磁控溅射仪操作规范

磁控溅射仪操作规范

JSD450-Ⅲ型磁控溅射镀膜机

操作步骤及规范

开机

1、打开冷水机。设定温度:冬天10-15℃,夏天5℃

2、打开放气阀破真空,然后关闭放气阀(之后整个工作过程务必保证放气

阀均是关闭状态。本机阀门均是逆时针打开,顺时针关闭)

3、打开总控电源

4、打开真空计(电阻单元真空范围10Pa,电离单元0.1-10-6Pa)

5、打开灯,检查镀膜腔是否关紧(观察腔四周是否有光线)

6、打开机械泵电磁阀,此时务必保证放气阀已经关闭!!!

7、打开预抽阀

8、当压强达到10Pa以下打开分子泵→运行→关闭预抽阀→完全打开插板阀工作

1、当腔内压强真空度达到要求后,打开气罐(指针调至刻度1-2之间),关

小插板阀,仪器的工作气压为1-10Pa。

2、关闭电离单元按下“自动”→电离→打开进气阀→流量计(mL/min)

3、在保持输入气体比例基本不变的条件下调节进气量或者调节插板阀使气

压处于1-10Pa,最好是5Pa,流量计开关一般在“阀控”。

4、打开射频开关“ON”观察有无起灰,若无起灰再调节功率或进气量

关机

气体流量计归零→关闭状态→关闭进气阀→关闭控气阀→关闭插板阀→关闭气瓶→射频/直流功率归零→“OFF”→温度电源归零关闭→流量计关闭→分子泵停止待转速归零→关闭开关→关闭电磁阀→关闭机械泵→放气阀打开→放完气以后关闭

材料分析方法实验报告

篇一:材料分析方法实验报告 篇二:材料分析方法课程设计报告 材料分析测试方法 课程设计(论文) 题目:磁控溅射c/w多层膜成分及微观分析 学院材料科学与工程 专业材料化学 班级材化082 学生王维娜 学号 3080101296 指导教师陈迪春 起止时间 2010.12.27-2011.1.1 年 材料分析测试方法课程设计任务书 课程设计内容要求: 掌握高分辨透射电子显微镜样品制备方法,学习并了解真空镀膜 技术-磁控溅射技术,多层膜制备过程,以及其微观结构分析,成分 分析所用仪器和原理。 学生(签名) 月日 材料分析测试方法课程设计评语 指导教师(签名) 年日 目录 材料分析测试方法 ............................................................................. .. (1) 1.1 磁控溅射 ............................................................................. (5) 1.2 x射线衍射仪 ............................................................................. . (5) 1.3 透射电子显微镜 ............................................................................. (6) 1.4 x射线光电子能谱仪(xps) ........................................................................ (7) 第二章实验方法 ............................................................................. .. (9) 2.1 tem样品的制备方法 .............................................................................

磁控溅射镀膜原理和工艺设计

磁控溅射镀膜原理及工艺 摘要:真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术,在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀 膜技术发展来的磁控溅射镀膜的原理及相应工艺的研究。 关键词:溅射;溅射变量;工作气压;沉积率。 绪论 溅射现象于1870年开始用于镀膜技术,1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用二极溅射设备如右图。 通常将欲沉积的材料制成板材-靶,固定在阴 极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶一定距 离。系统抽至高真空后充入(10~1)帕的气体(通 常为氩气),在阴极和阳极间加几千伏电压,两极 间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作 用下飞向阴极,与靶表面原子碰撞,受碰撞从靶 面逸出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十 电子伏范围内。溅射原子在基片表面沉积成膜。 其中磁控溅射可以被认为是镀膜技术中最突出的 成就之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结 合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点, 成为镀膜工业应用领域(特别是建筑镀膜玻璃、透 明导电膜玻璃、柔性基材卷绕镀等对大面积的均 匀性有特别苛刻要求的连续镀膜场合)的首选方 案。 1磁控溅射原理 溅射属于PDV(物理气相沉积)三种基本方法:真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)中的一种。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar正离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区

无纸记录仪XSR70说明书

无纸记录仪XSR70说明书 使用注意事项: 4 请勿自行维修和拆卸仪器 4 请先将引线与接线端子连接,再与仪表插接。 4 请在进行下列工作时,务必断开电源后操作 1、当连接线时 2、当对仪器端子接线及插拔端子时 4 仪表上电前请仔细检查接线是否正确无误 4 仪表断电及再次上电的间隔在5秒以上 4 在下列场合应采取适当的屏蔽措施 1、靠近电源动力线的场合 2、处在强电场或强磁场的场合 3、在产生静电或交流接触器干扰等类似的场合 4 不要将仪表安装在下列场合 1、暴露于直射的场合 2、温度和湿度超过使用条件的场合 3、有腐蚀性气体或可燃性气体的场合 4、有大量粉尘、盐及金属性粉末的场合 5、水、油及化学液体易溅射到的场合 6、有直接震动或冲击的场合 目录 一、概述 二、功能特点 三、技术指标 四、安装与接线 五、仪表运行及操作 六、仪表组态 七、累积功能及累积组态(选配功能) 八、流量组态及带温压补偿计算功能(选配功能) 九、PID控制组态(选配功能)

十、故障分析及排除 一、概述 无纸记录仪以其丰富的显示画面、灵活的操作方式以及强大的记录、运算、控制和管理功能,在各行各业中获得了极其广泛的应用。本产品吸纳了各种国外无纸记录仪的优点,应用最新的显示技术、微电子技术、数据存储和通讯技术,是一款功能齐全、操作方便、精确可靠、高性价比的产品。 本产品配置丰富,有蓝屏和彩色两种显示屏。可以接收多种类型的直流电流、电压和电阻信号,实现温度、压力、液面、流量、成分以及力、力矩、位移等物理量的显示、记录、越限监控、报表生成、数据通讯、信号变送以及流量累计等功能。 本产品主要由液晶屏、按键、ARM微处理器为核心的主板、主电源、外供变送器电源、智能通道板、大容量FLASH等构成: 可配备不同类型的智能通道板,根据应用要求选择。 置大容量FLASH,可通过U盘快速将FLASH中的数据转储到计算机中。置的FLASH的容量为64M字节,8通道时若20秒记录一次可记录865天,最快0.1秒记录一次所有通道的数 据。 数字显示画面、棒图显示画面、实时曲线画面、追忆曲线画面 追忆曲线读数光标功能。 测量、显示基本误差:±0.2% F·S 可组态12点报警功能。 可组态8点变送输出,光电隔离,误差小于±0.2% F·S 电流输出(4~20)mA, (0~10)mA, (0~20)mA可选。 电压输出(0~5)V, (1~5)V可选。 出厂默认设定为(4~20)mA, 其他类型订货时注明。 二、功能特点 本产品显示信息量大、界面友好、操作简单,下面是主要功能特点: 无笔、无纸记录,日常维护工作量非常小,运行费用低; 采用高亮度单色或彩色TFT液晶屏,CCFL背光、画面清晰; 采用ARM微处理器,可同时实现16路信号采集、记录、显示和报警; 采用64MB 大容量的FLASH 闪存芯片存贮历史数据,掉电永不丢失数据; 全隔离万能输入,可同时输入多种信号,无需更换模块,通过软件组态即可;

近代物理实验报告

近代物理实验报告 实验题目: 1 真空获得与真空测量 2 热蒸发法制备金属薄膜材料 3 磁控溅射法制备金属薄膜材料班级: 学号: 学生姓名: 实验教师: 2010-2011学年第1学期

实验1真空获得与真空测量 实验时间: 地点: 指导学生: 【摘要】本实验采用JCP-350C 型热蒸发/磁控溅射真空镀膜机,初步了解真空获得与测量的方法,熟悉使用镀膜机的机械泵和油扩散泵,能用测量真空的热偶真空计和电离真空计等实验仪器,掌握真空的获得和测量方法。 【关键词】镀膜机;机械泵;扩散泵;真空获得和测量 一、实验目的 1.1、学习并了解真空科学基础知识,学会掌握低、高真空获得和测量的原理及方法; 1.2、熟悉实验设备和仪器的使用。 二、实验仪器 JCP-350C 型热蒸发/磁控溅射真空镀膜机。 三、真空简介 3.1真空 “真空”这一术语译自拉丁文Vacuo ,其意义是虚无。其实真空应理解为气体较稀薄的空 间。在指定的空间内,低于一个大气压力的气体状态统称为真空。 3.2真空的等级 真空状态下气体稀薄程度称为真空度,通常用压力值表示。1958年,第一界国际技术 会议曾建议采用“托”(Torr)作为测量真空度的单位。国际单位制(SI)中规定压力的单位为帕(Pa)。我国采用SI 规定。 ● 1标准大气压(1atm)≈1.013×105Pa(帕) ● 1Torr≈1/760atm≈1mmHg ● 1Torr≈133Pa ● 我国真空区域划分为:粗真空、低真空、高真空、超高真空和极高真空。 ● 粗真空 Pa 35103331~100131???? ● 低真空 Pa 13103331~103331-???? ● 高真空 Pa 61 103331~103331--???? ● 超高真空 Pa 106103331~103331--???? ● 极高真空 Pa 10103331-??< 3.3获得真空的意义 获得真空不仅在科研、教学、工业以及人类生活中应用起到很大的作用,而且给人类的 整个社会文明的进步、财富创造以及科技创新都具有重大的意义。 3.4真空技术的应用 随着真空获得技术的发展,真空科学的应用领域很广,目前已经渗透到车辆、土木工程 呢、机械、包装、环境保护、医药及医疗机械、石油、化工、食品、光学、电气、电子、原

上海绎捷自动化科技有限公司R6100精致型彩色无纸记录仪使用说明书

前言 非常感谢使用本公司生产的精致型彩色无纸记录仪。 本手册提供对精致型彩色无纸记录仪使用时关于安装、运行操作、参数设置、故障诊断等方面的方法,在使用精致型彩色无纸记录仪之前,敬请仔细阅读本手册并妥善保管在便于随时翻阅处。 装箱物品 精致型彩色无纸记录仪安装支架说明书 产品合格证数据管理软件光盘 1 精致型彩色无纸记录仪台 1 2 安装支架(含螺钉)根 2 用于盘式安装固定 3 说明书本 1 4 产品合格证/保修卡份 1 5 数据管理软件(光盘)张 1 6 RS-232C/485转换模块个可选配件 7 RS-232C通讯线根可选配件 8 U盘个可选配件 9 微型打印机(含其附件)个可选配件

注意事项 开箱时如发现仪表因运输而致的破损,请与厂家联系 本系列仪表适用于一般工业场合,如有特殊的使用要求请另行设置保护装置 为了您和仪表的安全,请勿带电安装。请使用额定电压的供电电源,正确接线,妥善接地,接通电源后,请不要触摸仪表后部的接线端子,以防触电 仪表请安装在室内,安装位置请保证通风顺畅(以防仪表内部温度过高),避开风雨和太阳直射,切勿在下列场合中安装: 温度和湿度超过使用条件的场合 有腐蚀性、可燃性或爆炸性气体的场合 有大量粉尘、盐及金属粉末的场合 水、油及化学液体易溅射到的场合 有直接振动或冲击的场合 电磁发生源的场合 仪表在靠近电源动力线、强电场、强磁场、产生静电、噪声或交流接触器等干扰的场合应采取相应的屏蔽措施 为避免测量误差,传感器是热电偶时,请使用相应的补偿导线传感器是热电阻时,要使用三根规格相同而且电阻值小于10Ω的铜导线,否则会造成测量误差 为延长仪表的使用寿命,请定期进行保养和维护。请勿自行维修和拆卸仪器。 擦拭仪表时请用干净软布,切勿蘸取酒精、汽油等有机溶剂清扫,可能造成变色或变形 如果仪表有进水、冒烟、异味、异响等情况时,请立即切断供电电源,停止使用并及时与供货商或我公司取得联系

无纸记录仪、数据采集系统

无纸记录仪/数据采集系统 RD8800系列 产品特点: ?2、4、6或12通道带隔离的模拟量输入 ?127 mm(5英寸)高亮度LCD或带触控功能的142 mm(5.6英寸)TFT 彩色图形显示器 ?在3?寸磁盘或CompactFlashTM 存储卡上记录数据 ?基于Windows 系统的软件使用软件(选配) ?数学运算功能包括:+、-、x、÷、对数运算、总和运算、幂运算、平均数运算、计时器和自定义方程式 ?各通道具有独立的记录速率 ?按照信号值、报警或日期/时间参数建立和自动查寻数据文件 ?报警/事件信息 ?每个通道具有5个报警器(高、低和变化率) 产品描述 规格: 输入信号 热电偶:J、K、T、E、R、S、B、C、N RTD:10 ? Cu, 100 ? Pt 385:100 ? Pt 392, 200 ? Pt 385:200 ? Pt 392, 120 ? Ni 385 DC电压:线性、平方根、对数 DC电流:0/4~20 mA,10~50 mA

输入精度 热电偶:J、K、T、E、N(Nicrosil-Nisil)型为±1.5℃;R、S和C型为±3℃;B 型为±4℃RTD: ±0.5℃或0.2% DC电压:±150 mV、±1.25V、±2.5V为±0.06%;±12.5V、±25V为±0.1% 电流:±0.15%带有外部50? 0.1%支路电流 输入分辨率:全量程的0.0015%,16位 输入阻抗:±150 mV、±1.25V、±2.5V时,大于10 M?;±5V、±12.5V、±25V时,大于100 K 最大输入:50 Vdc 扫描速率:每125 ms测量所有点 绝缘:300 Vdc或通道之间峰值Vac 共模噪声抑制:>100 dB, 50/60 Hz 正常模式噪声抑制:>50 dB, 50/60 Hz 电磁兼容性:符合或超过EMC89/336/EEC要求 记录 记录速率:用户可编程控制,每秒8个采样至每10分钟1个采样 格式:Windows兼容文件系统;专有文件结构 存储能力:可存储256MB的采样,128MB闪存卡 内存: 1 MB RAM (非易失性) 显示屏 单色显示方式:CCFL背光STN液晶显示,127 mm(5.0") 单色分辨率:240 H x 128 V像素 彩色显示方式:CCFL背光有源矩阵TFT液晶显示,142 mm(5.6") 142 mm (5.6") 彩色分辨率:320 H x 234 V像素 显示模式:图形(趋势、垂直或水平), 条形图(垂直或水平),数字式仪表,字母数字报警和事件数据,以及各种 模式的组合分屏显示;查阅趋势数据;按时间、日期或信号值查寻 显示更新率:1秒;数据更新率可编程控制,范围1 ~ 60秒 虚拟记录纸速度:10 mm/hr ~ 15,000 mm/hr (0.5 in/hr ~ 600 in/hr)可编程控制;记录纸速度不依赖存储速率 虚拟记录纸标尺:2套8个刻度 显示窗口:时间/日期、图形(条形图、 大数字、趋势)、磁盘状态、系统状态、 菜单按钮栏、单位识别、报警/事件 缓冲器:内部缓冲器,能够独立于已记录数据进行历史记录纸数据的实时浏览 配置:带有按钮栏的触控菜单,或在IBM 兼容PC机上用选配软件进行简单编程 软件:电子数据表输出实用软件,已含; 图形软件,选购;Windows 95/98/ME/2000/XP/NT;3?"磁盘 选配

实验一 真空蒸发和磁控溅射制备薄膜

实验一 真空蒸发和磁控溅射制备薄膜 姓名:许航 学号:141190093 姓名:王颖婷 学号:141190083 系别:材料科学与工程系 专业:材料物理 组号:A9 实验时间:3月16号 本实验主要介绍真空蒸发、磁控溅射两种常用而有效的制备薄膜的工艺,以便通过实际操作对典型的薄膜工艺的原理和基本操作过程有初步的了解。 一、 实验目的 1、 通过实验掌握磁控溅射、真空蒸发制备薄膜的基本原理,了解磁控溅射、真空蒸发制备薄膜的过程 2、 独立动手,学会利用磁控溅射、真空蒸发技术制备薄膜 3、 通过本实验对真空系统、镀膜系统以及辉光放电等物理现象有更深层次的了解 二、 实验原理 薄膜作为一种特殊形状的物质,与块状物质一样,可以是非晶态的,多晶态的和单晶态的。它既可用单质元素或化合物制作,也可用无机材料和有机材料制作。近年来随着薄膜工艺的不断进步和完善,复合薄膜和功能材料薄膜也又很大的发展,因此薄膜技术和薄膜产品已在机械、电子、光学、航天、建材、轻工等工业部门得到了广泛的应用,特别是在电子工业中占有极其重要的地位。例如光电极摄像器件、各种集成电路器件、各种显示器、太阳能电池及磁带、磁头等各种转化器、传感和记录器、电阻器、电容器等都是应用薄膜。目前,薄膜工艺不仅成为一门独立的应用技术,也是改善材料表面性能和提高某些工艺水品的重要手段。 1、 真空蒸发制备薄膜原理 真空蒸发镀膜是把待镀膜的衬底或工件置于高真空室内,通过加热使成膜材料气化(或升华)而淀积到衬底上,从而形成一层薄膜的工艺过程。 因为真空蒸发镀膜的膜层质量与真空室的真空度、膜料蒸发温度和衬底的温度都有很大的关系,因而在实验过程务必严格控制各个环节。下面讨论一下影响蒸发镀膜质量的主要因素和成膜的原理。 (1)、真空度 为了同时保证膜层的质量和生产效率及成本,通常要选择合理的真空度。在镀膜过程中,抽真空后处在同一温度下的残余气体分子相对于蒸发出的膜料分子(原子)可以视作静止,可以得到膜料分子(原子)在残余分子中运动的平均自由程: '2 1()n r r λπ=+ p n k T = n 为残余气体分子的密度,r’为残余气体分子半径,r 为蒸发膜料分子的半径,p 为残余气体的压强,k 为玻尔兹曼常数。若蒸发源到衬底的距离为L (cm ),为使得膜料分子中的大部分不与残余气体分子碰撞而直接到达衬底表面,则一般可以取平均自由程10L λ≥,这样:

R1000有纸记录仪使用说明书

目录 一、概述------------------------------------------------------------------------------------------------1 二、主要性能及技术指标---------------------------------------------------------------------------1 三、工作原理及特点简介---------------------------------------------------------------------------3 四、显示和记录---------------------------------------------------------------------------------------4 五、设定状态下数码管依次显示的内容---------------------------------------------------------5 六、键盘操作------------------------------------------------------------------------------------------5 1、测量状态使用键-----------------------------------------------------------------------------5 2、设定状态使用键-----------------------------------------------------------------------------6 3、参数设定方法--------------------------------------------------------------------------------6 七、仪表的结构与安装------------------------------------------------------------------------------14 八、仪表的保存与维护------------------------------------------------------------------------------16 九、接线方法------------------------------------------------------------------------------------------17 十、仪表的使用注意事项及保修期---------------------------------------------------------------18 十一、使用常见错误分析---------------------------------------------------------------------------19

上海绎捷R6000无纸记录仪说明书

总貌画面 棒图画面 实时趋势 历史趋势 报警列表 掉电列表 组态画面 输入组态

注意事项 ◆本仪表适用于一般工业场合,如有特殊的使用要求请另行设置 保护装置 ◆为保证仪表安全工作,请使用额定电压的供电电源,正确接线, 妥善接地,接通电源后,请不要触摸仪表后部的接线端子,以防触电 ◆为了您和仪表的安全,请勿带电安装 ◆本无纸记录仪是非安防爆产品,切勿在有可燃或爆炸性气体的 环境中使用 ◆记录仪的安装位置请保证通风顺畅 ◆仪表在靠近电源动力线,强电场,强磁场或交流接触器干扰的 场合应采取相应的屏蔽措施 ◆为避免测量误差,传感器是热电偶时,请使用相应的补偿导线 传感器是热电阻时,要使用三根规格相同而且电阻值小于10Ω的铜导线,否则会造成测量误差 ◆擦拭仪表时请用干净软布,切勿蘸取酒精、汽油等有机溶剂; 如果仪表进水,请立即断电,停止使用 ◆为延长仪表的使用寿命,请定期进行保养和维护 ◆开箱时如发现仪表因运输而致的破损,请与厂家联系 ◆请勿自行维修和拆卸仪器 ◆因技术升级而作的更改不再另行通知,请以实物为准

功能特点 ?显示功能多样化 总貌画面、棒图画面、实时趋势曲线画面、历史曲线追忆画面、列表查询画面等多种不同元素画面来显示仪表信息,其显示信息量大、分辨率高、画面清晰、界面友好,显示工程量数据的数值范围更宽,可显示4 位数值:-999~9999 ?通道输入万能 全隔离万能输入,可同时输入多种信号,无需更换模块,通过软件组态即可,通用性强 ?设置功能齐全 多种参数(包括系统配置参数、输入/输出通道参数、通讯打印参数等)可进行组态设置,操作简便,更有剪贴板的复制和粘贴功能方便用户设置参数 ?选配/附加功能丰富 选配功能:数据备份、串口通讯、串口打印、报警功能、馈电输出、变送输出等 附加功能:流量累积、定量控制、批量控制、继电器延迟等 (选配功能需客户订货时注明,附加功能需定制) ?适用性、可靠性强 日常维护工作量非常小、运行费用低、应用领域广泛、抗干扰性能好、稳定性高、响应速度快、转存数据兼容性强

近代物理镀膜机实验报告

物理学本科专业近代物理实验报告 实验题目: 1 真空获得与真空测量 2 热蒸发法制备金属薄膜材料 3 磁控溅射法制备金属薄膜材料 班级:*** 学号:*** 学生姓名:*** 实验教师:*** 2014-2015学年第1学期

实验1真空获得与真空测量 地点:福煤实验楼D 栋405 【摘要】本文介绍了真空技术的有关知识,阐述了低真空和高真空的获得与测量方法。 【关键词】机械泵;扩散泵;真空技术;低真空;高真空;获得与测量 1.实验目的 (1)了解真空技术的基本知识。 (2)掌握真空获得和测量的方法。 (3)熟悉有关设备和仪器的使用方法。 2. 实验原理 2.1真空知识 2.1.1真空的概念及真空的区域划分 “真空”这一术语译自拉丁文Vacuo ,其意义是虚无。所谓真空,指的是压强比一个标准大气压更低的稀薄气体状态的空间。气体稀薄的程度称为真空度,通常用气体压强的大小来表示。气体越稀薄,气体压强越小,真空度越高;反之,则真空度越低。 1958年,第一界国际技术会议曾建议采用“托”(Torr )作为测量真空度的单位。国际单位制(SI)中规定压力的单位为帕(Pa )。我国采用SI 规定。 ● 1标准大气压(1atm)≈1.013×105Pa(帕) ● 1Torr≈1/760atm≈1mmHg ● 1Torr≈133Pa 我国真空区域划分为:粗真空、低真空、高真空、超高真空和极高真空。 ● 粗真空 Pa 3 5103331~100131???? ● 低真空 Pa 1 3 103331~103331-???? ● 高真空 Pa 61103331~103331--???? ● 超高真空 Pa 106 103331~10 3331--???? ● 极高真空 Pa 10 103331-??< 2.1.2真空技术的发展及应用 十九世纪初,利用低真空产生压力差的原理发明了真空提升、真空输送、吸尘、过滤、成形等技术。1879年爱迪生发明白炽灯,抽出灯泡中化学成份活泼的气体(氧、水蒸汽等),防止灯丝在高温下氧化.同年,克鲁克斯发明阴极射线管,第一次利用真空下气体分子平均自由程增大的物理特性.后来,在电子管、电视管、加速器、电子显微镜、镀膜、蒸馏等方面也都应用了这一特性.1893年发明杜瓦瓶,这是真空绝热的首次应用. 真空技术在二十世纪得到迅速发展,并有广泛的应用。二十世纪初,在真空获得和测量的设备方面取得进展,如旋转式机械泵,皮氏真空计,扩散泵,热阴极电离真空计的发明,为工业上应用高真空技术创造了条件.接着,油扩散泵,冷阴极电离真空计的出现使高真空

无纸记录仪使用说明书

使用注意事项: 请勿自行维修和拆卸仪器 请先将引线与接线端子连接,再与仪表插接。 请在进行下列工作时,务必断开电源后操作 1、当连接大地线时 2、当对仪器端子接线及插拔端子时 仪表上电前请仔细检查接线是否正确无误 仪表断电及再次上电的间隔在5秒以上 在下列场合应采取适当的屏蔽措施 1、靠近电源动力线的场合 2、处在强电场或强磁场的场合 3、在产生静电或交流接触器干扰等类似的场合 不要将仪表安装在下列场合 1、暴露于阳光直射的场合 2、温度和湿度超过使用条件的场合 3、有腐蚀性气体或可燃性气体的场合 4、有大量粉尘、盐及金属性粉末的场合 5、水、油及化学液体易溅射到的场合 6、有直接震动或冲击的场合

装箱清单

目录 一、概述 (1) 二、功能特点 (1) 三、技术指标 (2) 四、安装与接线 (4) 五、仪表运行及操作 (6) 六、仪表组态 (15) 七、累积功能及累积组态(选配功能) (23) 八、流量组态及带温压补偿计算功能(选配功能) (25) 九、PID控制组态(选配功能) (30) 十、故障分析及排除 (33)

一、概述 无纸记录仪以其丰富的显示画面、灵活的操作方式以及强大的记录、运算、控制和管理功能,在各行各业中获得了极其广泛的应用。本产品吸纳了各种国内外无纸记录仪的优点,应用最新的显示技术、微电子技术、数据存储和通讯技术,是一款功能齐全、操作方便、精确可靠、高性价比的产品。 本产品配置丰富,有蓝屏和彩色两种显示屏。可以接收多种类型的直流电流、电压和电阻信号,实现温度、压力、液面、流量、成分以及力、力矩、位移等物理量的显示、记录、越限监控、报表生成、数据通讯、信号变送以及流量累计等功能。 本产品主要由液晶屏、按键、ARM微处理器为核心的主板、主电源、外供变送器电源、智能通道板、大容量FLASH等构成: 可配备不同类型的智能通道板,根据应用要求选择。 内置大容量FLASH,可通过U盘快速将FLASH中的数据转储到计算机中。内置的FLASH 的容量为64M字节,8通道时若20秒记录一次可记录865天,最快0.1秒记录一次所有通道的数据。 数字显示画面、棒图显示画面、实时曲线画面、追忆曲线画面 追忆曲线读数光标功能。 测量、显示基本误差:±0.2% F·S 可组态12点报警功能。 可组态8点变送输出,光电隔离,误差小于±0.2% F·S 电流输出(4~20)mA, (0~10) mA, (0~20) mA可选。 电压输出(0~5)V, (1~5) V可选。 出厂默认设定为(4~20)mA, 其他类型订货时注明。 二、功能特点 本产品显示信息量大、界面友好、操作简单,下面是主要功能特点: 无笔、无纸记录,日常维护工作量非常小,运行费用低; 采用高亮度单色或彩色TFT液晶屏,CCFL背光、画面清晰; 采用ARM微处理器,可同时实现16路信号采集、记录、显示和报警; 采用64MB 大容量的FLASH 闪存芯片存贮历史数据,掉电永不丢失数据; 全隔离万能输入,可同时输入多种信号,无需更换模块,通过软件组态即可; 显示工程量数据的数值范围更宽,可显示5 位数值:-9999~19999; 可以组态、显示工程位号,工程单位,有流量累积; 具有闪动报警显示,同时指示各路通道的下下限、下限、上限、上上限报警;12 路继电器报警输出;

变形实验制作实验报告

梁变形实验报告 (1)简支梁实验 一、实验目的 1、简支梁见图一,力f在跨度中点为最严重受力状态,计算梁内最危险点达到屈服应力 时的屈服载荷fs; 2、简支梁在跨度中点受力f=1.5kg时,计算和实测梁的最大挠度和支点剖面转角,计算 相对理论值的误差; 3、在梁上任选两点,选力f的适当大小,验证位移互等定理; 4、简支梁在跨度中点受力f=1.5kg时,实测梁的挠度曲线(至少测8个点挠度,可用对 称性描点连线)。 二、试件及实验装置 简支梁实验装置见图一,中碳钢矩形截面梁,屈服应力 ?s?360mpa,弹性模量 e=210gpa。 图一实验装置简图 百分表和磁性表座各1个;砝码5个,各砝码重0.5kg;砝码盘和挂钩1套,约重0.1kg; 游标卡尺和钢卷尺各1个。 三、实验原理和方法 1、求中点挠度 1 简支梁在跨度中点承受力f时,中点挠度最大,在终点铅垂方向安装百分表,小表针调 到量程中点附近,用手轻拍底座振动,使标杆摩擦力最小,大表指针示值稳定时,转表盘大 表针调零,分级加力测挠度,检验线性弹性。 2、求支点转角 梁小变形时,支点转角??挠度,代入算式求支点转角。 3、验证位移互等定理: 图二的线弹性体,f1在f2引起的位移?12上所作之功,等于f2在f1引起的位移?21上 所作之功,即:f1??12?f2??21, ? a ;在梁的外伸端铅垂方向安装百分表,加力测 若f1=f2,则有:?12??21 上式说明:当f1与f2数值相等时,f2在点1 图二位移互等定理示意图 沿f1方向引起的位移?12,等于f1在点2沿f2方向引起的位移?21,此定理称为位移互 等定理。 为了尽可能减小实验误差,重复加载4次。取初载荷f0=(q+0.5)kg,式中q为砝码盘 和砝码钩的总重量,?f=2kg,为了防止加力点位置变动,在重复加载过程中,最好始终有0.5kg 的砝码保留在砝码盘上。 四、数据记录 1、中点分级加载时,中点挠度值: 2 2、测支点转角 f=1.5kg;w(端点)=0.15mm;a=71mm 3、验证位移互等定理 f(2)=1.5kg w(5)=0.34mm f(5)=1.5kg w(2)=0.36mm 4、绘制挠曲线(中点加载f=1.5kg) 五、实验结果处理 1、计算梁的屈服载荷最危险点为中点,

配套型无纸记录仪使用说明书

配套型无纸记录仪NHR-6100R 使用说明书 一、产品介绍 配套型无纸记录仪NHR-6100R系列在设计上吸纳了当今电脑结构思路:硬件上采用内带快闪存储器的新型微处理器,扩充了数据存储区,显示器采用3.5英寸128*64高分辩率点阵式白屏黑字液晶屏,软件上引入中文WINDOWS的框架思路,并采用了数据压缩技术。仪表全面采用了表面贴装工艺,并采用多重保护和隔离设计,抗干扰能力强,可靠性高。仪表可同时输入3路万能信号,输入通道相互隔离,并具有报警控制、模拟变送、RS485/232通讯等输出功能,是一款功能齐全的记录仪表。 三、订货说明 选型说明: NHR-61□R-□-□-□-□ 无纸记录仪①②③④⑤

备注1:变送输出与报警输出可组合,变送输出+报警输出≤6 ★:输入信号类型(订货时请在选型后备注信号类型)

★:输出信号类型(订货时请在选型后备注信号类型) 四、安装 1、安装位置和气候条件 仪表的安装应尽量远离马达、变压器等有冲击和震动及电磁干扰的场合。安装仪表时尽量保持水平,请勿左右倾斜。安装位置的环境温度应介于0~50℃之间,同时相对湿度不超过85%RH,且不易产生冷凝液、无腐蚀气体或易燃气体的场合。 2、安装尺寸(单位:mm) 3、仪表的安装 (1)在表盘上安装仪表的方法 按照不同仪表所需的开孔尺寸在盘面上开好对应尺寸的安装孔,将密封圈套在仪表上,再将仪表嵌入到开好的安装孔中,然后将面板安装固定夹装在盘面后面,卡在仪表上下两面,向前推动这两个固定夹,使仪表固定在盘面上,再剥掉显示屏上的保护膜即可(如果在同一表盘上安装多台仪表,应参考上图中推荐的仪表间最小间距,以保证必要的散热及装卸空间) (2)从外壳中取出表芯的方法 仪表的表芯可以从外壳中取出,其方法是将仪表前面板两侧的锁扣向外侧拨开,然后抓住仪表的前面板向外拔,即可使表芯与表壳分离。在回装时,将表芯插入表壳后一定要推紧,并将锁扣锁紧,以保证安装可靠。 (3)安装说明 ★电缆的选择、仪表的安装和电连接必须符合VD0100“1000V以下电路安装的有关规定”或本地的有关规定 ★电连接必须由专业人员进行 ★负载电路应使用保险丝,以保护继电器触点在短路或电流超过继电器最大容量时自动切断电路★输入、输出和电源应单独布线,同时相互之间避免平行 ★在仪表的电源端子上不要连接任何其它负载 ★传感器和通讯线应使用屏蔽绞线 (4)仪表标准配线说明 ★直流信号输入(过程输入)

耐磨材料及性能测试课程实验报告中国地质大学

实验一、表面纳米化实验 一、实验设备:普通数控车床,USP-125表面加工装置,待加工钢锭。 二、实验原理:应用球形超硬材料工具头对金属工件表面进行表面强化和光整加 工,原理图如下所示: 超声波发生器产生的超声信号经过换能器变幅杆的转换和放大使球形工具头产生超声波机械振动,工具头以一定静压力对工件挤压的同时,对工件表面进行超声波冲击强化。在工具头静压力和冲击力的作用下,工件表面的微观凹、凸峰谷产生挤压塑性变形而压平表面,使得表面粗糙度降低,表面层金属组织得到强化,表面层的力学性能得以改善。 三、实验流程 1、将待加工件装夹在机床卡盘上,由于此次加工的是厚度约5mm的圆钢锭, 用螺钉在其周向均匀固定。 2、通过机床卡块将超声波加工装置固定在车床刀架上,调节高度使得硬质加 工球中心与待加工钢锭回转中心处于同一高度。 3、确认主机机箱正面开关处于管断状态,用220V电源线接通主机电源,然后 打开电源开关,主机接通电源,红色电源指示灯亮。 4、拧动电源旋钮,使液晶屏幕上的预设为合适的值,按下执行机构开关,绿 色工作指示灯亮,约为2—5秒钟后频率值较为稳定,电流值也稳定在预设值左右波动,表明设备进入正常工作状态,执行机构可以开始工作。 5、开启冷却液冷却加工球,缓慢地向零件方向进给刀架,加工球与零件表面 接触,继续进给,直至加工球对零件表面的静压力逐渐增大到预设的值。在施加静压力的过程中,电流值会变化较大,停止进给刀架后,待2—15分钟,使电流值稳定在预设值左右波动,可以开始往加工方向进给刀架,加工零件。 6、处理过程中,可随时调整静压力和振幅。由于加工参数对负载影响较大,

在加工过程中参数改变不宜过快。参数的调整也可在关闭执行机构开关后(仍保持超声波电源工作)进行。 7、结束加工,先关闭执行机构开关,再关断超声电源。 四、注意事项 1、设备工作时,操作人员如对执行机构振动声音感到不适,应佩戴防护耳塞与 防护耳套。 2、应该先用超声电源线连接超声电源与执行机构,再接通主机与220V电源。 最后按下执行机构开关。结束工作时则要先按下关闭执行机构开关,再断开主机与220V电源,最后取下超声电源线。 3、用220V电源线为主机接通电源之前,应保电源开关处于关断状态。执行 机构开关按下之前,电路调节旋钮最好不要扭到电流最大处,根据所处理材料、静压力的不同应使用相应的电流加工。 4、定期(实际加工时间超过10小时后开始)检查加工球,当加工球表面光 洁度显著降低时,应更换新的加工球,否则影响加工效果。 5、每次使用后务必将加工装置上的油污、冷却液清理干净,尤其将进入前 盖内的冷却液清理干净,否则装置内的换能器长期接触冷却液会损坏。可以每次使用后使用吹风机热风吹干冷却液。 五、实验感悟及分析 超声波表面振动加工是一种机械冲击式的压力光整加工,它利用金属在常温下的冷塑性特点,利用表面施加预紧力,加以高频超声波振动,使得原有的微观波峰熨平,,使其填入波谷,从而使工件表面质量提高。具体可表现在: 1、表面粗糙度明显降低。在强烈的高频振动下,工件表面上微观的波峰被 冲击变形、碎裂,填入波谷,原有的波峰波谷高低差值降低,使得工件 表面粗糙度显著降低,一般可降低2—4级。表面粗糙度的降低对于零件 接触面的耐磨性、防止零件表面应力集中和提高其疲劳强度都有好处。 2、工件表面金属硬化。工件表层金属在塑性变形过程中,随着冷作硬化, 表面硬度提高,一般可提高3—4倍,并且从工件表面到内部呈阶梯式逐 渐降低。与其他表面强化技术比起来,即在不改变原有材料基础上提高 了工件综合性能。

磁控溅射实验报告

竭诚为您提供优质文档/双击可除 磁控溅射实验报告 篇一:薄膜实验报告,磁控溅射与高真空成膜 电子科技大学 实验报告 姓名:郭章 学号:20XX054020XX2 指导教师:许向东 日期:20XX年6月12日 一,实验室名称:光电楼薄膜制备实验室 二,实验项目名称: 有机多功能高真空成膜设备的使用及其注意事项 三,实验原理 有机oLeD器件的制备流程分为:ITo玻璃清洗→光刻→再清洗→前处理→真空蒸镀有机层→真空蒸镀背电极→真空蒸镀保护层→封装(1)ITo玻璃的洗净及表面处理:ITo 作为阳极其表面状态直接影响空穴的注入和与有机薄膜层间的界面电子状态及有机材料的成膜性。如果ITo表面不清

洁,其表面自由能变小,从而导致蒸镀在上面的空穴传输材料发生凝聚、成膜不均匀。也有可能导致击穿,使面板短路。 对洗净后的ITo玻璃还需进行表面活化处理,以增加ITo 表面层的含氧量,提高ITo表面的功函数。也可以用比例为水:双氧水:氨水=5:1:1混合的过氧化氢溶液处理ITo表面,使ITo表面过剩的锡含量减少而氧的比例增加,以提高ITo 表面的功函数来增加空穴注入的几率,可使oLeD器件亮度提高一个数量级。 (2)有机薄膜的真空蒸镀工艺:LeD器件需要在高真空腔室中蒸镀多层有机薄膜,薄膜的质量关系到器件质量和寿命。在高真空腔室中设有多个放置有机材料的坩埚,加热坩埚蒸镀有机材料,并利用石英晶体振荡器来控制膜厚。有机材料的蒸发温度一般在170℃~400℃之间、ITo样品基底温度在40℃~60℃ (3)金属电极的真空蒸镀工艺:金属电极仍要在真空腔中进行蒸镀。金属电极通常使用低功函数的活泼金属,因此在有机材料薄膜蒸镀完成后进行蒸镀。金属电极材料的蒸发一般用加热电流来表示,在我们的真空蒸镀设备上进行蒸镀实验,实验结果表明,金属电极材料的蒸发加热电流一般在20A~50A之间。 (4)器件封装工艺:LeD器件的有机薄膜及金属薄膜遇水和空气后会立即氧化,使器件性能迅速下降,因此在封装

磁控溅射法制备薄膜材料实验报告

实验一磁控溅射法制备薄膜材料 一、实验目的 1、详细掌握磁控溅射制备薄膜的原理和实验程序; 2、制备出一种金属膜,如金属铜膜; 3、测量制备金属膜的电学性能和光学性能; 4、掌握实验数据处理和分析方法,并能利用 Origin 绘图软件对实验数据进行处理和分析。 二、实验仪器 磁控溅射镀膜机一套、万用电表一架、紫外可见分光光度计一台;玻璃基片、金属铜靶、氩气等实验耗材。 三、实验原理 1、磁控溅射镀膜原理 (1)辉光放电 溅射是建立在气体辉光放电的基础上,辉光放电是只在真空度约为几帕的稀薄气体中,两个电极之间加上电压时产生的一种气体放电现象。辉光放电时,两个电极间的电压和电流关系关系不能用简单的欧姆定律来描述,以气压为1.33Pa 的 Ne 为例,其关系如图 5 -1 所示。 图 5-1 气体直流辉光放电的形成 当两个电极加上一个直流电压后,由于宇宙射线产生的游离离子和电子有限,开始时只有很小的溅射电流。随着电压的升高,带电离子和电子获得足够能量,与中性气体分子碰撞产生电离,使电流逐步提高,但是电压受到电源的高输

出阻抗限制而为一常数,该区域称为“汤姆森放电”区。一旦产生了足够多的离子和电子后,放电达到自持,气体开始起辉,出现电压降低。进一步增加电源功率,电压维持不变,电流平稳增加,该区称为“正常辉光放电”区。当离子轰击覆盖了整个阴极表面后,继续增加电源功率,可同时提高放电区内的电压和电流密度,形成均匀稳定的“异常辉光放电”,这个放电区就是通常使用的溅射区域。随后继续增加电压,当电流密度增加到~0.1A/cm 2时,电压开始急剧降低,出现低电压大电流的弧光放电,这在溅射中应力求避免。 (2)溅射 通常溅射所用的工作气体是纯氩,辉光放电时,电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,这些被溅射出来的原子具有一定的动能,并会沿着一定的方向射向衬底,从而被吸附在衬底上沉积成膜。这就是简单的“二级直流溅射”。 (3)磁控溅射 通常的溅射方法,溅射沉积效率不高。为了提高溅射效率,经常采用磁控溅射的方法。磁控溅射的目的是增加气体的离化效率,其基本原理是在靶面上建立垂直与电场的一个环形封闭磁场,将电子约束在靶材表面附近,延长其在等离子体中的运动轨迹,提高它参与气体分子碰撞和电离过程的几率,从而显著提高溅射效率和沉积速率,同时也大大提高靶材的利用率。其基本原理示意见图 5-2。 图 5-2 磁控溅射镀膜原理 磁控溅射能极大地提高薄膜的沉积速度,改善薄膜的性能。这是由于在磁控

各向异性磁电阻测量实验报告

各向异性磁电阻测量实验 摘要:本文阐述了各向异性磁电阻的实验原理及测量方法,分别测量了电流方向与磁场方向平行和垂直两种情况下电阻虽磁场的变化,最后对本实验进行了讨论。 关键词:各向异性磁电阻、AMR曲线、磁电阻测量 引言 一般所谓磁电阻是指在一定磁场下材料电阻率改变的现象。1988年,在分子束外延制备的Fe/Cr多层膜中发现MR可达50%。并且在薄膜平面上,磁电阻是各向同性的。人们把这称之为巨磁电阻(简记为GMR),90年代,人们又在Fe/Cu、Fe/Al、Fe/Ag、Fe/Au、Co/Cu、Co/Ag和Co/Au等纳米多层膜中观察到了显著的巨磁电阻效应。 1992年人们又发现在非互溶合金(如Fe、Co与Cu、Ag、Au等在平衡态不能形成合金)颗粒膜如Co-Ag、Co-Cu中存在巨磁电阻效应,在液氮温度可达55%,室温可达到20%,并且有各向同性的特点。19944年,人们又发现Fe/Al2O3/Fe隧道结在4.2K的MR为30%,室温达18%,之后在其他一些铁磁层/非铁磁层/铁磁层隧道结中亦观察到了大的磁电阻效应,人们将此称为隧道结磁电阻(简记为TMR)。目前MR室温达24%的TMR材料已制成,用TMR材料已制成计算机硬盘读出磁头,其灵敏度比普通MR磁头高10倍,比GMR磁头高数倍。 20世纪90年代后期,人们在掺碱土金属稀土锰氧化物中发现MR可达103%~106%,称之为庞磁电阻(简记为CMR)。目前锰氧化物CMR材料的磁电阻饱和磁场较高,降低其饱满和场是将之推向应用的重要研究课题。 利用磁电阻效应可以制成计算机硬盘读出磁头;可以制成磁随机存储器(MRAM);还可测量位移、角度、速度、转速等。 实验目的 (1)初步了解磁性合金的AMR。 (2)初步掌握室温磁电阻的测量方法。 实验原理 一些磁性金属和合金的AMR与技术磁化相对应,即与从退磁状态到趋于磁饱和的过程相应的电阻变化。外加磁场方向与电流方向的夹角不同,饱和磁化时电阻率不一样,即有各向异性。通常取外磁场方向与电流方向平行和垂直两种情况测量AMR。即有Δρ∥=ρ∥-ρ(0)及Δρ⊥=ρ⊥-ρ(0)。若退磁状态下磁畴是各向同性分布的,畴壁散射变化对磁电阻的贡献较小,将之忽略,则ρ(0)与平均值ρav=1/3(ρ∥+2ρ⊥)相等。大多数材料ρ∥>ρ(0),故计算公式为

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