(工艺技术)真空蒸镀金属薄膜工艺

(工艺技术)真空蒸镀金属薄膜工艺
(工艺技术)真空蒸镀金属薄膜工艺

真空蒸镀金属薄膜工艺

一、概述

真空蒸镀金属薄膜是在真空条件下,将金属蒸镀在薄膜基材的表面而形成复合薄膜的一种新工艺。被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等,其中用的最多的是铝。在塑料薄膜或纸张表面(单面或双面)镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜,它广泛地用来代替铝箔复合材料如铝箔/塑料、铝箔/纸等使用。镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点:

(1)大大减少了用铝量,节省了能源和材料,降低了成本,复合用铝箔厚度多为7~8pm,而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05nm左右,其耗铝量约为铝箔的1/140~1/180,且生产速度可高达450m/min。

(2)具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现针孔和裂口,无揉曲龟裂现象,因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。

(3)具有极佳的金属光泽,光反射率可达97%;且可以通过涂料处理形成彩色膜,其装潢效果是铝箔所不及的。

(4)可采用屏蔽式进行部分镀铝,以获得任意图案或透明窗口,能看到内装物。

(5)镀铝层导电性能好,能消除静电效应;其封口性能好,尤其包装粉末状产品时,不会污染封口部分,保证了包装的密封性能。

(6)对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。

由于以上特点,使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型

复合薄膜,在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、农产品的真空包装,以及药品、化妆品、香烟的包装。另外,镀铝薄膜也大量用作印刷中的烫金材料和商标标签材料等。

二、镀膜基材

镀铝薄膜的基材主要是塑料薄膜和纸张。

真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求:

(1)耐热性好,基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。

(2)从薄膜基材上产生的挥发性物质要少;对吸湿性大的基材,在镀膜前理。

(3)基材应具有一定的强度和表面平滑度。

(4)对蒸镀层的粘接性良好;对于PP、PE等非极性材料,蒸镀前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。

常用的薄膜基材有:BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和纸张类。塑料薄膜基材中BOPET、BONY、BOPP三种基材形成的镀铝薄膜,具有极好的光泽和粘结力,是性能优良的镀铝薄膜,大量用作包装材料和印刷中的烫金材料。镀铝PE薄膜的光泽度较差,但成本较低,使用也较广。以纸基材形成的镀铝纸,其成本比镀铝塑料薄膜低;比铝箔/纸的复合材料更薄而价廉;其加工性能好,印刷中不易产生卷曲,不留下折痕等。因此大量取代铝箔/纸复合材料,用作香烟、食品等内包装材料以及包装商标材料等。

1.真空蒸镀原理。

将被镀薄膜基材(筒状)装在真空蒸镀机中,用真空泵抽真空,使镀膜中的真空度达到1.3×10-2~1.3×10-3Pa,加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃~1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。气态铝微粒在移动的薄膜基材表面沉积、经冷却还原即形成一层连续而光亮的金属铝层。真空蒸镀金属示意图见图14-9。

通过控制金属铝的蒸发速度、薄膜基材的移动速度以及镀膜室的真空度等来控制镀铝层的厚度,一般镀铝层厚度在25~500nm,镀铝薄膜的宽度为800mm~2000mm。

图14-9 真空蒸镀金属示意图

1-泵2-放卷3-冷却辊筒4-隔热掩膜5-料源6-收卷

2.蒸镀方法。在基材表面蒸镀铝的方法有直接蒸镀法和转移法两种。

(1)直接蒸镀法。是被镇基材直接通过真空镀膜机,将金属铝蒸镀在基材表面而形成镀铝薄膜。直接蒸镀法对基材的要求较高,尤其是要形成表面光亮的金属膜,必须要求基材具有较好的表面平滑

度。

如果纸张的表面较粗糙,要采用直接蒸镀法,在镀铝前需先进行表面涂布。另外,在蒸镀过程中基材的挥发物要少。因此直接蒸镀法对基材有较大的局限性,它主要适合于蒸镀塑料薄膜,也可用于纸张的蒸镀,但纸张的质量要求高,并对纸的定量有一定的限度。

(2)转移法。是借助载体膜(真空镀铝膜)将金属铝层转移到基材的表面而形成镀铝薄膜。转移法是在直接蒸镀法的基础上发展起来的新工艺,它克服了直接蒸镀法对基材要求的局限性,尤其适合于在各种纸及纸板上进行镀铝,也可用于塑料薄膜的镀铝。

目前国外已将转移法应用到布、纤维、皮革等基材的镀铝产品上。我国主要采用转移法生产镀铝纸。

三、蒸镀铝工艺

1.塑料薄膜镀铝工艺。塑料薄膜的镀铝工艺较简单。BOPET、BONY、薄膜基材镀铝前不需进行表面处理,可直接进行蒸镀。而用BOPP、PE等非极性塑料薄膜时,在蒸镀前需对薄膜表面进行电晕处理,使其表面张力达到38X10-5N~40X10-5N。镀膜时,将卷筒薄膜置放于真空室内,关闭真空室抽真空。当真空度达到一定时,将蒸发源升温至1400℃~1500℃,然后再把纯度为99.9%的铝金属丝连续送至蒸发源高温区。调节好放卷、收卷速度、送丝速度和蒸发量,开通冷却源。使铝丝在高温区内连续地熔化、蒸发,从而在移动的薄膜表面形成一层光亮的铝层,经冷却后即成成品。制成的镀铝薄膜按规格分切后即可用于印刷、复合制袋等。

2.纸张蒸镀铝工艺。纸张镀铝工艺有直接镀铝法和转移法两种。

(1)直接镀铝法。直接镀铝法是先将被镇的卷筒纸基材表面涂覆一层胶层或复合一层PE薄膜,再经真空镀膜机直接镀铝,使纸的表面形成一层金属铝膜,然后将镀铝纸再进行回潮处理即成产品。如果需要得到各种不同颜色的镀铝纸,则需在镀铝纸表面再进行着色处理。

直接镀铝法主要有以下特点:

①生产工艺较简单,成本较低。

②对纸基材的表面质量和强度要求较高。镀铝时要求纸张的含水率在3%以下,一般纸张的含水率为6~7%,含水率降低会使纸张发脆、易断裂。因此,要求纸张具有较高的强度。

③产品的表面光泽度较低,印刷装满效果较差。

直接镀铝法一般仅适应干定量在30g/m2以下的薄纸,较厚的纸很难进行镀铝。直接镀铝法生产的镀铝纸,虽质量较差,但成本较低,所以使用也比较广泛。

(2)转移法;转移法生产镀铝纸比直接镀铝法工艺先进。它是将镀铝塑料薄膜表面的铝层转移到纸基表面而形成镀铝纸。首先把涂料均匀地涂布在塑料薄膜基材上,一般采用BOPET薄膜和BOPP薄膜;再将塑料薄膜基材在真空镀膜室进行镀铝,使涂层表面形成金属铝膜层;而后在镀铝塑料薄膜的铝层表面涂布一层粘合剂;按需要把纸、纸板或基它基材与之复合,然后再进行分离,使涂料层及铝层从塑料薄膜上分离下来。其工艺流程见图14-10。被分离后的塑料薄膜

可以重复使用。重复使用的次数越多,产品的成本越低。采用转移法生产镀铝纸主要有以下特点:

图14-10 转移法工艺流程图

①生产工艺比较复杂、成本较高。

②对基材的适应范围宽,定量在30~600g/m2的纸或纸板均可,且对基材的质量要求不高,表面也无需再涂涂料或覆膜。

③产品的质量好,表面光亮;因镀铝层外有一层涂料,不仅起到了保护作用,而且也提高了印刷适应性和装满效果。

④在涂料中加入颜料,可生产彩色镀铝纸。

由于转移法镀铝具有以上特点,所以在镀铝纸生产中使用越来越广。

(工艺技术)真空蒸镀金属薄膜工艺

真空蒸镀金属薄膜工艺 一、概述 真空蒸镀金属薄膜是在真空条件下,将金属蒸镀在薄膜基材的表面而形成复合薄膜的一种新工艺。被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等,其中用的最多的是铝。在塑料薄膜或纸张表面(单面或双面)镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜,它广泛地用来代替铝箔复合材料如铝箔/塑料、铝箔/纸等使用。镀铝薄膜与铝箔复合材料相比具有以下特点: (1)大大减少了用铝量,节省了能源和材料,降低了成本,复合用铝箔厚度多为7~8pm,而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05nm左右,其耗铝量约为铝箔的1/140~1/180,且生产速度可高达450m/min。 (2)具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现针孔和裂口,无揉曲龟裂现象,因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。 (3)具有极佳的金属光泽,光反射率可达97%;且可以通过涂料处理形成彩色膜,其装潢效果是铝箔所不及的。 (4)可采用屏蔽式进行部分镀铝,以获得任意图案或透明窗口,能看到内装物。 (5)镀铝层导电性能好,能消除静电效应;其封口性能好,尤其包装粉末状产品时,不会污染封口部分,保证了包装的密封性能。 (6)对印刷、复合等后加工具有良好的适应性。 由于以上特点,使镀铝薄膜成为一种性能优良、经济美观的新型

复合薄膜,在许多方面已取代了铝箔复合材料。主要用于风味食品、农产品的真空包装,以及药品、化妆品、香烟的包装。另外,镀铝薄膜也大量用作印刷中的烫金材料和商标标签材料等。 二、镀膜基材 镀铝薄膜的基材主要是塑料薄膜和纸张。 真空蒸镀工艺对被镀基材有以下几点要求: (1)耐热性好,基材必须能耐受蒸发源的辐射热和蒸发物的冷凝潜热。 (2)从薄膜基材上产生的挥发性物质要少;对吸湿性大的基材,在镀膜前理。 (3)基材应具有一定的强度和表面平滑度。 (4)对蒸镀层的粘接性良好;对于PP、PE等非极性材料,蒸镀前应进行表面处理、以提高与镀层的粘接性。 常用的薄膜基材有:BOPET、BONY、BOPP、PE、PVC等塑料薄膜和纸张类。塑料薄膜基材中BOPET、BONY、BOPP三种基材形成的镀铝薄膜,具有极好的光泽和粘结力,是性能优良的镀铝薄膜,大量用作包装材料和印刷中的烫金材料。镀铝PE薄膜的光泽度较差,但成本较低,使用也较广。以纸基材形成的镀铝纸,其成本比镀铝塑料薄膜低;比铝箔/纸的复合材料更薄而价廉;其加工性能好,印刷中不易产生卷曲,不留下折痕等。因此大量取代铝箔/纸复合材料,用作香烟、食品等内包装材料以及包装商标材料等。 1.真空蒸镀原理。

真空镀膜技术

真空镀膜技术 磁控溅射膜即物理气相沉积(PVD) 金属镀膜不一定用磁控溅射,可以根据成本&工艺需求选择合理的沉积方法,具体有: 物理气相沉积(PVD)技术 第一节概述 物理气相沉积技术早在20世纪初已有些应用,但在最近30年迅速发展,成为一门极具广阔应用前景的新技术。,并向着环保型、清洁型趋势发展。20世纪90年代初至今,在钟表行业,尤其是高档手表金属外观件的表面处理方面达到越来越为广泛的应用。 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物理气相沉积的主要方法有,真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜,及分子束外延等。发展到目前,物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。 真空蒸镀基本原理是在真空条件下,使金属、金属合金或化合物蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,高频感应加热,电子柬、激光束、离子束高能轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历史上,真空蒸镀是PVD法中使用最早的技术。 溅射镀膜基本原理是充氩(Ar)气的真空条件下,使氩气进行辉光放电,这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar+),氩离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。如果采用直流辉光放电,称直流(Qc)溅射,射频(RF)辉光放电引起的称射频溅射。磁控(M)辉光放电引起的称磁控溅射。电弧等离子体镀膜基本原理是在真空条件下,用引弧针引弧,使真空金壁(阳极)和镀材(阴极)之间进行弧光放电,阴极表面快速移动着多个阴极弧斑,不断迅速蒸发甚至“异华”镀料,使之电离成以镀料为主要成分的电弧等离子体,并能迅速将镀料沉积于基体。因为有多弧斑,所以也称多弧蒸发离化过程。 离子镀基本原理是在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。 物理气相沉积技术基本原理可分三个工艺步骤: (1)镀料的气化:即使镀料蒸发,异华或被溅射,也就是通过镀料的气化源。 (2)镀料原子、分子或离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后,产生多种反应。 (3)镀料原子、分子或离子在基体上沉积。 物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。

实验3 真空蒸发镀膜实验

实验3 真空蒸发镀膜实验 真空热蒸发镀膜就是在真空条件下加热需要蒸发的材料,当所加温度达到材料的熔点时,大量的原子或分子就会逸出,淀积到基底上而形成薄膜的过程。 【实验目的】 1.了解真空蒸发镀膜的原理。 2.掌握多功能真空蒸镀机、复合真空计等机械设备的使用方法。 【实验仪器】 复合真空计、真空室、机械泵、分子泵、冷水循环散热系统、载玻片、钨舟、剪刀 【实验原理】 真空蒸发镀膜的原理:将膜材置于真空镀膜室内,通过蒸发源使其加热蒸发。当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后,蒸发的粒子从蒸发源表面上溢出,在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子的碰撞阻碍,可直接到达基片表面上凝结而生成薄膜。 机械泵是利用转子不断地改变泵内空腔的容积,使抽容器内的气体随空腔体积改变,最后又被隔离而排出从而获得真空。 分子泵工作原理是:分布密集的扇叶高速旋转,通过高速旋转的叶片,不断地对气体分子施以定向的动量和压缩作用,把空气排出腔室,由下级机械泵辅抽,完成高真空抽取。 真空机配有ZJ-52/T电阻规与ZJ-27电离规,其工作原理为: (1)电阻计的工作原理 电阻规在真空系统低压强时,利用气体分子的热传导,在高压时利用气体分子的对流传热特性,使电阻规的电阻随所测系统的压强变化而变化。电阻规的电阻与压强是一种非线性关系,故压强变化所引起的电阻规电阻值的变化,从测量桥路输出电压信号,由放大器放大,经A/D转换送入CPU进行非线处理性运算,最后显示。 (2)电离计工作原理 当电离规管灯丝加热发射电子,电子在比阴极电位更高的加速极作用下,与气体分子碰撞而使气体电离,电离后的正离子被阴极电位更负的收集极吸收,经电流放大后,通过CPU 电路修正处理,送显示器显示。 【实验内容及要求】 1. 首先将已经切割好的普通玻璃基底用碱溶液、酸溶液擦洗,然后置于含少许酒精的密闭器皿中。取一定量的蒸发材料放在钨舟上。 2. 真空热蒸发的操作步骤 (1)打开循环水开关。 (2)开总电源。 (3)缓慢打开空气阀门(要慢,避免气流速度过快损坏仪器),直到真空腔内外压强一致。

真空镀膜试验

真空镀膜实验 一、 实验目的 真空镀膜技术广泛地应用在现代工业和科学技术中,光学仪器的反射镜,增透镜,激光器谐振腔的高反射膜,计算机上存储和记忆用的磁性薄膜,以及材料表面的超硬薄膜。此外在电子学、半导体等其它各尖端学科也都采用了真空技术。 本实验的目的是学习真空蒸发镀膜技术。通过本门实验,要求学生掌握如下几点:①较系统了解真空镀膜仪器的结构;②了解真空系统各组件的功能;③了解石英晶体振荡器测厚原理;④掌握真空蒸镀的基本原理;⑤了解真空镀膜仪器的基本操作。 二、预习要求 要求学生在实验之前对真空系统有一定了解,可以通过以下几本相关书籍获得相关信息。《薄膜材料制备原理、技术及应用》—— 唐伟忠著,冶金工艺出版社出版社;《薄膜物理与技术》—— 杨邦朝,王文生编著,电子科学出版社;《薄膜技术》—— 王力衡,清华大学出版社;《薄膜技术》—— 顾培夫,浙江大学出版社;《真空技术物理基础》—— 张树林,东北工学院出版社;《真空技术》—— 戴荣道,电子工业出版社。 三、实验所需仪器设备 实验过程需要的主要设备为DMDE 450型光学多层镀膜机。 真空镀膜机:本实验使用DMDE-450光学多层镀膜机,其装置结构如图3所示。它主要由真空系统、蒸发设备及膜厚监控系统组成。真空系统由各种真空器件组成,主要包括:真空室;真空泵(机械泵、和分子泵);真空导管;各种真空阀门和测量真空度的真空计等。高真空阀门为碟式,机械泵与分子泵的连通阀门为三同式,将阀门拉出时,机械泵可以直接对镀膜室抽气,推入时机械泵与分子泵连通,同时也切断了机械泵与镀膜室的连接。 蒸发系统由真空钟罩,蒸发电极(共有二对), 活动挡板,蒸发源,底盘等组成。蒸发源安装在电 图3镀膜机装置图 1电离管 2高真空碟阀 3分子泵 4机械泵 5低真空磁力阀 6储气桶 7低真空三同阀 8磁力充气阀 9热偶规 10钟罩 11针型阀

真空蒸发镀膜原理

A、真空电镀原理: 一般而言,镀膜在真空镀膜机内以真空度1~5 x 10 —4Torr程度进行(1Torr=1公厘水银柱高得压力,大气压为760Torr)。其镀膜膜厚约为0.1 ~0、2微米、颜如果镀膜在特定厚度以下时(即太薄),面油对底油将会产生侵蚀、引起化学变化(如表面雾化等)。如镀膜过厚时,会产生白化得状态。颜填料,助剂,树脂,乳液,分散Dr<!——[if !supportFoot<!--[en dif]——>l〈!--[if !supportFootnotes]-->[1]<!--[endif]—-〉v#W?n8D<!-—[if !supportFootnotes]——〉[1]