集成电路布图设计
集成电路布图设计
集成电路布图设计是指将电子元器件的电路连接和布局图进行设计，以实现特定电路功能的一种工作过程。
集成电路布图设计是电子器件集成化发展的重要环节之一，也是芯片设计中非常关键的一步。通过布图设计，可以实现电子元器件间的电路连接和布局，确保电路的正常工作和性能稳定。
集成电路布图设计主要包括以下内容：
1. 元器件选择：根据电路设计的要求和功能需求，选择合适的元器件，如晶体管、电容器、电阻器等。选取合适的元器件对电路的性能和功能具有关键作用。
2.电路连接：根据电路设计图，将各个电子元器件进行正确的
连接，确保信号的传输和处理正确无误。电路连接需要考虑信号的传输速度、传输距离、信号干扰等因素。
3. 电路布局：合理布局电子元器件的位置和相互之间的间距，以确保电路的正常工作和稳定性。电路布局需要考虑电子元器件的散热、信号传输等因素。
4. 电源供电：为电路提供稳定的电源供电。电源供电需要考虑电压稳定性、电流容量等因素，以确保电路的正常工作和性能稳定。
5. 信号线和功耗线规划：合理规划信号线的走向和布局，减少信号干扰和功耗。信号线和功耗线规划需要考虑电路的信号传
输速度、功耗等因素。
6. 确保设计的准确性和可靠性：通过电脑辅助设计软件进行电路布图设计，可以快速设计和修改电路布图，提高设计的准确性和可靠性。
集成电路布图设计是芯片设计过程中非常重要的一步，能够使芯片的性能和功能得到有效的实现和提升。随着科技的不断发展和进步，集成电路布图设计将更加智能化和自动化，提高芯片的设计效率和性能。
集成电路属于知识产权的保护对象吗
集成电路属于知识产权的保护对象 吗 集成电路也是属于知识产权保护的范围内，对于集成电路的布图设计目前属于中国的专利范畴，对产品的形状和构造等都涉及到了专利的申请发明，对于创新都是可以申请发明专利的。 一、集成电路属于知识产权的保护对象吗 集成电路布图设计在中国的知识产权领域目前属于专利范畴。 中国专利原来分三个种类：发明，实用新型，外观设计。2001年10月1日起增加了“集成电路布图设计”。大的原则是：关于产品的形状、图案、色彩或者其结合所作出的富有美感的新设计申请外观设计专利;产品的形状、构造或者其结合所提出的新技术方案，小改进申请实用新型专利，大创新申请发明专利，而涉及方法、成分、系统的新技术方案只能申请发明专利。
布图设计专有权通常由布图设计的创作人，即由完成布图设计的人享有。如果由多人共同完成，我们国家的法律规定其专有权的归属由合作者约定;未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。受委托创作的，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定;未作约定或者不明的，其专有权由受托人享有。 集成电路布图设计，根据《集成电路布图设计保护条例》第2条，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。 集成电路布图设计专有权，根据《集成电路布图设计保护条例》第7条，是指布图设计权利人享有的下列专有权：(1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复 制;(2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投人商业利用。 【管辖】对于集成电路布图设计专有权权属纠纷案件的管辖，应当区别权属争议发生的原因即合同关系还是侵权行为，分别根据《民事诉讼法》及其司法解释有关合同和侵权案件的管辖规则来确定案件管辖。对于一般侵权纠纷案件的管辖，根据《民事诉讼法》第29条的规定，因侵权行为提起的诉讼，由侵权行为地或者被告住所地人民法院管辖;上述侵权行为地，根据最高人民法院《关于适用〈中华人民共和国民事诉讼法〉若干问题的意见》
集成电路版图布图注意要点
一、可能需要调整的参数，注意要在版图中加入DUMMY的元件，以备今后调整的需要。 二、可能需要测试的结点，要在合适的位置加入测试的PAD点。 三、先确定好端口名称和端口顺序，按合理PCB布图的需要，排好端口，定好封装。 四、依据确定的封装和端口顺序，理清模块内外的具有强干扰能力的结点和怕被干扰的结点； 布线时做好隔离和区别对待，一般用接地铝条夹道隔离或者改为上层金属跳线连接，减少与下层金属的并行长度，尽量加大与下层金属的间距，有交叉的点尽量做垂直交叉。 五、模块内N管和P管的沟道长度和宽度方向要一致，模块与模块之间也要保持方向一致。 六、OP内部的排布 1、内部要保证差分对管的XY方向的匹配或者叫交叉匹配； 2、电流镜要保证偏置支路和镜像支路的X方向匹配，左右两边做好DUMMY； 3、电流沉要保证偏置支路和镜像支路的X方向匹配，左右两边做好DUMMY； 4、电流镜和电流沉的元件要集中摆放； 5、N管和P管的沟道长度和宽度方向要一致； 6、OP的镜像电流要以电流线接入；禁止电压线接入； 7、输入和输出尽量按从左至右的原则，使输出端尽量远离输入端； 8、输入或输出要确定频率，是高频时，要做好夹道隔离或者跳线连接。 9、做沟道的POLY区域，禁止铝线跨过。 10、差分对管、电流镜、电流沉等需要匹配设计的部分要单独隔离，减少相互间的干扰。 七、需要精密匹配的电阻，要做好X方向的匹配，常用的是ABAB ABBA 等，左右两边要加 好DUMMY POLY做好边缘环境的匹配。 八、大模块的摆放，按分离安静程度不一的模块的原则，和贴近封装端口的原则来排布。较 安静易受干扰的模块要远离开关管、推动模块，逻辑处理模块和一些有强干扰特性的结点和连线。特性相同的模块要集中摆放。 九、地线处理要严格区分大电流功率地、模拟地、数字地；PAD处理上尽量分开设计，但最 好靠近摆放，方便封装邦线。 十、电源线、地线和开关使用的大电流线等，要依据电流大小推算确定线条宽度；原则上， 线条电流能力要大于有效值电流要求，接近峰值电流要求。 十一、衬底电位不同的高压P管要放置在不同的NWD中；衬底电位相同的高压P管可以共NWD以减小面积。漏电位相同的高压N管可以共NWD，否则必须单独使用NWD隔开。
集成电路布图优化技术的研究
集成电路布图优化技术的研究 一、绪论 集成电路作为当前数字电子技术的核心和基础，将小型化、高 速化、高可靠化和低功耗化等要求集于一身，因此已成为各个领 域中不可或缺的一部分。在集成电路设计中，布图优化技术是一 项重要的工作，尤其对于复杂电路，布图优化技术的应用能够大 幅度提高运算速度、降低功耗、提高稳定性。因此本文将针对集 成电路布图优化技术展开研究。 二、集成电路布图的基本概念 1、电路图 电路图是指一个电子元器件被采用之后的各个引脚、电极、电 子元器件之间的联系及其顺序，以线路形式描绘出来的图形表示法。 2、集成电路图 集成电路图是由数百个单一元件组成的集成电路元器件，具有 高集成度、高速度和低功耗的特点。 3、布图 在集成电路图中，每个元件包括输人端、输出端和控制端等网络，这些网络需进行人工组合，由此构成电路的最终形态即布图。
三、集成电路布图优化技术 1、减少开关次数 开关次数是指电路在一个时间内进行开关的次数，减少开关次 数就可以降低电路的功耗并提高电路效率，一种方法是采用状态 转移机器。 2、优化互连结构 集成电路的互连结构直接影响了电路的性能，因此对互连结构 进行优化是极其必要的。主要有两种优化方法：第一种是在线缩 圈布图，它可以减少连接的路线数目使得电路更加紧凑；另一种 是采用连续布局方法，对整个电路进行优化排布，从而达到优化 互连结构的目的。 3、优化物理结构 物理结构对电路的性能有着重要的影响，因此需要对电路的物 理结构进行优化。一种方法是采用混合布图，即在设计布图的同 时采用物理结构，这样可以有效简化布图，减少延时并降低功耗。 四、案例分析 以32位微处理器为例，该处理器采用了物理结构与线路约束 的混合布图技术优化设计，具有比传统电路更高的效率和精度。 具体来说，它采用的关键技术包括：瓶颈电路检测、布图优化规
集成电路布图设计专利授权合同
集成电路布图设计专利授权合同是一份非常重要的合同，它涉及到了电子行业中的核心技术， 即芯片设计。这篇文章将从以下几个方面进行探讨：什么是集成 电路布图设计专利，它对企业的意义是什么，以及如何签署。 一、什么是集成电路布图设计专利？ 集成电路布图设计专利是指保护芯片设计对外公开的一种方式。在全球范围内，只有垄断了芯片设计知识产权的企业才能获得更 大的市场份额。布图设计专利被视为集成电路设计工艺的核心， 包括用户可见部分和底层器件布图。 二、集成电路布图设计专利对企业的意义 1.巨大的商业价值 随着芯片制造技术的不断提高和需求的增加，拥有布图设计专 利的企业将拥有更大的商业价值，因为他们能更好地满足客户的 需求。在竞争中，布图设计专利拥有了更高的的交易效率和更大 的市场拓展空间。
2.技术创新推动力 集成电路布图设计专利能够鼓励公司进行更多的创新，从而帮助公司在技术领先地位上更具竞争力。通过保护专利权，一些创新的技术可以得到更好地应用与开发，推动了该领域的发展和不断提升。 3.提高行业声誉与声望 在业内，布图设计专利被视作是一种企业核心技术的体现，因此企业肯定会受到更广泛的尊重和认可，拥有更大的话语权和影响力。布图设计的核心价值在于保护公司的核心技术研发、管理和优化，追求企业的长期发展。 三、如何签署 在签署之前，各个合作方都要充分了解合同的具体内容和风险提示，明确自己的利益和权益。其中，合同的具体内容主要包括以下几个方面：
1.双方的权利和义务 合同应明确双方的权利与义务，确保合作的事项和抱负得以顺利推进。这其中包括布图设计的授权范围和限制，专利权的授权期限和归属权，以及变更合同等方面。 2.支付标准和方式 此章节包括合作费用的支付标准和方式。雇主和雇员方应当明确各自的支付标准并在内容上做到公平合理，同时采取合适的付款方式。 3.保密条款 在合同中，保密条款是至关重要的。合作双方应该在合同中确定所需保密的信息范围，并明确遵守保密的义务和责任。对于泄露保密信息的责任，应投保保密责任险，减少合同风险。 4.期限与解除
集成电路布图设计的概念及特点
集成电路布图设计的概念及特点 集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。这种设计与集成电路中部分或者全部元件的立体配置有关，通俗地说就是各个元件在集成电路中的配置图。 布图设计不同于普通设计图，它直接体现了集成电路的物理结构。在布图设计中，集成电路中的元件已不再是物理意义上的元件，而是一种具有元件功能的图形化设计，这种设计体现了元件的功能，因此具有功能性。由于布图设计本身作为集成电路物理结构的一部分，他所代表的元件的配置，实质上就是将这些元件在集成电路中排列组合的一种方法，也就是制作集成电路物理结构的方法。 布图设计也不同于技术方案，利用技术方案生产产品需要将方案实施，而利用布图设计只要将布图设计做到半导体材料中去就行了，所以布图设计是集成电路生产过程中的一个“特殊的”中间产品。而它的特点导致各国无一例外的将其单独作为集成电路法保护的客体。 1、布图设计制作过程中的高投入 布图设计的制作，要经过设计、制成电器电路图和转换成布图设计的三个阶段。第一阶段是进行设计，用模拟或数字电路组成电路系统，这是一个复杂的智力占主导的过程，它凝聚了许多专业开发人员的创造性成果，并非一般人所能胜任，是智慧的体现。第二、三阶段是以技术占主导过程，在这个过程中现根据各种模态把逻辑电路转换成电气电路，再用光刻技术、电子束加工等方法经若干工序，将电气电路图只做到硅片中，成为一种元件及炼仙丹立体布局图，从而得到布图设计。这两个阶段用到各种高科技设备，非一般机器所能达到。所以布图设计的制作过程是智力和技术的高投入。要实现以上三个过程必须有强大的财力来支持，因此，这三个阶段也需大量的资金。 2、产品投入市场后易被复制 集成店产品投入市场以后，与前面艰辛的实现过程恰恰相反，其所凝聚的技术成分极易被他人获取。要想得到集成电路的核心布图设计，可以先将集成电路融化分解，然后通过照相等手段将其中的布图设计记录下来，再经计算机处理，就可以获得原始布图设计资料。将布图设计资料以编码形式存储于磁盘、磁带等磁介质中，通过计算机程序用几何坐标控制电子束，在硅圆片上刻印一层又一层的线路，便可以获得与原来一模一样的集成电路产品。由于技术的无形性，不能通过控制技术载体来现在技术，又由于技术的无线可分性，技术不仅可以被一个人使用，还可以被无限多个人使用，所以集成电路很容易被人复制，集成电路知识产权易受到侵犯。 布图设计制作过程中的高投入和集成电路产品投入市场后的易被复制所表现出的巨大差异充分体现出法律保护集成电路知识产权的重要性。如果不予以充分合理的保护，那么研发者的智力和资金投入就无法得到保障，整个集成电路产业也将受到影响。为此，自1984
实验38 模拟集成电路的版图设计
实验38 模拟集成电路的版图设计 模拟集成电路设计是现代集成电路设计的重要组成部分。模拟集成电路的版图设计是模拟集成电路设计环节中的重要关键环节。模拟集成电路版图设计的优劣直接影响着整个集成电路的性能和设计的成败。 本实验要求学生在系统地学习了《半导体物理》、《场效应器件物理》、《模拟集成电路设计》和《集成电路制造技术》等专业知识的基础上，使用Tanner公司设计开发的集成电路版图设计工具Ledit软件，独立完成CMOS模拟集成电路单元的版图设计和布局工作，提高模拟集成电路版图设计和布局能力，强化对模拟集成电路制造技术的理解和知识运用能力，培养学生初步的模拟集成电路版图设计能力。 一、实验原理 1. 模拟集成电路版图中的器件与设计规则 在模拟集成电路中，主要器件有NMOS、PMOS、NPN和PNP晶体管，二极管、电阻和电容等。这些器件在Ledit软件中，实现的方法存在较大差异，但都是遵循器件的定义实现的。器件的定义存储在以.ext为后缀的器件萃取文件中。 在Ledit软件环境下，P型衬底N阱CMOS 2P2M工艺下(两层多晶两层金属)，模拟集成电路版图中器件的设计规则，除去与数字集成电路版图设计中通用的规则外，主要还有：NPN、PNP晶体管设计规则、电容设计规则和电阻设计规则等，表38.1中摘录了这些规则中的部分内容。使用这些设计规则可以实现NPN、PNP、MOS电容和电阻等器件版图。 =1.0μm部分设计规则 表38.1 P型衬底N阱CMOS工艺下， 182
在绘制模拟集成电路版图时，所绘制的各种基本图形尺寸不能小于这些设计规则要求的尺寸，否则将导致设计规则错误。在Ledit软件环境下，完成设计规则检查的功能称为设计规则检查（Design Rule Check，DRC）。在集成电路版图绘制过程中，需要经常性地使用DRC功能来检查版图是否存在错误，这样做可以避免同时有太多违反设计规则的错误产生，决定着版图的完成效率和完成质量。版图的设计规则是最小尺寸要求，将基本图形的尺寸有意绘制大些，DRC 检查不认为是一种设计规则错误，但在整个集成电路中将造成芯片面积的浪费，所以在布局基本图形时，充分考虑器件必要的几何尺寸的同时，应使用尽量小的基本图形尺寸。 2. 模拟集成电路版图图层定义 在Ledit软件环境中，P型衬底N阱CMOS 2P2M工艺条件下，模拟集成电路版图中除去与数字部分定义相同的基本层外，主要还定义有：一层多晶硅电阻识别标记（Poly Resistor ID）、二层多晶硅电阻识别标记（Poly2 Resistor ID）、N 型扩散电阻识别标记（N Diff Resistor ID）、P型扩散电阻识别标记（P Diff Resistor ID）、P型基区电阻识别标记（P Base Resistor ID）和N阱电阻识别标记（N Well Resistor ID）等电阻类基本层；一层多晶硅与二层多晶硅电容识别标记（Poly12 Capacitor ID）、NMOS电容识别标记（NMOS Capacitor ID）和PMOS电容识别标记（PMOS Capacitor ID）等电容类基本层；NPN晶体管识别标记（NPN ID）、P型基区识别标记（P Base）、横向PNP晶体管识别标记（LPNP ID）、横向PNP 晶体管发射极识别标记（LPNP Emitter ID）和二极管识别标记（DIODE ID）等有源器件类基本层。所有识别标记都是电路萃取标记。 使用上述模拟集成电路版图的基本层定义，可以用来制作MOS晶体管、双极晶体管、二极管、电阻和电容等器件。集成电路版图中的基本层就是相关工艺的光刻掩模。图38.1给出了NMOS、PMOS晶体管的纵向剖面结构。图中有源区的不同，充分地说明了N型和P型选择区是重要的有源区掺杂类型识别标记。图中是采用多支晶体管并联结构实现的较大宽长比晶体管。 图38.1 NMOS、PMOS晶体管的纵向剖面结构 图38.2绘出了NPN、PNP晶体管的纵向剖面结构。左侧NPN晶体管存在P 型基区，右侧PNP晶体管中没有类似结构，这正是纵向NPN晶体管与横向PNP 晶体管的一个重要差别。在CMOS工艺条件下，可以同时实现纵向NPN晶体管 183
集成电路版图设计的技巧分析
集成电路版图设计的技巧分析 摘要：集成电路产品只有拥有更小的尺寸和更好的良率才能在市场竞争中脱颖 而出，这就要求版图设计人员拥有更加专业的水平和更高的技能。基于此，本文 主要分析了集成电路版图设计的技巧。 关键词：集成电路；版图设计；布局；技巧 1集成电路版图设计的概述 在集成电路设计的过程中，版图设计是最后一个设计环节，起到一个收尾的作用，是在 前面系统设计、逻辑设计及电路设计的基础上所开展的。集成电路的版图设计包括很多方面，是将电路拓扑为电芯片的必要手段。因为之前的集成电路设计都是在图纸上完成的， 要想将这些设计应用在实际的集成电路芯片上，就必须要对其进行线路布局和版图设计。 2集成电路版图设计流程分析 2.1与电路设计者进行有效沟通 在版图设计开始之前，版图设计师需要跟电路设计师取得良好的沟通。需要了解他对于 工作进度的安排以及对版图面积的要求。知道哪些功能模块在电路中特别重要，哪些器件 需要进行高度的匹配以及哪些模块之间可以就近摆放或者需要进行相应的隔离处理。还包括 要了解电路中哪些是大电流的部分，需要多大的线宽等等一系列版图设计的细节。版图设计 师只有在设计的初始阶段尽可能多的了解和熟悉版图设计中的要点和值得注意的事项，才能 在整个芯片设计过程中更有针对性的进行优化。 2.2全局规划设计 全局规划设计环节决定着相关元件所处的位置和分布方式，一般来讲这一布局设计与已 经成型的电路图很相像，只需要按照每个模块的面积作出相应调整，使其以最紧凑的合理方 式结合在一起。另外，在全局设计中还要注意合理设计焊盘的分布，焊盘的布局原则是在 满足电路内部信号连接的基础上，尽可能减少使用面积和芯片成本。 2.3分层设计 分层设计是在全局规划的基础上，按照从大模块到小模块的设计顺序，将各种功能模块 的电路划分为一个个单元，然后合理的设计这些单元内部的子模块和器件。通过先完成底 层子模块级别的版图设计，再一层一层逐步往上，进一步整合完成最上层的整个集成电路 的版图设计。 2.4版图的验证2.4.1DRC 验证 DRC 是设计规则检查，根据工艺设计规则对版图进行检查，如果发现存在违反设计规则 的地方会在版图上标记，并显示错误的原因。此时，版图设计工程师就要根据提示做出相 应的更改，直到没有DRC 报错为止。在版图设计的最初阶段就要对每个模块进行DRC 验证，以确保每个底层的模块都是符合设计规则的。否则如果等到最上层布局布线完成后，才发现 模块内部有大量的DRC 错误就会很难修改，有的甚至会影响到整个项目的进度。 2.4.2ANT 检查
案例集成电路需要的资料MIS3103布图设计结构、技术、功能简要说明
布图设计结构、技术、功能简要说明 MIS3103布图采用MOS结构，CDMOS工艺技术；实现电流模式控制的降压直流到直流转换功能。 布图结构主要分为五大模块： 1、ISENS模块 2、REG模块 3、DRIVER 模块 4、功率管模块 5、ESD模块 （1）ISENS模块 完成的功能是通过外围电路反馈回来的电压产生一个控制驱动电路的信号。 模块中的每一个LDNMOS、HVPMOS单独画并用保护环将每个晶体管隔离开，有足够的相隔距离确保相互之间无影响或影响最低。与HVPMOS相连的低压晶体管也需要相互独立并用保护环隔离，在低压晶体管区域内的NMOS和PMOS分别用P+保护环和N+保护环隔离，尽量使晶体管靠近保护环，减小闩锁效应的可能性。电阻模块中采用ABCCBA的匹配方式。 （2）、REG模块 该模块是偏置电路模块，为集成电路其他模块提供偏置电压和电流。 在该模块中的高压晶体管都采取各个独立方式布局，用保护环隔离开。各个小模块尽量用保护环隔离开，彼此之间有足够的空间。模块采用的是band_gap结构提供参考电压VBG。所用的三极管采用同质心匹配方式布局，需要和电阻电容连接的晶体管尽量放在模块的外面，因为电阻电容占地面积较大，并且一般是最后布局，放在模块的边沿和空白处，从而节省面积，减小电阻电容到晶体管的连线距离，减少寄生电阻电容。 （3）、DRIVER模块 该模块是输出驱动模块，为功率管提供足够的驱动电流。 模块中的逻辑单元电路，PMOS和NMOS分别用N+保护环和P+保护环完全隔离开，确保逻辑信号互不干扰。输出级中的PMOS和NMOS也用保护环隔离开。 （4）、功率管模块 流过功率管电流较大，所以一般功率管也很大，在布局时分成三个小模块并排列，实现同质心匹配，漏极和源极连接采用手指交叉结构布局，从而使电流均匀分配到每个小管子。因为该功率管还起着ESD保护功能作用，晶体管漏极的contact 离栅极Poly的距离设计要比一般要求要稍大点，增加漏极的电阻有利于提高ESD的性能。 （5）、ESD模块 该模块是静电保护结构，防止静电击穿器件。在静电电流产生时提供一个低电阻通路快速释放掉静电电流。ESD不能影响集成电路的正常工作状态。该模块采用GCDNMOS和GGNMOS两级保护结构。PAD引脚与晶体管连接采用Finger结构，在发生ESD时能够尽量快速且同时开启每个晶体管。采用DNMOS结构就可以增加漏极电阻但也需要增加漏极contact到Poly 的距离，GGNOMS结构也采用了增加漏极到Poly的距离来增加漏极电阻。 总体布局考虑：每个小模块应尽量规划为矩形模块便于顶层布局，也节省空间。所有模块用P+保护环完全隔离，适当增加保护环的宽度，减小电阻；该电路采用并联P+保护环。
集成电路布图设计合同范本
集成电路布图设计合同范本 合同编号：XXXXXX 集成电路布图设计合同范本 甲方：【甲方名称】 地址：【甲方地址】 统一社会信用代码：【甲方信用代码】 乙方：【乙方名称】 地址：【乙方地址】 统一社会信用代码：【乙方信用代码】 鉴于甲方希望委托乙方进行集成电路布图设计，双方经友好协商，达成如下合 作意向，并签订本集成电路布图设计合同（以下简称“合同”）： 第一条合同目的 甲方委托乙方负责执行集成电路布图设计工作，确保设计的准确性、可靠性和 合法性。 第二条委托内容 1. 甲方授权乙方负责集成电路的整体设计和绘制，包括但不限于逻辑设计、电 气设计和物理设计。 2. 乙方应根据甲方的需求和要求，完成所委托的集成电路布图设计，并及时提 供设计稿给甲方审查。 3. 乙方应遵守有关法律法规，确保设计稿的合法性，不得侵犯他人的知识产权。
第三条时间要求 1. 乙方应在合同签订之日起【XX】个工作日内完成集成电路布图设计，并提交设计稿给甲方。 2. 甲方应在合理时间内对设计稿进行审核，若有修改需求，应及时提出，并与乙方共同商定修改方案。 第四条技术支持 1. 乙方应提供必要的技术支持和解答。 2. 若设计存在缺陷或问题，乙方须积极配合甲方进行修改和调整，直到设计完全符合甲方的要求。 第五条保密条款 1. 双方承诺对于在合作中了解到的对方商业秘密严格保守，并不得以任何方式透露、泄露、转让给任何第三方。 2. 乙方应采取必要的保密措施，保护甲方提供的技术、信息及所有相关资料。 第六条费用支付 1. 甲方应按照双方协商一致的费用标准，及时向乙方支付设计费用。 2. 设计费用支付方式：【支付方式】。 3. 若因甲方原因导致设计过程中产生额外费用，由甲方承担。 第七条违约责任 1. 任何一方违反本合同约定的，应承担相应的违约责任。 2. 如因乙方故意或重大过失导致设计稿无法按照合同约定的要求完成，乙方应承担违约责任，并赔偿甲方的损失。
集成电路布图设计属于知识产权中的哪一类？
集成电路布图设计属于知识产权中的哪 一类？ 集成电路布图设计在中国的知识产权领域目前属于专利范畴。中国专利原来分三个种类：发明，实用新型，外观设计。2001年10月1日起增加了“集成电路布图设计”。大的原则是：产品的形状、构造或者其结合所提出的新技术方案，小改进申请实用新型专利，大创新申请发明专利，而涉及方法、成分、系统的新技术方案只能申请发明专利。 ▲集成电路布图设计属于知识产权中的哪一类? 集成电路布图设计在中国的知识产权领域目前属于专 利范畴。 中国专利原来分三个种类：发明，实用新型，外观设计。2001年10月1日起增加了“集成电路布图设计”。大的原则是： 关于产品的形状、图案、色彩或者其结合所作出的富有美感的新设计申请外观设计专利;产品的形状、构造或者其结合所提出的新技术方案，小改进申请实用新型专利，大创新申请发明专利，而涉及方法、成分、系统的新技术方案只
能申请发明专利。 布图设计专有权通常由布图设计的创作人，即由完成布图设计的人享有。如果由多人共同完成，我们国家的法律规定其专有权的归属由合作者约定;未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。受委托创作的，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定;未作约定或者不明的，其专有权由受托人享有。 集成电路布图设计，根据《集成电路布图设计保护条例》第2条，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。 集成电路布图设计专有权，根据《集成电路布图设计保护条例》第7条，是指布图设计权利人享有的下列专有权：(1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制;(2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投人商业利用。 【管辖】对于集成电路布图设计专有权权属纠纷案件的管辖，应当区别权属争议发生的原因即合同关系还是侵权行
集成电路布图设计专利许可使用协议书
集成电路布图设计专利许可使用协议书 随着科技的不断发展，集成电路技术在各行各业都发挥着重要 作用。而作为集成电路的核心部分，布图设计对于整个电路的功能、性能、稳定性等方面都有着决定性的影响。因此，布图设计 专利的许可使用成为了当前亟待解决的问题之一。 一、布图设计专利许可使用的现状 目前，国内外对于集成电路布图设计专利许可使用的规定并不 完善，容易引发知识产权的侵权争议。在国内，人们对此问题缺 乏足够的认识和了解，相关法律法规也不够完善。同时，在国外，特别是欧美等发达国家，对于布图设计专利的许可使用规定较为 严格。这种规定下，一旦涉及到侵权行为，将会产生巨额的赔偿 和影响，这也给我国的集成电路产业提出了更为严峻的挑战。 二、布图设计专利许可使用协议书的意义 由于集成电路布图设计专利的技术含量较高，使得它的许可使 用显得更为重要和敏感，因为一旦侵犯相关专利权，将对相应的 市场和产业带来灾难性的影响。而此时，布图设计专利许可使用
协议书就显得尤为必要和重要了。这份协议书旨在约定双方在布 图设计专利许可使用方面的权利和义务，以及一些必要的规范。 三、布图设计专利许可使用协议书的具体内容 1. 许可对象及范围 协议书应明确许可使用的对象和具体范围。如果只许可使用部 分专利，应当具体列出相关专利名称、专利权人、专利号等信息。如果许可使用范围较广，则要明确泛用性较强且不影响专利权人 合法权益的使用方法或使用时限。需要注意的是，对于本身具有 侵权风险或者与同行业其他公司具有关联的专利，应当慎重考虑 是否纳入协议内容。 2. 计费方式和金额 由于许可使用是一种付费行为，协议书也需精确说明计费方式 和金额。一方面，计费方式应该遵循公正、合理、透明的原则， 并涵盖专利授权费、使用费、技术支持费等费用。另一方面，一
集成电路布图设计专利许可合同
集成电路布图设计专利许可合同随着现代科技的不断进步，集成电路的研发越来越成为人们关注的焦点。而作为集成电路的基础设计，布图设计自然也备受重视。在这个背景下，授权许可合同不可避免地成为布图设计专利技术的一个重要内容。 一、许可合同的概念 许可合同是指拥有一项技术专利的人，在一定的条件下，授权其他人在其生产或销售的产品中使用该技术，从而获得许可费用的一份合同。 在集成电路布图设计技术中，如若掌握了核心的技术专利，便可将其的使用授权给其他公司。被授权单位可在一定的条件下使用该专利技术，同时向授权方支付相应的授权费。 二、许可合同的内容 1.授权范围：授权方应在合同中明确授权的范围及方式，包括具体的产品规格、使用领域、生产和销售地域等细节。
2.授权费用：合同中应明确授权方享有的许可费用，以及支付方式和时间。授权费用的具体金额由双方协商并签订协议。 3.使用义务：授权方应确保使用授权专利的产品符合技术标准和产品标准，以确保产品质量和安全，同时保护授权方的商业利益。 4. 质量保证：合同中应有义务规定授权方应努力保证生产的产品达到技术要求，合同法律规定之前发生的产品质量问题都由授权方承担。 5. 保密义务：合同中应规定，接受授权的一方应对授权方的商业机密、技术机密和其他重要机密进行保密，并严格遵守遵守法律法规和约定的保密责任。 6. 期限：合同中应明确授权期限，包括全球范围和授权时间。 三、许可合同的重要性
集成电路的布图设计专利许可合同不仅仅是商业合同，更是一份价值巨大的法律文件。它不仅承载着双方的商业利益，也承载着社会的发展责任。 首先，它能够推动集成电路技术的进步。通过授权让更多的公司或者个人使用布图设计技术，可以大幅度降低研发成本，增强行业的竞争力，进而推动技术的进步。 其次，它有利于保护专利技术的商业利益。对于授权方而言，专利技术是一种重要的核心竞争力。通过签订授权协议，有利于授权方在特定竞争关系下保护商业机密，控制技术传播，掌握话语权，降低技术盗窃和抄袭的风险。 最后，它有利于维护产品的稳定性。通过与专业的布图设计公司合作，授权方可以在产品开发和制造的过程中，提高产品的质量保证水平，提高生产效率和产品的安全性，使无法普及的技术更好地服务于广大消费者。 综上所述，集成电路布图设计专利许可合同的意义重大，能够推动技术进步，保护商业利益，维护产品的稳定性，因此在签署
集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯片”集成电路布图设计侵权案
集成电路布图设计专有权保护范围的确定——“锂电池保护芯 片”集成电路布图设计侵权案 锂电池保护芯片是近年来电池行业重要组成部分之一，其保护性能直接关系到锂电池的使用寿命和安全性。因此，锂电池保护芯片的布图设计被视为一项重要的技术创新和行业贡献。 然而，随着市场的竞争日益激烈，一些企业未经授权就利用他人的锂电池保护芯片布图设计进行生产和销售，侵犯了布图设计的专有权。为保护创新和公平竞争，法律对集成电路布图设计的专有权进行规定，下面将以锂电池保护芯片布图设计侵权案为例，探讨其专有权保护范围的确定。 首先，根据《著作权法》和《集成电路布图设计条例》的规定，布图设计的保护范围应包括布图设计本身以及对其应用的实际电路，在理论功能和实际应用上均受到法律保护。对于锂电池保护芯片布图设计，其保护范围应包括以下几方面： 一、布图设计本身的保护 锂电池保护芯片布图设计包括了电路结构、线路连接、元器件排布等多个方面，是一种抽象的设计方案。它具有一定的创造性和智力成果，因此应享有版权保护。与此同时，根据《集成电路布图设计条例》的规定，布图设计的保护范围应包括以下几个方面：电路结构的拓扑形状、元器件的排列组合、电路阻抗的调节、电路可靠性的改进等。这些元素合起来构成布图设计的本质特征，是其享有版权保护的主要内容。
在准确界定保护范围时，应结合具体案例进行分析。比如，若一家企业复制了另一家企业的锂电池保护芯片布图设计，并进行了一定的变形和修改，但其实际应用电路与原设计无异，那么其行为仍应视为侵权。因为这种侵权行为已经涉及到了布图设计的实际应用，而不仅仅是在设计图纸上的复制行为。因此，对于锂电池保护芯片布图设计的专有权保护，应综合考虑其理论创新和实际应用，避免过于僵硬划分保护范围而影响正常的技术交流和创新。 二、对其应用的实际电路的保护 锂电池保护芯片的布图设计是为实际电路服务的，因此其保护范围也包括电路的实际应用。具体来说，就是指在产品制造过程中所需要的电路信息，如板子的尺寸、元器件的型号和参数、线路的走向等，这些都由锂电池保护芯片的布图设计提供。因此，在实际使用过程中，只要他人未经授权使用了锂电池保护芯片的布图设计，就属于侵权行为。 在实际应用方面，可能出现一些细节上的差异，如元器件的品牌、工作频段等等，这种差异可能不会影响到锂电池保护芯片的整体作用，但对于没有进行实质性改动就直接使用别人布图设计的企业来说，其仍涉嫌侵权。 三、综合应用的保护 锂电池保护芯片的布图设计的专有权保护应针对上述两个方面进行综合考虑，强化其创造性和公平竞争的目的，同时在实际
集成电路布图设计专有权的侵权判定
集成电路布图设计专有权的侵权判定 集成电路布图设计是现代电子设计中不可或缺的一部分。它可以实现在一个芯片上集成多个电路功能模块，从而提高电路的效率、可靠性和整体性能。然而，由于其特殊性，集成电路布图设计也被视为一种知识产权，其专有权保护具有重要意义。本文将探讨集成电路布图设计专有权的侵权判定问题。 一、集成电路布图设计的专有权 1.1 集成电路布图设计的定义 集成电路布图设计是指将电路的设计原理图转化为实际的电路版图的过程，包括元器件的布局、线路的连接和制造层次的确定，从而实现电路功能的实现。 1.2 集成电路布图设计的专有权 集成电路布图设计依据我国《专利法》的规定，包括专利权和专有权两个方面，其中专有权也称为板块图设计权，属于著作权范畴。专有权保护的是集成电路布图设计的图形表现，即设计师原创的布图图案。 1.3 集成电路布图设计的专有权保护标准 根据我国《著作权法》相关规定，集成电路布图设计必须具备原创性、表达性和创作独立性的特征。同时，由于集成电路布图设计具有实用性、技术性和创新性的特质，因此其保护标准
要求相对较高，必须具有一定的独创性，且满足实际应用需求。 二、集成电路布图设计侵权 2.1 集成电路布图设计侵权定义 集成电路布图设计侵权是指没有获得设计权人同意，擅自使用、复制、出版、转载、展示、发行集成电路布图设计的行为。 2.2 集成电路布图设计侵权形式 集成电路布图设计侵权形式多种多样，主要包括以下几种： （1）盗用他人的集成电路布图设计； （2）擅自修改、复制、利用他人的集成电路布图设计； （3）未获得专有权人的授权，利用和复制其设计； （4）贩卖、出售盗版集成电路布图设计； （5）抄袭他人的集成电路布图设计等。 2.3 集成电路布图设计侵权的法律责任 针对集成电路布图设计专有权侵权行为，我国法律规定了针对性的法律法规。依据相关法律规定，集成电路布图设计专有权的侵权行为需要承担民事、行政和刑事责任，具体如下：
集成电路布图设计保护条例
集成电路布图设计保护条例 文章属性 •【制定机关】国务院 •【公布日期】2001.04.02 •【文号】国务院令第300号 •【施行日期】2001.10.01 •【效力等级】行政法规 •【时效性】现行有效 •【主题分类】集成电路布图设计 正文 中华人民共和国国务院令 第３００号 《集成电路布图设计保护条例》已经２００１年３月２８日国务院第３６次常务会议通过，现予公布，自２００１年１０月１日起施行。 总理朱镕基 二００一年四月二日 集成电路布图设计保护条例 第一章总则 第一条为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。 第二条本条例下列用语的含义： （一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品； （二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个
是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置； （三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织； （四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为； （五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。 第三条中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。 外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。 外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。 第四条受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。 受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。 第五条本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。 第六条国务院知识产权行政部门依照本条例的规定，负责布图设计专有权的有关管理工作。 第二章布图设计专有权
电子设计自动化中集成电路布图规划算法的研究
电子设计自动化中集成电路布图规划算法 的研究 摘要： 随着集成电路设计复杂度的增加，电子设计自动化（EDA）领域日益重要。集成电路的布图规划是设计过程中关键的一个步骤，它涉及到电路的可布线、功耗、时序等多个约束条件的优化。本文将重点探讨电子设计自动化中集成电路布图规划算法的研究。 一、引言 集成电路的布图规划是电路设计过程中的关键环节。它旨在根据给定的电路规范和约束条件，确定电路中各个元器件的摆放位置和连线路径，从而满足电路的工作性能、功耗和可布线等要求。 二、集成电路布图规划算法的分类 目前，研究人员提出了多种集成电路布图规划算法，通常可以分为基于规则方法、基于启发式方法和基于优化方法三大类。 1. 基于规则方法 基于规则方法是最早应用于集成电路布图规划的方法之一。它利用人工定义的布图规则来进行电路布图，例如规定某些元件必须放在特定的位置或者限制某些元件的距离。这种方法简单有效，适用于小型电路设计。然而，在面对复杂电路设计时，规则方法的适用性和效果有限。 2. 基于启发式方法
基于启发式方法采用经验或者专家知识来指导电路布图的过程。常见的 方法包括图搜索、模拟退火和遗传算法等。这些方法通过优化搜索算法来获 取电路的较优布图。启发式方法具有较高的效率和灵活性，适用于中小型电 路设计。然而，在处理大规模电路时，启发式方法往往难以找到全局最优解。 3. 基于优化方法 基于优化方法是近年来研究的热点。它通过数学优化模型来描述电路布 图问题，并利用优化算法求解最优解。主要优化方法有线性规划、整数规划、混合整数规划等。这些方法可以通过数学模型和算法的优化，获取电路布图 的最优解，具有较高的准确性和鲁棒性。但是，基于优化方法的计算复杂度 较高，处理大规模电路仍然存在困难。 三、集成电路布图规划算法的关键问题 集成电路布图规划算法的研究还面临一些关键问题，如约束条件的建模 和满足、算法的计算复杂度、性能评估和实验验证等。 1. 约束条件的建模和满足 布图规划涉及多个约束条件，如引脚位置约束、连线路径约束和功耗约束。这些约束条件的建模和满足是算法设计的核心问题。研究人员通过数学 模型和算法来描述和优化这些约束条件。例如，可以使用线性规划模型来表 示布图约束，并利用整数规划或混合整数规划方法求解。 2. 算法的计算复杂度 由于集成电路的复杂性，布图规划算法的计算复杂度较高。研究人员需 要设计高效的算法来降低计算复杂度。一种常见的方法是将布图规划问题划
集成电路布图设计
集成电路布图设计 摘要： 集成电路布图设计是指将电子器件和电路元件按照一定的规则和布 局方式进行布局和连接，形成完整的电路图，以实现电路的功能。 本文提供了对集成电路布图设计的概述，包括布图设计的流程、常 用的布局和连接方法以及相关的工具和技术。同时，还介绍了一些 布图设计中需要注意的问题和一些常见的错误。最后，提供了一些 实例来展示集成电路布图设计的应用。 1. 引言 集成电路布图设计是现代电子工程中不可或缺的一个环节，扮演着 连接电路设计和实际制造的桥梁作用。布图设计的质量和准确性对 整个电路的性能和效果有着重要的影响。因此，掌握布图设计的原 理和技术是每个电子工程师必备的能力之一。 2. 布图设计的流程 在进行集成电路布图设计时，一般可以分为以下几个步骤： (1) 收集需求：明确电路的功能要求和性能指标，包括输入输出端口、电源要求、布局要求等。 (2) 电路图设计：根据需求进行电路图设计，包括选择器件和元件、确定布局和连接方式等。
(3) 元件库选择：选择合适的元件库，根据需求将所需元件导入到设计工具中。 (4) 布局设计：根据电路图进行器件的放置和布局，考虑电路的规模、功耗、信号干扰等因素。 (5) 连接设计：完成布局后，根据电路图进行线路的连接，保证电路的通路畅通。 (6) 仿真和验证：通过仿真和验证工具对布图进行仿真和验证，确保电路的性能和正确性。 (7) 产生工艺文件：根据验证结果生成相应的工艺文件，用于后续的制造和测试。 3. 布图设计的常用方法 在进行集成电路布图设计时，有一些常用的方法和技巧可以提高设 计的效率和准确性，包括： (1) 分层布局：将电路分为若干层，分别布置不同的电路功能，以减少信号干扰和功耗。 (2) 电源和地线的设计：合理设置电源和地线的布局，使其尽可能短而粗，减少电源和地线的电阻和电感。 (3) 时序优化：根据电路的时序要求，合理安排线路的长度和延迟，以保证电路的稳定性和性能。 (4) 信号完整性：考虑信号的传输和干扰问题，设计合适的电路保护和屏蔽措施。
集成电路布图设计委托代理合同
集成电路布图设计委托代理合同本文为《集成电路布图设计委托代理合同》： 甲方：（委托方） 地址： 联系人： 电话： 邮箱： 乙方：（代理方） 地址： 联系人： 电话： 邮箱： 鉴于甲方有意委托乙方从事集成电路布图设计工作，经双方友好协商，达成如下合同： 一、任务描述 1.1 甲方委托乙方负责进行集成电路布图设计工作，具体任务包括：（详细列举任务要求，如设计范围、功能要求、性能指标等）
1.2 乙方应根据甲方提供的相关资料和要求，进行集成电路布图设计，并确保设计符合相关法律法规和行业标准。 1.3 乙方应根据甲方的要求，对设计过程进行及时的沟通和反馈， 确保双方在设计过程中的有效合作。 二、权益保障 2.1 甲方保证提供给乙方的资料真实、完整、准确，并对由于资料 不准确或不完整引起的问题承担责任。 2.2 乙方应妥善保管甲方提供的资料和设计文件，并保证不会泄露 给任何第三方。 2.3 乙方在接受委托的基础上，享有对设计的知识产权，包括但不 限于著作权、专利权等。 三、合同期限 3.1 本合同自双方签署之日起生效，至任务完成之日终止。 3.2 如因不可抗力等原因导致任务无法完成，双方应友好协商解决。 四、费用及支付方式 4.1 甲方应按照双方协商的费用标准支付设计费用。费用标准如下：（具体列明费用项目及金额） 4.2 设计费用应在双方签署本合同后的（时间）内支付，甲方应向 乙方提供相应的支付凭证。
五、违约责任 5.1 如果甲方未按照本合同约定支付费用，乙方有权暂停或终止对该任务的工作，并有权要求甲方承担相应的违约责任。 5.2 如果乙方未按照本合同约定完成任务，甲方有权要求乙方承担相应的违约责任，并可以解除合同并追究乙方的法律责任。 六、保密条款 6.1 本合同签署后，双方应对涉及对方商业机密的信息予以保密，并在合同终止后依然承担保密责任。 6.2 未经对方书面许可，任何一方不得将本合同任何相关信息泄露给第三方，否则应承担法律责任。 七、争议解决 7.1 出现争议时，双方应友好协商解决，协商不成的，可提交相关争议至司法机关进行解决。 8、其他条款 8.1 本合同一式两份，甲乙双方各执一份，具有同等法律效力。 8.2 本合同的任何修改或补充，必须经双方书面协议，并由双方授权代表签字确认后生效。 8.3 本合同未涉及的问题，依据国家相关法律法规执行。