点 ， 为 重 要 的是 它 为 片进行超声至少三次 ， 更 每次 ３ ｍｎ左右。用蒸馏 水 ０ｉ 人工合成具有特殊物理及化学性能材料和生物智能 反 复洗 切 片 之 后 ， 在 １ ｏ Ｌ氨水 中浸 泡 １ｈ 在 再 ｍｌ ／ ２， 材料提供 了一种新 的思 路 ， 符合 环保 对材 料 的要 此过程中要将切片进行超声三次 ， 每次 ３ｍ ｎ ０ ｉ 左右 。 求” ［ 。】 再用蒸馏水反复清洗切片， 边清洗边超声 ， 直到取出 生物模板法制备 的材料结构形貌多样、 丰富、 重 的洗液遇硝酸银没有 白色沉淀。
铝基阳极氧化铝模板水热法制备TiO_2纳米管阵列
催化学报
Chi nese Jour nal of Cat alysis
2008 年 8 月 August 2008
研究快讯: 680~ 682
铝基阳极氧化铝模板水热法制备 TiO2 纳米管阵列
李 纲, 刘中清, 颜 欣, 张 昭
图 1 是采用两步阳极氧化法所得 AAO 模板的 F E- SEM 照片. 图 1( a) 显示, AAO 模板的表面为连 续的类椭圆形多孔状, 孔径分布范围大致在 135~ 370 nm, 平均孔径约 250 nm, 壁厚约 55 nm. 孔较 均匀地分布在整个表面, 未出现孔的穿蚀合并现象. 断面照片( 图 1( b) ) 表明, 孔呈管状特征, 管与管之 间共用管壁, 相邻管间具有相互平行的孔道, 管长约 9 Lm. 从图 1( b) 还可以看出, 在局部区域存在管道 交叉 现 象, 这可 能 与电 解 液的 温 度较 高 有 关 ( 23 e ) . 因为较低的电解液温度有利于制备出孔径均 匀、孔道相互平行的 AA O 模板[ 9] .
化活性的锐钛矿晶型, 必须在高于 400 e 的温度下 晶化热处理.
本文以铝基 AA O 膜为模板, 在( NH 4) 2T iF6 的 水溶液中, 通过水热处理在铝基底上制备出了具有 结晶形态的 T iO2 纳米管阵列.
采用两步阳极氧化法制备 AAO 模板. 将高纯 铝片 ( 纯 度 991999% , 厚度 015 mm ) 线 切割成 30 mm @ 20 mm 的矩形片, 于 500 e 退火 4 h 以消除 残余内应力. 经过无水乙醇除油、氢氧化钠除氧化 膜及蒸馏水清洗等步骤后, 在无水乙醇和 H ClO4 的 混合液( 体积比 4B1) 中进行电化学抛光. 然后在常 温( 23 e ) 下, 以 30 g/ L H3PO 4 为电解 液, 120 V 恒压阳极氧化, 氧化时间为 1 h. 将一次氧化过的铝 片在 118% H2CrO4 和 610% H3PO 4 混合溶液( 体积 比 1B1) 中浸泡 16 h, 去除表面第一次氧化形成的 氧化膜. 将除膜后的铝片第二次阳极氧化, 氧化条 件与第一次相同, 只是将氧化时间延长至 2 h. 最后 在 30 e 的 510% H 3PO4 溶液中扩孔 10 min, 获得 AAO 模板.
TIO2实验报告
材料物理综合实验报告实验题目：TiO2薄膜的制备和微细加工文献综述：选择钛酸丁酯作为前驱物，用无水乙醇作为溶剂，乙酰丙酮作为螯合感光薄膜；利用薄膜的紫外感光特性，结合剂，利用溶胶-凝胶法法制备 TiO2微细图形；微细图形结构及形貌分掩膜曝光技术紫外掩膜辐照光刻法制备 TiO2析表征一、实验过程1.溶胶制备向容器中依次加入样品，磁力搅拌2.5h至完全溶解，恒温箱室温陈化48h得到溶胶TiO2钛酸丁酯乙酰丙酮无水乙醇摩尔比 1 2 40质量 1.0927g 0.6416g 5.4213g2.提拉镀膜a) 用蘸有无水乙醇的纸巾将硅片擦拭清洗干净后，夹在提拉机的夹子上晾干，设置提拉机的参数（提拉速度，浸入时间，悬面距离）进行提拉镀膜。
实验中应特别注意防止夹子与装有溶胶瓶子的内壁以及液面接触，防止污染溶胶。
b) 将提拉出来的凝胶膜另一面用蘸有无水乙醇的纸巾擦去，注意不能碰及另一面的薄膜，实验过程设定不同的提拉速度，主要是为了得到较好的薄膜（提拉速度越快，膜越厚）。
c）将上述硅片放入干燥机中100摄氏度烘干45s（有膜的一面朝上）可缩短曝光时间，完毕后把有膜的一面倒放在特定的坩埚上3.光刻选取上述制得的较为美观的硅片，用光栅遮挡，用紫外点光源曝光400s，立即在无水乙醇中快速清洗，从上往下吹干，利用金相显微镜对制得的细微图形进行观察4.热处理在马弗炉中进行热处理，热处理过程：初始温度升高至100℃后保持15min，由100℃升高至200℃后保持15min，由200℃升高至300℃后保持15min,由300℃升高至400℃后保持15min最后自然冷却至室温（结束需设置-121），取出，薄膜进行观察利用金相显微镜对制得的TiO2二、实验数据表格1样品用量钛酸丁酯乙酰丙酮无水乙醇摩尔比 1 2 40质量 1.0927g 0.6416g 5.4213g 未经退火的不同放大倍数的一维阵列退火后的不同放大倍数的一维阵列三、实验分析与结论1.利用金相显微镜得到上面一维阵列图，可以看出，经过曝光的薄膜被完整的保留了下来，而暗区的薄膜则基本被溶洗掉。
TiO2薄膜制备与性能解读
目录中文摘要 (1)英文摘要 (2)1 绪论 (3)2 国内外研究文献综述 (5)2.1 TiO的结构 (5)2薄膜亲水性原理 (5)2.2 TiO2薄膜结构及其性能的影响 (6)2.3 相关参数对TiO22.3.1 晶粒尺寸 (6)2.3.2 结晶度和晶格缺陷 (6)2.3.3表面积和表面预处理 (6)2.3.4 表面羟基 (6)2.3.5 薄膜厚度 (7)3 实验部分 (8)3.1 实验系统介绍 (8)3.2 衬底的选择及清洗 (9)薄膜的实验步骤 (9)3.3 直流磁控溅射制备TiO23.4 亲水性测试 (9)4 实验结果及参数讨论 (10)薄膜的工作曲线的影响 (10)4.1 氧流量对TiO24.2 溅射功率的选择及其对薄膜的性能影响 (11)4.3 总气压对薄膜性能的影响 (13)4.4 氧氩比对薄膜亲水性的影响 (13)4.5 基片温度对薄膜性能的影响 (14)4.6 热处理对薄膜性能的影响 (16)结论 (18)谢辞 (19)参考文献 (20)直流磁控溅射法制备TiO2薄膜摘要：本文利用直流磁控溅射法在不同条件下制备玻璃基TiO2薄膜样品，并检测了薄膜的超亲水性。
研究了沉积条件例如溅射总气压，氧气和氩薄膜最佳性气的相对分压，溅射功率，基片温度和后续热处理对TiO2薄膜是无定型且能的影响。
实验结果显示：在较低温度下沉积的TiO2亲水性较差。
相反，在4000C到5000C范围内退火过后，薄膜表面呈现超亲水性能。
本文在实验中获得的最佳制备条件为：溅射功率为94 W，溅射气压在2.0Pa，氧氩比是2:30，基片温度为400 0C，最后在空气气氛中退火，温度为4500C。
关键词：直流磁控溅射；TiO2薄膜；超亲水性；退火温度Preparing TiO2 Films by DCReactive Magnetron SputteringAbstract: In this paper TiO2films are deposited on the glass substrates by DC reactive magnetron sputtering at different conditions. Super hydrop-hilicity of TiO2 thin film has been examined.The influences of thedeposition such as the total sputtering gas pressure，their relativeoxygen and argon partial pressure,sputtering power,substrate temper-atrue and post-annealing temperature on the optimum performanceof the TiO2 thin film are studied. The results showed that the TiO2thin film sputtered at low temperature is amporphous and has arather poor hydrophilicity.In contrast,annealed at a temperature ran-ging from 400 0C to 500 0C,super hydrophilicity of the anataseph-ased TiO2film can be observed.The best conditions obtained arethat sputtering power is 94 W,sputtering pressure is 2.0 Pa,oxygenargon ratio is 2:30,substrate temperature is 4000C and annealing temperature in air atmosphere is 4500C.keywords:reactive magnetron sputtering;TiO2 thin film;super hydrophilicity;annealing temperature1 绪论TiO2有独特的光学、电学及化学性质，已广泛用于电子、光学和医学等方面。
TiO2薄膜制备与性能
-目录中文摘要 (2)英文摘要 (3)1 绪论 (4)2 国外研究文献综述 (6)2.1 TiO2的结构 (6)2.2 TiO2薄膜亲水性原理 (6)2.3 相关参数对TiO2薄膜结构及其性能的影响 (7)2.3.1 晶粒尺寸 (7)2.3.2 结晶度和晶格缺陷 (7)2.3.3表面积和表面预处理 (7)2.3.4 表面羟基 (7)2.3.5 薄膜厚度 (8)3 实验部分 (9)3.1 实验系统介绍 (9)3.2 衬底的选择及清洗 (10)3.3 直流磁控溅射制备TiO2薄膜的实验步骤 (10)3.4 亲水性测试 (10)4 实验结果及参数讨论 (11)4.1 氧流量对TiO2薄膜的工作曲线的影响 (11)4.2 溅射功率的选择及其对薄膜的性能影响 (12)4.3 总气压对薄膜性能的影响 (14)4.4 氧氩比对薄膜亲水性的影响 (14)4.5 基片温度对薄膜性能的影响 (15)4.6 热处理对薄膜性能的影响 (17)结论 (19)辞 (20)参考文献 (21)直流磁控溅射法制备TiO2薄膜摘要：本文利用直流磁控溅射法在不同条件下制备玻璃基TiO2薄膜样品，并检测了薄膜的超亲水性。
研究了沉积条件例如溅射总气压，氧气和氩气的相对分压，溅射功率，基片温度和后续热处理对TiO2薄膜最佳性能的影响。
实验结果显示：在较低温度下沉积的TiO2薄膜是无定型且亲水性较差。
相反，在4000C到5000C围退火过后，薄膜表面呈现超亲水性能。
本文在实验中获得的最佳制备条件为：溅射功率为94 W，溅射气压在2.0Pa，氧氩比是2:30，基片温度为400 0C，最后在空气气氛中退火，温度为4500C。
关键词：直流磁控溅射；TiO2薄膜；超亲水性；退火温度Preparing TiO2 Films by DCReactive Magnetron SputteringAbstract: In this paper TiO2films are deposited on the glass substrates b y DC reactive magnetron sputtering at different conditions. Super hydrop-hilicity of TiO2 thin film has been examined.Theinfluences of the deposition such as the total sputtering gaspressure，their relative oxygen and argon partial pressure,sputtering power,substrate temper-atrue and post-annealing temperature on the optimum performance of the TiO2 thin film are studied. The results showed that the TiO2 thin film sputtered at low temperature is amporphous and has a rather poor hydrophilicity.In contrast,annealed at a temperature ran-ging from 400 0C to 500 0C,super hydrophilicity of the anataseph-ased TiO2film can be observed.The best conditions obtained are that sputtering power is 94 W,sputtering pressure is2.0 Pa,oxygenargon ratio is 2:30,substrate temperature is 4000C and annealing temperature in air atmosphere is 4500C. keywords:reactive magnetron sputtering;TiO2 thin film;super hydrophilici ty;annealing temperature1 绪论TiO2有独特的光学、电学及化学性质，已广泛用于电子、光学和医学等方面。
多孔SiO2-TiO2复合薄膜的制备及研究
凝胶技术 ，通过 简单提拉迅速 蒸发溶剂 、后期热处理去除表 面活性剂的方法制备 出具有 纳米结构的有机掺
多孔 ＴＯ 一 ｉ： ｉ２ Ｓ 复合光 学薄膜．利用红外光谱 （ ）研 究掺 杂薄膜表 面结构特征 ；用 Ｓ Ｍ 观察 薄膜表 面形 Ｏ Ｉ Ｒ Ｅ
貌 ；紫外分光光度计 Ｕ Ｖ Ｓ—ＮＲ研 究不同实验 条件 下制备 的复合 薄膜 吸收透过 性的影响． Ｖ— Ｉ Ｉ 关键词 ：多孔 ；氧化钛 一氧化硅复合薄膜 ；表 面活性剂 ；有机掺 杂 中图分类号 ：Ｔ ５ ５ Ｍ ３
ｕ ｅ ｏ ｃ ａ ａ ｔ ｒ ｅ ｔｅ ｏ ｔ ａ ｒ ｐ ｒ ｅ ｎ ｕ ｆ ｃ ｃ ｏ ｔ ｅ ｕ ｅ ｏ ｅ ｆ ｍ． ｓ ｄ ｔ ｈ ｒｃ ｅ ｉ ｈ ｐ ｉ ｌｐ ｏ ｅ ｔ ｓａ ｄ ｓ ｒ ｅ ｍｉｒ ｓｒ ｔ ｒ ｆｔ ｌ ｚ ｃ ｉ ａ ｕ ｈ ｉ Ｋｅ ｒ ｓ ｏ ｏ ｓｔ ａ ｉ ｍ —ｓｌ ａ ｄ ｏ ｉ ｅ ｃ ｍｐ ｓ ｅ ｆ ｍｓ ｕ ｆｃ ａ ｔ ｒ ａ ｉ ｙ ｗｏ ｄ ：ｐ ｒ ｕ ｉ ｎｕ ｔ ｉ ｃ ｉｘ ｄ ｏ ｏ ｉ ｌ ；ｓ ｒ ｔ ｎ ；ｏ ｇ ｎｃ—ｄ ｐｎ ｉ ｔ ｉ ａ ｏ ｉｇ
（ ．嘉兴 学 院机 电工程学 院 ，浙 江嘉 兴 ３ ４ ０ ； ．井 冈山大 学 附属 中学 ，江西 吉安 ３ ３ ０ ） １ １０ １ ２ ４ １０
Tio2薄膜的制备
新能源综合报告实验题目:Tｉｏ2薄膜得制备与微细加工学院：物理与能源学院专业:新能源科学与工程学号：1350320汇报人:指导老师：王哲哲一、预习部分(课前完成）〔目得〕：1、用溶胶—凝胶法制备Ｔio２光学薄膜。
2、学习紫外掩膜辐照光刻法制备Tio２微细图形。
3、微细图形结构及形貌分析。
〔内容〕1、了解溶胶凝胶制备薄膜得原理。
2、了解常见得微细加工得方法。
3、充分调研文献资料，确定实验方案。
4、实验制备与数据分析。
①、制备出感光性得Tio２薄膜凝胶，掌握制备工艺。
②、对Tio2凝胶薄膜进行紫外掩膜辐照.③、制备出Tio2微细图形并进行热处理.④、测试Ｔiｏ2微细图形得结构与形貌特征,处理并分析数据.〔仪器〕：(名称、规格或型号）紫外点光源、马沸炉、提拉机、光学显微镜、磁力搅拌器、紫外可见光分光光度计、提供制备Tio2材料得前驱物,溶剂等。
二、实验原理1、Tio2得基本性质Tio2俗称太白粉，它主要有两种结晶形态:锐钛型与金红石型,其中锐钛型二氧化碳活性比金红石型二氧化钛高.特点:它就是一种ｎ型半导体材料，晶粒尺寸介于1～100nm,TｉO2比表面积大，表面活动中心多,因而具有独特得表面效应、小尺寸效应、量子尺寸效应与宏观量子隧道效应等,呈现出许多特有得物理、化学性质。
应用:在涂料、造纸、陶瓷、化妆品、工业催化剂、抗菌剂、环境保护等行业具有广阔得应用前景,TiO２半导体光催化剂因光催化效率高、无毒、稳定性好与适用范围广等优点而成为人们研究得热点。
纳米ＴｉO2得制备方法：物理制备方法：主要有机械粉碎法、惰性气体冷凝法、真空蒸发法、溅射法等；物理化学综合法:又可大致分为气相法与液相法。
目前得工业化应用中，最常用得方法还就是物理化学综合法。
2、溶胶－凝胶法得基本概念溶胶：就是指微小得固体颗粒悬浮分散在液相中,并且不停地进行布朗运动得体系.由于界面原子得Gｉbbs自由能比内部原子高，溶胶就是热力学不稳定体系.溶胶分类:根据粒子与溶剂间相互作用得强弱，通常将溶胶分为亲液型与憎液型两类.凝胶：就是指胶体颗粒或高聚物分子互相交联，形成空间网状结构,在网状结构得孔隙中充满了液体（在干凝胶中得分散介质也可以就是气体）得分散体系.对于热力学不稳定得溶胶,增加体系中粒子间结合所须克服得能量可使之在动力学上稳定。
酵母菌生物模板法制备TiO2
２ ．河 北科 技 大 学 河 北 省 污 染 防 治 生 物技 术 实验 室 ，河 北 石 家庄
摘
要 ：以酵 母 菌 为 生 物 模 板 ， 利 用 水 热 合 成 法 制 备 Ｔｉ ０ 。在模 板 剂添 加 量 为 ５ ． ０ 、 水 热 合 成 温 度 为
１ ４ ０ ℃、 水热合成时间为 ４ ． ５ ｈ 、 煅烧温度 为 ３ ５ ０ ℃、 煅烧 时间为 ３ ． ０ ｈ的制 备 条 件 下 ， 所 制 备 的 Ｔｉ Ｏ ｚ 与 未 添 加
！ 墨 墨 ！ Ｑ ： 曼
Ｃ Ｎ１ １ — ２ ０ ３ ４ ／ Ｔ
实
验
技
术
与
管
理
第 ３ ４卷
第 ３ 期
２ ０ １ ７年 ３月
Ｅｘ ｐ ｅ ｒ ｉ ｍｅ ｎ ｔ ａ ｌ Ｔｅ ｃ ｈ ｎ ｏ ｌ ｏ ｇ ｙ ａ ｎ ｄ Ｍａ ｎ ａ ｇｅ ｍｅ ｎｔ
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酵 母 菌 生物 模板 法 制备 Ｔ ｉ Ｏ ２
孙 文 会 。 ，岳 琳 ， 段 二 红 ，罗 晓 。 ， 廉 静 ｈ 。 ，杨 勤 。
（ １ ．河 ０ ０ １ ８ ；
０ ５ ０ ０ １ ８ ）
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电解制备二氧化钛薄膜的研究
电解制备二氧化钛薄膜的研究二氧化钛（TiO2）是一种重要的半导体材料，具有多种优良的物理化学性能，如稳定性、硬度等，因此被广泛应用于光电子器件、太阳能电池、储能设备等领域。
制备 TiO2 薄膜的方法中，电解法是一种简单易行的制备方式。
在这种方法中，电极表面通过电极化学反应生成 TiO2 薄膜。
本文将介绍 TiO2 薄膜的电解制备方法及其研究进展。
一、TiO2薄膜的电解制备方法1、传统的电化学沉积法传统的电化学沉积法是将电极浸入含有钛盐的电解液中，通过施加电压使电极表面发生电化学反应，生成二氧化钛。
其中钛盐可以是 TiSO4、 TiCl4、Ti(CH3COO)4 等。
在这种方法中，电极表面的生成情况与电极材料、电场强度、电解液浓度、温度等因素有关。
2、阳极氧化法阳极氧化法是一种简单、快速、低成本的TiO2 薄膜制备方法。
在这种方法中，将钛制品放入电解液中作为阳极，加上外部直流电源施加电压，通过电解反应在钛制品表面形成 TiO2 陶瓷膜。
该方法可以得到高品质的 TiO2 膜，并且可以通过调节电解液成分和工艺参数来控制膜的厚度和组成。
3、阴极反应生长法阴极反应生长法将TiO2 的制备完整依托于阴极反应。
通过调节电解液的组成和形成条件，实现在阴极表面上定向沉积 TiO2 薄膜。
通过选择筛选合适的阴极表面材料和制备条件，可以实现制备具有优异性能的 TiO2 薄膜。
二、电解制备 TiO2 薄膜的发展现状电化学沉积法是一种较早研究的 TiO2 薄膜制备方法，已经成为了一种比较成熟的技术方案。
历经多年的研究，目前已经有了一些较为久负盛名的学者，如Cowper 、Haynes 等，他们对电化学沉积法的机理进行了深入的研究，并取得了诸多可喜的研究成果。
阳极氧化法相比于传统的电化学沉积法有更多的应用前景。
阳极氧化法以便宜易得的钛制品作为原材料，通过阴极反应入侵制备 TiO2 薄膜的方法获得的 TiO2 薄膜能带结构和光学性质等方面的特性明显优于传统的电化学沉积法。
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】 火工品中有些起爆药雷管只装一层猛炸药， 靠桥 泛的应用前 ¨。 丝、 桥膜或半导体桥爆炸汽化产生的热等离子体或飞
雷管 ， 同时它具有 鬼 好的光催化活性 ， 在实现起爆的 同时 ， 还可以有效的光催化除去污染物 ， 将来有着广
收稿 日期：２ ０ ． ６ ０６０ ０ ９
制备具有光催９ １）， ， １８一 女 在读硕士研究生 ，主要从事功能材料的研究 。
电沉积技术是制备纳米薄膜特别是金属纳米薄 究报道 国内外尚不多见 ，而在金属材料表面制备
片引爆。当前， 、 英 美等国正在研究将金属铬蒸镀于 膜的常用方法 ， 但有关电沉积方法制备 Ｔ０薄膜的研 ｉ２
基片上 ， 形成几 微米厚的薄膜桥 ， 然后再制成薄膜桥
ｉ 铝基体在酸性溶液中阳极 电雷管 ， 这种雷管对低压电源和压电晶体提供的冲能 ＴＯ薄膜的研究更为少见。 特别敏感 ， 并能承受高过载 ， 适用于要求小型雷管和
氧化后可得到一层致密 、均匀、表面多孔的氧化膜 ， 该膜层耐磨 、耐蚀性 能较好 ，表面吸附性能好 ，为 ＴＯ在其表面的沉积和附着提供 了有利的条件。 ｉ：
本文采用交流电沉积方法 ， 在铝 阳 极氧化膜表面
低发火能量的高速炮弹引信。 ｉ： ＴＯ薄膜是 良好的半导 体， 可以将其镀在基片上 ， 形成薄膜桥 ， 制成薄膜桥
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２０ 年 １ 月 ０６ ２
文章编号 ；１０ ．４ ０（ ０ ６） ６０ １—３ ０ ３ １８ ２０ ０ ．０ ６０
火 工 品 Ｉ ＩＩ Ｔ Ｒ ＆Ｐ Ｒ Ｔ Ｃ ＮＣ Ｎ ＴＡ Ｏ Ｓ Ｙ Ｏ Ｅ Ｈ Ｉ Ｓ
２０ 年第 ６ ０６ 期
Ａ ３ 模板法制备 ＴＯ薄膜 Ｉ ２ Ｏ ２ ｉ
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基金项 目：陕西省 自然科学基金 （ ｏ ２０ Ｂ ６） Ｎ ．０ ３ ０ 资助项 目
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刘男 ，梁燕萍 ，贺格平 ２ ，黄方方 ，张会 良
（． １ 西安电子科技大学， 西安， １０ １ ２ 西安建筑科技大学材料学院，西安，７０５） ７０７ ； ． １０５ 摘 要：在钛盐溶液中， 采用交流电沉积方法， 在铝阳极氧化膜表面制备 Ｔｏ 薄膜。 ｉ２ 利用光学显微镜和紫外． 可 见光谱分析了该复合薄膜的表面形貌以及对紫外可见光的吸收， 并通过紫外光照下甲基橙的光催化降解反应分析了薄 膜的光催化活性， 研究表明铝阳极氧化膜的制备时间与扩孔时间对光催化活性有—定影响， 并期待应用于火工品中。
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关键 词：铝 ；阳极氧化膜 ；电沉积；ＴＯ 薄膜 ｉ２ 中囱分类号 ：Ｔ ５ ５ 文献标识码 ：Ａ Ｑ ６
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