不锈钢蚀刻技术
不锈钢蚀刻技术
引言
人造木材由于具有色彩鲜艳、图案清晰和价格低廉等优点，而广泛应用于建筑装饰和家具等行业，制约人造木材生产的关键是模具板。利用蚀刻方法能够在不锈钢模具上雕刻出各种花纹图案，提高所加工制件的装饰和美观性能。在技术分为机械、化学和电化学方法等[1～4]，其中化学蚀刻具有工艺简单、操作方便、精度高和生产成本低等优点，适合于批量生产，蚀刻深度为20～200μm。化学蚀刻涉及材料科学、照相制版技术和金属腐蚀与防护等。图纹膜的致密性、耐蚀性和耐热性尤为重要。不锈钢抛光技术分为机械、化学和电化学抛光，其中化学抛光具有工艺简单、操作方便、投资少、生产成本低和适应性强等特点[5，6]，化学抛光实际是不锈钢溶解和钝化两种过程相互竞争的结果，抛光质量不仅与不锈钢材质、加工方法、制品大小和结构以及表面状态等有关，而且还与溶液配方和抛光工艺参数有关。化学抛光溶液分为王水型、硫酸型、磷酸型和醋酸-双氧水型等[7]，为了改善和提高抛光质量而加入一定量添加剂，添加剂不锈钢化学抛光分为浸泡、喷淋和涂膏等，浸泡又分为高温、中温和室温抛光[9]。
目前，我国人造木材行业应用的模具板主要是从欧洲进口，不仅价格昂贵，而且修复困难，因此不锈钢模具板的国产化势在必行。本文针对国产不锈钢板材，研究了化学蚀刻、化学抛光和电镀铬工艺参数。
1 实验
1.1 各种溶液组成
1)化学除油溶液
1.2 工艺流程和工艺规范
不锈钢工件→前处理(手工清理，去除毛刺和焊瘤等)→除油(70～80℃，除尽为止)→清洗→干燥→覆盖带有图纹的膜(应具有无孔、耐蚀和耐热)→化学蚀刻(45～50℃，蚀刻速度10～
20μm/h)→清洗→脱膜→清洗→化学抛光(25～40℃，1～5h)→清洗→中和(25～40℃，1min)→清洗→电镀铬(阴极电流密度50～60a/dm2，55～60℃)→产品→保护处理→入库。
2 实验结果与讨论
2.1 影响蚀刻的因素
1) fecl3的质量浓度
在蚀刻温度为50℃和盐酸为12ml/l条件下实验:a.fecl3质量浓度不仅影响蚀刻速度，而且影响蚀刻质量。当fecl3小于600g/l时，蚀刻速度慢，很难达到蚀刻效果；b.当fecl3在600～900g/l范围内，蚀刻速度随fecl3质量浓度的增加而增大；c.当fecl3质量浓度大于900g/l时，不仅蚀刻速度随着fecl3质量浓度的增加而减小，而且蚀刻面出现不均匀现象，蚀刻面大时尤为明显，这是由于蚀刻产物在蚀刻面上结晶析出所致。综合考虑，对于奥氏体不锈钢，fecl3质量
浓度应控制为660～850g/l。另外，搅拌有利于蚀刻产物的溶解，但是搅拌速度太快会引起图纹膜脱落。
2) 盐酸的质量浓度不锈钢的蚀刻速度随溶液酸度增加而增大，因此在蚀刻溶液中加入一定量盐酸、磷酸或硫酸等有利于提高蚀刻速度，同时可以避免fe3+水解。实验结果显示，采用8～20ml/l的盐酸效果较好。
3) 蚀刻温度蚀刻温度不仅影响蚀刻速度，而且影响蚀刻面的光泽度、平整性和图纹膜的稳定性。从动力学角度考虑，蚀刻速度随着温度升高而增大，但是温度太高，蚀刻面粗糙度增大和咬边现象明显。综合考虑蚀刻速度、蚀刻效果和图纹膜的热稳定性等，控制蚀刻温度在45～50℃范围内为宜。
4) 蚀刻溶液维护随着蚀刻反应的进行，蚀刻速度逐渐减小。在蚀刻过程中，及时补加盐酸和双氧水使蚀刻溶液再生，保证fecl3的氧化电位大于540mv。
随着蚀刻的进行，溶液中cr3+和ni2+浓度不断增大，当浓度增大于一定值后，无论怎样调整也达不到蚀刻效果，此时应弃掉重新配置。另外，在蚀刻过程中及时补加盐酸和用空气搅拌也能起到维护蚀刻溶液的作用。
2.2 影响抛光的因素
1) 硝酸的质量浓度在盐酸为125ml/l、磷酸为25ml/l、温度为35℃和时间为2h条件下，发现:a.当硝酸小于10ml/l时，开始表面上形成一层浅黄色粘膜，后期表面呈浅灰色，亮度很差；
b.当硝酸为15～50ml/l时，开始表面上形成较厚的青色粘膜，后期表面有一层浮灰，擦去后光亮如镜；
c.当硝酸大于50ml/l时，表面首先有一层极厚的青绿色粘膜，后期表面有大量浮灰，亮度很差且有大量黄烟生成。这是因为硝酸是强氧化性酸，对不锈钢具有酸性溶解和钝化双重作用。当硝酸浓度过低时，主要表现为酸性腐蚀溶解，不光亮；当硝酸浓度过高时，不锈钢溶解过快，形成大量黄烟，不易控制，没有亮度。综合考虑，硝酸应为15～40ml/l。
2) 盐酸的质量浓度在硝酸为45ml/l、磷酸为25ml/l、温度为35℃和时间为2h条件下，发现:a.当盐酸小于50ml/l时，开始表面形成一层浅黄色粘膜，后期表面虽然平整，但不光亮；b.当盐酸在60～130ml/l时，表面形成较厚的青色粘膜，表面比较光亮；c.当盐酸大于140ml/l 时，开始表面有一层极厚的青绿色粘膜，后期表面无浮灰，但乌黑，有明显的气道和大量黄烟生成。原因在于盐酸是非氧化性酸，不仅可以去除不锈钢表面的氧化皮，而且也可以溶解不锈钢基体，特别是微观突起部分，起一定整平作用。盐酸用量较少时，不锈钢溶解缓慢，所需抛光时间很长，而且容易出现局部腐蚀现象，特别是当材质不均时尤为明显。当盐酸用量较多时，不锈钢溶解过快，不锈钢表面会有明显的气体流动痕迹，抛光效果很差，同时大量fe2+加速了硝酸的还原，析出的nox气体形成黄烟污染环境。综合考虑，盐酸可控制为60～100ml/l。
3) 磷酸的质量浓度在硝酸为45ml/l、盐酸为125ml/l、温度为35℃和时间为2h条件下，发现:a.当磷酸小于15ml/l时，开始表面形成一层浅黄色粘膜，后期表面既不平整又发黑；b.当磷酸为20～50ml/l时，开始表面形成较厚的青色粘膜，可以得到较高的光亮度；c.当磷酸大于60ml/l时，开始表面有一层厚青绿色粘膜，后期没有气道出现和黄烟生成，虽然表面相当平整，但乌黑没有亮度。磷酸溶解能力比盐酸低，没有氧化能力，在抛光溶液中加入磷酸是为了在
不锈钢表面形成一层磷酸盐膜，以阻止对不锈钢基体造成过腐蚀，但较高的磷酸易形成较厚的磷酸盐膜，从而影响溶解速度，导致光亮度较差。综合考虑，磷酸的用量为20～45ml/l。
4) 添加剂以氯烷基吡啶、卤素化合物、含氰化合物和磺基水杨酸为光亮剂，若丁和有机胺为缓蚀剂，纤维素醚、聚乙二醇、丙二醇和丙三醇为增稠剂实验发现，采用复合光亮剂、缓蚀剂和增稠剂效果效好，添加量分别为1～5g/l、0.2～2g/l和2～20g/l，复合光亮剂∶缓蚀剂∶增稠剂=4∶1∶6。添加剂最适宜的总质量浓度为5～10g/l。
5) 温度和时间固定盐酸为125ml/l、硝酸为45ml/l、磷酸为25ml/l、添加剂总质量浓度为6g/l。实验发现，在25～40℃温度范围内，抛光1～5h，都可以获得光亮如镜的抛光面。降低抛光温度，必须适当提高抛光时间。
2.3 抛光溶液维护
随着抛光的进行，三种酸的浓度会有所改变，抛光效果会越来越差，为了保持抛光效果，延长抛光溶液的寿命，抛光一段时间以后需要对抛光溶液进行调整维护。三种酸的添加比例:硝酸(65%)∶盐酸(36.5%)∶磷酸(85%)=10∶1∶1。当抛光溶液使用较长时间以后，经调整仍得不到理想效果时，应弃去重配。
2.4 电镀铬及影响因素
1) 铬酐质量浓度铬酐的质量浓度除了对镀速有很大的影响，还直接影响着镀液的稳定性。其主要原因是铬酐的质量浓度较低，使镀液对杂质离子如三价铁离子变得极为敏感。考虑到稳定的情况，铬酐的质量浓度应在230～270g/l。
2) 硫酸质量浓度硫酸质量浓度是电镀中较难控制的参数。硫酸质量浓度过高或过低，往往会引起镀层“露黄”、带黄彩膜或蓝彩膜、烧焦和发雾等问题。中浓度镀铬溶液中硫酸的质量浓度是根据其与铬酐质量浓度的比值确定的。通常，铬酐/硫酸=90～120，因此，硫酸的质量浓度取为2.3～2.7g/l。
3) 三价铬质量浓度三价铬离子应该保持一个较低的水平，因为随着三价铬质量浓度的升高，便会出现分散能力降低、电流范围狭窄等一系列的问题。这些问题通过增加阳极面积等方法是无法解决的。实验发现，当三价铬的质量浓度<5g/l时，镀液会相当的稳定。
4) 阴极电流密度实验发现，在较宽的电流密度范围内均可得到质量良好的镀层，而当电流密度过高时，镀层开始由光亮变得泛白，甚至出现镀件边角粗糙、烧焦的现象。电流密度过低也会出现光亮度降低、漏镀的现象。综合考虑，阴极电流密度应保持在50～60a/dm2。
5)温度赫尔槽和小槽实验说明温度对镀层的外观和质量有很大的影响，温度较低时，电结晶过程较慢，阴极极化较大，晶粒细致紧密，但色泽较暗；温度较高时，阴极极化较小，镀速很快，但镀层疏松多孔，质量较差。综合考虑，温度应控制在55～60℃。
3 结论
1) 化学蚀刻最佳配方和工艺参数为:fecl3660～850g/l、hcl(36%)8～20ml/l，添加剂10～20g/l，温度45～50℃。在此条件下，蚀刻速度为10～20μm/h，蚀刻时间根据图纹具体深度而定。
2) 化学抛光最佳配方和工艺参数为:硝酸(65%)15～40ml/l，盐酸(36.5%)60～100ml/l，磷酸(85%)20～45ml/l，复合光亮剂1～5g/l，缓蚀剂0.2～2g/l，增稠剂2～20g/l，抛光温度为25～40℃，抛光时间为1～5h。在此条件下，可以获得光亮如镜的抛光面。
3) 电镀铬最佳工艺:铬酐230～270g/l，硫酸2.3～2.7g/l，三价铬<5g/l，阴极电流密度50～60a/dm2，温度55～60℃。铬酐在电镀铬溶液中不仅起到稳定镀液的作用，而且对ph也有一定的缓冲作用，从而使得镀层厚度可持续增加。
注：本资料由【东莞市泽洋金属材料有限公司(东莞泽洋金属材料)
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金属蚀刻片
蚀刻片（Photo-etched sheets简称PE），是用一些技术腐蚀出来的金属片，一般材质有铜、不锈钢和镀膜的合金等。下面就让广德均瑞电子科技为您简单解析，希望可以帮助到您！ 蚀刻片（PHOTO-ETCHING PARTS）是项令人又爱又怕的模型科技产品，其生产的原理很类似电路板的方法，是利用强腐蚀性的强酸蚀刻掉不需要的部份，剩余的部份即为常见的蚀刻片产品。它的细部表现功夫凌驾于现有的各种模型材料之上，只要掌握制作技巧并辅助使用于模型上，相信可令您的作品精细度巨增。 现有的蚀刻片材质有两种，一为不锈钢，一为铜。不锈钢产品的外观亮丽，且能制出很细致的细部线条，比较适合超细部的表现，但因其硬度高，所以在切割及加工时较麻烦，而且无法用一般的烙铁来焊接组合。铜的外观不及不锈钢的亮丽，但硬度低，很容易加工，可
以用一般的烙铁来焊接组合。左上为AFV CLUB的M-88回收战车的不锈钢材质细部零件，可注意它的网目有多么细。左下为TAMIYA 的不锈钢材质[ 工具]，可用它来刮出战车表面的防磁纹构造。右边为STENCILIT的铜材质[ 喷漆型板]，可用来喷出各种图案。由这三个产品来看，蚀刻片不光是用在细部零件用途上而已，现已有更多的辅助工具是利用它的特性所制成。 广德均瑞电子科技有限公司注册资金500万人民币，拥有不锈钢五金蚀刻加工独立法人环评资质，厂房面积2000平方米，6条不锈钢生产线，公司销售生产管理人员均超十年不锈钢蚀刻生产加工经验。公司主要生产集成电路导线架；接地端子; 表面贴装零件(SMT)模板；精密线材布线钢板;编码器光栅；手机按键、RDIF天线、基板及金属配件；(VFD)栅网、陈列、支架；电极针（放电针）；各类金属过滤网片/喇叭网片；眼镜框架；精密元器件掩模板；LCD背光模仁、钢版；显像管荫罩；电脑硬盘骨架；金属蚀刻发热片工艺等。
SUS304不锈钢蚀刻工艺说明
銘瑞通SUS304不锈钢蚀刻工艺说明 Designer:张辉亭 DATE:2014/9/17
SUS304不锈钢蚀刻背胶工艺流程 清洗清洗 开料预烤曝光显影检验蚀刻脱模清洗烘干检验 贴胶压合拆废料检验包装出货
开料 1.开料前检验钢片原材料有无擦花、刮伤、折角、并弯折钢片有无弹性，以检验钢片韧性及硬度是否合格. 2.用卡尺测量钢片厚度，看是否与流转单上所要求厚度一致. 3.开料尺寸公差控制在±1mm内，要求在裁切时需一次裁断，裁切后钢片边缘不能有卷边，毛刺等现象. 4.开料时需戴厚棉手套操作，避免被钢片边缘割伤. 5.开料钢片时规定专用剪床开料，每次开料前后对剪床各部件加以擦拭，打油，每2个月对剪床刀口进行一次抛光.
清洗 1.钢片来料如有油渍，污垢等不良，需浸泡浓度10﹪碱性除油剂30min 2.双面磨板，速度2.0m/min 厚度0.1-0.15mm，磨刷压力2.5-2.7A，厚度为0.2-0.25mm磨刷压力2.3-2.5A， 烘干温度85±3℃ 3.清洗时不能过酸性除油，微蚀等一切呈酸性物质
涂布 固化 1.用湿膜丝印，湿膜不可以加开油水，保证湿膜丝印性能，油墨不可过期使用 2.采用双面涂布机涂布,用猪笼架插架避免板面划伤。 3.丝印后静止10min,方可烘烤,烘烤第一面80℃ 20min, 4.注意插架时避免擦花油墨,涂布时不可污染钢片表面,注意台面清洁,不能用洗网水清洁台面,台面不能贴任何胶带和异物导致蚀刻后造成板面凹坑不良。
曝光 1.曝光前先检查菲林版本或型号有无出错,如有异形钢片菲林(单PCS过大或者拼板不规则)通知工程确认 2.对底片时对准菲林四周阴阳盘夹边,烫底片时至少保证烫点离阴阳焊盘至少5mm 3.夹边时夹条需采用与生产钢片相等厚度的FR4或PET夹边.如菲林是生产0.2mm的钢片就用0.2mm的FR4或PET夹边 4.生产时每生产5PNL必须检查一次菲林,查看菲林四周阴阳PAD有无透光偏位，菲林有无擦花 5.曝光擦气时需真空延时5秒后才可擦气，以防止曝光不良，曝光能量设定为8-9格
五金蚀刻加工价格
一般来说蚀刻加工主要加工的为金属材料，主要是不锈钢，铝合金，铜合金，铁以及钛等金属材料。均瑞电子为企业均提供过不锈钢蚀刻零件。那么，它的加工价格是多少呢？下面就让广德均瑞电子科技为您简单解析，希望可以帮助到您！ 一般来说蚀刻加工产品主要应用于以下几个方向： 蚀刻过滤网的应用：石油、化工、食品、制药用精密过滤网、过滤板、过滤筒、过滤器； 电子行业蚀刻零件主要包括金属漏板、盖板、平面引脚、引线框架、金属基片，手机零部件，喇叭网听筒网等等； 蚀刻零件应用在仪器上主要包括有精密光学及机械平面零件、弹簧零件；摩擦片及其它凹凸型平面零件； 金属标牌及图案复杂的金属装饰板和精美工艺品，比如圣诞平面工艺品，标牌，精美logo等等；
用于集成电路印刷，荧光屏电子格栅，精确过滤，微电极元件，电子行业的平面引脚、引线框架、基片等。 具体价格，根据您实际需求量来给您适当的优惠。欢迎来电洽谈！ 广德均瑞电子科技有限公司注册资金500万人民币，拥有不锈钢五金蚀刻加工独立法人环评资质，厂房面积2000平方米，6条不锈钢生产线，公司销售生产管理人员均超十年不锈钢蚀刻生产加工经验。公司主要生产集成电路导线架；接地端子; 表面贴装零件(SMT)模板；精密线材布线钢板;编码器光栅；手机按键、RDIF天线、基板及金属配件；(VFD)栅网、陈列、支架；电极针（放电针）；各类金属过滤网片/喇叭网片；眼镜框架；精密元器件掩模板；LCD背光模仁、钢版；显像管荫罩；电脑硬盘骨架；金属蚀刻发热片工艺等。 广德均瑞电子科技是以补强钢片为主打产品的蚀刻厂，ISO9001认证工厂，具有独立法人和环评资质，持有排污许可证的企业。拥有6蚀刻加工生产线，免费提供FPC补强板工艺解决方案以及蚀刻行业资讯。
蚀刻天线制作方法与制作流程简介
目前我们了解的天线制作技术主要有三种：绕线式天线、印刷天线和蚀刻天线。此外还有真空镀膜法生产RFID天线的，上述几种生产方法的特点比较如下： 2.1 绕线式天线 绕线和印刷技术在中国大陆得到了较为广泛的应用，大部分的 RFID标签制造商也是采用此技术。 利用线圈绕制法制作RFID标签时，要在一个绕制工具上绕制标签线圈并进行固定，此时要求天线线圈的匝数较多。这种方法用于频率围在125-134KHz的RFID标签，其缺点是成本高、生产速度慢、生产效率较低。 2.2 印刷天线 印刷天线是直接用导电油墨（碳浆、铜浆、银浆等）在绝缘基板（或薄膜）上印刷导电线路，形成天线的电路。主要的印刷方法已从只用丝网印刷扩展到胶印、柔性版印刷、凹印等制作方法，较为成熟的制作工艺为网印与凹印技术。其特点是生产速度快，但由于导电油墨形成的电路的电阻较大，它的应用围受到一定的局限。 2.3 蚀刻天线 印制电路的蚀刻技术主要应用于欧洲地区，而在，目前仅少数软性电路板厂有能力运用此技术制造RFID标签天线。 蚀刻技术生产的天线可以运用于大量制造13.56M、UHF频宽的电子标签中，它具有线路精细、电阻率低、耐候性好、信号稳定等优点。 3、蚀刻天线制作方法简介 蚀刻天线常用铜天线和铝天线,其生产工艺与挠性印制电路板的蚀刻工艺接近。 3.1 蚀刻天线的制作流程 挠性聚酯覆铜(铝)板基材――贴感光干膜／印感光油墨――连续自动曝光――显像――蚀刻――退膜--水洗--干燥—质检—包装 3.2 制作流程说明 挠性聚酯覆铜(铝)板基材：采用软板专用的合成树脂胶（环氧胶、丙烯酸胶）将铜箔(铝箔)与聚酯膜压合在一起，经高温后固化后而成，其电性能、耐高温性、耐腐蚀性较强。材料的组成截面图如下：
不锈钢常温蚀刻液
不锈钢常温蚀刻液 一、产品用途 本不锈钢常温蚀刻液主要用于各种不锈钢制品外观表面的蚀刻、通孔。 二、突出特点 1、常温使用，操作简单。 2、蚀刻后的蚀孔光亮、完整，大大提高产品的附加值。 3、处理时间短，工作效率高。 4、本不锈钢常温蚀刻液对耐酸油墨或光刻胶等掩模、抗蚀膜无破坏作用。 三、理化指标 外观：深棕色液体； 气味：微； 比重：38—45波美度； pH：＜5 四、使用方法 1、预处理：如不锈钢表面不洁净，需对表面进行洁净处理，如除油、除杂等。 2、蚀刻： （1）将图案模板纸粘附于不锈钢板上，再将本品用喷淋设备喷于图案处，时间1分钟到几十分钟不定（用户可根据蚀刻要求自行试验时间，因模板纸不同，时间也不同），揭去模板纸，用清水冲掉残物。 （2）用100-200T的丝网，75度硬度的聚酯刮胶，将光固化抗蚀刻油墨印刷在基板上，然后将油墨在紫外灯下光照20—30秒钟，（紫外光能量为1000mj/cm 2）。用喷淋的方式进行蚀刻，最佳温度30—40℃，
压力1-3kg/cm2时间1分钟到几分钟，（具体时间根据蚀刻深度而定）。然后，用1%--3%的氢氧化钠溶液将光固化抗蚀刻油墨溶解除去。 五、注意事项 1、本不锈钢常温蚀刻液具有腐蚀性，操作时应佩戴手套、眼镜等劳保用品。 2、若不慎触到皮肤，应立即用清水冲洗，并用5%苏打水浸泡。 3、储存于阴凉处，长期有效。 六、包装规格 塑桶包装，25kg/桶或根据用户要求定。 云清绿健化学品领航者！让化学变得可亲可爱！ 云清化工，行业先锋！五专服务，助您成功！ 五专服务：专家研制，专业生产，专门解决，专注发展，专心服务！ 祝您和家人五福同享：平安！健康！快乐！幸福！成功！ 业务电话：0631-5816452 5816542 5812916 传真：0631-5896151 网站：https://www.360docs.net/doc/4c13021555.html, https://www.360docs.net/doc/4c13021555.html, https://www.360docs.net/doc/4c13021555.html, Q:1226828069 诚信通ID：whyqhg01 诚信通ID：whyq08 联系人：云清化工耿文娟（女士）
IC工艺流程简介
晶体的生长 晶体切片成wafer 晶圆制作 功能设计à模块设计à电路设计à版图设计à制作光罩 工艺流程 1) 表面清洗 晶圆表面附着一层大约2um的Al2O3和甘油混合液保护之,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗。 2) 初次氧化 有热氧化法生成SiO2 缓冲层，用来减小后续中Si3N4对晶圆的应力 氧化技术 干法氧化Si(固) + O2 àSiO2(固) 湿法氧化Si(固) +2H2O àSiO2(固) + 2H2 干法氧化通常用来形成，栅极二氧化硅膜，要求薄，界面能级和固定电荷密度低的薄膜。干法氧化成膜速度慢于湿法。湿法氧化通常用来形成作为器件隔离用的比较厚的二氧化硅膜。当SiO2膜较薄时，膜厚与时间成正比。SiO2膜变厚时，膜厚与时间的平方根成正比。因而，要形成较厚的SiO2膜，需要较长的氧化时间。SiO2膜形成的速度取决于经扩散穿过SiO2膜到达硅表面的O2及OH基等氧化剂的数量的多少。湿法氧化时，因在于OH基在SiO2膜中的扩散系数比O2的大。氧化反应，Si 表面向深层移动，距离为SiO2膜厚的0.44倍。因此，不同厚度的SiO2膜，去除后的Si表面的深度也不同。SiO2膜为透明，通过光干涉来估计膜的厚度。这种干涉色的周期约为200nm，如果预告知道是几次干涉，就能正确估计。对其他的透明薄膜，如知道其折射率，也可用公式计算出 (d SiO2) / (d ox) = (n ox) / (n SiO2)。SiO2膜很薄时，看不到干涉色，但可利用Si的疏水性和SiO2的亲水性来判断SiO2膜是否存在。也可用干涉膜计或椭圆仪等测出。 SiO2和Si界面能级密度和固定电荷密度可由MOS二极管的电容特性求得。(100)面的Si的界面能级密度最低，约为10E+10 -- 10E+11/cm –2 .e V -1 数量级。(100)面时，氧化膜中固定电荷较多，固定电荷密度的大小成为左右阈值的主要因素。 3) CVD(Chemical Vapor deposition)法沉积一层Si3N4(Hot CVD或LPCVD)。 1 常压CVD (Normal Pressure CVD) NPCVD为最简单的CVD法，使用于各种领域中。其一般装置是由(1)输送反应气体至反应炉的载气体精密装置；(2)使反应气体原料气化的反应气体气化室；(3)反应炉；(4)反应后的气体回收装置等所构成。其中中心部分为反应炉，炉的形式可分为四个种类，这些装置中重点为如何将反应气体均匀送入，故需在反应气体的流动与基板位置上用心改进。当为水平时，则基板倾斜；当为纵型时，着反应气体由中心吹出，且使基板夹具回转。而汽缸型亦可同时收容多数基板且使夹具旋转。为扩散炉型时，在基板的上游加有混和气体使成乱流的装置。 2 低压CVD (Low Pressure CVD) 此方法是以常压CVD 为基本，欲改善膜厚与相对阻抗值及生产所创出的方法。主要特征：(1)由于反应室内压力减少至10-1000Pa而反应气体，载气体的平均自由行程及扩散常数变大，因此，基板上的膜厚及相对阻抗分布可大为改善。反应气体的消耗亦可减少；(2)反应室成扩散炉型，温度控制最为简便，且装置亦被简化，结果可大幅度改善其可靠性与处理能力(因低气压下，基板容易均匀加热)，因基可大量装荷而改善其生产性。 3 热CVD (Hot CVD)/(thermal CVD) 此方法生产性高，梯状敷层性佳(不管多凹凸不平，深孔中的表面亦产生反应，及气体可到达表面而附着薄膜)等，故用途极广。膜生成原理，例如由挥发性金属卤化物(MX)及金属有机化合物(MR)等在高温中气相化学反应(热分解，氢还原、氧化、替换反应等)在基板上形成氮化物、氧化物、碳化物、硅化物、硼化物、高熔点金属、金属、半导体等薄膜方法。因只在高温下反应故用途被限制，但由于其可用领域中，则可得
不锈钢蚀刻技术
不锈钢蚀刻技术 引言 人造木材由于具有色彩鲜艳、图案清晰和价格低廉等优点，而广泛应用于建筑装饰和家具等行业，制约人造木材生产的关键是模具板。利用蚀刻方法能够在不锈钢模具上雕刻出各种花纹图案，提高所加工制件的装饰和美观性能。在技术分为机械、化学和电化学方法等[1～4]，其中化学蚀刻具有工艺简单、操作方便、精度高和生产成本低等优点，适合于批量生产，蚀刻深度为20～200μm。化学蚀刻涉及材料科学、照相制版技术和金属腐蚀与防护等。图纹膜的致密性、耐蚀性和耐热性尤为重要。不锈钢抛光技术分为机械、化学和电化学抛光，其中化学抛光具有工艺简单、操作方便、投资少、生产成本低和适应性强等特点[5，6]，化学抛光实际是不锈钢溶解和钝化两种过程相互竞争的结果，抛光质量不仅与不锈钢材质、加工方法、制品大小和结构以及表面状态等有关，而且还与溶液配方和抛光工艺参数有关。化学抛光溶液分为王水型、硫酸型、磷酸型和醋酸-双氧水型等[7]，为了改善和提高抛光质量而加入一定量添加剂，添加剂不锈钢化学抛光分为浸泡、喷淋和涂膏等，浸泡又分为高温、中温和室温抛光[9]。 目前，我国人造木材行业应用的模具板主要是从欧洲进口，不仅价格昂贵，而且修复困难，因此不锈钢模具板的国产化势在必行。本文针对国产不锈钢板材，研究了化学蚀刻、化学抛光和电镀铬工艺参数。 1 实验 1.1 各种溶液组成 1)化学除油溶液 1.2 工艺流程和工艺规范 不锈钢工件→前处理(手工清理，去除毛刺和焊瘤等)→除油(70～80℃，除尽为止)→清洗→干燥→覆盖带有图纹的膜(应具有无孔、耐蚀和耐热)→化学蚀刻(45～50℃，蚀刻速度10～ 20μm/h)→清洗→脱膜→清洗→化学抛光(25～40℃，1～5h)→清洗→中和(25～40℃，1min)→清洗→电镀铬(阴极电流密度50～60a/dm2，55～60℃)→产品→保护处理→入库。 2 实验结果与讨论 2.1 影响蚀刻的因素 1) fecl3的质量浓度 在蚀刻温度为50℃和盐酸为12ml/l条件下实验:a.fecl3质量浓度不仅影响蚀刻速度，而且影响蚀刻质量。当fecl3小于600g/l时，蚀刻速度慢，很难达到蚀刻效果；b.当fecl3在600～900g/l范围内，蚀刻速度随fecl3质量浓度的增加而增大；c.当fecl3质量浓度大于900g/l时，不仅蚀刻速度随着fecl3质量浓度的增加而减小，而且蚀刻面出现不均匀现象，蚀刻面大时尤为明显，这是由于蚀刻产物在蚀刻面上结晶析出所致。综合考虑，对于奥氏体不锈钢，fecl3质量
蚀刻加工报价
蚀刻加工，是利用过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果，对金属进行定制加工的一门工艺手段。下面就让广德均瑞电子科技为您简单解析，希望可以帮助到您！ 蚀刻加工的具体价格，建议您咨询广德均瑞电子科技有限公司。 蚀刻加工用途： 1、去毛刺：由于不锈钢板在冲制或机械加工后，在端面或棱角处存在毛刺，不仅影响产品的外观，也影响机器的使用效果，如果采用机械抛光或手工去毛刺，不仅工效低，也不能满足设计的圆角倒角要求，采用特殊的化学抛光或电化学抛光溶液，对毛刺进行腐蚀加工，而又不损害表面光洁度，甚至可以提高表面光洁度。这是表面处理与机械加工的结合。
2、除去多余尺寸：如某不锈钢弹簧钢丝，其线径要求φ0.8~0.84，而实际线径是和0.9，如何使制成品均匀变为φ0.8~0.84，如何有效地去除机加工过程中的毛刺和热处理过程中产生的氧化膜?如要采用机械抛磨和钳修的方法除去毛刺、氧化皮和钢丝直径圆周上均匀地除去0.06~0.1mm.不仅加工工艺性差，效率低，加工质量也难以保证。利用化学抛光的特殊溶液，可以同时达到除去毛刺，氧化皮，均匀除去多余的线径尺寸的目的。又如对某些片状不锈钢零件，尺寸大些，也可以利用电化学抛光的特殊溶液适当减薄厚度尺寸，达到产品尺寸要求。 3铣切加工：将不锈钢材料需要加工的部位暴露于化学铣切液中进行铣切加工，从而获得一定形状或尺寸的零件，达到具有立体感、装饰性的目的。利用丝网漏印，可对不锈钢表面化学铣切出文字、花纹、图样，达到一定的深度，再填充上一定的不同的色彩，如奖牌、标牌、铭牌等。
金属蚀刻工艺流程
金属蚀刻工艺流程 (一)金属蚀刻工艺流程 金属的种类不同，其蚀刻的工艺流程也不同，但大致的工序如下：金属蚀刻板→除油→水洗→浸蚀→水洗→干燥→丝网印刷→千燥→水浸2～3min→蚀刻图案文字→水洗→除墨→水洗→酸洗→水洗→电解抛光→水洗→染色或电镀→水洗→热水洗→干燥→软布抛(擦光)光→ 喷涂透明漆→干燥→检验→成品包装。 1．蚀刻前处理 在金属蚀刻之前的工序都是前处理，它是保证丝印油墨与金属面具有良好附着力的关键工序，因此必须要彻底清除金属蚀刻表面的油污及氧化膜。除油应根据工件的油污情况定出方案，最好在丝印前进行电解除油，保证除油的效果。除氧化膜也要根据金属的种类及膜厚的情况选用最好的浸蚀液，保证表面清洗干净。在丝网印刷前要干燥，如果有水分，也会影响油墨的附着力，而且影响后续图纹蚀刻的效果 甚至走样，影响装饰效果。 2．丝网印刷 丝网印刷要根据印刷的需要制作标准图纹丝印网版。图纹装饰工序中，丝印主要起保护作用，涂感光胶时次数要多些，以便制得较厚的丝网模版，这样才使得遮盖性能好，蚀刻出的图纹清晰度高。丝网版的胶膜在光的作用下，产生光化学反应，使得光照部分交联成不溶于水的胶膜，而未被光照部分被水溶解而露出丝网空格，从而在涂有胶膜丝网版上光刻出符合黑白正阳片图案的漏网图纹。 把带有图纹的丝印网版固定在丝网印刷机上，采用碱溶性耐酸油墨，在金属板上印制出所需要的图纹，经干燥后即可进行蚀刻。 3．蚀刻后处理 蚀刻后必须除去丝印油墨。一般的耐酸油墨易溶于碱中。将蚀刻板浸入40～60g／L的氢氧化钠溶液中，温度50～80℃，浸渍数分钟即可退去油墨。退除后，如果要求光亮度高，可进行抛光，然后进行染色，染色后为了防止变色及增加耐磨、耐蚀性，可以喷涂透明光漆。 对于一些金属本身是耐蚀性能好而且不染色的，也可以不涂透明漆，要根据实际需要而定。 (二)化学蚀刻溶液配方及工艺条件 蚀刻不同的金属要采用不同的溶液配方及工艺条件，常用金属材料的蚀刻溶液配方及工艺条件见表6―4～表6-6。
不锈钢表面电镀的各种工艺大揭秘
不锈钢表面电镀的各种工艺大揭秘 编辑：荣高宣传部 1、水镀（主要为黑色、注意304镀水镀颜色不稳定，稍微带蓝色，镜面尤其明显，处理方法为做高温无指纹处理，但表面会带棕色） 2、电镀——PVD真空等离子电镀（可镀宝石蓝、黑色、咖啡色，七彩色，锆金色，青铜色，古铜色、玫瑰色，香槟金色、浅绿色） 3、蚀刻系列，可蚀刻图形可见图片。蚀刻后可渡颜色或度色后进行蚀刻）彩色不锈钢蚀刻板是在物件表面通过化学的方法，腐蚀出各种花纹图案。以8K镜面板或者拉丝板为底板，进行蚀刻处理后，对物体表面再进行深加工，可进行局部的和纹，拉丝，嵌金，局部钛金等各式复杂工艺处理，实现图案明暗相间，色彩绚丽的效果。蚀刻不锈钢包括彩色不锈钢蚀刻，图案多种，可供广大选用的颜色有：钛黑（黑钛）、天蓝、钛金、宝石蓝、咖啡色、茶色、紫色、古铜、青古铜，香槟金，玫瑰金、紫红、钛白、翠绿、绿色等，适用于：星级酒店，KTV，大型商场，高级娱乐场所等。也可以根据客户的图纸和要求定做，但是需要出模板费用。 4、压纹系列：不锈钢压纹板是通过机械设备在不锈钢板上进行压纹加工，使板面出现凹凸图纹.也称不锈钢花纹板。可供选择的图纹有编竹纹，冰竹纹，菱形纹，小方格，大小米粒板（珠光纹），斜条纹，蝶恋花纹，菊花纹，立方体，自由纹，鹅蛋纹，石纹，熊猫纹，仿古方格纹等,图纹可按客户来定做或选择本厂花纹压制。这种压纹板有刚劲亮丽的外观，更高的表面硬度，更耐磨,易清洁、免维护、抗击、抗压、抗刮痕及不留手指印。主要用在建筑装璜、电梯装璜、工业装璜、设施装璜，厨具等不锈钢系列。
5、喷砂，喷砂后可镀颜色、但镀色和普通镀色存在色差、主要原因是喷砂颗粒为金刚砂。彩色不锈钢喷砂板是用锆珠粒通过机械设备在不锈钢板面进行加工，使板面呈现细微珠粒状砂面，形成独特的装饰效果。用途：主要用在建筑装璜、电梯装璜、工业装璜、设施装璜等不锈钢系列产品。 来源：荣高不锈钢门
不锈钢腐蚀牌制作方法
不锈钢腐蚀牌制作方法 金属腐蚀标牌大体分为凹字标牌.凸字标牌和凸凹字结合标牌这三种。腐蚀标牌的基本要求：图案美观.线条清晰.深度合适.底面平整.色彩饱满.拉丝均匀.表面色泽一致。腐蚀标牌的特点：耐候.耐溶剂性较强；即使油漆脱落仍然具有铭牌的功能。金属标牌怎样才能达到审美要求和客户的要求哪？我们必须抛弃八九十年代甚至六七十年代的落后技术和盆盆罐罐的陈旧设备。学习先进的生产技术，使用便捷的耗材和腐蚀液，更换专用设备。 我们青岛睿智达（标牌）表面装饰研究所是研究标牌生产工艺.设备和耗材的专业单位， 积累了较丰富的经验和技巧。就以上问题谈几点看法供大家参考。 一. 学习先进的生产技术。要想学习先进的技术必须做到以下几点： 1.打破陈旧的生产模式。许多标牌厂家有的已有几十年的历史，但至今仍沿用着建厂时的生产模式和技术，如自己熬骨胶.摔胶.太阳晒版.盆盆罐罐腐蚀.手工注漆等，有些技术在当时是先进的，可现在哪？耗费大量的人力物力，成本高.效率低.质量差.做不出理想的标牌。当然，有些老的技术手段至今还有使用价值，甚至还离不开它。但是，时代在发展，技术在进步，我们有些厂家固守陈规，为什么？值得我们思考。 2.加强与同行和标牌研究单位的交流。我认为改革开放的主要意义在于：走出去，拿进来。走出厂房.走出地域.甚至走出国门。去学习先进的管理模式，先进的生产技术，去借鉴.去筛选.拿来发展自己的企业。当然，有人会说，国门我走不出，同行不愿交流，研究单位找不到等一系列的问题。我想问，你去真诚的交流了吗？标牌的研究单位你真地去努力找了吗？ 3.合理定位，切勿“好高骛远” 。合理定位就是以多数客户的市场的需求定位，以自己的生产能力定位。各位老板，请问你们标牌的主打产品是什么？我想多数人的回答应该是设备标牌。因为设备标牌市场广阔，批量大，占标牌总量的80% 以上，且制作相对简单，定 型后几乎长期不变。只要你的质量过关，价格合理，可常年为同一客户生产。这里有两个关键词：质量过关.价格合理,也就是说质量决定价格。标牌不仅是设备的铭牌，同时也有为设备画龙点睛之妙笔。可以想象假如你生产的标牌拿在客户手中爱不释手，他还与你讨价还价吗？他还去找其他厂家吗？我想不会的。但反之则不然。切勿“好高骛远” 。如果基本的设备标牌都没做好，你还想去学所谓高档的标牌吗？即使你学会了，有市场吗？我个人认为，从基础做起，先做好基本的，再寻求所谓高档的。 二. 选用耐腐蚀油墨的问题。金属腐蚀标牌使用的耐蚀刻油墨必须具备以下几点要求：便于丝
蚀刻工艺
蚀刻工艺 蚀刻是金属板模图纹装饰过程中的关键，要想得到条纹清晰、装饰性很强的图纹制品，必须注意控制好蚀刻工艺的条件。主要是蚀刻溶液的温度和蚀刻时间。溶液温度稍高，可以提高金属溶解的速度，也就是蚀刻的速度，缩短蚀刻所需要的时间，但是蚀刻溶液一般都是强酸液，强酸液在温度高的情况下腐蚀性强，容易使防护的涂层或耐蚀油墨软化甚至溶解，使金属非蚀刻部位的耐蚀层附着力下降，导致在蚀刻和非蚀刻交界处的耐蚀涂层脱落或溶化，使蚀刻图纹模糊走样，影响图纹的美观真实和装饰效果，因此温度不宜超过45℃。同样，如果蚀刻的时间太长，特别是蚀刻液温度较高的情况下，耐蚀油墨或防护涂层浸渍时间过长，也同样起到上述的副作用和不良后果，因此时间控制上也要适当，不能浸得太久，一般不宜超过20～25min。 (四)化学蚀刻图纹装饰实例 1．装饰用的材料 装饰用的金属板材：普通钢材、不锈钢、铜及铜合金、铝及铝合金等，以不锈钢板为例说明，板厚l～3mm。 化工原料：丝印感光胶(例如浙江昆山市化工涂料厂生产的DH重氮型)，耐酸油墨有 99-956型和99-200K型等一(广东顺德大良油墨厂产品)，其他为常用化学化工药品。 2．工艺流程 不锈钢板→除油→水洗→干燥→丝网印刷→干燥→水浸→蚀刻图纹叶(片)水洗→除墨→水洗→抛光→水洗→着色→水洗叶(片)硬化处理→封闭处理→清洗叶(片)干燥→检验→产品。 3．具体操作及注意事项 (1)除油除油是为了使丝印油墨与板材有良好的附着力，所以金属板在印前必须彻底把油除干净。除油的方法很多，可以根据情况及需要选择，例如采用常规的化学除油、表面活性剂除油，甚至电解除油、超声除油等，也可以选用商品的专用除油剂。彻底清洗干净后，经干燥再转入丝网印刷。 (2)丝网印刷选用l50目不锈钢、聚酯或尼龙单丝维网，用绷网机固定在网框上，再用上浆器刮涂DH重氮型感光胶，涂覆2～3次，涂膜干燥后，将拍摄好的图纹黑白胶片附着在涂膜丝网上，经曝光、显影后，即制得丝印模板，然后再将不锈钢板、图纹模板固定在丝网印刷机对应位置上，采用碱溶性的耐酸油墨，印上所需要的图纹，自然干燥(或烘干)。如果烘烤，则温度不宜过高及时间不宜过长，否则油墨的碱溶性降低，到除油墨时，不易清除干净。一般情况下，自然干燥1h。烘干为55～60℃，4～5min。
晶圆制造工艺流程
晶圆制造工艺流程 Revised as of 23 November 2020
晶圆制造工艺流程 1、表面清洗 2、初次氧化 3、 CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层 Si3N4 (Hot CVD 或 LPCVD) 。（1）常压 CVD (Normal Pressure CVD) （2）低压 CVD (Low Pressure CVD) （3）热 CVD (Hot CVD)/(thermal CVD) （4）电浆增强 CVD (Plasma Enhanced CVD) （5）MOCVD (Metal Organic CVD) & 分子磊晶成长 (Molecular Beam Epitaxy) （6）外延生长法 (LPE) 4、涂敷光刻胶 （1）光刻胶的涂敷 （2）预烘 (pre bake) （3）曝光 （4）显影 （5）后烘 (post bake) （6）腐蚀 (etching)
（7）光刻胶的去除 5、此处用干法氧化法将氮化硅去除 6 、离子布植将硼离子 (B+3) 透过 SiO2 膜注入衬底，形成 P 型阱 7、去除光刻胶，放高温炉中进行退火处理 8、用热磷酸去除氮化硅层，掺杂磷 (P+5) 离子，形成 N 型阱 9、退火处理，然后用 HF 去除 SiO2 层 10、干法氧化法生成一层 SiO2 层，然后 LPCVD 沉积一层氮化硅 11、利用光刻技术和离子刻蚀技术，保留下栅隔离层上面的氮化硅层 12、湿法氧化，生长未有氮化硅保护的 SiO2 层，形成 PN 之间的隔离区 13、热磷酸去除氮化硅，然后用 HF 溶液去除栅隔离层位置的 SiO2 ，并重新生成品质更好的 SiO2 薄膜 , 作为栅极氧化层。 14、LPCVD 沉积多晶硅层，然后涂敷光阻进行光刻，以及等离子蚀刻技术，栅极结构，并氧化生成 SiO2 保护层。 15、表面涂敷光阻，去除 P 阱区的光阻，注入砷 (As) 离子，形成 NMOS 的源漏极。用同样的方法，在 N 阱区，注入 B 离子形成 PMOS 的源漏极。 16、利用 PECVD 沉积一层无掺杂氧化层，保护元件，并进行退火处理。 17、沉积掺杂硼磷的氧化层 18、溅镀第一层金属 （1）薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同，厚度通常小于 1um 。 （2）真空蒸发法（ Evaporation Deposition ）
不锈钢蚀刻加工技术
不锈钢蚀刻加工即通过光化学反应和蚀刻来加工金属零件的一种工艺方法。下面就让广德均瑞电子科技为您简单解析，希望可以帮助到您！ 该方法充分利用当前先进的计算机辅助设计技术，将需要加工的图形制成菲林，然后将菲林图形通过光化学反应复制到金属材料表面，在金属材料表面形成被保护起来的金属零件图形，再通过蚀刻的方法，把未保护的金属材料蚀掉就产生出了金属零件。 不锈钢蚀刻加工与传统的机械冲制方法相比，具有生产周期短（一般3天可以制造出产品），修改尺寸方便快捷的优点；而机械冲制方法必须具备高精度的冲制设备和模具加工设备，开发周期要2至3个月。由于蚀刻法的特殊性，零件的复杂程度与加工难易程度无关；相对而言，机械冲制方法对复杂的零件处理起来往往会增加制造难度，有的甚至无法加工。蚀刻法制造仅需设计制作菲林（感光胶等），
新品开发费用少；蚀刻加工制造的金属零件无毛刺，不改变材料的磁特性，加工后的产品平整度不受丝毫改变。 广德均瑞电子科技有限公司注册资金500万人民币，拥有不锈钢五金蚀刻加工独立法人环评资质，厂房面积2000平方米，6条不锈钢生产线，公司销售生产管理人员均超十年不锈钢蚀刻生产加工经验。公司主要生产集成电路导线架；接地端子; 表面贴装零件(SMT)模板；精密线材布线钢板;编码器光栅；手机按键、RDIF天线、基板及金属配件；(VFD)栅网、陈列、支架；电极针（放电针）；各类金属过滤网片/喇叭网片；眼镜框架；精密元器件掩模板；LCD背光模仁、钢版；显像管荫罩；电脑硬盘骨架；金属蚀刻发热片工艺等。 广德均瑞电子科技是以补强钢片为主打产品的蚀刻厂，ISO9001认证工厂，具有独立法人和环评资质，持有排污许可证的企业。拥有6蚀刻加工生产线，免费提供FPC补强板工艺解决方案以及蚀刻行业资讯。
蚀刻液分类及工艺流程
蚀刻液分类及工艺流程 一、目前PCB业界使用的蚀刻液类型有六种类型： 酸性氯化铜碱性氯化铜氯化铁过硫酸铵硫酸/铬酸硫酸/双氧水蚀刻液前三种常用。 二、各种蚀刻液特点 酸性氯化铜蚀刻液 1) 蚀刻机理：Cu+CuCl2→Cu2Cl2 Cu2Cl2+4Cl-→2(CuCl3)2- 2) 影响蚀刻速率的因素：影响蚀刻速率的主要因素是溶液中Cl-、Cu+、Cu2+的含量及蚀刻液的温度等。 a、Cl-含量的影响：溶液中氯离子浓度与蚀刻速率有着密切的关系，当盐酸浓度升高时，蚀刻时间减少。在含有6N的HCl溶液中蚀刻时间至少是在水溶液里的1/3，并且能够提高溶铜量。但是，盐酸浓度不可超过6N，高于6N盐酸的挥发量大且对设备腐蚀，并且随着酸浓度的增加，氯化铜的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蚀刻速率，原因是：在氯化铜溶液中发生铜的蚀刻反应时，生成的Cu2Cl2不易溶于水，则在铜的表面形成一层氯化亚铜膜，这种膜能够阻止反应的进一步进行。过量的Cl-能与Cu2Cl2络合形成可溶性的络离子(CuCl3)2-，从铜表面上溶解下来，从而提高了蚀刻速率。 b、Cu+含量的影响：根据蚀刻反应机理，随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。较微量的Cu+就会显著的降低蚀刻速率。所以在蚀刻操作中要保持Cu+的含量在一个低的范围内。 c、Cu2+含量的影响：溶液中的Cu2+含量对蚀刻速率有一定的影响。一般情况下，溶液中Cu2+浓度低于2mol/L时，蚀刻速率较低；在2mol/L时速率较高。随着蚀刻反应的不断进行，蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。当铜含量增加到一定浓度时，蚀刻速率就会下降。为了保持蚀刻液具有恒定的蚀刻速率，必须把溶液中的含铜量控制在一定的范围内。 d、温度对蚀刻速率的影响：随着温度的升高，蚀刻速率加快，但是温度也不宜过高，一般控制在45~55℃范围内。温度太高会引起HCl过多地挥发，造成溶液组分比例失调。另外，如果蚀刻液温度过高，某些抗蚀层会被损坏。 碱性氯化铜蚀刻液 1) 蚀刻机理：CuCl2+4NH3→Cu(NH3)4Cl2 Cu(NH3)4Cl2+Cu→2Cu(NH3)2Cl 2) 影响蚀刻速率的因素：蚀刻液中的Cu2+浓度、pH值、氯化铵浓度以及蚀刻液的温度对蚀刻速率均有影响。 a、Cu2+离子浓度的影响：Cu2+是氧化剂，所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明：在0~82g/L时，蚀刻时间长；在82~120g/L时，蚀刻速率较低，且溶液控制困难；在135~165g/L时，蚀刻速率高且溶液稳定；在165~225g/L时，溶液不稳定，趋向于产生沉淀。 b、溶液pH值的影响：蚀刻液的pH值应保持在8.0~8.8之间，当pH值降到8.0以下时，一方面对金属抗蚀层不利；另一方面，蚀刻液中的铜不能被完全络合成铜氨络离子，溶液要出现沉淀，并在槽底形成泥状沉淀，这些泥状沉淀能
不锈钢腐蚀牌制作方法
不锈钢腐蚀牌制作方法
不锈钢腐蚀牌制作方法 金属腐蚀标牌大体分为凹字标牌.凸字标牌和凸凹字结合标牌这三种。腐蚀标牌的基本要求：图案美观.线条清晰.深度合适.底面平整.色彩饱满.拉丝均匀.表面色泽一致。腐蚀标牌的特点：耐候.耐溶剂性较强；即使油漆脱落仍然具有铭牌的功能。金属标牌怎样才能达到审美要求和客户的要求哪？我们必须抛弃八九十年代甚至六七十年代的落后技术和盆盆罐罐的陈旧设备。学习先进的生产技术，使用便捷的耗材和腐蚀液，更换专用设备。 我们青岛睿智达（标牌）表面装饰研究所是研究标牌生产工艺.设备和耗材的专业单位，积累了较丰富的经验和技巧。就以上问题谈几点看法供大家参考。 一. 学习先进的生产技术。要想学习先进的技术必须做到以下几点： 1. 打破陈旧的生产模式。许多标牌厂家有的已有几十年的历史，但至今仍沿用着建厂时的生产模式和技术，如自己熬骨胶.摔胶.太阳晒版.盆盆罐罐腐蚀.手工注漆等，有些技术在当时是
备的铭牌，同时也有为设备画龙点睛之妙笔。可以想象假如你生产的标牌拿在客户手中爱不释手，他还与你讨价还价吗？他还去找其他厂家吗？我想不会的。但反之则不然。切勿“好高骛远”。如果基本的设备标牌都没做好，你还想去学所谓高档的标牌吗？即使你学会了，有市场吗？我个人认为，从基础做起，先做好基本的，再寻求所谓高档的。 二. 选用耐腐蚀油墨的问题。金属腐蚀标牌使用的耐蚀刻油墨必须具备以下几点要求：便于丝网印刷.有较小的流变性.墨质细腻无针孔. 成像清晰.与板材结合牢固.耐腐蚀.腐蚀完成后易脱墨等。耐腐蚀油墨大体可分为两种：网印耐腐蚀成像油墨；紫外光成像耐腐蚀油墨。 1.网印耐腐蚀成像油墨：该油墨从耐腐蚀方面可分为三种：a.耐酸腐蚀；b.耐碱腐蚀；c.耐酸、碱腐蚀。 a：耐酸腐蚀油墨腐蚀完成后使用碱溶液除膜。这种油墨使用比较简便，网印速度快，适合批量生产。耐酸腐蚀油墨还分为自干型和热固型
晶圆制造工艺流程
晶圆制造工艺流程 1、表面清洗 2、初次氧化 3、CVD(Chemical Vapor deposition) 法沉积一层Si3N4 (Hot CVD 或LPCVD) 。 ( 1)常压CVD (Normal Pressure CVD) ( 2)低压CVD (Low Pressure CVD) (3)热CVD (Hot CVD)/(thermal CVD) (4)电浆增强CVD (Plasma Enhanced CVD) (5)MOCVD (Metal Organic CVD) &分子磊晶成长(Molecular Beam Epitaxy) (6)外延生长法(LPE) 4、涂敷光刻胶 (1)光刻胶的涂敷 ( 2)预烘(pre bake) (3)曝光 (4)显影 ( 5)后烘(post bake) ( 6)腐蚀(etching) (7)光刻胶的去除 5、此处用干法氧化法将氮化硅去除 6 、离子布植将硼离子(B+3) 透过SiO2 膜注入衬底，形成P 型阱 7、去除光刻胶，放高温炉中进行退火处理 8、用热磷酸去除氮化硅层，掺杂磷(P+5) 离子，形成N 型阱 9、退火处理，然后用HF 去除SiO2 层 10、干法氧化法生成一层SiO2 层，然后LPCVD 沉积一层氮化硅 11、利用光刻技术和离子刻蚀技术，保留下栅隔离层上面的氮化硅层 12、湿法氧化，生长未有氮化硅保护的SiO2 层，形成PN 之间的隔离区 13、热磷酸去除氮化硅，然后用HF 溶液去除栅隔离层位置的SiO2 ，并重新生成品质更 好的SiO2 薄膜, 作为栅极氧化层。 14、LPCVD 沉积多晶硅层，然后涂敷光阻进行光刻，以及等离子蚀刻技术，栅极结构，并氧化生成SiO2 保护层。 15、表面涂敷光阻，去除P 阱区的光阻，注入砷(As) 离子，形成NMOS 的源漏极。用同样的方法，在N 阱区，注入B 离子形成PMOS 的源漏极。 16、利用PECVD 沉积一层无掺杂氧化层，保护元件，并进行退火处理。 17、沉积掺杂硼磷的氧化层 18、濺镀第一层金属 (1) 薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同，厚度通常小于1um 。 ( 2) 真空蒸发法( Evaporation Deposition ) ( 3) 溅镀( Sputtering Deposition ) 19、光刻技术定出VIA 孔洞，沉积第二层金属，并刻蚀出连线结构。然后，用PECVD 法氧化层和氮化硅保护层。20、光刻和离子刻蚀，定出PAD 位置21、最后进行退火处理，以保证整个Chip 的完整和连线的连接性晶圆制造总的工艺流程 芯片的制造过程可概分为晶圆处理工序( Wafer Fabrication )、晶圆针测工序 (Wafer Probe)、 构装工序( Packaging )、测试工序( Initial Test and Final Test )等几个步骤。其中晶圆处理工序和晶圆针测工序为前段(Front End)工序，而构装工序、测试工序为后段( Back End) 工序。
不锈钢蚀刻技术
不锈钢蚀刻技术 Document serial number【NL89WT-NY98YT-NC8CB-NNUUT-NUT108】
不锈钢蚀刻技术 引言 人造木材由于具有色彩鲜艳、图案清晰和价格低廉等优点，而广泛应用于建筑装饰和家具等行业，制约人造木材生产的关键是模具板。利用蚀刻方法能够在不锈钢模具上雕刻出各种花纹图案，提高所加工制件的装饰和美观性能。在技术分为机械、化学和电化学方法等[1～4]，其中化学蚀刻具有工艺简单、操作方便、精度高和生产成本低等优点，适合于批量生产，蚀刻深度为20～200μm。化学蚀刻涉及材料科学、照相制版技术和金属腐蚀与防护等。图纹膜的致密性、耐蚀性和耐热性尤为重要。不锈钢抛光技术分为机械、化学和电化学抛光，其中化学抛光具有工艺简单、操作方便、投资少、生产成本低和适应性强等特点[5，6]，化学抛光实际是不锈钢溶解和钝化两种过程相互竞争的结果，抛光质量不仅与不锈钢材质、加工方法、制品大小和结构以及表面状态等有关，而且还与溶液配方和抛光工艺参数有关。化学抛光溶液分为王水型、硫酸型、磷酸型和醋酸-双氧水型等[7]，为了改善和提高抛光质量而加入一定量添加剂，添加剂不锈钢化学抛光分为浸泡、喷淋和涂膏等，浸泡又分为高温、中温和室温抛光[9]。目前，我国人造木材行业应用的模具板主要是从欧洲进口，不仅价格昂贵，而且修复困难，因此不锈钢模具板的国产化势在必行。本文针对国产不锈钢板材，研究了化学蚀刻、化学抛光和电镀铬工艺参数。 1 实验 ? 各种溶液组成 1)化学除油溶液 工艺流程和工艺规范 不锈钢工件→前处理(手工清理，去除毛刺和焊瘤等)→除油(70～80℃，除尽为止)→清洗→干燥→覆盖带有图纹的膜(应具有无孔、耐蚀和耐热)→化学蚀刻(45～50℃，蚀刻速度10～ 20μm/h)→清洗→脱膜→清洗→化学抛光(25～40℃，1～5h)→清洗→中和(25～40℃，1min)→清洗→电镀铬(阴极电流密度50～60a/dm2，55～60℃)→产品→保护处理→入库。 2 实验结果与讨论 影响蚀刻的因素 1) fecl3的质量浓度 在蚀刻温度为50℃和盐酸为12ml/l条件下实验:质量浓度不仅影响蚀刻速度，而且影响蚀刻质量。当fecl3小于600g/l时，蚀刻速度慢，很难达到蚀刻效果；b.当fecl3在600～900g/l
蚀刻工艺
蚀刻工艺
一蝕刻技術 利用對金屬表面的侵蝕作用，從金屬表面去除金屬的處理技術。 (1) 電解蝕刻(electrolytic etching) 用母模作導電性陰極，以電解液作媒介，對加工部分，集中實施蝕刻的侵蝕去除法。 (2) 化學蝕刻(chemical etching) 利用耐藥品被膜，把蝕刻侵蝕去除，作用集中於所要部位的方法。 照相蝕刻技術(photo-etching process) 在金屬表面全面均勻形成層狀的感光性耐藥品被膜(photo resist)，而透 過原圖底片，用紫外線等曝光，後施以顯像處理，來形成所要形狀的耐藥 品被膜之被覆層，再以蝕刻浴的酸液或鹼液，對露出部產生化學或電化學 侵蝕作用，來溶解金屬的加工技術。 2
(3) 化學蝕刻技術之特性 a. 不需要電極、母型(master)等工具，故無需此等工具之維護費。 b. 由規劃到生產間所需時間短，可作短期加工。 c. 材料之物理、機械性質不受加工影響。 d. 加工不受形狀、面積、重量之限制。 e. 加工不受硬度、脆性之限制。 f. 能對所有金屬(鐵、不銹鋼、鋁合金、銅合金、鎳合金、鈦、史泰勒合 金)實施加工。 g. 可高精度加工。 h. 可施複雜、不規則、不連續之設計加工。 i. 面積大，加工效率良好，但小面積時，其效率比機機械加工差。 j. 水平向之切削易得高精度，但深度、垂直方向不易得到同機機械加工之 3
精度。 k. 被加工物之組成組織宜均勻，對不均質材，不易加工順利。 二蝕花加工(咬花加工)演進 (1) 第1階段：補助目的掩飾成形品上之缺陷。 (2) 第2階段：裝飾目的提高商品價值。 (3) 第3階段：應用複合花紋邁入更高度的意匠設計時代。 (4) 第4階段：應用立體花紋進入更高品質之時代。 三咬花加工之特性(針對模具) (1) 加工時，幾乎不產生熱量，故不會引起熱變形或熱變質。 (2) 大型模具亦可加工。 (3) 加工時不會產生毛邊、應變、硬化等不良現象。 (4) 曲面、側面之加工容易。 4